JP2005120047A - Ｅｄｇ受容体拮抗作用を有するアルキレン誘導体 - Google Patents
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Abstract
【課題】 炎症疾患などの予防及び／又は治療のための医薬の有効成分として有用なＥＤＧ受容体拮抗作用を有する新規化合物を提供する。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
（Ｒ1は水素原子又はアルキル基；Ｒ2はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基などの置換基；Ｒ3はＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基などの置換基；Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基など；Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基；Ｚは酸素原子、硫黄原子など；Ａで表される環は５又は６員の飽和又は不飽和の炭化水素環；Ｂで表される環は上記式に示される１個の−Ｃ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示す）で表される化合物、その塩、又はそのエステル。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
（Ｒ1は水素原子又はアルキル基；Ｒ2はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基などの置換基；Ｒ3はＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基などの置換基；Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基など；Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基；Ｚは酸素原子、硫黄原子など；Ａで表される環は５又は６員の飽和又は不飽和の炭化水素環；Ｂで表される環は上記式に示される１個の−Ｃ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示す）で表される化合物、その塩、又はそのエステル。
Description
本発明は、ＥＤＧ受容体拮抗作用を有するアルキレン誘導体に関する。
近年、細胞膜からホスフォリパーゼの働きのより、プロスタグランジン、ロイコトリエン等のエイコサノイド、PAF(血小板活性化因子)、リゾフォスファチジン酸（以下LPAと略記する）等の脂質メディエーターが産生され、様々な生理活性を生じていることが明らかにされている。スフィンゴシン−１−リン酸（以下、「sph-1-P」と略記する）はスフィンゴ脂質の代謝回転を通じて、特に細胞膜の主要構成成分、スフィンゴミエリンの代謝物として生成されるリゾ脂質であり、細胞間、細胞内のメッセンジャーとして働くことがこの約10年間で提唱されてきている。当初はsph-1-Pの細胞内セカンドメッセンジャーとしての可能性を示唆する結果が報告され、その後、sph-1-Pの細胞内へのインジェクション実験により、sph-1-Pが細胞内で生理機能を発現している可能性が現実的になってきた。
もっとも、決め手となるsph-1-Pが直接作用する細胞内の分子は現在未だ見出されておらず、故にsph-1-Pの細胞内セカンドメッセンジャーとしての可能性はその域を脱していない。近年、G蛋白質共役の７回膜貫通型受容体（以下GPCRと略記する）であるEndothelial Differentiation Gene-1（EDG-1）とその類縁分子であるEDG-3、EDG-5、EDG-6、及びEDG-8がsph-1-P受容体として機能することが相次いで示され、sph-1-Pが細胞間メッセンジャーとしてその受容体を介して様々な生理作用が起こしていることが明らかにされてきた。ごく最近では、新たにGPR-3、GPR-4、及びGPR-12もsph-1-P受容体として機能していることが示唆され、sph-1-P受容体はGPCRの中でも一大ファミリーを形成しつつある（Cellular Signalling 14, 941-953, 2002）。
一方、EDG-1、EDG-3、EDG-5、EDG-6、及びEDG-8（それぞれ、S1P1、S1P3、S1P2、S1P4、S1P5とも呼ばれる場合もある）は、LPA受容体であるEDG-2、EDG-4、EDG-7を含め、EDG受容体ファミリーと称されている。これは、EDG-1がヒト臍帯静脈内皮細胞（HUVEC）をPhorbol 12-myristate 13-acetate（PMA）刺激することで誘導発現されるオーファン受容体として1990年にHlaらにより初めに報告されたことを端緒としている。その後、複数のEDG-3、EDG-5、EDG-6、及びEDG-8遺伝子がクローニングされ、これら受容体間のアミノ酸レベルでの相同性が44〜50％程度あることが分かり、これら遺伝子はファミリーを形成していることが明らかになった。その後、EDG-1がsph-1-P受容体であることは1998年に同グループから始めて報告され、他の受容体もsph-1-Pと反応することが示された。さらに、これらの受容体はLPA受容体とも高い相同性（約30%）を有していることも明らかになり、EDGファミリーはsph-1-P／LPA受容体ファミリーとして位置付けらるに至った。
EDG受容体に結合し得るG蛋白質としてはGs、Gi、Gq、Go、G12/G13などが知られており、これらの受容体は細胞増殖亢進作用あるいは抑制作用、細胞遊走促進作用あるいは抑制作用などの応答に関与するとされている。最近では、これら受容体がGi蛋白質と相互作用し、Gi蛋白質を介してp42MAPK/ERK2の活性化を引き起こすことが示され、sph-1-P受容体は多彩なシグナルを伝達することが明らかになってきた。また、これらsph-1-Pによる細胞応答の多くが百日咳毒素で阻害されることから、その細胞応答の多くはsph-1-P受容体を介した作用であると考えられている。さらに、sph-1-Pは血小板に蓄えられており、血小板の活性化により血中に放出されることからも、sph-1-Pの生理作用は細胞膜上の受容体を介して発現する可能性が高いとされている。
Sph-1-Pの薬理作用としては、平滑筋細胞、メサンギウム細胞、及び癌細胞の増殖や運動の制御、血管の弛緩・収縮、血圧の調節、心拍数の調節、血小板の凝集、脳血管痙攣、脳虚血、肝繊維症、及び免疫調節機能などが知られているが、最近、sph-1-Pは血管新生に対しても重要な役割を果たすことが分かってきた。Menq-Jer LeeらはHUVECを用いて、sph-1-PがEDG-1及びEDG-3受容体を介して該細胞のサーバイバル延長作用、接着点形成作用、微小血管形成作用を促すことを報告している（Cell 99, 301-312, 1999）。また、彼らはsph-1-Pがin vivoにおいても血管新生に対して線維芽細胞増殖因子（FGF）や血管内皮細胞増殖因子（VEGF）と相乗的に効果を示すことを報告している。OK-Hee Leeらも同様にHUVECを用いてsph-1-PのHUVECに対するDNA合成促進作用及び、遊走作用を明らかにし、in vivoにおいても血管新生に対して、sph-1-Pが単独で血管新生を促進することを報告している（Biochem. Biophys. Res. Commun. 264, 743-750, 1999）。これらのことより、sph-1-Pの生体内での生理作用の一つとして血管新生促進作用があることが考えられる。更に、EDG-1のノックアウトマウスが作製され、このマウスが血管形成異常で胎生致死になることから、sph-1-Pの血管新生作用はEDG-1を介する可能性が強く示唆された（J. Clin. Inves. 106, 951-961, 2000）。
一方、ごく最近、sph-1-Pの心臓機能調節への役割も指摘されている。すなわち、sph-1-Pには心筋収縮力を低下させる作用、心拍数減少作用があることが摘出心筋標本で示されている（J. Physiol. 489, 701-707, 1995、EMBO J. 15, 5527-5534, 1996、Biochem. J. 355, 189-197, 2001）。また、ラット培養心筋細胞においてsph-1-PはEDG-1を介して心肥大を生じること、カルシウムオーバーロードを生じること（J. Mol. Cell. Cardiol. 33, 1589-1606, 2001、Eur. J. Biochem. 267, 5679-2686, 2000）、虚血耐性を生じることが示されている（J. Mol. Cell. Cardiol. 33, 1713-1717, 2001）。さらに、同様にラット心筋細胞においてsph-1-Pはアポトーシスを生じることが示唆されている（J. Clin. Invest. 98, 2854-2865, 1996）。
従って、EDG-1受容体に対する拮抗剤は、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬として有用である。
本発明の課題は、EDG受容体、とりわけEDG-1受容体に対して拮抗作用を有する新規化合物を提供することにある。本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、下記の一般式(I)で表される化合物がEDG-1受容体に対して強力な拮抗作用を有していることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明により、下記の一般式（Ｉ）：
Ｒ1は水素原子又は炭素原子数１〜１７個のアルキル基［該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい］を示し；
Ｒ2はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｒ3はＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示し；
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ａで表される環は５又は６員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよく；
Ｂで表される環は上記式に示される１個の−Ｃ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。
「置換基群Ａ」
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、オキソ基、シアノ基〕
で表される化合物、その塩、又はそのエステルが提供される。
本発明の好ましい態様によれば、
Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基であり、Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、又は５又は６員環の芳香族ヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含む）であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）である上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステル；
Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基であり、Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、又は５又は６員環の芳香族ヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含む）であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）である上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステル；
Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがスルホ基であり、Ｚが硫黄原子であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）である上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステル；及び
Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上でＺに対してパラ位に置換する炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがスルホ基であり、Ｚが硫黄原子であり、Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）である上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルが提供される。
別の観点からは、本発明により、上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、及び薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む医薬が提供される。上記の医薬は、例えば、EDG、好ましくはEDG-1が関与する疾患の予防及び／又は治療のための医薬として用いることができる。より具体的には、上記の医薬は、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬として有用である。
さらに別の観点からは、上記の医薬の製造のための上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質の使用；及び上記の上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含むEDG受容体拮抗剤が提供される。また、本発明により、EDG、好ましくはEDG-1が関与する疾患の予防及び／又は治療方法であって、上記の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質の予防及び／又は治療有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法が提供される。上記の方法の適用対象となる疾患としては、より具体的には上記に例示した疾患を挙げることができる。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物はＥＤＧ受容体拮抗作用を有しており、炎症疾患、異常な血管新生を伴う疾患、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、又は慢性下痢の予防及び／又は治療のための医薬の有効成分として有用である。
本明細書において、アルキル基又はアルキル部分を含む他の置換基（例えばアルコキシ基など）の該アルキル部分としては、特に言及しない場合には、例えば、直鎖状、分枝鎖状、環状、又はそれらの組み合わせからなる炭素原子数１〜１７個のアルキル基を用いることができる。より具体的には、アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基などを挙げることができる。また、アルキル基は１個又は２個以上の環状部分を含んでいてもよい。
アルキル鎖に１個又は２個以上の不飽和結合を含む官能基（例えばアルケニル基、アルキニル基など）のアルキル鎖は上記のアルキル基と同様である。例えば、アルケニル基又はアルキニル基において、アルキル鎖に含まれる不飽和結合の数及び位置は特に限定されない。アルケニル部分又はアルキニル部分を含む官能基における該アルケニル部分又は該アルキニル部分についても同様である。アリール部分を有する官能基（例えばアラルキル基など）におけるアリール部分としては、単環性又は多環性の芳香族炭化水素を用いることができる。より具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などを用いることができる。本明細書において、ハロゲン原子という場合には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子のいずれであってもよい。
「置換基群Ａ」には、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、オキソ基、及びシアノ基が含まれる。本明細書において、ある官能基について「置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい」と定義されている場合には、該官能基が置換基群Ａから選ばれる置換基を任意の位置に１個又は２個以上有する場合があることを意味しているが、該官能基が２個以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。
「置換基群Ａ」には、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、オキソ基、及びシアノ基が含まれる。本明細書において、ある官能基について「置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい」と定義されている場合には、該官能基が置換基群Ａから選ばれる置換基を任意の位置に１個又は２個以上有する場合があることを意味しているが、該官能基が２個以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。
置換基群Ａにおいて、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、１−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチルプロポキシ基、１−エチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、１−メチルペンチルオキシ基、３，３−ジメチルブトキシ基、２，２−ジメチルブトキシ基、１，１−ジメチルブトキシ基、１，２−ジメチルブトキシ基、１，３−ジメチルブトキシ基、２，３−ジメチルブトキシ基、２−エチルブトキシ基、１−エチルブトキシ基、１−エチル−１−メチルプロポキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、又はｎ−ヘプタデシルオキシ等のアルコキシ基が挙げられる。
アルケニルオキシ基としては、例えば、ビニルオキシ基、（プロパ−１−エン−１−イル）オキシ基、アリルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、（ブタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ブタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ブタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（２−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ基、（１−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−４−エン−１−イル）オキシ基、（３−メチルブタ−２−エン−１−イル）オキシ基、（３−メチルブタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−２−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−４−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−５−エン−１−イル）オキシ基、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−６−エン−１−イル）オキシ基、（オクタ−１−エン−１−イル）オキシ基、（オクタ−７−エン−１−イル）オキシ基、（ノナ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ノナ−８−エン−１−イル）オキシ基、（デカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（デカ−９−エン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１０−エン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１１−エン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１２−エン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１３−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１４−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１５−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１−エン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１６−エン−１−イル）オキシ基などのアルケニルオキシ基が挙げられる。
アルキニルオキシ基としては、例えば、エチニルオキシ基、（プロパ−１−イン−１−イル）オキシ，（プロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ブタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ブタ−３−イン−１−イル）オキシ基、（１−メチルプロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ペンタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタ−４−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサ−５−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタ−６−イン−１−イル）オキシ基、（オクタ−１−イン−１−イル）オキシ基、（オクタ−７−イン−１−イル）オキシ基、（ノナ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ノナ−８−イン−１−イル）オキシ基、（デカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（デカ−９−イン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ウンデカ−１０−イン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ドデカ−１１−イン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（トリデカ−１２−イン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（テトラデカ−１３−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ペンタデカ−１４−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘキサデカ−１５−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１−イン−１−イル）オキシ基、（ヘプタデカ−１６−イン−１−イル）オキシ基などのアルキニル−オキシ基が挙げられる。
アラルキルオキシ基としては、１個又は２個以上のアリール基が置換したアルコキシ基を用いることができ、より具体的には、例えば、ベンジルオキシ基、１−ナフチルメトキシ基、２−ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、フェナントレニルメトキシ基、アセナフチレニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基、１−フェネチルオキシ基、２−フェネチルオキシ基、１−（１−ナフチル）エトキシ基、１−（２−ナフチル）エトキシ基、２−（１−ナフチル）エトキシ基、２−（２−ナフチル）エトキシ基、３−フェニルプロポキシ基、３−（１−ナフチル）プロポキシ基、３−（２−ナフチル）プロポキシ基、４−フェニルブトキシ基、４−（１−ナフチル）ブトキシ基、４−（２−ナフチル）ブトキシ基、５−フェニルペンチルオキシ基、５−（１−ナフチル）ペンチルオキシ基、５−（２−ナフチル）ペンチルオキシ基、６−フェニルヘキシルオキシ基、６−（１−ナフチル）ヘキシルオキシ基、６−（２−ナフチル）ヘキシルオキシ等を挙げることができる。
アルキルアミノ基基としては、モノアルキルアミノ基基又はジアルキルアミノ基基のいずれであってもよい。例えば、モノアルキルアミノ基として、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、（２−メチルブチル）アミノ基、（１−メチルブチル）アミノ基、ネオペンチルアミノ基、（１，２−ジメチルプロピル）アミノ基、（１−エチルプロピル）アミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、（４−メチルペンチル）アミノ基、（３−メチルペンチル）アミノ基、（２−メチルペンチル）アミノ基、（１−メチルペンチル）アミノ基、（３，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２，２−ジメチルブチル）アミノ基、（１，１−ジメチルブチル）アミノ基、（１，２−ジメチルブチル）アミノ基、（１，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２，３−ジメチルブチル）アミノ基、（２−エチルブチル）アミノ基、（１−エチルブチル）アミノ基、（１−エチル−１−メチルプロピル）アミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、ｎ−ウンデシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基、ｎ−トリデシルアミノ基、ｎ−テトラデシルアミノ基、ｎ−ペンタデシルアミノ基などのアルキルアミノ基が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、上記に例示したモノアルキルアミノ基の窒素原子上に上記に例示したアルキル基が１個置換したものを挙げることができる。
アルカノイルアミノ基としては、上記に例示したモノアルキルアミノ基において、窒素原子に結合する炭素原子上にオキソ基が置換した基を例示することができる。アミノ基上に置換するアルカノイル基は、例えば、炭素原子数１〜１７個のアルカノイル基であることが好ましい。アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ基、１−メチルブチルチオ基、ネオペンチルチオ基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロピルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、４−メチルペンチルチオ基、３−メチルペンチルチオ基、２−メチルペンチルチオ基、１−メチルペンチルチオ基、３，３−ジメチルブチルチオ基、２，２−ジメチルブチルチオ基、１，１−ジメチルブチルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、１，３−ジメチルブチルチオ基、２，３−ジメチルブチルチオ基、２−エチルブチルチオ基、１−エチルブチルチオ基、１−エチル−１−メチルプロピルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｎ−ノニルチオ基、ｎ−デシルチオ基、ｎ−ウンデシルチオ基、ｎ−ドデシルチオ基、ｎ−トリデシルチオ基、ｎ−テトラデシルチオ基、ｎ−ペンタデシルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基、又はｎ−ヘプタデシルチオ等のアルキルチオ基が挙げられる。
Ｒ1が示す炭素原子数１〜１７個のアルキル基としては、直鎖状、分枝鎖状、環状、又はそれらの組み合わせからなるアルキル基を用いることができ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、９−シクロヘキシルノニル基、１０−シクロヘキシルデシル基などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。Ｒ1が示す直鎖状又は分枝鎖状の炭素原子数１〜１７個のアルキル基としては、炭素原子数が６個以上、より好ましくは炭素原子数が８個以上、さらに好ましくは炭素原子数が１０個以上のアルキル基を用いることができる。
Ｒ1が示す直鎖状又は分枝鎖状の炭素原子数１〜１７個のアルキル基の「鎖中」（本明細書においてアルキル基の「鎖中」という用語は、アルキル基の主鎖中及びアルキル基の側鎖中のいずれか又は両方を意味しており、主鎖又は側鎖の末端を含む概念として用いる。「主鎖」とはアルキル基に含まれる最長の炭素原子鎖（ただし、一般式（Ｉ）に示されるＡ環に結合するＲ1中の炭素原子を一端とする）を意味し、「側鎖」は主鎖に結合する炭素原子鎖のことである。）に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよい。例えば、鎖中にベンゼン環が存在する場合、該ベンゼン環はフェニレン基を形成する。鎖中に上記の部分構造を２個以上有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。上記の部分構造を含むアルキル基としては、例えば、鎖中に１個の酸素原子を含むアルキル基が好ましい。酸素原子の位置は特に限定されないが、Ａ環に結合する炭素原子に隣接する位置に酸素原子を有することが好ましく、この場合、Ｒ1はアルキルオキシメチル基を形成する。また、鎖中に１個の硫黄原子を含むアルキル基も好ましい。硫黄原子の位置は特に限定されないが、Ａ環に結合する炭素原子に隣接する位置に硫黄原子を有することが好ましく、この場合、Ｒ1はアルキルチオメチル基を形成する。
また、Ｒ1が示すアルキル基（鎖中に上記の部分構造を有する場合を含む）は、「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい。置換基の存在位置及び個数は特に限定されない。２以上の置換基を有する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。置換基としては、例えばヒドロキシ基又はオキソ基などが好ましい。Ｒ1が示すアルキル基（鎖中に上記の部分構造を有する場合を含む）は無置換であることも好ましいが、１個のヒドロキシ基を有することも好ましい。鎖中に１個の酸素原子を含み、かつ鎖上に１個のヒドロキシ基を有する場合も好ましい。
より具体的には、Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、ホルミル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であることが好ましい。
Ｒ2はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示す。Ｃ環であるベンゼン環には３箇所の置換可能位置が存在するが、こ（れら）のいずれの位置にＲ2が存在していてもよい。２個以上のＲ2が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれるが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｒ2が水素原子であることが好ましいが、Ｒ2が水素原子以外の置換基であることも好ましい。
Ｒ3はＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示す。Ｄ環であるベンゼン環には５箇所の置換可能位置が存在するが、こ（れら）のいずれの位置にＲ3が存在していてもよい。２個以上のＲ3が存在する場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は置換基群Ａから選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれるが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｒ3としては、炭素原子数１〜６個のアルキル基が好ましい。より具体的には、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であることが好ましく、Ｒ3がＤ環上においてＺに対してパラ位に１個存在する場合がより好ましい。
Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示すが、上記の置換基としては、それぞれ先に例示した置換基を用いることができる。Ｘとしてはヒドロキシ基が好ましい。Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示すが、カルボキシル基又はスルホ基が好ましく、スルホ基がより好ましい。
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示すが、Ｚが硫黄原子、スルフィニル基（−Ｓ(Ｏ)−）、スルホニル基（−ＳＯ2−）であることが好ましく、硫黄原子であることがより好ましい。
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は置換基群Ａから選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示すが、Ｚが硫黄原子、スルフィニル基（−Ｓ(Ｏ)−）、スルホニル基（−ＳＯ2−）であることが好ましく、硫黄原子であることがより好ましい。
Ａで表される環は５又は６員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。Ａで表される環は、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−、酸素原子、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は前記と同義である）、硫黄原子、及び−Ｃ(Ｏ)−からなる群から選ばれる環構成部分構造を１個又は２個以上有していてもよい。Ａで表される環は、飽和、部分飽和、又は芳香族のいずれであってもよいが、好ましくは芳香族環である。好ましくは、Ａで表される環は５又は６員環の芳香族環であり、ベンゼン環であるか、あるいは窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含む芳香族ヘテロ環である。環構成ヘテロ原子としては、窒素原子が好ましい。
Ａで表される環としては、例えば、ベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、若しくはピラゾール環などの芳香環などを挙げることができる。Ａで表される環としては、ベンゼン環が好ましい。Ａで表される環が置換基を有する場合、置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を用いることができる。Ａで表される環が置換基を有する場合、置換基としてはヒドロキシ基が好ましく、Ａで表される環がベンゼン環である場合には、１個のヒドロキシ基がＲ1に対してパラ位に置換していることが好ましい。
Ａで表される環の結合様式について、Ａ環がベンゼン環又はピロール環である場合を例として具体的に説明する。Ａで表される環において置換基Ｒ1の結合箇所は特に限定されないが、６員環又は５員環の場合のいずれにおいても、Ｘが置換する炭素原子との結合部位（下記式中の「１」で示される位置）を１位としたときに３位にＲ1が置換していることが好ましい（下記式中で「３」として示されている位置である）。この３位の環構成原子は、炭素原子又は窒素原子のいずれかである。もっとも、Ａで表される環はベンゼン環又はピロール環に限定されることはない。
Ｂで表される環は上記式に示される１個の−Ｃ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。Ｂで表される環として好ましいのは５又は６員環の芳香族環又は部分飽和環であり、炭化水素環であるか、あるいは窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含むヘテロ環である。環構成ヘテロ原子としては、窒素原子が好ましい。Ｂで表される環としては、例えば、ベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、若しくはピラゾール環などの芳香環、又はこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（例えばシクロヘキセン環、シクロペンテン環など）、あるいはシクロペンテン環などを挙げることができる。Ｂで表される環がベンゼン環であることが好ましい。Ｂで表される環が無置換であることが好ましいが、Ｂで表される環が１又は２以上の置換置を有する場合も好ましい。置換基としては、例えば、アルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を用いることができる。
一般式（Ｉ）で表される化合物は置換基の種類により、１個又は２個以上の不斉炭素を有する場合があり、こ（れら）の不斉炭素に基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体が存在する。純粋な形態の立体異性体及び立体異性体の等量又は非等量混合物などの物質は、いずれも本発明の範囲に包含されることを理解すべきである。一般式（Ｉ）で表される化合物は、置換基の種類によっては幾何異性体又は互変異性体として存在することもあるが、任意の異性体又はそれらの混合物も本発明の範囲に包含される。例えば、下記の表１に示されるように、Ｂ環を構成する−Ｃ＝Ｃ−部分構造は互変異性により＝Ｃ−Ｃ＝で表される部分構造となる場合がある。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、酸付加塩として存在する場合がある。そのような塩としては、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化水素酸の塩；硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩のような無機酸塩；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のようなアリールスルホン酸の塩；グルタミン酸、アスパラギン酸のようなアミノ酸の塩；酢酸、フマール酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、マンデル酸、アスコルビン酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸のようなカルボン酸の塩を挙げることができる。また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は塩基付加塩として存在する場合もある。そのような塩としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属塩；カルシウム、バリウム、マグネシウムのようなアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩；アンモニウム塩；メチルアミン塩などの有機アミン塩を挙げることができる。さらに、グリシンなどのアミノ酸との塩を形成する場合もある。これらの塩はいずれも本発明の範囲に包含される。
また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｙで表されるカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基はエステル、好ましくは薬理上許容されるエステルを形成していてもよい。エステルの種類は特に限定されず、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物と同様に医薬上の有用性を有しており、薬理上受け入れられるものであれば、特に制限なくいかなる種類のエステルを用いてもよい。例えば、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基（該アルキル基は、トリアルキルシリル基により置換されていてもよい）、炭素原子数７〜１９個のアラルキル基、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルカノイルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキルオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数５〜７個のシクロアルキルオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素原子数６〜１０個のアリールオキシカルボニルオキシ基が置換した炭素原子数１〜５個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、５位に置換基として炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基を有する２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル基などを挙げることができる。
より具体的には、炭素原子数１〜６個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基としては、好適には炭素原子数１〜４個の直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基であり、さらに好適にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、又はイソブチル基であり、最適にはメチル基又はエチル基である。炭素原子数５〜７個のシクロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などを挙げることができ、好適にはシクロヘキシル基である。炭素原子数６〜１０個のアリール基としては、例えばフェニル基又はナフチル基を挙げることができ、好適にはフェニル基である。炭素原子数７〜１９個のアラルキル基としては、上記アリール基が前基アルキル基に結合した基を用いることができ、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、又はジフェニルメチル基などを挙げることができ、好適にはベンジル基である。
好適なエステル残基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、アセトキシメチル基、１−（アセトキシ）エチル基、プロピオニルオキシメチル基、１−（プロピオニルオキシ）エチル基、ブチリルオキシメチル基、１−（ブチリルオキシ）エチル基、イソブチリルオキシメチル基、１−（イソブチリルオキシ）エチル基、バレリルオキシメチル基、１−（バレリルオキシ）エチル基、イソバレリルオキシメチル基、１−（イソバレリルオキシ）エチル基、ピバロイルオキシメチル基、１−（ピバロイルオキシ）エチル基、メトキシカルボニルオキシメチル基、１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル基、エトキシカルボニルオキシメチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、プロポキシカルボニルオキシメチル基、１−（プロポキシカルボニルオキシ）エチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチル基、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル基、ブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（ブトキシカルボニルオキシ）エチル基、イソブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（イソブトキシカルボニルオキシ）エチル基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシメチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチル基、シクロペンタンカルボニルオキシメチル基、１−（シクロペンタンカルボニルオキシ）エチル基、シクロヘキサンカルボニルオキシメチル基、１−（シクロヘキサンカルボニルオキシ）エチル基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシメチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルオキシ）エチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）エチル基、ベンゾイルオキシメチル基、１−（ベンゾイルオキシ）エチル基、フェノキシカルボニルオキシメチル基、１−（フェノキシカルボニルオキシ）エチル基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル基、又は２−トリメチルシリルエチル基などを挙げることができる。もっとも、一般式（Ｉ）で表される化合物のエステルは上記に限定されることはない。
さらに、生体内において代謝されて一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルに変換される化合物（例えばアミド誘導体のような、いわゆるプロドラッグとして利用可能な化合物）も本発明の範囲に包含される。また、一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルは、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあり、任意の水和物又は溶媒和物も本発明の範囲に包含されることも理解すべきである。
さらに、生体内において代謝されて一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルに変換される化合物（例えばアミド誘導体のような、いわゆるプロドラッグとして利用可能な化合物）も本発明の範囲に包含される。また、一般式（Ｉ）で表される化合物、その塩、又はそのエステルは、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあり、任意の水和物又は溶媒和物も本発明の範囲に包含されることも理解すべきである。
一般式（Ｉ）において、
（Ａ）Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、ホルミル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基であり、Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、又は５又は６員環の芳香族ヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含む）であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）であることが好ましく、
（Ａ）Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、ホルミル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基であり、Ｚが酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、又はスルホニル基であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、又は５又は６員環の芳香族ヘテロ環（該ヘテロ環は窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成ヘテロ原子を１又は２個含む）であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）であることが好ましく、
（Ｂ）Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、ホルミル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルスルホニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、アルキルカルボニル置換アミノアルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個の置換基であり、該置換基が炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがスルホ基であり、Ｚが硫黄原子であり；Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）であることがより好ましく、
（Ｃ）Ｒ1が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ置換アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルキルカルボニル基、ホルミル基、アルキルチオアルキル基、アルキルスルフィニルアルキル基、アルキルアミノ置換アルキル基、アルキルカルバモイル基、アルキルカルバモイル置換アルキル基、又はアルカノイル置換アルコキシアルキル基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ3がＤ環上でＺに対してパラ位に置換する炭素原子数１〜６個のアルキル基であり、Ｘがヒドロキシ基であり、Ｙがスルホ基であり、Ｚが硫黄原子であり、Ａで表される環がベンゼン環（該ベンゼン環はヒドロキシ基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキル置換アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子など）、カルボキシ置換アルコキシ基、シアノ基、及びニトロ基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であり、Ｂで表される環がベンゼン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロール環、チオフェン環、フラン環、又はピラゾール環であるか、あるいはこれらの芳香環が部分飽和することにより形成される環（該環はアルコキシ基、カルボキシル基、オキソ基、及びアルキル基からなる群から選ばれる１又は２以上の置換基を有していてもよい）であることがさらに好ましい。
以下に一般式（Ｉ）に包含される本発明の化合物の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらの具体例に限定されることはない。表中、Ｍｅはメチル基を示し、表１においてＡ環の「１」及び「２」はＡ環の結合部位を示し（「１」で表される原子はＸが置換する炭素原子に結合する）、表２においてＢ環の「１」及び「２」はＢ環の結合部位を示す（「１」で表される原子はＣ環が置換する炭素原子に結合する）。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、例えば、以下に説明する方法及び実施例に具体的に説明された方法を参照しつつ、出発原料、反応試薬、反応条件などを適宜選択し、必要に応じてこれらの方法に適宜の修飾や改変を加えることにより、公知化合物を出発原料として当業者が容易に製造できる。以下、各実施例のスキーム中の具体的に示された反応工程に言及しつつ、一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物を製造する方法を説明するが、本発明の化合物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではない。また、任意の方法で製造された一般式（Ｉ）に包含される化合物が、いずれも本発明の範囲に包含されることは言うまでもない。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、例えば、以下の方法により製造することができる。
上記工程中、
ｎは１ないし２の整数を示す。
Ｙ及びＺは前記のものと同義である。
Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は前記のものと同義である。ただし、上記工程中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3において、官能基を含んでいる場合にはその官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式の置換基も含むものとする。
Ｘは前記のものと同義である。ただし、有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式も含むものとする。
ＹpはＹが示すスルホン酸、カルボン酸、又はホスホン酸がエステルの形で保護されている状態を示す。具体的には置換基群Bから選択される基により保護されたスルホン酸エステル、カルボン酸エステル、ホスホン酸エステルを示す。
（置換基群Ｂ）：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、アリル基、２−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基
R6は水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、又は上記の（置換基群Ａ）から選択された一種以上の基で置換されていてもよいC1-C6アルキル基を示す。ただし、有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式も含むものとする。
R7及びR8は炭素原子数１〜１７個のアルキル基［該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は上記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は上記の（置換基群Ａ）から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい］を示す。ただし、Ｒ7において、官能基を含んでいる場合にはその官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式の置換基も含むものとする。
Ｒ9は水酸基の保護に通常用いられる保護基を示す。
Ｒ10はアルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。
ｎは１ないし２の整数を示す。
Ｙ及びＺは前記のものと同義である。
Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は前記のものと同義である。ただし、上記工程中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3において、官能基を含んでいる場合にはその官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式の置換基も含むものとする。
Ｘは前記のものと同義である。ただし、有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式も含むものとする。
ＹpはＹが示すスルホン酸、カルボン酸、又はホスホン酸がエステルの形で保護されている状態を示す。具体的には置換基群Bから選択される基により保護されたスルホン酸エステル、カルボン酸エステル、ホスホン酸エステルを示す。
（置換基群Ｂ）：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、アリル基、２−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基
R6は水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、又は上記の（置換基群Ａ）から選択された一種以上の基で置換されていてもよいC1-C6アルキル基を示す。ただし、有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式も含むものとする。
R7及びR8は炭素原子数１〜１７個のアルキル基［該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は上記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は上記の（置換基群Ａ）から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい］を示す。ただし、Ｒ7において、官能基を含んでいる場合にはその官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により保護された形式の置換基も含むものとする。
Ｒ9は水酸基の保護に通常用いられる保護基を示す。
Ｒ10はアルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。
一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物は、上記したＡ〜Ｄ工程を経ることで合成できる。また、合成しようとする化合物においてＡ〜Ｄ工程以外の官能基変換を必要とする場合には、有機合成上適当と考えられる段階でその変換反応を行うことができる。
＜Ａ工程＞
Ａ工程はＡ環部に相当する環骨格に対してアルキル鎖を導入し、側鎖ユニットとなる化合物(IV)、化合物(VII)、及び化合物(VIII)を合成する工程である。この工程は、Ａ環部位と側鎖部位との結合様式に応じてa法、ｂ法、及びｃ法の３種類に大別できるが、これらの方法に限定されるわけではなく、Ａ環部位と側鎖部位との結合様式に応じて任意の手法を選択できる。本工程の出発原料となるアルコール類及びアルデヒド類はその多くが市販されており、当業者はそれらを容易に入手して本工程の原料化合物として用いることができる。
＜Ａ工程＞
Ａ工程はＡ環部に相当する環骨格に対してアルキル鎖を導入し、側鎖ユニットとなる化合物(IV)、化合物(VII)、及び化合物(VIII)を合成する工程である。この工程は、Ａ環部位と側鎖部位との結合様式に応じてa法、ｂ法、及びｃ法の３種類に大別できるが、これらの方法に限定されるわけではなく、Ａ環部位と側鎖部位との結合様式に応じて任意の手法を選択できる。本工程の出発原料となるアルコール類及びアルデヒド類はその多くが市販されており、当業者はそれらを容易に入手して本工程の原料化合物として用いることができる。
（１−１）a法
（第Ａａ工程）
本工程は出発原料（III）の水酸基部位をアルキル化し、中間体（IV）を製造する工程である。本工程は中間体（III）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルキルハライドを作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのが挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適には水素化ナトリウムである。使用されるアルキルハライドとしては、臭化物、ヨウ化物等が挙げられる。また、ハライド類以外にも、メタンスルホン酸エステル類、ｐ−トルエンスルホン酸エステル類等の通常エーテル形成反応に用いられる求電子剤等を用いて反応を行うことも可能である。反応温度は−78℃〜80℃で行われるが、好適には0℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には２時間乃至４時間である。
（第Ａａ工程）
本工程は出発原料（III）の水酸基部位をアルキル化し、中間体（IV）を製造する工程である。本工程は中間体（III）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルキルハライドを作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのが挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適には水素化ナトリウムである。使用されるアルキルハライドとしては、臭化物、ヨウ化物等が挙げられる。また、ハライド類以外にも、メタンスルホン酸エステル類、ｐ−トルエンスルホン酸エステル類等の通常エーテル形成反応に用いられる求電子剤等を用いて反応を行うことも可能である。反応温度は−78℃〜80℃で行われるが、好適には0℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には２時間乃至４時間である。
（１−２）ｂ法
（第Ａｂ１工程）
本工程はＡ環部に相当するアルデヒド（V）に対して側鎖に相当するアルキル金属塩を作用させて１，２−付加反応を行い、中間体（VI）を得る工程である。本工程は中間体（V）に対して不活性溶剤中、求核剤としてアルキル金属塩を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香環類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用されるアルキル金属塩としては、例えばアルキルリチウム、アルキルナトリウム等のアルカリ金属塩；アルキルマグネシウムクロリド、アルキルマグネシウムブロミド等のマグネシウム塩類が挙げられるが、好適にはマグネシウム塩類である。反応温度は−７８℃〜室温で行われるが、好適には−７８℃〜０度である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１０分〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
（第Ａｂ１工程）
本工程はＡ環部に相当するアルデヒド（V）に対して側鎖に相当するアルキル金属塩を作用させて１，２−付加反応を行い、中間体（VI）を得る工程である。本工程は中間体（V）に対して不活性溶剤中、求核剤としてアルキル金属塩を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香環類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用されるアルキル金属塩としては、例えばアルキルリチウム、アルキルナトリウム等のアルカリ金属塩；アルキルマグネシウムクロリド、アルキルマグネシウムブロミド等のマグネシウム塩類が挙げられるが、好適にはマグネシウム塩類である。反応温度は−７８℃〜室温で行われるが、好適には−７８℃〜０度である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１０分〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
（第Ａｂ２工程）
本工程は中間体（VI）が有する水酸基に対して保護化反応を行い、水酸基が保護された化合物（VII）を得る工程である。本工程は用いる保護基により方法が異なるが、シリル系保護基を用いた場合について以下に記載する。それ以外の保護基についても、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T.W.; Wuts, P.G.M、1999年）等に記載されている方法により保護が行える。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミンなどの3級アミン類；ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン等のピリジン類；イミダゾール、５−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類が挙げられるが、好適にはイミダゾールである。使用されるシリル化剤としては、例えば、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド等のシリルクロリド類；トリエチルシリルトリフラート、ｔ−ブチルジメチルシリルトリフラート、トリイソプロピルシリルトリフラートなどのシリルトリフラート類が挙げられるが、好適にはｔ−ブチルジメチルシリルクロリドである。反応温度は−７８℃〜室温で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１０分〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は中間体（VI）が有する水酸基に対して保護化反応を行い、水酸基が保護された化合物（VII）を得る工程である。本工程は用いる保護基により方法が異なるが、シリル系保護基を用いた場合について以下に記載する。それ以外の保護基についても、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T.W.; Wuts, P.G.M、1999年）等に記載されている方法により保護が行える。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミンなどの3級アミン類；ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン等のピリジン類；イミダゾール、５−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類が挙げられるが、好適にはイミダゾールである。使用されるシリル化剤としては、例えば、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、トリイソプロピルシリルクロリド等のシリルクロリド類；トリエチルシリルトリフラート、ｔ−ブチルジメチルシリルトリフラート、トリイソプロピルシリルトリフラートなどのシリルトリフラート類が挙げられるが、好適にはｔ−ブチルジメチルシリルクロリドである。反応温度は−７８℃〜室温で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１０分〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
（１−３）ｃ法
（第Ａｃ工程）
本工程は中間体（VI）に対して水素添加反応を行い、中間体(VIII)を製造する工程である。本工程は中間体（VI）に対して水素雰囲気、不活性溶剤中、酸の存在下、パラジウム等の遷移金属触媒を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類が挙げられるが、好適にはメタノールである。使用される酸としては、例えば、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の酢酸類；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等のスルホン酸類；塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水素類が挙げられるが、好適には酢酸である。反応温度は0℃〜１００℃で行われるが、好適には室温〜６０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
（第Ａｃ工程）
本工程は中間体（VI）に対して水素添加反応を行い、中間体(VIII)を製造する工程である。本工程は中間体（VI）に対して水素雰囲気、不活性溶剤中、酸の存在下、パラジウム等の遷移金属触媒を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類が挙げられるが、好適にはメタノールである。使用される酸としては、例えば、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の酢酸類；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等のスルホン酸類；塩化水素、臭化水素等のハロゲン化水素類が挙げられるが、好適には酢酸である。反応温度は0℃〜１００℃で行われるが、好適には室温〜６０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
＜Ｂ工程＞
本工程は中間体（IX）（中間体（IX）の製造法に関しては特願２００３−１８７５３０号明細書に具体的に記載されている）と側鎖に対応する中間体（X）とを連結し、２級アルコール構造を有する中間体（XI）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、ブロマイドに対して金属単体又はアルキル金属を作用させてハロゲン金属交換反応を行った後、ホルミル基を有する中間体（IX）を作用させることにより達成できる。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される還元剤としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキル金属類；金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛等の金属単体類；ヨウ化サマリウム、２塩化クロムなどのハロゲン化金属類が挙げられるが、好適にはｎ−ブチルリチウムである。反応温度は−７８℃〜０℃で行われるが、好適には−７８℃〜−２３℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は中間体（IX）（中間体（IX）の製造法に関しては特願２００３−１８７５３０号明細書に具体的に記載されている）と側鎖に対応する中間体（X）とを連結し、２級アルコール構造を有する中間体（XI）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、ブロマイドに対して金属単体又はアルキル金属を作用させてハロゲン金属交換反応を行った後、ホルミル基を有する中間体（IX）を作用させることにより達成できる。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される還元剤としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキル金属類；金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛等の金属単体類；ヨウ化サマリウム、２塩化クロムなどのハロゲン化金属類が挙げられるが、好適にはｎ−ブチルリチウムである。反応温度は−７８℃〜０℃で行われるが、好適には−７８℃〜−２３℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
＜Ｃ工程＞
本工程は一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｘとしてアミノ基を有する化合物を製造する際に必要な中間体（XIII）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、酸触媒の存在下、中間体（XII）に対してカーバメート類をはじめとするアンモニア等価体を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用されるアンモニア等価体としては、例えば、アジ化ナトリウム、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジドなどのアジド類；メチルカーバメート、ｔ−ブチルカーバメート、フェニルカーバメートなどのカーバメート類が挙げられるが、好適にはカーバメート類であり、特に好適にはフェニルカーバメートである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；3フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には3フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−７８℃〜８０℃で行われるが、好適には−２３℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
本工程は一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｘとしてアミノ基を有する化合物を製造する際に必要な中間体（XIII）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、酸触媒の存在下、中間体（XII）に対してカーバメート類をはじめとするアンモニア等価体を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用されるアンモニア等価体としては、例えば、アジ化ナトリウム、トリメチルシリルアジド、トリエチルシリルアジドなどのアジド類；メチルカーバメート、ｔ−ブチルカーバメート、フェニルカーバメートなどのカーバメート類が挙げられるが、好適にはカーバメート類であり、特に好適にはフェニルカーバメートである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；3フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には3フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−７８℃〜８０℃で行われるが、好適には−２３℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
＜Ｄ工程＞
本工程は中間体（XIV）の置換基Ｙｐの脱保護を行い、最終目的物（I）を得る工程である。本工程は不活性溶剤中、水の存在下、塩基を作用させてエステル加水分解反応を行うことで達成できる。中間体（XIV）の構造中、Ｙｐ以外の置換基において他の保護基が存在している場合には、本工程を行う前にすべて脱保護しておくことが望ましい。それらの脱保護法に関しては、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T. W.; Wuts, P. G. M、1999年）等に記載されている方法により行うことができる。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類が挙げられるが、好適にはジオキサンである。使用される塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類が挙げられるが、好適には水酸化ナトリウムである。反応温度は０℃〜１５０℃で行われるが、好適には４０℃〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１時間〜２４時間であり、好適には３時間〜８時間である。
本工程は中間体（XIV）の置換基Ｙｐの脱保護を行い、最終目的物（I）を得る工程である。本工程は不活性溶剤中、水の存在下、塩基を作用させてエステル加水分解反応を行うことで達成できる。中間体（XIV）の構造中、Ｙｐ以外の置換基において他の保護基が存在している場合には、本工程を行う前にすべて脱保護しておくことが望ましい。それらの脱保護法に関しては、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T. W.; Wuts, P. G. M、1999年）等に記載されている方法により行うことができる。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類が挙げられるが、好適にはジオキサンである。使用される塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類が挙げられるが、好適には水酸化ナトリウムである。反応温度は０℃〜１５０℃で行われるが、好適には４０℃〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１時間〜２４時間であり、好適には３時間〜８時間である。
上記Ｂ工程において用いられる中間体（IX）は、特願２００３−１８７５３０号明細書に具体的かつ詳細に記載されているように、以下の工程（Ｅ）ないし（Ｉ）を含む方法で製造することができる。上記特許出願の明細書の開示のすべてを参照として本明細書の開示に含める。
上記工程中、Ｙ及びＺはそれぞれ前記定義と同義である。Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ上記定義と同義であるが、これらの置換基に含まれる１又は２以上の官能基を有機合成上適当と考えられる保護基により適宜保護した置換基を包含する。Ｘは上記定義と同義であるが、有機合成上適当と考えられる保護基により適宜保護されたものも含む。Ｈａｌはハロゲン原子を示し、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。ＹｐはＹが示すカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基のエステルを示し、より具体的には、下記の置換基群Ｂから選択される基をエステル形成基として有するカルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、又はホスホン酸エステル基を示す。
（置換基群Ｂ）：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、アリル基、２−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基。
（置換基群Ｂ）：メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、アリル基、２−シアノエチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基。
上記工程中、Ｒ5はスルホン酸の保護基として適当なアルキル基又はアリール基を示し、例えば、置換基群Ｂから適宜選択される。Ｒ6は炭素原子数１〜１０個のアルキル基（該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（Ｒ4は上記と同義である）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示す。Ｒ7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素原子数１〜４個のアルキル基を示し；Ｒ8は水酸基の保護に通常用いられる保護基を示し；Ｒ9は水素原子、炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、アジド基、又はシアノ基を示し；Ｒ10は炭素原子数１〜４個のアシル基を示し；Ｒ11はアルキルオキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基を示す。
＜Ｅ工程＞
本工程は目的化合物の構造中にＹとしてスルホン酸基を有する場合に必要な工程であり、スルホン酸エステル（XXIII）を製造する工程である。本工程は出発原料であるスルホニルクロライド（XXII）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルコールを作用させることにより達成される。出発原料となる２，６−ジハロゲノベンゼンスルホニルクロリドは多くの誘導体が市販されており、それらを購入して用いることができる。また、市販されていない化合物については、文献（J. Am. Chem. Soc, 62巻、511項、（1940年））等の方法を用いて容易に合成することができる。使用される溶剤としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される塩基としては、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが、好適にはトリエチルアミンである。使用されるアルコールとしてはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノールなどのアルキルアルコール類；フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ハロゲン化フェノールなどのフェノール類が挙げられるが、好適にはフェノールである。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は目的化合物の構造中にＹとしてスルホン酸基を有する場合に必要な工程であり、スルホン酸エステル（XXIII）を製造する工程である。本工程は出発原料であるスルホニルクロライド（XXII）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルコールを作用させることにより達成される。出発原料となる２，６−ジハロゲノベンゼンスルホニルクロリドは多くの誘導体が市販されており、それらを購入して用いることができる。また、市販されていない化合物については、文献（J. Am. Chem. Soc, 62巻、511項、（1940年））等の方法を用いて容易に合成することができる。使用される溶剤としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される塩基としては、例えば水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが、好適にはトリエチルアミンである。使用されるアルコールとしてはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノールなどのアルキルアルコール類；フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ハロゲン化フェノールなどのフェノール類が挙げられるが、好適にはフェノールである。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
＜Ｆ工程＞
本工程はＤ環部に相当する構造を求核剤として用い、中間体（XXIV）の置換基Ｙｐに対してオルト位に存在するハロゲン基を置換し、新たな中間体（XXV）を製造する工程である。目的化合物の構造中にＹとしてカルボン酸基を有する場合の出発原料である２，６−ジハロゲノ安息香酸は各種誘導体が市販されており、それら購入して用いることができる。本工程は中間体（XXIV）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下４−ヒドロキシベンゼンチオール等の求核剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが好適にはジイソプロピルエチルアミンである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
本工程はＤ環部に相当する構造を求核剤として用い、中間体（XXIV）の置換基Ｙｐに対してオルト位に存在するハロゲン基を置換し、新たな中間体（XXV）を製造する工程である。目的化合物の構造中にＹとしてカルボン酸基を有する場合の出発原料である２，６−ジハロゲノ安息香酸は各種誘導体が市販されており、それら購入して用いることができる。本工程は中間体（XXIV）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下４−ヒドロキシベンゼンチオール等の求核剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのトリアルキルアミン類が挙げられるが好適にはジイソプロピルエチルアミンである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
＜Ｇ工程＞
本工程は目的化合物の構造中、置換基Ｒ3としてアルコキシ基を有する場合に必要な工程であり、中間体(XXVI)を製造する工程である。本工程は中間体（XXV）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルキルハライドを作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；DBU、DBN等の有機強塩基類が挙げられるが好適にはDBUである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
本工程は目的化合物の構造中、置換基Ｒ3としてアルコキシ基を有する場合に必要な工程であり、中間体(XXVI)を製造する工程である。本工程は中間体（XXV）に対して不活性溶剤中、塩基の存在下アルキルハライドを作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジメチルホルムアミドである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；DBU、DBN等の有機強塩基類が挙げられるが好適にはDBUである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
＜Ｈ工程＞
本工程は目的化合物の構造中にＺとしてスルホキシド（-S(O)-）又はスルホン（-S(O)2-）を有する場合に必要な工程であり、中間体（XXVII）のスルフィド部位を酸化してスルホキシド部位を有する中間体（XXVIII）を製造する工程である。本工程は中間体（XXVII）に対して不活性溶剤中、酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸のような過酸類；過ヨウ素酸ナトリウム、過臭素酸ナトリウムのような過ハロゲン酸アルカリ金属塩が挙げられるが、好適にはｍ−クロロ過安息香酸である。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は目的化合物の構造中にＺとしてスルホキシド（-S(O)-）又はスルホン（-S(O)2-）を有する場合に必要な工程であり、中間体（XXVII）のスルフィド部位を酸化してスルホキシド部位を有する中間体（XXVIII）を製造する工程である。本工程は中間体（XXVII）に対して不活性溶剤中、酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸のような過酸類；過ヨウ素酸ナトリウム、過臭素酸ナトリウムのような過ハロゲン酸アルカリ金属塩が挙げられるが、好適にはｍ−クロロ過安息香酸である。反応温度は−７８〜８０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１０分〜１２時間であり、好適には３０分〜２時間である。
＜Ｉ工程＞
本工程は中間体（XXIX）に対してＢ環部の導入を行い、中間体（IX）を製造する工程である。本工程を達成するための手法はａ〜ｃ法の３手法に大別でき、目的物の構造、試薬の入手しやすさ、効率等により任意の手法を適宜選択できる。
１．Ｉａ工程
本工程は有機合成化学において「鈴木−宮浦クロスカップリング反応」と総称される反応条件下、中間体（XXIX）とＢ環構造を連結し、中間体（IXI）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒及び塩基の存在下、中間体（XXIX）に対してＢ環部に相当するホウ素試薬、例えば１−ボロン酸−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するホウ素試薬（XXXII）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；が挙げられるが、好適にはエーテル類であり、特に好適には1,2−ジメトキシエタンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばNiCl2(dppp)、NiCl2(PPh3)2、Ni(cod)2などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Pd2(dba)2、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのようなリン酸アルカリ金属塩類；フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属塩が挙げられるが好適には炭酸カリウムである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
本工程は中間体（XXIX）に対してＢ環部の導入を行い、中間体（IX）を製造する工程である。本工程を達成するための手法はａ〜ｃ法の３手法に大別でき、目的物の構造、試薬の入手しやすさ、効率等により任意の手法を適宜選択できる。
１．Ｉａ工程
本工程は有機合成化学において「鈴木−宮浦クロスカップリング反応」と総称される反応条件下、中間体（XXIX）とＢ環構造を連結し、中間体（IXI）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒及び塩基の存在下、中間体（XXIX）に対してＢ環部に相当するホウ素試薬、例えば１−ボロン酸−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するホウ素試薬（XXXII）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；が挙げられるが、好適にはエーテル類であり、特に好適には1,2−ジメトキシエタンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばNiCl2(dppp)、NiCl2(PPh3)2、Ni(cod)2などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Pd2(dba)2、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。使用される塩基としては、例えば、水素化リチウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸アルカリ金属塩類；リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのようなリン酸アルカリ金属塩類；フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属塩が挙げられるが好適には炭酸カリウムである。反応温度は０〜１２０℃で行われるが、好適には室温〜１００℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
２−１．Ｉｂ１工程
本工程は中間体（XXIX）のハロゲン部位をトリアルキルスタニル基へと変換し、有機スズ化合物である中間体（XXXIV）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXIX）に対してハロゲン−金属交換を行った後、塩化トリアルキルスタナンを始めとするトリアルキルスタニル化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはn-ブチルリチウムである。使用されるスタニル化剤としては、例えば、塩化トリメチルスタナン、塩化トリエチルスタナン、塩化トリブチルスタナンなどの塩化トリアルキルスタナン類；臭化トリメチルスタナン、臭化トリエチルスタナン、臭化トリブチルスタナンなどの臭化トリアルキルスタナン類が挙げられるが、好適には塩化トリブチルスタナンである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜0℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
本工程は中間体（XXIX）のハロゲン部位をトリアルキルスタニル基へと変換し、有機スズ化合物である中間体（XXXIV）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXIX）に対してハロゲン−金属交換を行った後、塩化トリアルキルスタナンを始めとするトリアルキルスタニル化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはn-ブチルリチウムである。使用されるスタニル化剤としては、例えば、塩化トリメチルスタナン、塩化トリエチルスタナン、塩化トリブチルスタナンなどの塩化トリアルキルスタナン類；臭化トリメチルスタナン、臭化トリエチルスタナン、臭化トリブチルスタナンなどの臭化トリアルキルスタナン類が挙げられるが、好適には塩化トリブチルスタナンである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８〜0℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
２−２．Ｉｂ２工程
本工程は有機スズ化合物である中間体（XXXIV）とＢ環構造を連結し、中間体(IX)を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒の存在下、中間体（XXXIV）に対してＢ環部に相当するハロゲン化物、すなわち１−ハロ−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するハロゲン化物（XXXV）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはキシレンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばNiCl2(dppp)、NiCl2(PPh3)2、Ni(cod)2などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Pd2(dba)2、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。反応温度は室温〜１８０℃で行われるが、好適には５０℃〜１２０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
本工程は有機スズ化合物である中間体（XXXIV）とＢ環構造を連結し、中間体(IX)を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、遷移金属触媒の存在下、中間体（XXXIV）に対してＢ環部に相当するハロゲン化物、すなわち１−ハロ−２−ホルミル構造を有し、かつ環骨格を有するハロゲン化物（XXXV）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはキシレンである。使用される遷移金属触媒としては、例えばNiCl2(dppp)、NiCl2(PPh3)2、Ni(cod)2などのニッケル類；テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、Pd2(dba)2、酢酸パラジウムなどのパラジウム類が挙げられるが好適にはテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムである。反応温度は室温〜１８０℃で行われるが、好適には５０℃〜１２０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜１２時間であり、好適には３時間〜６時間である。
３．Ｉｃ１工程
本工程は中間体（XXIX）とＢ環相当部位（XXXVI）とのカップリングを行い、中間体（XXXVII）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXIX）に対してハロゲン−金属交換を行った後、２−ヒドロキシメチルシクロアルカ−２−エン−１−オン構造を有するＡ環相当部位（XIV）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはn-ブチルリチウムである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８℃〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
本工程は中間体（XXIX）とＢ環相当部位（XXXVI）とのカップリングを行い、中間体（XXXVII）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXIX）に対してハロゲン−金属交換を行った後、２−ヒドロキシメチルシクロアルカ−２−エン−１−オン構造を有するＡ環相当部位（XIV）を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される金属化剤としては、例えば金属リチウム、金属マグネシウム、金属亜鉛などの金属単体類；n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が挙げられるが好適にはn-ブチルリチウムである。反応温度は−１００℃〜室温で行われるが、好適には−７８℃〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分〜６時間であり、好適には３０分〜３時間である。
３−２．Ｉｃ２工程
本工程は中間体（XXXVII）が有する２重結合の異性化、及び置換基の導入を行い、中間体（XXXVIII）を製造する工程である。本工程はアルコール等の求核性を有する溶剤中、中間体（XXXVII）に対して酸触媒を作用させることにより、又は不活性溶剤中、適当な求核剤の存在下で中間体（XXXVII）に対して酸触媒を作用させることにより達成される。２通りの方法を以下に記載する。
（i）アルコキシ基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノールなどの一級アルコール類；２−プロパノール、２−ブタノールなどの二級アルコール類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールなどの三級アルコール類が挙げられるが、好適には一級アルコール類であり、特に好適にはメタノールである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類などが挙げられるが、好適にはp−トルエンスルホン酸である。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜４８時間であり、好適には３時間〜２４時間である。
（ii）アルコキシ基以外の置換基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが好適にはジクロロメタンである。使用される求核剤としては、例えば、トリメチルシリルアジド、トリメチルシリルシアニド、トリエチルシランなどのシリル系試剤が挙げられるが、好適にはトリメチルシリルアジドである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；3フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には３フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−１００℃〜６０℃で行われるが、好適には−７８℃〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
本工程は中間体（XXXVII）が有する２重結合の異性化、及び置換基の導入を行い、中間体（XXXVIII）を製造する工程である。本工程はアルコール等の求核性を有する溶剤中、中間体（XXXVII）に対して酸触媒を作用させることにより、又は不活性溶剤中、適当な求核剤の存在下で中間体（XXXVII）に対して酸触媒を作用させることにより達成される。２通りの方法を以下に記載する。
（i）アルコキシ基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノールなどの一級アルコール類；２−プロパノール、２−ブタノールなどの二級アルコール類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールなどの三級アルコール類が挙げられるが、好適には一級アルコール類であり、特に好適にはメタノールである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類などが挙げられるが、好適にはp−トルエンスルホン酸である。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１時間〜４８時間であり、好適には３時間〜２４時間である。
（ii）アルコキシ基以外の置換基を導入する場合
使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられるが好適にはジクロロメタンである。使用される求核剤としては、例えば、トリメチルシリルアジド、トリメチルシリルシアニド、トリエチルシランなどのシリル系試剤が挙げられるが、好適にはトリメチルシリルアジドである。使用される酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸類；酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；3フッ化ホウ素エーテル錯体、トリメチルシリルトリフラート、ハロゲン化亜鉛などのルイス酸類が挙げられるが、好適にはルイス酸類であり、特に好適には３フッ化ホウ素エーテル錯体である。反応温度は−１００℃〜６０℃で行われるが、好適には−７８℃〜０℃である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常３０分〜６時間であり、好適には１時間〜３時間である。
３−３．Ｉｃ３工程
本工程は中間体（XXXVIII）が有するヒドロキシメチル基上の保護基を除去し、中間体（XXXIX）を製造する工程である。本工程は用いた保護基によって方法が異なるが、シリル系保護基を用いた場合について以下に記載する。それ以外の保護基についても、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T. W.; Wuts, P. G. M., John Wiley & Sons, 1999年）等に記載されている方法により同様に脱保護が行える。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される脱保護試薬としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素ピリジン錯体、フッ化水素トリエチルアミン錯体などのフッ素化合物類；p−トルエンスルホン酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類；フッ化水素、塩化水素、硫酸などの無機酸などが挙げられるが、好適にはテトラブチルアンモニウムフルオライドである。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は中間体（XXXVIII）が有するヒドロキシメチル基上の保護基を除去し、中間体（XXXIX）を製造する工程である。本工程は用いた保護基によって方法が異なるが、シリル系保護基を用いた場合について以下に記載する。それ以外の保護基についても、例えば文献「Protective Groups in Organic Synthesis third edition」（編集Greene, T. W.; Wuts, P. G. M., John Wiley & Sons, 1999年）等に記載されている方法により同様に脱保護が行える。使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはテトラヒドロフランである。使用される脱保護試薬としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化水素ピリジン錯体、フッ化水素トリエチルアミン錯体などのフッ素化合物類；p−トルエンスルホン酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類；フッ化水素、塩化水素、硫酸などの無機酸などが挙げられるが、好適にはテトラブチルアンモニウムフルオライドである。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが、通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
３−４．Ｉｃ４工程
本工程は中間体（XXXIX）が有するヒドロキシメチル基上の水酸基を酸化してアルデヒド基を有する中間体（XXXX）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXXIX）に対して酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド−オキザリルクロリド等のジメチルスルホキシドを用いた酸化手法；PDC、PCC、ジョーンズ試薬などのクロム類；デス−マーチン試薬、DDQなどの有機酸化試薬類などが挙げられるが、好適にはデス−マーチン試薬である。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
本工程は中間体（XXXIX）が有するヒドロキシメチル基上の水酸基を酸化してアルデヒド基を有する中間体（XXXX）を製造する工程である。本工程は不活性溶剤中、中間体（XXXIX）に対して酸化剤を作用させることにより達成される。使用される溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホノトリアミドなどのアミド類が挙げられるが、好適にはジクロロメタンである。使用される酸化剤としては、例えば、ジメチルスルホキシド−無水トリフルオロ酢酸、ジメチルスルホキシド−オキザリルクロリド等のジメチルスルホキシドを用いた酸化手法；PDC、PCC、ジョーンズ試薬などのクロム類；デス−マーチン試薬、DDQなどの有機酸化試薬類などが挙げられるが、好適にはデス−マーチン試薬である。反応温度は−４５℃〜６０℃で行われるが、好適には０℃〜室温である。反応時間は反応温度、原料、試薬、使用される溶剤によって異なるが通常１５分時間〜３時間であり、好適には３０分〜２時間である。
上記工程において、反応の目的物は、必要に応じて、常法に従って反応混合物から単離して精製することができる。例えば、反応混合物の液性を調節した後、濃縮し、例えばジエチルエーテルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで目的物を単離することができる。得られた目的物は、必要ならば常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、吸着カラムクロマトグラフィー法、分配カラムクロマトグラフィー法等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトグラフィーを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法を適宜組み合わせ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。あるいは、反応により得られた目的物を精製することなく次の工程に用いることもできる。
本発明の化合物は、以下の実施例に具体的に示すようにＥＤＧ受容体拮抗作用、好ましくはＥＤＧ−１受容体拮抗作用を有しており、炎症疾患（例えば、免疫性及び非免疫性疾患、慢性関節リウマチ、乾癬など）、異常な血管新生を伴う疾患（例えば、再狭窄、糖尿病性網膜症、血管新生性緑内障、後水晶体繊維増殖症、アテローム性動脈硬化症プラークの毛細血管増殖、甲状腺過形成（バセドウ病を含む）、肺炎症、ネフローゼ症候群、及び骨粗しょう症など）、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患（例えば、固形腫瘍、固形腫瘍転移、血管線維腫、骨髄腫、多発性骨髄腫、カポジ肉腫など）、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、及び慢性下痢など疾患の予防及び／又は治療のための医薬の有効成分として有用である。
より具体的には、固形腫の中には、乳癌、肺癌、胃癌、食道癌、結腸直腸癌、肝臓癌、卵巣癌、卵胞膜細胞腫、男性胚腫、頚部癌、子宮内膜癌、前立腺癌、腎臓癌、皮膚癌、骨肉腫、膵臓癌、尿路癌、甲状腺癌、脳腫瘍などが含まれる。免疫性及び非免疫性疾患には、全身性エリトマトーデス、多発性筋炎、皮膚筋炎、血管炎症群、Wegener肉芽腫、強皮症、ベーチェット病、ぶどう膜炎、特発性間質性肺炎、Goodpasture症候群、サルコイドーシス、アレルギー性肉芽腫性血管炎、気管支喘息、心筋炎・心筋症・心肥大を含む心肥大、大動脈炎症候群、心筋梗塞後症候群、原発性肺高血圧症、Chron病、潰瘍性大腸炎、自己免疫性肝炎、原発性胆汁性肝硬変、原発性硬化性胆管炎、肺線維症、間質性肺炎、慢性肝炎、肝硬変、閉塞性動脈硬化症、閉塞性血栓血管炎、バージャー病、糖尿病性ニューロパチーの末梢動脈疾患、敗血症、劇症肝炎、ウイルス性肝炎、微小変化型ネフローゼ、膜性腎症、慢性腎不全、腎糸球体硬化症、半月体形成性腎炎、再生不良性貧血、特発性血小板減少性紫斑病、自己免疫性溶血性貧血、多発性硬化症、浮腫性疾患、動脈硬化症、痔核、裂肛、痔ろうなどの静脈瘤、解離性動脈瘤、狭心症、DIC、胸膜炎、うっ血性心不全、多臓器不全、潰瘍性大腸炎、とこずれ、火傷、クローン病、重症筋無力症、炎症性ニューロパチー、自己免疫性水疱症、尋常性乾癬、アトピー性皮膚炎、慢性光線性皮膚炎、脳梗塞、創傷、GVHD、各種臓器移植での拒絶反応などが含まれる。
上記一般式（Ｉ）で表される化合物、その薬理上許容される塩、及びその薬理上許容されるエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む本発明の医薬は、種々の形態で投与される。本発明の医薬の投与形態は特に限定はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸剤、散剤、顆粒剤、シロップ剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤およびカプセル剤の場合には経口投与される。また注射剤の場合には単独であるいはぶどう糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直腸内投与される。
これらの医薬は、常法に従って、上記の有効成分に賦形剤、結合剤、崩壊剤、潤沢剤、溶解剤、矯味矯臭、コーティング剤等既知の医薬製剤分野において通常使用しうる既知の補助剤の１種又は２種以上を用いて医薬組成物として製剤化することができる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用できる。このような担体としては、例えば、乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ぶどう糖、尿素、澱粉、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ぶどう糖液、澱粉液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン糖の結合剤、乾燥澱粉、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、澱粉、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、澱粉等の保湿剤、澱粉、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、硼酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を例示できる。さらに、錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。
丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば、ぶどう糖、乳糖、澱粉、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等を例示することができる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば、ポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を例示することができる。注射剤として調製される場合には、液剤および懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、乳剤および懸濁剤の形態に成形するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用されている任意の希釈剤を使用できる。例えば水、エチルアルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げることができる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するに十分な量の食塩、ぶどう糖、あるいはグリセリンを医薬製剤中に添加してもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。 さらに、必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬組成物に配合することもできる。
上記の医薬に含まれる有効成分の重量は特に限定されず、広範囲に適宜選択されるが、通常は全組成物重量に対して１〜７０重量％、好ましくは１〜３０重量％程度の含有量が適当である。本発明の医薬の投与量は、患者の症状、年令、体重や、投与方法および剤型等の条件によって異なるが、通常は成人に対して１日、下限として０．００１ｍｇ（好ましくは０．０１ｍｇ、さらに好ましくは０．１ｍｇ）であり、上限として２、０００ｍｇ（好ましくは２００ｍｇ、さらに好ましくは２０ｍｇ）を１回ないし数回投与することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は下記の実施例に限定されることはない。
（実施例１） ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１ａ）（４−ブロモチエン−2−イル）メチルヘプチルエーテル
反応容器に4−ブロモ−２−ヒドロキシメチルチオフェン（１．３ｇ、６．７ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロマイド（１．３ｍL、8．0ｍｍｏｌ）をとり、ジメチルホルムアミド（１０ｍL）で溶解した。0度に冷却した後、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．３５ｇ、８．０ｍｍｏｌ）を加え、1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、水（１０ｍL）を加えエーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．８ｇ，６１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20 - 1.37 (m, 8 H), 1.58 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.60 (s, 2 H), 6.90 (s, 1 H), 7.16 (s, 1 H).
IR (neat) 1531, 1466, 1360 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H18 79BrOS (M-H)+ 289.0262; found: 289.0273.
（実施例１） ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１ａ）（４−ブロモチエン−2−イル）メチルヘプチルエーテル
反応容器に4−ブロモ−２−ヒドロキシメチルチオフェン（１．３ｇ、６．７ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロマイド（１．３ｍL、8．0ｍｍｏｌ）をとり、ジメチルホルムアミド（１０ｍL）で溶解した。0度に冷却した後、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．３５ｇ、８．０ｍｍｏｌ）を加え、1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、水（１０ｍL）を加えエーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．８ｇ，６１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20 - 1.37 (m, 8 H), 1.58 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.60 (s, 2 H), 6.90 (s, 1 H), 7.16 (s, 1 H).
IR (neat) 1531, 1466, 1360 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H18 79BrOS (M-H)+ 289.0262; found: 289.0273.
（１ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例１（１ａ）で得られた（４−ブロモチエン−2−イル）メチルヘプチルエーテル（４９ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．３ｍL）で溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Mｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ，０．１８ｍｍｏｌ）を加え、5分間撹拌した。反応溶液にフェニル４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．３ｍL）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍL）を加え、反応を停止した後、水５ｍLを加えエーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （５３ｍｇ，７２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.21-1.35 (m, 8 H), 1.48-1.60 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.03 (brs, 1 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.46 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.61 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.18-7.23 (m, 3 H), 7.26-7.32 (m, 3 H), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3541, 3417, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO6S3 (M+Na)+ 753.2354; found: 753.2353.
乾燥、窒素置換された反応容器に実施例１（１ａ）で得られた（４−ブロモチエン−2−イル）メチルヘプチルエーテル（４９ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）をとり、テトラヒドロフラン（０．３ｍL）で溶解した。−７８℃に冷却した後、１．６Mｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ，０．１８ｍｍｏｌ）を加え、5分間撹拌した。反応溶液にフェニル４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（０．３ｍL）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍL）を加え、反応を停止した後、水５ｍLを加えエーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （５３ｍｇ，７２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.21-1.35 (m, 8 H), 1.48-1.60 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.03 (brs, 1 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.46 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.61 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.18-7.23 (m, 3 H), 7.26-7.32 (m, 3 H), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3541, 3417, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO6S3 (M+Na)+ 753.2354; found: 753.2353.
（１ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５５ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．２０ｍＬ）、水（０．１０ｍＬ） に溶解し、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を加え，９０℃に加熱して8時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液をそのまま薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２６ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.46-1.56(m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.67 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.90 (s, 1 H), 6.95-7.03 (m, 3 H), 7.16 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.30 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.94 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3633, 3409, 1593, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C35H41O6S3 (M-Na)- 653.2065; found: 653.2077.
実施例１（１ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）チエン−3−イル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５５ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．２０ｍＬ）、水（０．１０ｍＬ） に溶解し、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ，１ｍｍｏｌ）を加え，９０℃に加熱して8時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液をそのまま薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２６ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.46-1.56(m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.67 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.90 (s, 1 H), 6.95-7.03 (m, 3 H), 7.16 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.30 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.94 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3633, 3409, 1593, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C35H41O6S3 (M-Na)- 653.2065; found: 653.2077.
（実施例２）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２ａ）１−ブロモ−３−（へプチルオキシメチル）ベンゼン
３−ブロモベンジルアルコール（０．５６ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモへプタン（０．７１ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍＬ）に溶解した後、５５％水素化ナトリウム（０．３９ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（８ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０)により精製を行い、標記目的化合物（０．８２ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.22 - 1.37 (brs, 8 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1108 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO (M)+ 284.0776; found: 284.0775.
（２ａ）１−ブロモ−３−（へプチルオキシメチル）ベンゼン
３−ブロモベンジルアルコール（０．５６ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモへプタン（０．７１ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍＬ）に溶解した後、５５％水素化ナトリウム（０．３９ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（８ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０)により精製を行い、標記目的化合物（０．８２ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.22 - 1.37 (brs, 8 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1108 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO (M)+ 284.0776; found: 284.0775.
（２ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２（２ａ）で得られた１−ブロモ−３−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ，２６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.33 (brs, 8 H), 1.48 - 1.61 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.51 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 - 6.99 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.05 (m, 2 H), 7.16 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.20 - 7.23 (m, 4 H), 7.25 - 7.29 (m, 4 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S2 (M+Na)+ 747.2790; found: 747.2709.
実施例２（２ａ）で得られた１−ブロモ−３−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ，２６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.33 (brs, 8 H), 1.48 - 1.61 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.51 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 - 6.99 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.05 (m, 2 H), 7.16 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.20 - 7.23 (m, 4 H), 7.25 - 7.29 (m, 4 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S2 (M+Na)+ 747.2790; found: 747.2709.
（２ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２（２ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３５ｍｇ，０．０４８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１９ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.27 - 1.31 (brs, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.81(m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.35 - 4.42 (m, 2 H), 5.84 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (t, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.03 (m, 3 H), 7.11 - 7.20 (m, 3 H), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.52 - 7.56 (m, 3 H), 7.95 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3407, 2929, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H43Na2O6S2 (M+Na)+ 693.2297; found: 693.2283.
実施例２（２ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３５ｍｇ，０．０４８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１９ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.27 - 1.31 (brs, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.81(m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.35 - 4.42 (m, 2 H), 5.84 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (t, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.03 (m, 3 H), 7.11 - 7.20 (m, 3 H), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.52 - 7.56 (m, 3 H), 7.95 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3407, 2929, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H43Na2O6S2 (M+Na)+ 693.2297; found: 693.2283.
（実施例３）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３ａ）（５−ブロモ−２−メトキシフェニル）メタノール
５−ブロモ−о−アニスアルデヒド（０．２２ｇ，１．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）及び水（０．５ｍL） に溶解した後、水酸化ほう素ナトリウム（１９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 3.85 (s, 3 H), 4.65 (d, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.5 Hz, 8.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (KBr) 3334, 1486, 1243 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C8H9 79BrO2 (M)+ 215.9786; found: 215.9797.
（３ａ）（５−ブロモ−２−メトキシフェニル）メタノール
５−ブロモ−о−アニスアルデヒド（０．２２ｇ，１．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）及び水（０．５ｍL） に溶解した後、水酸化ほう素ナトリウム（１９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 3.85 (s, 3 H), 4.65 (d, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.5 Hz, 8.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (KBr) 3334, 1486, 1243 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C8H9 79BrO2 (M)+ 215.9786; found: 215.9797.
（３ｂ）４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン
実施例３（３ａ）で得られた（５−ブロモ−２−メトキシフェニル）（０．２１ｇ，０．９７ｍｍｏｌ）、１−ブロモへプタン（０．２３ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１３ｇ，２．９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２６ｇ，８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.26 - 1.39 (brs, 8 H), 1.60 - 1.67 (m, 2 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.80 (s, 3 H), 4.49 (s, 2 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.33 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2930, 1489, 1245 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H23 79BrO2 (M)+ 314.0882; found: 314.0862.
実施例３（３ａ）で得られた（５−ブロモ−２−メトキシフェニル）（０．２１ｇ，０．９７ｍｍｏｌ）、１−ブロモへプタン（０．２３ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１３ｇ，２．９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２６ｇ，８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.26 - 1.39 (brs, 8 H), 1.60 - 1.67 (m, 2 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.80 (s, 3 H), 4.49 (s, 2 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.33 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2930, 1489, 1245 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H23 79BrO2 (M)+ 314.0882; found: 314.0862.
（３ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３（３ｂ）で得られた４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン（０．１２ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ，５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.31 (brs, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.78 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.41 - 4.48 (m, 2 H), 5.47 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.83 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 - 7.02 (m, 3 H), 7.08 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.16 - 7.18 (m, 2 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.24 - 7.31 (m, 3 H), 7.34 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50O7S2 (M)+ 754.2998; found: 754.3007.
実施例３（３ｂ）で得られた４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン（０．１２ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（８２ｍｇ，５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.31 (brs, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.78 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.41 - 4.48 (m, 2 H), 5.47 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.83 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 - 7.02 (m, 3 H), 7.08 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.16 - 7.18 (m, 2 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.24 - 7.31 (m, 3 H), 7.34 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50O7S2 (M)+ 754.2998; found: 754.3007.
（３ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３（３ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８２ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４４ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５８ｍｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.98 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.31 (brs, 8 H), 1.46 - 1.55 (m, 4 H), 1.73 - 1.80 (m, 2 H), 3.37 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.74 (s, 3 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.36 - 4.43 (m, 2 H), 5.79 (s, 1 H), 6.75 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.91 - 6.96 (m, 2 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.94 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3420, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2607; found: 677.2604.
実施例３（３ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８２ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４４ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５８ｍｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.98 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.31 (brs, 8 H), 1.46 - 1.55 (m, 4 H), 1.73 - 1.80 (m, 2 H), 3.37 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.74 (s, 3 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.36 - 4.43 (m, 2 H), 5.79 (s, 1 H), 6.75 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.91 - 6.96 (m, 2 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.94 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3420, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2607; found: 677.2604.
（実施例４）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４ａ）４−ブロモ−２（ヒドロキシメチル）フェノール
５−ブロモ−２−ヒドロキシベンズアルデヒド（０．１０ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、水酸化ほう素ナトリウム（９ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例３（３ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８７ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.60 (s, 2 H), 7.17 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.19 (dd, 1 H, J = 2.5 Hz, 8.5 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (KBr) 3443, 3158 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C7H7 79BrO2 (M)+ 201.9630; found: 201.9628.
（４ａ）４−ブロモ−２（ヒドロキシメチル）フェノール
５−ブロモ−２−ヒドロキシベンズアルデヒド（０．１０ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、水酸化ほう素ナトリウム（９ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例３（３ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８７ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.60 (s, 2 H), 7.17 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.19 (dd, 1 H, J = 2.5 Hz, 8.5 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (KBr) 3443, 3158 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C7H7 79BrO2 (M)+ 201.9630; found: 201.9628.
（４ｂ）６−ブロモ−２−ヘキシル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン
実施例４（４ａ）で得られた４−ブロモ−２（ヒドロキシメチル）フェノール（０．３０ｇ，１．５ｍｍｏｌ）、１−ヘプタナール（０．２７ｍＬ，１．９ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）及び水（０．５ｍL） に溶解した後、水酸化ほう素ナトリウム（１９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.25 - 1.39 (brs, 6 H), 1.46 - 1.53 (m, 2 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 4.77 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 4.92 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 4.96 (t, 1 H, J = 5.1 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.23 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz).
IR (Liquid film) 2928, 1484, 1264 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H19 79BrO2 (M)+ 298.0568; found: 298.0549.
実施例４（４ａ）で得られた４−ブロモ−２（ヒドロキシメチル）フェノール（０．３０ｇ，１．５ｍｍｏｌ）、１−ヘプタナール（０．２７ｍＬ，１．９ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）及び水（０．５ｍL） に溶解した後、水酸化ほう素ナトリウム（１９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.25 - 1.39 (brs, 6 H), 1.46 - 1.53 (m, 2 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 4.77 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 4.92 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 4.96 (t, 1 H, J = 5.1 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.23 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz).
IR (Liquid film) 2928, 1484, 1264 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H19 79BrO2 (M)+ 298.0568; found: 298.0549.
（４ｃ）４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）フェノール
実施例４（４ｂ）で得られた６−ブロモ−２−ヘキシル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン（０．１３ｇ，０．４２ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（０．６３ｍＬ，０．６３ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１時間半攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．２ｍL）を加え１５分間攪拌した後、セライトろ過し、ろ液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（８３ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.28 - 1.37 (brs, 8 H), 1.60 - 1.66 (m, 2 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.64 (s, 2 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 2.3 Hz), 7.28 (dd, 1 H, J = 2.4 Hz, 8.6 Hz).
IR (Liquid film) 3358, 2930, 1483, 1240 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO2 (M)+ 300.0725; found: 300.0727.
実施例４（４ｂ）で得られた６−ブロモ−２−ヘキシル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン（０．１３ｇ，０．４２ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（０．６３ｍＬ，０．６３ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で１時間半攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（０．２ｍL）を加え１５分間攪拌した後、セライトろ過し、ろ液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（８３ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.28 - 1.37 (brs, 8 H), 1.60 - 1.66 (m, 2 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.64 (s, 2 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 2.3 Hz), 7.28 (dd, 1 H, J = 2.4 Hz, 8.6 Hz).
IR (Liquid film) 3358, 2930, 1483, 1240 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO2 (M)+ 300.0725; found: 300.0727.
（４ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４（４ｃ）で得られた４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）フェノール（８３ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．４４ｍＬ，０．６８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ，２８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.35 (brs, 8 H), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.57 - 1.65 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.50 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.59 (d, 2 H, J = 2.9 Hz), 5.46 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.80 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (dt, 3 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.18 - 7.22 (m, 3 H), 7.25 - 7.31 (m, 3 H), 7.35 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C43H48O7S2 (M)+ 740.2842; found: 740.2851.
実施例４（４ｃ）で得られた４−ブロモ−２−（へプチルオキシメチル）フェノール（８３ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．４４ｍＬ，０．６８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ，２８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.35 (brs, 8 H), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.57 - 1.65 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.50 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.59 (d, 2 H, J = 2.9 Hz), 5.46 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.80 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (dt, 3 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.18 - 7.22 (m, 3 H), 7.25 - 7.31 (m, 3 H), 7.35 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C43H48O7S2 (M)+ 740.2842; found: 740.2851.
（４ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４（４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２２ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２９ｍｇ，７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.32 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 3.7 Hz), 5.76 (s, 1 H), 6.64 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.73 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.84 (dd,１H,Ｊ= 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.92 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.93 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3375, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C37H44NaO7S2 (M+H)+ 687.2426; found: 687.2413.
実施例４（４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−４−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２２ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２９ｍｇ，７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.32 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 3.7 Hz), 5.76 (s, 1 H), 6.64 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.73 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.84 (dd,１H,Ｊ= 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.92 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.93 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3375, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C37H44NaO7S2 (M+H)+ 687.2426; found: 687.2413.
（実施例５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５ａ）１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オール
４−ブロモベンズアルデヒド（１．０ｇ、５．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．０Ｍオクチルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン溶液（１０．８ｍＬ、１０．８ｍｍｏｌ）を滴下した後３０分間攪拌し、さらに室温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｇ、収率９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.25 (brs, 12 H), 1.62 - 1.72 (m, 1 H), 1.72 - 1.79 (m, 1 H), 1.80 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.60 - 4.68 (m, 1 H), 7.22 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.4 Hz), 7.47 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.4 Hz).
IR (Liquid film) 3352, 2927, 2855, 1488 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 297 (M-H)+.
（５ａ）１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オール
４−ブロモベンズアルデヒド（１．０ｇ、５．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．０Ｍオクチルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン溶液（１０．８ｍＬ、１０．８ｍｍｏｌ）を滴下した後３０分間攪拌し、さらに室温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｇ、収率９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.25 (brs, 12 H), 1.62 - 1.72 (m, 1 H), 1.72 - 1.79 (m, 1 H), 1.80 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.60 - 4.68 (m, 1 H), 7.22 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.4 Hz), 7.47 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.4 Hz).
IR (Liquid film) 3352, 2927, 2855, 1488 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 297 (M-H)+.
（５ｂ）１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オン
実施例５（５ａ）で得られた１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オール（１．３ｇ、４．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ）に溶解し、そこへピリジウムクロロクロメイト（１．５ｇ、９．０ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。反応溶液をセライトろ過した後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ、収率９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.10 - 1.42 (m, 10 H), 1.68 - 1.79 (m, 2 H), 2.92 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.60 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.6 Hz), 7.82 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.6 Hz).
IR (KBr) 2921, 2851, 1675, 1585 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 297 (M+H)+.
実施例５（５ａ）で得られた１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オール（１．３ｇ、４．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ）に溶解し、そこへピリジウムクロロクロメイト（１．５ｇ、９．０ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。反応溶液をセライトろ過した後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ、収率９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.10 - 1.42 (m, 10 H), 1.68 - 1.79 (m, 2 H), 2.92 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.60 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.6 Hz), 7.82 (dd, 2 H, J = 1.9 Hz, 8.6 Hz).
IR (KBr) 2921, 2851, 1675, 1585 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 297 (M+H)+.
（５ｃ）２−（４−ブロモフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン
実施例５（５ｂ）で得られた１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オン（０．５０ｇ、１．７ｍｍｏｌ）をベンゼン（５ｍＬ）に溶解し、エチレングリコール（０．４７ｍL、８．４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（１４ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）を加え、ディーンスターク装置を使用して２４時間加熱環流した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４６ｇ、収率８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.22 (s, 12 H), 1.84 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.67 - 3.79 (m, 2 H), 3.95 - 4.05 (m, 2 H), 7.31 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.47 (d, 2 H, J = 8.5 Hz).
IR (Thin film) 2926, 2855 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 341 (M+H)+.
実施例５（５ｂ）で得られた１−（４−ブロモフェニル）ノナン−１−オン（０．５０ｇ、１．７ｍｍｏｌ）をベンゼン（５ｍＬ）に溶解し、エチレングリコール（０．４７ｍL、８．４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（１４ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）を加え、ディーンスターク装置を使用して２４時間加熱環流した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４６ｇ、収率８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.22 (s, 12 H), 1.84 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.67 - 3.79 (m, 2 H), 3.95 - 4.05 (m, 2 H), 7.31 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.47 (d, 2 H, J = 8.5 Hz).
IR (Thin film) 2926, 2855 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 341 (M+H)+.
（５ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５（５ｃ）で得られた２−（４−ブロモフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン（０．３３ｇ、１．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６１ｍＬ、０．９６ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌した。次いで、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率５１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.04 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.35 (m, 12 H), 1.53 - 1.63 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 4 H), 1.94 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 3.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.07 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.57 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.05 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.18 - 7.23 (m, 1 H), 7.25 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.29 - 7.36 (m, 6 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.59 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.76 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 3453, 1593, 1489, 1457, 1387, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3053; found: 803.3068.
実施例５（５ｃ）で得られた２−（４−ブロモフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン（０．３３ｇ、１．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６１ｍＬ、０．９６ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌した。次いで、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率５１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.04 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.35 (m, 12 H), 1.53 - 1.63 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 4 H), 1.94 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 3.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.07 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.57 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.05 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.18 - 7.23 (m, 1 H), 7.25 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.29 - 7.36 (m, 6 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.59 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.76 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 3453, 1593, 1489, 1457, 1387, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3053; found: 803.3068.
（５ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（４−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５（５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）をアセトン（４ｍＬ）、水（２ｍL）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（９５ｍｇ、０．３８ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱環流した。減圧下溶媒を留去した残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（５７ｍｇ、収率５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.40 (m, 10 H), 1.48 - 1.58 (m, 2 H), 1.67 - 1.75 (m, 2 H), 1.78 - 1.86 (m, 2 H), 1.96 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 2.92 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.54 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.12 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.15 - 7.18 (m, 1 H), 7.20 - 7.36 (m, 8 H), 7.56 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.79 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.82 (d, 2 H, J = 8.3 Hz).
IR (Thin film) 3470, 1681, 1593, 1489, 1458, 1387, 1249 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H48O6S2 (M)+ 736.2892; found: 736.2921.
実施例５（５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）をアセトン（４ｍＬ）、水（２ｍL）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（９５ｍｇ、０．３８ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱環流した。減圧下溶媒を留去した残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（５７ｍｇ、収率５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.40 (m, 10 H), 1.48 - 1.58 (m, 2 H), 1.67 - 1.75 (m, 2 H), 1.78 - 1.86 (m, 2 H), 1.96 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 2.92 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.54 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.12 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.15 - 7.18 (m, 1 H), 7.20 - 7.36 (m, 8 H), 7.56 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.79 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.82 (d, 2 H, J = 8.3 Hz).
IR (Thin film) 3470, 1681, 1593, 1489, 1458, 1387, 1249 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H48O6S2 (M)+ 736.2892; found: 736.2921.
（５ｆ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５（５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（４−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ、０．０４１ｍｍｏｌ）をエタノール（１ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.43 (m, 10 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.58 - 1.70 (m, 1 H), 1.70 - 1.85 (m, 3 H), 1.88 - 1.93 (m, 1 H), 1.98 (brs, 1 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.58 - 4.65 (m, 1 H), 5.53 (t, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.88 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.3 Hz), 6.94 (dd, 2 H, J = 2.4 Hz, 8.1 Hz), 6.98 - 7.05 (m, 3 H), 7.17 - 7.43 (m, 5 H), 7.45 - 7.53 (m, 5 H), 7.38 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.48 - 7.58 (m, 5 H).
IR (KBr) 3408, 1592, 1490, 1458, 1386, 1248 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50O6S2 (M)+ 738.3094; found: 738.3063.
実施例５（５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（４−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ、０．０４１ｍｍｏｌ）をエタノール（１ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.43 (m, 10 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.58 - 1.70 (m, 1 H), 1.70 - 1.85 (m, 3 H), 1.88 - 1.93 (m, 1 H), 1.98 (brs, 1 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.58 - 4.65 (m, 1 H), 5.53 (t, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.88 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.3 Hz), 6.94 (dd, 2 H, J = 2.4 Hz, 8.1 Hz), 6.98 - 7.05 (m, 3 H), 7.17 - 7.43 (m, 5 H), 7.45 - 7.53 (m, 5 H), 7.38 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.48 - 7.58 (m, 5 H).
IR (KBr) 3408, 1592, 1490, 1458, 1386, 1248 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50O6S2 (M)+ 738.3094; found: 738.3063.
（５ｇ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５（５ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３８ｍｇ、０．０５１ｍｍｏｌ）をジオキサン（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム（２０ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加え５時間加熱環流した後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.34 (m, 12 H), 1.48 - 1.64 (m, 3 H), 1.65 - 1.75 (m, 1 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.51 (t, 1 H, J = 6.7 Hz), 5.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.72 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.73 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.85 - 6.91 (m, 1 H), 6.99 (d, 4 H, J = 8.5 Hz), 7.12 - 7.17 (m, 3 H), 7.28 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.57 (d, 0.5 H, J = 7.6 Hz), 7.58 (d, 0.5 H, J = 7.6 Hz), 7.87 (s, 0.5 H), 7.88 (d, 0.5 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3409, 1593, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)+ 661.2658; found: 661.2644.
実施例５（５ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［４−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３８ｍｇ、０．０５１ｍｍｏｌ）をジオキサン（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム（２０ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加え５時間加熱環流した後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.34 (m, 12 H), 1.48 - 1.64 (m, 3 H), 1.65 - 1.75 (m, 1 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.51 (t, 1 H, J = 6.7 Hz), 5.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.72 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.73 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.85 - 6.91 (m, 1 H), 6.99 (d, 4 H, J = 8.5 Hz), 7.12 - 7.17 (m, 3 H), 7.28 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.57 (d, 0.5 H, J = 7.6 Hz), 7.58 (d, 0.5 H, J = 7.6 Hz), 7.87 (s, 0.5 H), 7.88 (d, 0.5 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3409, 1593, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)+ 661.2658; found: 661.2644.
（実施例６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）−２−フリル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（６ａ）2−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フラン
（５−ブロモ−２−フリル）メタノール（０．３７ｇ，２．１ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロマイド（０．５０ｍＬ，３．１ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１１ｇ，２．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．５３ｇ，９１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.9 Hz), 1.24 - 1.36 (m, 8 H), 1.58 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 6.25 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.28 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 1503, 1467, 1360 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H19BrO2 (M)+ 274.0569; found: 279.0554.
（６ａ）2−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フラン
（５−ブロモ−２−フリル）メタノール（０．３７ｇ，２．１ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロマイド（０．５０ｍＬ，３．１ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１１ｇ，２．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．５３ｇ，９１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.9 Hz), 1.24 - 1.36 (m, 8 H), 1.58 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 6.25 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.28 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 1503, 1467, 1360 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H19BrO2 (M)+ 274.0569; found: 279.0554.
（６ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）−２−フリル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例６（６ａ）で得られた2−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フラン（３４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （６４ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.48-1.57 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.30 (brs, 1 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.35 (s, 2 H), 5.43 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 5.90 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.31 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.61 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3534, 3417, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO7S2 (M+Na)+ 737.2582; found: 737.2587.
実施例６（６ａ）で得られた2−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フラン（３４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （６４ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.48-1.57 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.30 (brs, 1 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.35 (s, 2 H), 5.43 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 5.90 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.31 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.61 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3534, 3417, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO7S2 (M+Na)+ 737.2582; found: 737.2587.
（６ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）−２−フリル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例６（６ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）−２−フリル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２３ｍｇ，４０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.42-1.56(m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.33 (s, 2 H), 5.71 (s, 1 H), 5.97 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.21 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.96-7.04 (m, 3 H), 7.18 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.93 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3634, 3401, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C35H41O7S3 (M-Na)- 637.2294; found: 637.2319.
実施例６（６ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（ヘプチロキシメチル）−２−フリル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２３ｍｇ，４０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 8 H), 1.42-1.56(m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.33 (s, 2 H), 5.71 (s, 1 H), 5.97 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.21 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.96-7.04 (m, 3 H), 7.18 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.93 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3634, 3401, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C35H41O7S3 (M-Na)- 637.2294; found: 637.2319.
（実施例７）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］チエン−3−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（７ａ）２−［６−［（４−ブロモチエン−2−イル）メトキシ］ヘキシロキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン
（4−ブロモチエン−2−イル）メタノール（０．３５ｇ，１．８ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．６０ｍL、２．７ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１０ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．７０ｇ，１００％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.33-1.43 (m, 6 H), 1.48-1.64 (m, 10 H), 1.68-1.74 (m, 1 H), 1.78-1.88 (m, 1 H), 3.38 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.44-3.52(m, 3 H), 3.73 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.83-3.89 (m, 1 H), 4.57 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 4.60 (s, 2 H), 6.90 (s, 1 H), 7.17 (s, 1 H).
IR (neat) 1531, 1463, 1454, 1440, 1354 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C16H25BrO3S (M)+ 376.0708; found: 376.0708.
（７ａ）２−［６−［（４−ブロモチエン−2−イル）メトキシ］ヘキシロキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン
（4−ブロモチエン−2−イル）メタノール（０．３５ｇ，１．８ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．６０ｍL、２．７ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１０ｇ，２．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．７０ｇ，１００％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.33-1.43 (m, 6 H), 1.48-1.64 (m, 10 H), 1.68-1.74 (m, 1 H), 1.78-1.88 (m, 1 H), 3.38 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.44-3.52(m, 3 H), 3.73 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.83-3.89 (m, 1 H), 4.57 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 4.60 (s, 2 H), 6.90 (s, 1 H), 7.17 (s, 1 H).
IR (neat) 1531, 1463, 1454, 1440, 1354 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C16H25BrO3S (M)+ 376.0708; found: 376.0708.
（７ｂ）フェニル 4−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−2−イルオキシ）ヘキシロキシ］メチル］チエン−3−イル］メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例７（７ａ）で得られた２−［６−［（４−ブロモチエン−2−イル）メトキシ］ヘキシロキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン（４４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （３２ｍｇ，３９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.32-1.40 (m, 6 H), 1.47-1.64 (m, 10 H), 1.66-1.73 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.10 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.41-3.51 (m, 3 H), 3.71 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.82-3.88 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 3.9 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.18-7.23 (m, 3 H), 7.27-7.33 (m, 2 H), 7.37 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.52 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3413, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H52NaO8S3 (M+Na)+ 839.2722; found: 839.2698.
実施例７（７ａ）で得られた２−［６−［（４−ブロモチエン−2−イル）メトキシ］ヘキシロキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン（４４ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （３２ｍｇ，３９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.32-1.40 (m, 6 H), 1.47-1.64 (m, 10 H), 1.66-1.73 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.10 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.41-3.51 (m, 3 H), 3.71 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.82-3.88 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 3.9 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.18-7.23 (m, 3 H), 7.27-7.33 (m, 2 H), 7.37 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.52 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3413, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H52NaO8S3 (M+Na)+ 839.2722; found: 839.2698.
（７ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］チエン−3−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例７（７ｂ）で得られたフェニル 4−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−2−イルオキシ）ヘキシロキシ］メチル］チエン−3−イル］メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ，０．０３７ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍＬ）に溶解し、５％硫酸水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。４０度に加熱し、更に１時間撹拌した後、飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した。水５ｍＬを加え、エーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝５：５) により精製を行い、標記目的化合物 （１６ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.28-1.40 (m, 5 H), 1.49-1.62 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 2.12 (brs, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.61 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.52 (s, 2 H), 5.48 (s, 1 H), 6.63 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.51-7.57 (m, 3 H), 7.75 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3545, 3390, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H44O7S3 (M)+ 732.2249; found: 732.2244.
実施例７（７ｂ）で得られたフェニル 4−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−2−イルオキシ）ヘキシロキシ］メチル］チエン−3−イル］メチル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３０ｍｇ，０．０３７ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍＬ）に溶解し、５％硫酸水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。４０度に加熱し、更に１時間撹拌した後、飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した。水５ｍＬを加え、エーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝５：５) により精製を行い、標記目的化合物 （１６ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.28-1.40 (m, 5 H), 1.49-1.62 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 2.12 (brs, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.61 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.52 (s, 2 H), 5.48 (s, 1 H), 6.63 (s, 1 H), 6.77 (s, 1 H), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.51-7.57 (m, 3 H), 7.75 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3545, 3390, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H44O7S3 (M)+ 732.2249; found: 732.2244.
（７ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］チエン−3−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例７（７ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］チエン−3−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１４ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（６．２ｍｇ，５０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.27-1.37 (m, 5 H), 1.46-1.57(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.52 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.68 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (s, 1 H), 6.97-7.02 (m, 3 H), 7.17 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.30 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.94 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3691, 3608, 3397, 1595, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C34H39Na2O7S3 (M+Na)+ 701.1653; found: 701.1663.
実施例７（７ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］チエン−3−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１４ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（６．２ｍｇ，５０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.27-1.37 (m, 5 H), 1.46-1.57(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.52 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.68 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (s, 1 H), 6.97-7.02 (m, 3 H), 7.17 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.30 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.94 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3691, 3608, 3397, 1595, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C34H39Na2O7S3 (M+Na)+ 701.1653; found: 701.1663.
（実施例８）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（６−ヒドロキシヘキシロキシ）メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（８ａ）２−［［６−（３−ブロモベンジルオキシ）ヘキシル］オキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン
３−ブロモベンジルアルコール（１．０ｇ，５．３ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（１．４ｍL、６．４ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．３５ｇ，８．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．６ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.36-1.45 (m, 5 H), 1.48-1.66 (m, 10 H), 1.68-1.74 (m, 1 H), 1.79-1.86 (m, 1 H), 3.38 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.45-3.52(m, 3 H), 3.73 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.84-3.90 (m, 1 H), 4.46 (s, 2 H), 4.57 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (neat) 1571, 1353 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C18H27NaBrO3 (M+Na)+ 393.1041; found: 393.1054.
（８ａ）２−［［６−（３−ブロモベンジルオキシ）ヘキシル］オキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン
３−ブロモベンジルアルコール（１．０ｇ，５．３ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（１．４ｍL、６．４ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．３５ｇ，８．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．６ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.36-1.45 (m, 5 H), 1.48-1.66 (m, 10 H), 1.68-1.74 (m, 1 H), 1.79-1.86 (m, 1 H), 3.38 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.45-3.52(m, 3 H), 3.73 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.84-3.90 (m, 1 H), 4.46 (s, 2 H), 4.57 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (neat) 1571, 1353 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C18H27NaBrO3 (M+Na)+ 393.1041; found: 393.1054.
（８ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例８（８ａ）で得られた２−［［６−（３−ブロモベンジルオキシ）ヘキシル］オキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン（４６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （４８ｍｇ，５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.33-1.42 (m, 5 H), 1.46-1.73 (m, 11 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.6 Hz), 2.15 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 9.5 Hz, 6.6 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.47 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.71 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.80-3.84 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (s, 2 H), 4.55 (brs, 1 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.87-6.91 (m, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.07 (s, 1 H), 7.14-7.30 (m, 8 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3411, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2 (M+Na)+ 833.3158; found: 833.3127.
実施例８（８ａ）で得られた２−［［６−（３−ブロモベンジルオキシ）ヘキシル］オキシ］テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン（４６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （４８ｍｇ，５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.33-1.42 (m, 5 H), 1.46-1.73 (m, 11 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.6 Hz), 2.15 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 9.5 Hz, 6.6 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.47 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.71 (dt, 1 H, J = 9.8 Hz, 6.8 Hz), 3.80-3.84 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (s, 2 H), 4.55 (brs, 1 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.87-6.91 (m, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.07 (s, 1 H), 7.14-7.30 (m, 8 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3411, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2 (M+Na)+ 833.3158; found: 833.3127.
（８ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（３−［［６−ヒドロキシヘキシロキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例８（８ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３６ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）、５％硫酸水溶液（０．１ｍL）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：１９）により精製し、標記目的化合物（１３ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.30-1.41 (m, 5 H), 1.489-1.64 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (brs, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.62 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 5.54 (s, 1 H), 6.88-6.92 (m, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (s, 1 H), 7.15-7.30 (m, 9 H), 7.34 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.78 (s, 1 H).
IR (neat) 3388, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C42H46NaO7S2 (M+Na)+ 749.2583; found: 749.2581.
実施例８（８ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［［［６−（テトラヒドロ−2Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３６ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）、５％硫酸水溶液（０．１ｍL）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：１９）により精製し、標記目的化合物（１３ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.30-1.41 (m, 5 H), 1.489-1.64 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (brs, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.62 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 5.54 (s, 1 H), 6.88-6.92 (m, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (s, 1 H), 7.15-7.30 (m, 9 H), 7.34 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.78 (s, 1 H).
IR (neat) 3388, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C42H46NaO7S2 (M+Na)+ 749.2583; found: 749.2581.
（８ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（６−ヒドロキシヘキシロキシ）メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例８（８ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（６−ヒドロキシヘキシロキシ）メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１３ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（５．７ｍｇ，４８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.30-1.38 (m, 5 H), 1.47-1.58(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 3.52 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.37 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 4.40 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.04 (m, 5 H), 7.12 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.17 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.34 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.50-7.56 (m, 3 H), 7.95 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3692, 3608, 3410, 1594, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H41O7S2 (M-Na)- 649.2293; found: 649.2319.
実施例８（８ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（６−ヒドロキシヘキシロキシ）メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１３ｍｇ，０．０１８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（５．７ｍｇ，４８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.30-1.38 (m, 5 H), 1.47-1.58(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 3.52 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.37 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 4.40 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.04 (m, 5 H), 7.12 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.17 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.34 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.50-7.56 (m, 3 H), 7.95 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3692, 3608, 3410, 1594, 1494, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H41O7S2 (M-Na)- 649.2293; found: 649.2319.
（実施例９）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（９ａ）１−ブロモ−３−（オクチルオキシ）ベンゼン
３−ブロモフェノール（０．５２ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモオクタン（０．７８ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．３９ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．７７ｇ，９０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.22 - 1.37 (brs, 8 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1108 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO (M)+ 284.0776; found: 284.0775.
（９ａ）１−ブロモ−３−（オクチルオキシ）ベンゼン
３−ブロモフェノール（０．５２ｇ，３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモオクタン（０．７８ｍＬ，４．５ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．３９ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．７７ｇ，９０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.22 - 1.37 (brs, 8 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.25 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1108 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO (M)+ 284.0776; found: 284.0775.
（９ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例９（９ａ）で得られた１−ブロモ−３−（オクチルオキシ）ベンゼン（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６７ｍｇ，４９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.04 - 1.23 (brs, 8 H), 1.24 - 1.28 (m, 2 H), 1.41 - 1.56 (m, 4 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 3.69 - 3.73 (m, 1 H), 3.79 - 3.83 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.73 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 6.9 Hz), 7.11 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.15 - 7.20 (m, 3 H), 7.21 - 7.30 (m, 5 H), 7.31 - 7.33 (m, 2 H), 7.54 (d, 2 H, J = 2.7 Hz), 7.81 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2930, 1490, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S2 (M+Na)+ 747.2790; found: 747.2798.
実施例９（９ａ）で得られた１−ブロモ−３−（オクチルオキシ）ベンゼン（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６７ｍｇ，４９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.04 - 1.23 (brs, 8 H), 1.24 - 1.28 (m, 2 H), 1.41 - 1.56 (m, 4 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 3.69 - 3.73 (m, 1 H), 3.79 - 3.83 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.73 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 6.9 Hz), 7.11 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.15 - 7.20 (m, 3 H), 7.21 - 7.30 (m, 5 H), 7.31 - 7.33 (m, 2 H), 7.54 (d, 2 H, J = 2.7 Hz), 7.81 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2930, 1490, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S2 (M+Na)+ 747.2790; found: 747.2798.
（９ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例９（９ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６７ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.03 - 1.21 (brs, 8 H), 1.23 - 1.30 (m, 2 H), 1.34 - 1.43 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.74 - 1.79 (m, 2 H), 3.60 - 3.65 (m, 1 H), 3.73 - 3.79 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.07 (s, 1 H), 6.74 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.81 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.92 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.14 - 7.22 (m, 5 H), 7.24 (dt, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.54 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3410, 2928, 1241 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O6S2 (M-Na)- 647.2511; found: 647.2506.
実施例９（９ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６７ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.03 - 1.21 (brs, 8 H), 1.23 - 1.30 (m, 2 H), 1.34 - 1.43 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.74 - 1.79 (m, 2 H), 3.60 - 3.65 (m, 1 H), 3.73 - 3.79 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.07 (s, 1 H), 6.74 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.81 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.92 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.14 - 7.22 (m, 5 H), 7.24 (dt, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.54 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3410, 2928, 1241 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O6S2 (M-Na)- 647.2511; found: 647.2506.
（実施例１０）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（１Ｚ）−３−（ペンチルオキシ）プロプ−１−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１０ａ）３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−イン−１−オール
３−ブロモヨードベンゼン（２．８ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、プロパルギルアルコール（０．６２ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）をピペリジン（１５ｍＬ）とベンゼン（１５ｍＬ）に溶解した後、ヨウ化銅（３８ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７０ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に水（３０ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（１．８ｇ，８６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.53 (d, 2 H, J = 6.1 Hz), 7.22 (t, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.63 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3329, 1473 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C9H7 79BrO (M)+ 209.9680; found: 209.9684.
（１０ａ）３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−イン−１−オール
３−ブロモヨードベンゼン（２．８ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、プロパルギルアルコール（０．６２ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）をピペリジン（１５ｍＬ）とベンゼン（１５ｍＬ）に溶解した後、ヨウ化銅（３８ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７０ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に水（３０ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（１．８ｇ，８６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.53 (d, 2 H, J = 6.1 Hz), 7.22 (t, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.63 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3329, 1473 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C9H7 79BrO (M)+ 209.9680; found: 209.9684.
（１０ｂ）（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エン−１−オール
実施例１０（１０ａ）で得られた３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−イン−１−オール（０．１５ｇ，０．７１ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解した後、リンドラー触媒（１５０ｍｇ）を加え、室温で７時間攪拌した。反応溶液をセライトろ過後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.40 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.88 - 5.94 (m, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.21 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 1.5 Hz), 7.38 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz).
IR (Liquid film) 3334, 1475 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C9H9 79BrO (M)+ 211.9836; found: 211.9839.
実施例１０（１０ａ）で得られた３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−イン−１−オール（０．１５ｇ，０．７１ｍｍｏｌ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解した後、リンドラー触媒（１５０ｍｇ）を加え、室温で７時間攪拌した。反応溶液をセライトろ過後、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.40 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.88 - 5.94 (m, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 7.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.21 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 1.5 Hz), 7.38 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz).
IR (Liquid film) 3334, 1475 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C9H9 79BrO (M)+ 211.9836; found: 211.9839.
（１０ｃ）（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エニル ペンチル エーテル
実施例１０（１０ｂ）で得られた（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エン−１−オール（０．１４ｇ、０．６８ｍｍｏｌ）、１−アミルブロミド（０．１５ｇ，１．０２ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（８９ｍｇ，２．０４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (dt, 3 H, J = 2.2 Hz, 6.4 Hz), 1.26 - 1.37 (brs, 4 H), 1.55 - 1.63 (m, 2 H), 3.29 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.16 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 5.88 - 5.94 (m, 1 H), 6.50 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.18 (dt, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.36 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.37 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1104 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H19 79BrO (M)+ 282.0619; found: 282.0618.
実施例１０（１０ｂ）で得られた（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エン−１−オール（０．１４ｇ、０．６８ｍｍｏｌ）、１−アミルブロミド（０．１５ｇ，１．０２ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（８９ｍｇ，２．０４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (dt, 3 H, J = 2.2 Hz, 6.4 Hz), 1.26 - 1.37 (brs, 4 H), 1.55 - 1.63 (m, 2 H), 3.29 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.16 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 5.88 - 5.94 (m, 1 H), 6.50 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.18 (dt, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.36 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.37 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1104 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H19 79BrO (M)+ 282.0619; found: 282.0618.
（１０ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（１Ｚ）−３−（ペンチルオキシ）プロプ−１−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１０（１０ｃ）で得られた（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エニル ペンチル エーテル（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：２５）により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.32 (brs, 4 H), 1.48 - 1.58 (m, 4 H), 1.77 - 2.03 (m, 2 H), 3.37 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.8 Hz), 4.10 (d, 2 H, J = 5.8 Hz), 5.51 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 5.79 - 5.85 (m, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 6.88 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 - 7.07 (m, 2 H), 7.14 - 7.22 (m, 5 H), 7.24 - 7.29 (m, 3 H), 7.34 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.43 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 2933, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H46NaO6S2 (M+Na)+ 745.2633; found: 745.2617.
実施例１０（１０ｃ）で得られた（２Ｚ）−３−（３−ブロモフェニル）プロプ−２−エニル ペンチル エーテル（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：２５）により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.32 (brs, 4 H), 1.48 - 1.58 (m, 4 H), 1.77 - 2.03 (m, 2 H), 3.37 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.8 Hz), 4.10 (d, 2 H, J = 5.8 Hz), 5.51 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 5.79 - 5.85 (m, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 6.88 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 - 7.07 (m, 2 H), 7.14 - 7.22 (m, 5 H), 7.24 - 7.29 (m, 3 H), 7.34 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.43 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 2933, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H46NaO6S2 (M+Na)+ 745.2633; found: 745.2617.
（１０ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（１ｚ）−３−（ペンチルオキシ）プロプ−１−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１０（１０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（１Ｚ）−３−（ペンチルオキシ）プロプ−１−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５３ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３１ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.28 - 1.34 (brs, 4 H), 1.47 - 1.55 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.31 - 3.37 (m, 4 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.07 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 5.71 - 5.77 (m, 1 H), 5.85 (s, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 12.4 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.90 (s,１H), 6.95 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.98 - 7.02 (m, 4 H), 7.15 - 7.20 (m, 2 H), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.54 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.98 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3419, 2932, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H41O6S2 (M-Na)- 645.2344; found: 645.2339.
実施例１０（１０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（１Ｚ）−３−（ペンチルオキシ）プロプ−１−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５３ｍｇ，０．０７３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３１ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.28 - 1.34 (brs, 4 H), 1.47 - 1.55 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.31 - 3.37 (m, 4 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.07 (dd, 2 H, J = 2.2 Hz, 6.6 Hz), 5.71 - 5.77 (m, 1 H), 5.85 (s, 1 H), 6.49 (d, 1 H, J = 12.4 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.90 (s,１H), 6.95 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.98 - 7.02 (m, 4 H), 7.15 - 7.20 (m, 2 H), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.54 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.98 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3419, 2932, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H41O6S2 (M-Na)- 645.2344; found: 645.2339.
（実施例１１）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フルオロ−５−（ヘプチロキシメチル）フェニル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（１１ａ）2−ブロモ−1−フルオロ−4−（ヘプチロキシメチル）ベンゼン
３−ブロモ−４−フルオロベンジルアルコール（０．４７ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４６ｍL、２．８ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１２ｇ，２．８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６１ｇ，８７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.38 (m, 8 H), 1.61 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.43 (s, 2 H), 7.08 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.23-7.26 (m, 1 H), 7.53 (d, 1 H, J = 6.8 Hz).
IR (neat) 1570, 1351 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C14H20BrFO (M)+ 302.0682; found: 302.0692.
（１１ａ）2−ブロモ−1−フルオロ−4−（ヘプチロキシメチル）ベンゼン
３−ブロモ−４−フルオロベンジルアルコール（０．４７ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４６ｍL、２．８ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１２ｇ，２．８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６１ｇ，８７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.38 (m, 8 H), 1.61 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.43 (s, 2 H), 7.08 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.23-7.26 (m, 1 H), 7.53 (d, 1 H, J = 6.8 Hz).
IR (neat) 1570, 1351 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C14H20BrFO (M)+ 302.0682; found: 302.0692.
（１１ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フルオロ−５−（ヘプチロキシメチル）フェニル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１１（１１ａ）で得られた2−ブロモ−1−フルオロ−4−（ヘプチロキシメチル）ベンゼン（３８ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物 （４５ｍｇ，６１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.38 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.60 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.92 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.45 (s, 2 H), 5.66 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.11 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.17-7.33 (m, 8 H), 7.40 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3540, 3409, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H47NaFO6S2 (M+Na)+ 765.2695; found: 765.2687.
実施例１１（１１ａ）で得られた2−ブロモ−1−フルオロ−4−（ヘプチロキシメチル）ベンゼン（３８ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物 （４５ｍｇ，６１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.38 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.60 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.92 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.45 (s, 2 H), 5.66 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.11 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.17-7.33 (m, 8 H), 7.40 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3540, 3409, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H47NaFO6S2 (M+Na)+ 765.2695; found: 765.2687.
（１１ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フルオロ−５−（ヘプチロキシメチル）フェニル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１１（１１ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フルオロ−５−（ヘプチロキシメチル）フェニル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（４３ｍｇ，０．０５７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１８ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.37 (m, 8 H), 1.48-1.59 (m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.45 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 6.03 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.85 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.14-7.19 (m, 2 H), 7.26-7.33 (m, 2 H), 7.41 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.96 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3634, 3397, 1594, 1495, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H42FO6S2 (M-Na)- 665.2407; found: 665.2405.
実施例１１（１１ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フルオロ−５−（ヘプチロキシメチル）フェニル］ヒドロキシメチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（４３ｍｇ，０．０５７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１８ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.37 (m, 8 H), 1.48-1.59 (m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.45 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 6.03 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.85 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.14-7.19 (m, 2 H), 7.26-7.33 (m, 2 H), 7.41 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.96 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3634, 3397, 1594, 1495, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H42FO6S2 (M-Na)- 665.2407; found: 665.2405.
（実施例１２）ナトリウム ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１２ａ）フェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１−（３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナン（９５ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７８ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１４ｍL，０．２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物 （６１ｍｇ，４７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.01 (s, 1.5 H), 0.22 (s, 1.5 H), 0.23 (s, 1.5 H), 1.06 (s, 4.5 H), 1.08 (s, 4.5 H), 1.12 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.26 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 2.07 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (dd, 0.5 H, J = 3.9 Hz, 6.8 Hz), 4.28 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.82 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.75 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 7.02-7.06 (m, 0.5 H), 7.14-7.20(m, 1.5 H), 7.26 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.28-7.34 (m, 1.5 H), 7.36-7.59 (m, 11 H), 7.64 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.81 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.07 (s, 0.5 H), 8.13 (s, 0.5 H).
IR (neat) 3547, 3445, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C50H64NaO6S2Si (M+Na)+ 875.3812; found: 875.3807.
（１２ａ）フェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１−（３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナン（９５ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７８ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１４ｍL，０．２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物 （６１ｍｇ，４７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.01 (s, 1.5 H), 0.22 (s, 1.5 H), 0.23 (s, 1.5 H), 1.06 (s, 4.5 H), 1.08 (s, 4.5 H), 1.12 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.26 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 2.07 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (dd, 0.5 H, J = 3.9 Hz, 6.8 Hz), 4.28 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.82 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.75 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 7.02-7.06 (m, 0.5 H), 7.14-7.20(m, 1.5 H), 7.26 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.28-7.34 (m, 1.5 H), 7.36-7.59 (m, 11 H), 7.64 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.81 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.07 (s, 0.5 H), 8.13 (s, 0.5 H).
IR (neat) 3547, 3445, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C50H64NaO6S2Si (M+Na)+ 875.3812; found: 875.3807.
（１２ｂ）フェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１２（１２ａ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６０ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．２ｍL）に溶解した後、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（８０μL、０．０８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。水（５ｍL）を加え、エーテルを用いて抽出操作を行った後、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝４：６) により精製を行い、標記目的化合物 （２７ｍｇ，５３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.32-1.42 (m, 1 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.55-1.64 (m, 1 H), 1.66-1.75 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H< J = 6.8 Hz), 4.57 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.53 (br, 1 H), 6.86-6.92 (m, 2 H), 6.96-7.04 (m, 3 h), 7.15-7.30 (m, 10 H), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53-7.58 (m, 2 H), 7.61 (s, 0.5 H).
IR (neat) 3550, 3387, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO6S2 (M+Na)+ 761.2946; found: 761.2951.
実施例１２（１２ａ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６０ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．２ｍL）に溶解した後、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド−テトラヒドロフラン溶液（８０μL、０．０８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。水（５ｍL）を加え、エーテルを用いて抽出操作を行った後、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝４：６) により精製を行い、標記目的化合物 （２７ｍｇ，５３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.32-1.42 (m, 1 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.55-1.64 (m, 1 H), 1.66-1.75 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H< J = 6.8 Hz), 4.57 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.53 (br, 1 H), 6.86-6.92 (m, 2 H), 6.96-7.04 (m, 3 h), 7.15-7.30 (m, 10 H), 7.36 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53-7.58 (m, 2 H), 7.61 (s, 0.5 H).
IR (neat) 3550, 3387, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO6S2 (M+Na)+ 761.2946; found: 761.2951.
（１２ｃ）ナトリウム ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１２（１２ｂ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．０３２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（９．８ｍｇ，４５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.32 (m, 12 H), 1.48-1.60 (m, 3 H), 1.62-1.72 (m, 1 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.47 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.82 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 5 H, J 8.8 Hz), 7.11-7.20 (m, 3 H), 7.87 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3692, 3636, 3606, 3411, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)- 661.2658; found: 661.2653.
実施例１２（１２ｂ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．０３２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（９．８ｍｇ，４５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.32 (m, 12 H), 1.48-1.60 (m, 3 H), 1.62-1.72 (m, 1 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.47 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 5.82 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 5 H, J 8.8 Hz), 7.11-7.20 (m, 3 H), 7.87 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3692, 3636, 3606, 3411, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)- 661.2658; found: 661.2653.
（実施例１３）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（１３ａ）６−［（５−ブロモ−2−フリル）メトキシ］−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ヘキサン
５−ブロモ−２−フリルメタノール（０．６２ｇ，３．５ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．９３ｍL、４．２ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．２３ｇ，５．３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．１ｇ，８４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.04 (s, 6 H), 0.89 (s, 9 H), 1.28-1.39 (m, 4 H), 1.51 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.59 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.59 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 6.25 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.28 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 1503, 1472, 1255 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H31NaBrO3Si (M+Na)+ 413.1123; found: 413.1162.
（１３ａ）６−［（５−ブロモ−2−フリル）メトキシ］−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ヘキサン
５−ブロモ−２−フリルメタノール（０．６２ｇ，３．５ｍｍｏｌ）、２−（6−ブロモヘキシルオキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．９３ｍL、４．２ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．２３ｇ，５．３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （１．１ｇ，８４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.04 (s, 6 H), 0.89 (s, 9 H), 1.28-1.39 (m, 4 H), 1.51 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.59 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.59 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 6.25 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.28 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 1503, 1472, 1255 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H31NaBrO3Si (M+Na)+ 413.1123; found: 413.1162.
（１３ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１３（１３ａ）で得られた６−［（５−ブロモ−2−フリル）メトキシ］−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ヘキサン（５９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、実施例１３（１３ａ）で得られたアルデヒド（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （５５ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.04 (s, 6 H), 0.88 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.28-1.34 (m, 4 H), 1.45-1.58 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.27 (br, 1 H), 3.42 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.59 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.36 (s, 2 H), 5.43 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 5.90 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.18 - 7.26 (m, 4 H), 7.31 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.62 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3531, 3412, 1593, 1489, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H58NaO8S2Si (M+Na)+ 853.3240; found: 853.3215.
実施例１３（１３ａ）で得られた６−［（５−ブロモ−2−フリル）メトキシ］−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ヘキサン（５９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、実施例１３（１３ａ）で得られたアルデヒド（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （５５ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.04 (s, 6 H), 0.88 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.28-1.34 (m, 4 H), 1.45-1.58 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.27 (br, 1 H), 3.42 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.59 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.36 (s, 2 H), 5.43 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 5.90 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.18 - 7.26 (m, 4 H), 7.31 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.62 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3531, 3412, 1593, 1489, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H58NaO8S2Si (M+Na)+ 853.3240; found: 853.3215.
（１３ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１３（１３ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５５ｍｇ，０．０６６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．２ｍＬ）に溶解し、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド（０．１０ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間撹拌した。反応溶液に水（０．１ｍＬ）を加え反応を停止した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：９）により精製し、標記目的化合物（４０ｍｇ，８４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.31-1.36 (m, 4 H), 1.48-1.59 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.60 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.36 (s, 2 H), 5.45 (s, 1 H), 5.88 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.20 - 7.26 (m, 2 H), 7.29-7.34 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.64 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.77 (s, 1 H).
IR (neat) 3383, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H44NaO8S2 (M+Na)+ 716.2478; found: 716.2479.
実施例１３（１３ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［［６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５５ｍｇ，０．０６６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．２ｍＬ）に溶解し、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド（０．１０ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間撹拌した。反応溶液に水（０．１ｍＬ）を加え反応を停止した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：９）により精製し、標記目的化合物（４０ｍｇ，８４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.31-1.36 (m, 4 H), 1.48-1.59 (m, 6 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.60 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.36 (s, 2 H), 5.45 (s, 1 H), 5.88 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.18 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.20 - 7.26 (m, 2 H), 7.29-7.34 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.64 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.77 (s, 1 H).
IR (neat) 3383, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H44NaO8S2 (M+Na)+ 716.2478; found: 716.2479.
（１３ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１３（１３ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３３ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２０ｍｇ，６５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24-1.34 (m, 4 H), 1.45-1.56(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.34 (s, 2 H), 5.71 (s, 1 H), 5.97 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.21 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.98-7.04 (m, 3 H), 7.18 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.92 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3631, 3424, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C34H39O8S2 (M-Na)- 639.2087; found: 639.2078.
実施例１３（１３ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［５−［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−フリル］メチル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３３ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２０ｍｇ，６５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24-1.34 (m, 4 H), 1.45-1.56(m, 6 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.34 (s, 2 H), 5.71 (s, 1 H), 5.97 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.21 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.98-7.04 (m, 3 H), 7.18 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.92 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3631, 3424, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C34H39O8S2 (M-Na)- 639.2087; found: 639.2078.
（実施例１４）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１４ａ）（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール
３−ブロモ−ｐ−アニスアルデヒド（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をエタノール（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（０．１５ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.69 (t, 1 H, J = 5.9 Hz), 3.90 (s, 3 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.27 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3271, 1604, 1502, 1257 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（１４ａ）（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール
３−ブロモ−ｐ−アニスアルデヒド（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をエタノール（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム（０．１５ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.69 (t, 1 H, J = 5.9 Hz), 3.90 (s, 3 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.27 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3271, 1604, 1502, 1257 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（１４ｂ）２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン
実施例１４（１４ａ）で得られた（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール（０．２０ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ナトリウム（７５ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）を加え室温で４５分間攪拌した後、１−ブロモヘプタン（０．３０ｍL、１．９ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23 - 1.40 (m, 8 H), 1.55 - 1.67 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.89 (s, 3 H), 4.40 (s, 2 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.24 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (KBr) 3353, 1498, 1257 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 314 (M)+.
実施例１４（１４ａ）で得られた（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール（０．２０ｇ、０．９４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下水素化ナトリウム（７５ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）を加え室温で４５分間攪拌した後、１−ブロモヘプタン（０．３０ｍL、１．９ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23 - 1.40 (m, 8 H), 1.55 - 1.67 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.89 (s, 3 H), 4.40 (s, 2 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.24 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (KBr) 3353, 1498, 1257 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 314 (M)+.
（１４ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１４（１４ｂ）で得られた２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン（８８ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１６ｍＬ、０．２６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５７ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５６ｍｇ、収率６７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.19 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 3.42 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.55 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 5.57 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.03 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.6 Hz), 7.12 - 7.32 (m, 10 H), 7.36 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (Thin film) 3412, 1593, 1494, 1458, 1386, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2888.
実施例１４（１４ｂ）で得られた２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）−１−メトキシベンゼン（８８ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１６ｍＬ、０．２６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５７ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５６ｍｇ、収率６７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.19 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 3.42 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.55 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 5.57 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.03 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.6 Hz), 7.12 - 7.32 (m, 10 H), 7.36 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (Thin film) 3412, 1593, 1494, 1458, 1386, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2888.
（１４ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１４（１４ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５６ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３０ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１０ｍｇ、収率１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 8 H), 1.48 - 1.60 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.52 (s, 3 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.44 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.13 - 7.17 (m, 2 H), 7.22 - 7.27 (m, 2 H), 7.33 - 7.37 (m, 1 H), 7.47 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3445, 1593, 1497, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2606; found: 677.2621.
実施例１４（１４ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５６ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３０ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１０ｍｇ、収率１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 8 H), 1.48 - 1.60 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.52 (s, 3 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.44 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.13 - 7.17 (m, 2 H), 7.22 - 7.27 (m, 2 H), 7.33 - 7.37 (m, 1 H), 7.47 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3445, 1593, 1497, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2606; found: 677.2621.
（実施例１５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−ヒドロキシノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（１５ａ）1−（3−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−イン
1−（3−ブロモフェニル）ノナ−2−イン−１−オール（０．５３ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．３７ｇ、５．４ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（０．３７ｇ、５．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６０ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.16 (s, 3 H), 0.17 (s, 3 H), 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.94 (s, 9 H), 1.22-1.43 (m, 8 H), 1.51 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.22 (dt, 2 H, J = 1.5 Hz, 6.6 Hz), 5.44 (s, 1 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.39 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.64 (s, 1 H).
（１５ａ）1−（3−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−イン
1−（3−ブロモフェニル）ノナ−2−イン−１−オール（０．５３ｇ、１．８ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．３７ｇ、５．４ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（０．３７ｇ、５．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加え、エーテルを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６０ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.16 (s, 3 H), 0.17 (s, 3 H), 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.94 (s, 9 H), 1.22-1.43 (m, 8 H), 1.51 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.22 (dt, 2 H, J = 1.5 Hz, 6.6 Hz), 5.44 (s, 1 H), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.39 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.64 (s, 1 H).
（１５ｂ）（２Ｚ）−１−（３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−ノナ−２−エン
実施例１５（１５ａ）で得られた1−（3−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−イン（０．６１ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、リンドラー触媒（０．５０ｇ）をヘキサン（３ｍＬ）に縣濁し、水素雰囲気下、室温で２４時間撹拌した。セライトろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。このものは精製を行うことなく、次の反応に用いた。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 3 H), 0.08 (s, 3 H), 0.90 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.92 (s, 9 H), 1.24-1.44 (m, 8 H), 2.12-2.26 (m, 2 H), 5.41-5.50 (m, 2 H), 7.17 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.24-7.28 (m, 1 H), 7.33 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.48 (s, 1 H).
IR (neat) 1594, 1571, 1472, 1254 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C21H34BrOSi (M-H)+ 409.1562; found: 409.1563.
実施例１５（１５ａ）で得られた1−（3−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−イン（０．６１ｇ、１．５ｍｍｏｌ）、リンドラー触媒（０．５０ｇ）をヘキサン（３ｍＬ）に縣濁し、水素雰囲気下、室温で２４時間撹拌した。セライトろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。このものは精製を行うことなく、次の反応に用いた。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 3 H), 0.08 (s, 3 H), 0.90 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.92 (s, 9 H), 1.24-1.44 (m, 8 H), 2.12-2.26 (m, 2 H), 5.41-5.50 (m, 2 H), 7.17 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.24-7.28 (m, 1 H), 7.33 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.48 (s, 1 H).
IR (neat) 1594, 1571, 1472, 1254 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C21H34BrOSi (M-H)+ 409.1562; found: 409.1563.
（１５ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１５（１５ｂ）で得られた１−（３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−ノナ−２−エン（６１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （７５ｍｇ，８８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.01 (s, 1.5 H), 0.07 (s, 1.5 H), 0.08 (s, 1.5 H), 0.88 (s, 4.5 H), 0.90 (s, 4.5 H), 0.92 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.04 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.85 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.94 (d, 0.5 Hz, J = 3.9 Hz), 2.08-2.27 (m, 1.5 H), 4.06 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.37-5.54 (m, 2 H), 6.85 (d, 0.5 H, J = 5.9 Hz), 6.90-6.94 (m, 1.5 H), 7.04 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.14-7.39 (m, 11.5 H), 7.47 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.58 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.86 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3548, 3400, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C50H62NaO6S2Si (M+Na)+ 873.3655; found: 873.3665.
実施例１５（１５ｂ）で得られた１−（３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−ノナ−２−エン（６１ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （７５ｍｇ，８８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.01 (s, 1.5 H), 0.07 (s, 1.5 H), 0.08 (s, 1.5 H), 0.88 (s, 4.5 H), 0.90 (s, 4.5 H), 0.92 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.04 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.85 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.94 (d, 0.5 Hz, J = 3.9 Hz), 2.08-2.27 (m, 1.5 H), 4.06 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.37-5.54 (m, 2 H), 6.85 (d, 0.5 H, J = 5.9 Hz), 6.90-6.94 (m, 1.5 H), 7.04 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.14-7.39 (m, 11.5 H), 7.47 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.58 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.86 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3548, 3400, 1593, 1489, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C50H62NaO6S2Si (M+Na)+ 873.3655; found: 873.3665.
（１５ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−ヒドロキシノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１５（１５ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（７５ｍｇ，０．０８８ｍｍｏｌ）、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド（０．３０ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝３：７）により精製し、標記目的化合物（３４ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.40 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.98-2.24 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.42-5.56 (m, 3 H), 6.86-6.92 (m, 2 H), 6.98-7.05 (m, 6 H), 7.09 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.14-7.31 (m, 9 H), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.47-7.52 (m, 1 H), 7.54 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.56 (d, 1 H, J 2.2 Hz), 7.62 (d, 0.5 H, J = 2.2 Hz), 7.65 (d, 0.5 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3542, 3388, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H48NaO6S2 (M+Na)+ 759.2790; found: 759.2775.
実施例１５（１５ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（７５ｍｇ，０．０８８ｍｍｏｌ）、１．０Mテトラブチルアンモニウムフルオライド（０．３０ｍＬ，０．３０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝３：７）により精製し、標記目的化合物（３４ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.40 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.98-2.24 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.42-5.56 (m, 3 H), 6.86-6.92 (m, 2 H), 6.98-7.05 (m, 6 H), 7.09 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.14-7.31 (m, 9 H), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.47-7.52 (m, 1 H), 7.54 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.56 (d, 1 H, J 2.2 Hz), 7.62 (d, 0.5 H, J = 2.2 Hz), 7.65 (d, 0.5 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 3542, 3388, 1593, 1489, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H48NaO6S2 (M+Na)+ 759.2790; found: 759.2775.
（１５ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−ヒドロキシノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１５（１５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−ヒドロキシノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３０ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１３ｍｇ，４７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.36 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.00-2.18 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.34-5.52 (m, 2 H), 5.81 (s, 0.5 H), 5.83 (s, 0.5 H), 6.76 (d, 0.5 H, J = 3.0 Hz), 6.78 (d, 0.5 H, J = 3.0 Hz), 6.97-7.04 (m, 4 H), 7.06 (s, 0.5 H), 7.10 (s, 0.5 H), 7.12-7.18 (m, 3 H), 7.27 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.31-7.36 (m, 1 H), 7.51-7.57 (m, 3 H), 7.88 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3409, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H43O6S2 (M-Na)- 659.2501; found: 659.2487.
実施例１５（１５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［（２Ｚ）−１−ヒドロキシノナ−2−エニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３０ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１３ｍｇ，４７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.36 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.00-2.18 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.34-5.52 (m, 2 H), 5.81 (s, 0.5 H), 5.83 (s, 0.5 H), 6.76 (d, 0.5 H, J = 3.0 Hz), 6.78 (d, 0.5 H, J = 3.0 Hz), 6.97-7.04 (m, 4 H), 7.06 (s, 0.5 H), 7.10 (s, 0.5 H), 7.12-7.18 (m, 3 H), 7.27 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.31-7.36 (m, 1 H), 7.51-7.57 (m, 3 H), 7.88 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3409, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H43O6S2 (M-Na)- 659.2501; found: 659.2487.
（実施例１６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−［１−（ヘプチルオキシ）エチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１６ａ）１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）エチル］ベンゼン
１−ブロモ−３−［１−ヒドロキシエチル］ベンゼン（０．５０ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．８１ｍL、５．０ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．２１ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６０ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.34 (m, 10 H), 1.40 (d, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.51-1.60 (m, 2 H), 3.28 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.23 (d, 1 H, j = 7.8 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.46 (s, 1 H).
IR (neat) 1595, 1571, 1467, 1104 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C15H23BrO (M)+ 298.0932; found: 298.0938.
（１６ａ）１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）エチル］ベンゼン
１−ブロモ−３−［１−ヒドロキシエチル］ベンゼン（０．５０ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．８１ｍL、５．０ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．２１ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．６０ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.34 (m, 10 H), 1.40 (d, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.51-1.60 (m, 2 H), 3.28 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.23 (d, 1 H, j = 7.8 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.46 (s, 1 H).
IR (neat) 1595, 1571, 1467, 1104 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C15H23BrO (M)+ 298.0932; found: 298.0938.
（１６ｂ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−［１−（ヘプチルオキシ）エチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１６（１６ａ）で得られた１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）エチル］ベンゼン（４５ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、目的化合物を含む混合物（５４ｍｇ）を得た。このものはこれ以上の精製を行わず、次の反応に用いた。
先の反応で得られた混合物（５４ｍｇ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１２ｍｇ，２工程１８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 0.88 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 11 H), 1.40-1.48 (m, 2 H, J = 2 H), 1.52 (sex, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.08-3.24 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.24-4.31 (m, 1 H), 5.83 (s, 0.5 H), 5.84 (s, 0.5 H), 6.73 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 6.75 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.88 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.95 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.13-7.21 (m, 2 H), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.34 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.50 - 7.56 (m, 2.5 H), 7.59 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.97 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.99 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3398, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)- 661.2657; found: 661.2657.
実施例１６（１６ａ）で得られた１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）エチル］ベンゼン（４５ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、目的化合物を含む混合物（５４ｍｇ）を得た。このものはこれ以上の精製を行わず、次の反応に用いた。
先の反応で得られた混合物（５４ｍｇ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１２ｍｇ，２工程１８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 0.88 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 11 H), 1.40-1.48 (m, 2 H, J = 2 H), 1.52 (sex, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.08-3.24 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.24-4.31 (m, 1 H), 5.83 (s, 0.5 H), 5.84 (s, 0.5 H), 6.73 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 6.75 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.88 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.95 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.13-7.21 (m, 2 H), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.34 (q, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.50 - 7.56 (m, 2.5 H), 7.59 (d, 0.5 H, J = 7.8 Hz), 7.97 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.99 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3398, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O6S2 (M-Na)- 661.2657; found: 661.2657.
（実施例１７）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−［１−（ヘプチルオキシ）−１−メチルエチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（１７ａ）１−ブロモ−３−［１−（ヘプチロキシ）−１−メチルエチル］ベンゼン
１−ブロモ−３−［１−ヒドロキシ−１−メチルエチル］ベンゼン（０．２８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４２ｍL、２．６ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１１ｇ，２．６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１６ｇ，４０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.48-1.58 (m, 8 H), 3.14 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33-7.39 (m, 2 H), 7.56 (t, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 1593, 1565, 1470, 1416 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C15H22BrO (M)+ 296.0854; found: 296.0860.
（１７ａ）１−ブロモ−３−［１−（ヘプチロキシ）−１−メチルエチル］ベンゼン
１−ブロモ−３−［１−ヒドロキシ−１−メチルエチル］ベンゼン（０．２８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４２ｍL、２．６ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１１ｇ，２．６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１６ｇ，４０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.48-1.58 (m, 8 H), 3.14 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33-7.39 (m, 2 H), 7.56 (t, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 1593, 1565, 1470, 1416 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C15H22BrO (M)+ 296.0854; found: 296.0860.
（１７ｂ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−［１−（ヘプチルオキシ）−１−メチルエチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例１７（１７ａ）で得られた１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）−１−メチルエチル］ベンゼン（４７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、目的化合物を含む混合物（４７ｍｇ）を得た。このものはこれ以上の精製を行わず、次の反応に用いた。
先の反応で得られた混合物（４７ｍｇ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１４ｍｇ，２工程１９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.16-1.30 (m, 8 H), 1.34-1.42 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.00 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.71 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.09 (s, 1 H), 7.16 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.97 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3412, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H47O6S2 (M-Na)- 675.2815; found: 675.2794.
実施例１７（１７ａ）で得られた１−ブロモ−3−［１−（ヘプチロキシ）−１−メチルエチル］ベンゼン（４７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（９４μL，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、目的化合物を含む混合物（４７ｍｇ）を得た。このものはこれ以上の精製を行わず、次の反応に用いた。
先の反応で得られた混合物（４７ｍｇ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（１４ｍｇ，２工程１９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.16-1.30 (m, 8 H), 1.34-1.42 (m, 8 H), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.00 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.71 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.09 (s, 1 H), 7.16 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.20 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.97 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3412, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H47O6S2 (M-Na)- 675.2815; found: 675.2794.
（実施例１８）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−メトキシフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１８ａ）２−（［６−［（３−ブロモ−４−メトキシベンジル）オキシ］ヘキシル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例１４（１４ａ）で得られた（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（８０ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）、２−［（６−ブロモヘキシル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．５３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率４５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.35 - 1.44 (m, 4 H), 1.48 - 1.66 (m, 8 H), 1.66 - 1.76 (m, 1 H), 1.78 - 1.87 (m, 1 H), 3.35 - 3.42 (m, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.47 - 3.53 (m, 1 H), 3.70 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.89 (m, 1 H), 3.89 (s, 3 H), 4.40 (s, 2 H), 4.55 - 4.58 (m, 1 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.24 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 2939, 2859, 1499, 1258 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 401 (M+H)+.
（１８ａ）２−（［６−［（３−ブロモ−４−メトキシベンジル）オキシ］ヘキシル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例１４（１４ａ）で得られた（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）メタノール（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（８０ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）、２−［（６−ブロモヘキシル）オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．５３ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率４５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.35 - 1.44 (m, 4 H), 1.48 - 1.66 (m, 8 H), 1.66 - 1.76 (m, 1 H), 1.78 - 1.87 (m, 1 H), 3.35 - 3.42 (m, 1 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.47 - 3.53 (m, 1 H), 3.70 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.89 (m, 1 H), 3.89 (s, 3 H), 4.40 (s, 2 H), 4.55 - 4.58 (m, 1 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.24 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 2939, 2859, 1499, 1258 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 401 (M+H)+.
（１８ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−メトキシ−５−（［［６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１８（１８ａ）で得られた２−（［６−［（３−ブロモ−４−メトキシベンジル）オキシ］ヘキシル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１２ｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１８ｍＬ、０．２９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（９０ｍｇ、収率８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.34 - 1.39 (m, 4 H), 1.47 - 1.63 (m, 10 H), 1.66 - 1.73 (m, 1 H), 1.77 - 1.86 (m, 3 H), 2.30 (t, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.34 - 3.50 (m, 4 H), 3.54 (s, 3 H), 3.72 (td, 1 H, J = 6.8 Hz, 9.8 Hz), 3.81 - 3.88 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 4.53 - 4.57 (m, 1 H), 5.77 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 7.4 Hz), 7.12 - 7.37 (m, 11 H), 7.54 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3532, 1593, 1494, 1458, 1386, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C48H56NaO9S2 (M+Na)+ 863.3264; found: 863.3284.
実施例１８（１８ａ）で得られた２−（［６−［（３−ブロモ−４−メトキシベンジル）オキシ］ヘキシル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１２ｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１８ｍＬ、０．２９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（９０ｍｇ、収率８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.34 - 1.39 (m, 4 H), 1.47 - 1.63 (m, 10 H), 1.66 - 1.73 (m, 1 H), 1.77 - 1.86 (m, 3 H), 2.30 (t, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.34 - 3.50 (m, 4 H), 3.54 (s, 3 H), 3.72 (td, 1 H, J = 6.8 Hz, 9.8 Hz), 3.81 - 3.88 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 4.53 - 4.57 (m, 1 H), 5.77 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 7.4 Hz), 7.12 - 7.37 (m, 11 H), 7.54 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3532, 1593, 1494, 1458, 1386, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C48H56NaO9S2 (M+Na)+ 863.3264; found: 863.3284.
（１８ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−メトキシフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１８（１８ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−メトキシ−５−（［［６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をエタノール（３ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：３）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.01 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.38 (m, 4 H), 1.48 - 1.61 (m, 6 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.44 (s, 3 H), 3.43 - 3.47 (m, 2 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.06 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 3.5 Hz), 5.78 (s, 1 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.01 (m, 1 H), 7.09 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.14 - 7.19 (m, 4 H), 7.21 - 7.39 (m, 7 H), 7.55 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.70 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3388, 1593, 1494, 1458, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO8S2 (M+Na)+ 779.2688; found: 779.2680.
実施例１８（１８ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−メトキシ−５−（［［６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシル］オキシ］メチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をエタノール（３ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：３）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.01 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.38 (m, 4 H), 1.48 - 1.61 (m, 6 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.44 (s, 3 H), 3.43 - 3.47 (m, 2 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.06 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 3.5 Hz), 5.78 (s, 1 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.01 (m, 1 H), 7.09 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.14 - 7.19 (m, 4 H), 7.21 - 7.39 (m, 7 H), 7.55 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.70 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3388, 1593, 1494, 1458, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO8S2 (M+Na)+ 779.2688; found: 779.2680.
（１８ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−メトキシフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１８（１８ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−メトキシフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７０ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ、０．９２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.39 (m, 4 H), 1.48 - 1.62 (m, 6 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.52 (s, 3 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.44 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 8.8 Hz), 7.13 - 7.17 (m, 2 H), 7.22 - 7.27 (m, 2 H), 7.34 (dd, 1 H, J = 3.3 Hz, 5.8 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 1.7 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3388, 1593, 1494, 1458, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O8S2 (M-Na)+ 679.2399; found: 679.2390.
実施例１８（１８ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−［［（６−ヒドロキシヘキシル）オキシ］メチル］−２−メトキシフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７０ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ、０．９２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.39 (m, 4 H), 1.48 - 1.62 (m, 6 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.52 (s, 3 H), 3.53 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.44 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 8.8 Hz), 7.13 - 7.17 (m, 2 H), 7.22 - 7.27 (m, 2 H), 7.34 (dd, 1 H, J = 3.3 Hz, 5.8 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 1.7 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3388, 1593, 1494, 1458, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O8S2 (M-Na)+ 679.2399; found: 679.2390.
（実施例１９）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（１−ノニル−１Ｈ−ピラゾ−ル−４−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（１９ａ）４−ブロモ−１−ノニル−１Ｈ−ピラゾール
４−ブロモピラゾール（０．５２ｇ，３．５ｍｍｏｌ）、１−ブロモノナン（１．０ｍＬ，５．３ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．３１ｇ，７．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．３６ｇ，３７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.29 (brs, 12 H), 1.81 - 1.86 (m, 2 H), 4.07 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.39 (s, 1 H), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C12H21 79BrN2 (M)+ 272.0889; found: 272.0887.
（１９ａ）４−ブロモ−１−ノニル−１Ｈ−ピラゾール
４−ブロモピラゾール（０．５２ｇ，３．５ｍｍｏｌ）、１−ブロモノナン（１．０ｍＬ，５．３ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．３１ｇ，７．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．３６ｇ，３７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.29 (brs, 12 H), 1.81 - 1.86 (m, 2 H), 4.07 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.39 (s, 1 H), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C12H21 79BrN2 (M)+ 272.0889; found: 272.0887.
（１９ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（１−ノニル−１Ｈ−ピラゾ−ル−４−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
４−ブロモ−１−ノニル−１Ｈ−ピラゾール（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ，３７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.27 (brs, 12 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.75 - 1.84 (m, 4 H), 3.98 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.50 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.14 - 7.22 (m, 4 H), 7.23 - 7.28 (m, 1 H), 7.29 - 7.35 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.66 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.22 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 3291, 2929, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H48N2NaO5S2 (M+Na)+ 735.2902; found: 735.2911.
４−ブロモ−１−ノニル−１Ｈ−ピラゾール（０．１１ｇ，０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ，３７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.27 (brs, 12 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.75 - 1.84 (m, 4 H), 3.98 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.50 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.00 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.14 - 7.22 (m, 4 H), 7.23 - 7.28 (m, 1 H), 7.29 - 7.35 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.66 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.22 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 3291, 2929, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H48N2NaO5S2 (M+Na)+ 735.2902; found: 735.2911.
（１９ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（１−ノニル−１Ｈ−ピラゾ−ル−４−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例１９（１９ｂ）で得られたナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（１−ノニル−１Ｈ−ピラゾ−ル−４−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０７０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２８ｍｇ，０．７０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.29 (brs, 12 H), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.70 - 1.81 (m, 4 H), 3.99 - 4.03 (m, 4 H), 5.77 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.93 (dd, 1 H, J = 1.5 H, 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.21 (d, 2 H, J = 13.2 Hz), 7.30 (dt, 1 H, J = 1.5 H, 8.8 Hz), 7.40 (dt, 1 H, J = 1.5 H, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3413, 2927, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C35H43N2O5S2 (M-Na)- 635.2614; found: 635.2609.
実施例１９（１９ｂ）で得られたナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（１−ノニル−１Ｈ−ピラゾ−ル−４−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０７０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２８ｍｇ，０．７０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.29 (brs, 12 H), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.70 - 1.81 (m, 4 H), 3.99 - 4.03 (m, 4 H), 5.77 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.93 (dd, 1 H, J = 1.5 H, 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.21 (d, 2 H, J = 13.2 Hz), 7.30 (dt, 1 H, J = 1.5 H, 8.8 Hz), 7.40 (dt, 1 H, J = 1.5 H, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3413, 2927, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C35H43N2O5S2 (M-Na)- 635.2614; found: 635.2609.
（実施例２０）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２０ａ）２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エタノール
２−［４−（２−ヒドロキシ−エチル）−フェニル］エタノール（０．１２ｇ，０．７１ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロミド（０．２３ｇ，０．９２ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（４７ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８１ｍｇ，３４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.84 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 2.90 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.67 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.45 (s, 2 H), 7.11 - 7.21 (m, 6 H), 7.39 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3385, 2862, 1109 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H19 79BrO2 (M)+ 334.0568; found: 334.0572
（２０ａ）２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エタノール
２−［４−（２−ヒドロキシ−エチル）−フェニル］エタノール（０．１２ｇ，０．７１ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロミド（０．２３ｇ，０．９２ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（４７ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８１ｍｇ，３４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.84 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 2.90 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.67 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.45 (s, 2 H), 7.11 - 7.21 (m, 6 H), 7.39 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3385, 2862, 1109 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H19 79BrO2 (M)+ 334.0568; found: 334.0572
（２０ｂ）２−［２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例２０（２０ａ）で得られた２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エタノール（８０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（３ｍＬ）に溶解した後、０℃で３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（３３μＬ、０．３６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（７１ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.41 - 1.51 (m, 5 H), 1.67 - 1.70 (m, 1 H), 1.73 - 1.83 (m, 1 H), 2.92 - 2.87 (m, 4 H), 3.44 - 3.47 (m, 1 H), 3.58 - 3.64 (m, 1 H), 3.67 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.78 (dt, 1 H, J = 3.7 Hz, 8.1 Hz), 4.48 (s, 1 H), 4.59 - 4.61 (m, 1 H), 7.13 - 7.21 (m, 6 H), 7.38 - 7.41 (m, 1 H), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2942, 1120 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H27 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1079.
実施例２０（２０ａ）で得られた２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エタノール（８０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（３ｍＬ）に溶解した後、０℃で３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（３３μＬ、０．３６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（７１ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.41 - 1.51 (m, 5 H), 1.67 - 1.70 (m, 1 H), 1.73 - 1.83 (m, 1 H), 2.92 - 2.87 (m, 4 H), 3.44 - 3.47 (m, 1 H), 3.58 - 3.64 (m, 1 H), 3.67 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.78 (dt, 1 H, J = 3.7 Hz, 8.1 Hz), 4.48 (s, 1 H), 4.59 - 4.61 (m, 1 H), 7.13 - 7.21 (m, 6 H), 7.38 - 7.41 (m, 1 H), 7.44 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2942, 1120 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H27 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1079.
（２０ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−［２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２０（２０ｂ）で得られた２−［２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（７１ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１３ｍＬ，０．２１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５９ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４５ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.48 - 1.54 (brs, 6 H), 1.66 - 1.70 (m, 1 H), 1.78 - 1.83 (m, 3 H), 2.81 - 2.83 (m, 2 H), 2.87 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.42 - 3.44 (m, 1 H), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 3.64 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.74 - 3.78 (m, 1 H), 3.91 (q, 1 H, J = 7.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.43 (s, 2 H), 4.57 (d, 1 H, J = 3.6 Hz), 5.50 (d, 1 H, J = 4.0 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (t, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.04 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.10 - 7.22 (m, 10 H), 7.25 - 7.29 (m, 3 H), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.76 (s, 1 H).
IR (KBr) 3413, 2937, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3172.
実施例２０（２０ｂ）で得られた２−［２−［４−［２−（３−ブロモベンジルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（７１ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１３ｍＬ，０．２１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５９ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４５ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.48 - 1.54 (brs, 6 H), 1.66 - 1.70 (m, 1 H), 1.78 - 1.83 (m, 3 H), 2.81 - 2.83 (m, 2 H), 2.87 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.42 - 3.44 (m, 1 H), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 3.64 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.74 - 3.78 (m, 1 H), 3.91 (q, 1 H, J = 7.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.43 (s, 2 H), 4.57 (d, 1 H, J = 3.6 Hz), 5.50 (d, 1 H, J = 4.0 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (t, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.04 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.10 - 7.22 (m, 10 H), 7.25 - 7.29 (m, 3 H), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.76 (s, 1 H).
IR (KBr) 3413, 2937, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3172.
（２０ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２０（２０ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−［２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５５ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）加え，室温で１時間半攪拌した。反応終了後，減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：1）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.96 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.44 - 1.51 (m, 2 H), 1.73 - 1.78 (m, 2 H), 2.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 2.83 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.60 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.41 (s, 2 H), 5.45 (s, 1 H), 6.82 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.99 - 7.01 (m, 2 H), 7.06 - 7.25 (m, 13 H), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3389, 2933, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2582; found: 797.2576.
実施例２０（２０ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−［２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エチル］フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５５ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）加え，室温で１時間半攪拌した。反応終了後，減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：1）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.96 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.44 - 1.51 (m, 2 H), 1.73 - 1.78 (m, 2 H), 2.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 2.83 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.60 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.76 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.41 (s, 2 H), 5.45 (s, 1 H), 6.82 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.99 - 7.01 (m, 2 H), 7.06 - 7.25 (m, 13 H), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.35 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3389, 2933, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2582; found: 797.2576.
（２０ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２０（２０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４２ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２２ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.98 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.54 (m, 2 H), 1.73 - 1.79 (m, 2 H), 2.74 - 2.79 (m, 4 H), 3.57 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.69 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 - 4.36 (m, 2 H), 5.81 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.93 (dd, 1 H, J = 1.1 Hz, 8.3 Hz), 6.97 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 6.99 - 7.01 (m, 1 H), 7.04 - 7.07 (m, 1 H), 7.08 (s, 3 H), 7.15 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.0 Hz, 7.6 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.52 (d, 3 H, J = 8.6 Hz), 7.96 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3420, 2933, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-H)- 697.2294; found: 697.2338.
実施例２０（２０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［２−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］エトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４２ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２２ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.98 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.54 (m, 2 H), 1.73 - 1.79 (m, 2 H), 2.74 - 2.79 (m, 4 H), 3.57 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.69 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.41 - 4.36 (m, 2 H), 5.81 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.93 (dd, 1 H, J = 1.1 Hz, 8.3 Hz), 6.97 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 6.99 - 7.01 (m, 1 H), 7.04 - 7.07 (m, 1 H), 7.08 (s, 3 H), 7.15 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.0 Hz, 7.6 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.52 (d, 3 H, J = 8.6 Hz), 7.96 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3420, 2933, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-H)- 697.2294; found: 697.2338.
（実施例２１）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシブチル）フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２１ａ）３−（４−ヒドロキシブチル）フェノール
４−（４−メトキシフェニル）−１−ブタノール（２．０ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）を無水メチレンクロリド（１５ｍＬ） に溶解した後、三臭化ほう素（２２ｍＬ，２２．２ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、室温で１時間攪拌した。氷冷下で反応溶液を水（３０ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３−１：１)により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.58 - 1.67 (m, 4 H), 2.57 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.65 - 3.68 (m, 2 H), 3.66 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.74 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.04 (d, 2 H, J = 8.8 Hz).
IR (KBr) 3407, 2939, 1517, 1255 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C10H14O2 (M)+ 166.0994; found: 166.0994.
（２１ａ）３−（４−ヒドロキシブチル）フェノール
４−（４−メトキシフェニル）−１−ブタノール（２．０ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）を無水メチレンクロリド（１５ｍＬ） に溶解した後、三臭化ほう素（２２ｍＬ，２２．２ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、室温で１時間攪拌した。氷冷下で反応溶液を水（３０ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３−１：１)により精製を行い、標記目的化合物（１．５ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.58 - 1.67 (m, 4 H), 2.57 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.65 - 3.68 (m, 2 H), 3.66 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.74 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.04 (d, 2 H, J = 8.8 Hz).
IR (KBr) 3407, 2939, 1517, 1255 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C10H14O2 (M)+ 166.0994; found: 166.0994.
（２１ｂ）３−［４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ブチル］フェノール
実施例２１（２１ａ）で得られた３−（４−ヒドロキシブチル）フェノール（５０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ） に溶解した後、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（４５ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、イミダゾール（３０ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，６３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.04 (d, 6 H, J = 1.7 Hz), 0.89 (d, 9 H, J = 1.7 Hz), 1.53 - 1.57 (m, 2 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 2.55 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.62 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.74 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.4 Hz).
IR (Liquid film) 3351, 2931, 1515, 1256 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C16H28O2Si (M)+ 280.1859; found: 280.1849.
実施例２１（２１ａ）で得られた３−（４−ヒドロキシブチル）フェノール（５０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ） に溶解した後、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（４５ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、イミダゾール（３０ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（５３ｍｇ，６３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.04 (d, 6 H, J = 1.7 Hz), 0.89 (d, 9 H, J = 1.7 Hz), 1.53 - 1.57 (m, 2 H), 1.59 - 1.64 (m, 2 H), 2.55 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.62 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.74 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.4 Hz).
IR (Liquid film) 3351, 2931, 1515, 1256 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C16H28O2Si (M)+ 280.1859; found: 280.1849.
（２１ｃ）１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン
実施例２１（２１ｂ）で得られた３−［４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ブチル］フェノール（０．２７ｇ，０．９５ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロモド（０．３６ｇ，１．４ｍｍｏｌ）をアセトン（５ｍＬ） に溶解した後、炭酸カリウム（０．２６ｇ，１．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５)により精製を行い、標記目的化合物（０．２８ｇ，６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 6 H), 0.85 (s, 9 H), 1.46 - 1.53 (m, 2 H), 1.56 - 1.63 (m, 2 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.57 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.94 (s, 2 H), 6.82 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.18 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.29 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.54 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2930, 1511, 1242 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C23H32 79BrO2Si (M-H)+ 447.1355; found: 447.1338.
実施例２１（２１ｂ）で得られた３−［４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ブチル］フェノール（０．２７ｇ，０．９５ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロモド（０．３６ｇ，１．４ｍｍｏｌ）をアセトン（５ｍＬ） に溶解した後、炭酸カリウム（０．２６ｇ，１．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５)により精製を行い、標記目的化合物（０．２８ｇ，６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 6 H), 0.85 (s, 9 H), 1.46 - 1.53 (m, 2 H), 1.56 - 1.63 (m, 2 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.57 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.94 (s, 2 H), 6.82 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.18 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.29 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.54 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2930, 1511, 1242 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C23H32 79BrO2Si (M-H)+ 447.1355; found: 447.1338.
（２１ｄ）４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール
実施例２１（２１ｃ）で得られた１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン（０．１６ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．５３ｍＬ、０．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間１５分攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３−１：１）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.52 - 1.60 (m, 2 H), 1.62 - 1.69 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.63 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 4.98 (s, 2 H), 6.86 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.09 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.22 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.58 (s, 1 H).
IR (KBr) 3333, 2929, 1513, 1250 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H19 79BrO2 (M)+ 334.0569; found: 334.0566.
実施例２１（２１ｃ）で得られた１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン（０．１６ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．５３ｍＬ、０．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間１５分攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３−１：１）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.52 - 1.60 (m, 2 H), 1.62 - 1.69 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.63 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 4.98 (s, 2 H), 6.86 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.09 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.22 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.58 (s, 1 H).
IR (KBr) 3333, 2929, 1513, 1250 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H19 79BrO2 (M)+ 334.0569; found: 334.0566.
（２１ｅ）２−［４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例２１（２１ｄ）で得られた４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール（０．１２ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（１ｍＬ）に溶解した後、３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（５１μＬ、０．５６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（３２ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、粗精製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ，９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.49 - 1.60 (brs, 5 H), 1.61 - 1.74 (brs, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 1 H), 2.59 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.46 - 3.53 (m, 1 H), 3.73 - 3.36 (m, 1 H), 3.78 - 3.89 (m, 1 H), 4.55 - 4.57 (m, 1 H), 4.99 (s, 2 H), 6.87 (dd, 2 H, J = 2.8 Hz, 8.8 Hz), 7.10 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.22 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.44 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.59 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2941, 1511, 1239 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H21 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1032.
実施例２１（２１ｄ）で得られた４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール（０．１２ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（１ｍＬ）に溶解した後、３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（５１μＬ、０．５６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（３２ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、粗精製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ，９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.49 - 1.60 (brs, 5 H), 1.61 - 1.74 (brs, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 1 H), 2.59 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.46 - 3.53 (m, 1 H), 3.73 - 3.36 (m, 1 H), 3.78 - 3.89 (m, 1 H), 4.55 - 4.57 (m, 1 H), 4.99 (s, 2 H), 6.87 (dd, 2 H, J = 2.8 Hz, 8.8 Hz), 7.10 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.22 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.44 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.59 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2941, 1511, 1239 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H21 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1032.
（２１ｆ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ブチル］フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２１（２１ｅ）で得られた２−［４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１６ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２９ｍＬ，０．４６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ，３３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.71 (brs, 9 H), 1.78 - 1.95 (m, 4 H), 2.04 - 2.06 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.47 - 3.49 (m, 1 H), 3.73 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.87 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (s, 2 H), 4.95 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 3 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.18 - 7.29 (m, 7 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.43 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.75 (s, 1 H).
IR (KBr) 3407, 2938, 1510, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3164.
実施例２１（２１ｅ）で得られた２−［４−［３−（３−ブロモベンジルオキシ）フェニル］ブトキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１６ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２９ｍＬ，０．４６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ，０．２８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ，３３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.71 (brs, 9 H), 1.78 - 1.95 (m, 4 H), 2.04 - 2.06 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.47 - 3.49 (m, 1 H), 3.73 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.87 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (s, 2 H), 4.95 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 3 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.18 - 7.29 (m, 7 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.43 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.75 (s, 1 H).
IR (KBr) 3407, 2938, 1510, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3164.
（２１ｇ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシブチル）フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２１（２１ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ブチル］フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７９ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.68 (brs, 6 H), 1.77 - 1.81 (m, 2 H), 3.62 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.95 (s, 2 H), 5.50 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.06 (m, 2 H), 7.09 (d, 2 H, J = 6.6 Hz), 7.11 - 7.15 (m, 1 H), 7.19 (dd, 3 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.23 - 7.29 (m, 5 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.51 - 7.55 (m, 2 H), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3411, 2934, 1252 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2583; found: 797.2565.
実施例２１（２１ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ブチル］フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７９ｍｇ，０．０９２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.68 (brs, 6 H), 1.77 - 1.81 (m, 2 H), 3.62 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.95 (s, 2 H), 5.50 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.06 (m, 2 H), 7.09 (d, 2 H, J = 6.6 Hz), 7.11 - 7.15 (m, 1 H), 7.19 (dd, 3 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.23 - 7.29 (m, 5 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.51 - 7.55 (m, 2 H), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3411, 2934, 1252 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2583; found: 797.2565.
（２１ｈ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシブチル）フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２１（２１ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシブチル）フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２６ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.98 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.54 (brs, 4 H), 1.55 - 1.65 (m, 2 H), 1.72 - 1.79 (m, 2 H), 2.53 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.54 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.94 (s, 2 H), 5.84 (s, 1 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.80 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.84 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 9.5 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.05 (m, 4 H), 7.12 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.18 - 7.20 (m, 2 H), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.93 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3419, 2932, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-Na)- 697.2294; found: 697.2273.
実施例２１（２１ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシブチル）フェノキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２６ｍｇ，０．９２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.98 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.54 (brs, 4 H), 1.55 - 1.65 (m, 2 H), 1.72 - 1.79 (m, 2 H), 2.53 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.54 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.94 (s, 2 H), 5.84 (s, 1 H), 6.72 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.80 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.84 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 9.5 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.05 (m, 4 H), 7.12 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.18 - 7.20 (m, 2 H), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.93 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3419, 2932, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-Na)- 697.2294; found: 697.2273.
（実施例２２）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２２ａ）ｔ−ブチル（ジメチル）［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］シラン
３−［４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ブチル］フェノール（０．２６ｇ，０．９４ｍｍｏｌ）、３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１３ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、をメチレンクロライド（２ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（８１ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、粗精製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ，６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 6 H), 0.85 (s, 9 H), 1.47 - 1.64 (brs, 7 H), 1.78 - 1.81 (m, 2 H), 1.93 - 1.98 (m, 1 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.7 Hz), 3.52 - 3.55 (m, 1 H), 3.58 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 3.88 (dt, 1 H, J = 3.0 Hz, 12.7 Hz), 5.31 - 5.33 (m, 1 H), 8.52 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 8.49 (d, 2 H, J = 8.5 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1510, 1236, 1108 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C21H36 NaO3Si (M+Na)+ 387.2331; found: 387.2334.
（２２ａ）ｔ−ブチル（ジメチル）［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］シラン
３−［４−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ブチル］フェノール（０．２６ｇ，０．９４ｍｍｏｌ）、３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１３ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、をメチレンクロライド（２ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（８１ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。飽和重曹水（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し、粗精製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ，６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 6 H), 0.85 (s, 9 H), 1.47 - 1.64 (brs, 7 H), 1.78 - 1.81 (m, 2 H), 1.93 - 1.98 (m, 1 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.7 Hz), 3.52 - 3.55 (m, 1 H), 3.58 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 3.88 (dt, 1 H, J = 3.0 Hz, 12.7 Hz), 5.31 - 5.33 (m, 1 H), 8.52 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 8.49 (d, 2 H, J = 8.5 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1510, 1236, 1108 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C21H36 NaO3Si (M+Na)+ 387.2331; found: 387.2334.
（２２ｂ）４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール
実施例２２（２２ａ）で得られたｔ−ブチル（ジメチル）［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］シラン（０．１８ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．７４ｍＬ、０．７４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.52 - 1.73 (brs, 6 H), 1.81 - 1.88 (m, 2 H), 1.92 - 2.05 (m, 2 H), 2.56 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.55 - 3.56 (m, 1 H), 3.59 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.88 - 3.94 (m, 1 H), 5.36 (t, 1 H, J = 3.3 Hz), 6.95 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.6 Hz).
IR (Liquid film) 3392, 2940, 1510, 1235 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H22 O3 (M)+ 250.1569; found: 250.1577.
実施例２２（２２ａ）で得られたｔ−ブチル（ジメチル）［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］シラン（０．１８ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．７４ｍＬ、０．７４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.52 - 1.73 (brs, 6 H), 1.81 - 1.88 (m, 2 H), 1.92 - 2.05 (m, 2 H), 2.56 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.55 - 3.56 (m, 1 H), 3.59 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.88 - 3.94 (m, 1 H), 5.36 (t, 1 H, J = 3.3 Hz), 6.95 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.6 Hz).
IR (Liquid film) 3392, 2940, 1510, 1235 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H22 O3 (M)+ 250.1569; found: 250.1577.
（２２ｃ）２−［４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）ブチル］フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例２２（２２ａ）で得られた４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール（０．１１ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロミド（０．１７ｇ，０．６８ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（４０ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.56 - 1.71 (brs, 7 H), 1.82 - 1.88 (m, 2 H), 1.95 - 2.04 (m, 1 H), 2.57 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 3.47 (t, 3 H, J = 5.3 Hz), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 4.44 (s, 2 H), 5.37 (t, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.19 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.23 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.39 (d, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.48 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2941, 1509, 1235 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H27 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1065.
実施例２２（２２ａ）で得られた４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブタン−１−オール（０．１１ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）、３−ブロモベンジルブロミド（０．１７ｇ，０．６８ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（４０ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８０ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.56 - 1.71 (brs, 7 H), 1.82 - 1.88 (m, 2 H), 1.95 - 2.04 (m, 1 H), 2.57 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 3.47 (t, 3 H, J = 5.3 Hz), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 4.44 (s, 2 H), 5.37 (t, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.19 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.23 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.39 (d, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.48 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2941, 1509, 1235 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C22H27 79BrNaO3 (M+Na)+ 441.1041; found: 441.1065.
（２２ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２２（２２ｃ）で得られた２−［４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）ブチル］フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（７９ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１５ｍＬ，０．２３ｍｍｏｌ）、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７５ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ，２４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.71 (brs, 9 H), 1.78 - 1.95 (m, 4 H), 2.04 - 2.06 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.47 - 3.49 (m, 1 H), 3.73 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.87 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (s, 2 H), 4.95 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 3 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.18 - 7.29 (m, 7 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.43 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.75 (s, 1 H).
IR (KBr) 3421, 2931, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3198.
実施例２２（２２ｃ）で得られた２−［４−［４−（３−ブロモベンジルオキシ）ブチル］フェノキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（７９ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１５ｍＬ，０．２３ｍｍｏｌ）、実施例１９（１９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７５ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ，２４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.71 (brs, 9 H), 1.78 - 1.95 (m, 4 H), 2.04 - 2.06 (m, 2 H), 2.58 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.37 - 3.42 (m, 1 H), 3.47 - 3.49 (m, 1 H), 3.73 - 3.76 (m, 1 H), 3.83 - 3.87 (m, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (s, 2 H), 4.95 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.85 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 3 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.18 - 7.29 (m, 7 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.43 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.75 (s, 1 H).
IR (KBr) 3421, 2931, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H54NaO8S2 (M+Na)+ 881.3158; found: 881.3198.
（２２ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２２（２２ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２９ｍｇ，０．０３４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（１９ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.48 - 1.65 (brs, 6 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.0 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.40 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.70 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 6.7 Hz), 6.98 - 7.04 (m, 6 H), 7.16 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.19 - 7.22 (m, 5 H), 7.25 - 7.28 (m, 3 H), 7.31 (t, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (Liquid film) 3378, 2934, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2582; found: 797.2598.
実施例２２（２２ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−［４−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）フェニル］ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２９ｍｇ，０．０３４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（触媒量）を用い、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（１９ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.48 - 1.65 (brs, 6 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.52 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.0 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.40 (s, 2 H), 5.51 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.70 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 6.7 Hz), 6.98 - 7.04 (m, 6 H), 7.16 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.19 - 7.22 (m, 5 H), 7.25 - 7.28 (m, 3 H), 7.31 (t, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.40 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (Liquid film) 3378, 2934, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H46NaO7S2 (M+Na)+ 797.2582; found: 797.2598.
（２２ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２２（２２ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１９ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.58 (brs, 4 H), 1.73 - 1.80 (m, 2 H), 2.46 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.37 (d, 2 H, J = 3.7 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.66 (d, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.94 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.96 - 7.00 (m, 4 H), 7.04 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.10 - 7.22 (m, 6 H), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.31 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.52 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.95 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3377, 2927, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-Na)- 697.2294; found: 697.2323.
実施例２２（２２ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−［［４−（４−ヒドロキシフェニル）ブトキシ］メチル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１９ｍｇ，０．０２５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.58 (brs, 4 H), 1.73 - 1.80 (m, 2 H), 2.46 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.37 (d, 2 H, J = 3.7 Hz), 5.84 (s, 1 H), 6.66 (d, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.94 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.96 - 7.00 (m, 4 H), 7.04 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.10 - 7.22 (m, 6 H), 7.26 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.31 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.52 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.95 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3377, 2927, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H41O7S2 (M-Na)- 697.2294; found: 697.2323.
（実施例２３）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２３ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３−ブロモベンジルオキシ）（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．１２ｇ，０．３９ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (t, 6 H, J = 2.9 Hz), 0.85 (t, 9 H, J = 2.9 Hz,), 0.96 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.45 - 1.54 (m, 2 H), 1.73 - 1.79 (m, 2 H), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.62 (s, 2 H), 5.46 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.84 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.98 - 7.01 (m, 2 H), 7.09 - 7.18 (m, 6 H), 7.22 (t, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.37 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3421, 2930, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C42H48NaO6S2Si (M+Na)+ 763.2559; found: 763.2546.
（２３ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３−ブロモベンジルオキシ）（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．１２ｇ，０．３９ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２４ｍＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（５１ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (t, 6 H, J = 2.9 Hz), 0.85 (t, 9 H, J = 2.9 Hz,), 0.96 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.45 - 1.54 (m, 2 H), 1.73 - 1.79 (m, 2 H), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.62 (s, 2 H), 5.46 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.84 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.98 - 7.01 (m, 2 H), 7.09 - 7.18 (m, 6 H), 7.22 (t, 3 H, J = 8.1 Hz), 7.28 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.37 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3421, 2930, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C42H48NaO6S2Si (M+Na)+ 763.2559; found: 763.2546.
（２３ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２３（２３ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０６７ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１０ｍＬ、０．１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ，８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.58 (s, 2 H), 5.53 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.91 - 6.93 (m, 1 H), 6.97 (s, 1 H), 7.01 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.17 - 7.22 (m, 6 H), 7.26 - 7.30 (m, 3 H), 7.37 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.53 - 7.57 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3377, 2960, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H34NaO6S2 (M+Na)+ 649.1694; found: 649.1683.
実施例２３（２３ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５０ｍｇ，０．０６７ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１０ｍＬ、０．１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ，８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.49 - 1.55 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.58 (s, 2 H), 5.53 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.91 - 6.93 (m, 1 H), 6.97 (s, 1 H), 7.01 (d, 3 H, J = 8.8 Hz), 7.17 - 7.22 (m, 6 H), 7.26 - 7.30 (m, 3 H), 7.37 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.53 - 7.57 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3377, 2960, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H34NaO6S2 (M+Na)+ 649.1694; found: 649.1683.
（２３ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２３（２３ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３６ｍｇ，０．０５８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２３ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１８ｍｇ，５４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.95 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.45 - 1.50 (m, 2 H), 1.70 - 1.75 (m, 2 H), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.95 - 7.00 (m, 5 H), 7.09 - 7.11 (m, 2 H), 7.13 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.23 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.29 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.49 - 7.52 (m, 3 H), 7.84 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3417, 2929, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C30H29O6S2 (M-Na)- 549.1405; found: 549.1420.
実施例２３（２３ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［３−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３６ｍｇ，０．０５８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２３ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１８ｍｇ，５４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.95 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.45 - 1.50 (m, 2 H), 1.70 - 1.75 (m, 2 H), 3.98 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 5.78 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.95 - 7.00 (m, 5 H), 7.09 - 7.11 (m, 2 H), 7.13 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.23 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.29 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.49 - 7.52 (m, 3 H), 7.84 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3417, 2929, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C30H29O6S2 (M-Na)- 549.1405; found: 549.1420.
（実施例２４）テトラブチルアンモニウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（１，８−ジヒドロキシオクチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２４ａ）フェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１、８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（３−ブロモフェニル）オクタン（５０ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （５９μＬ，０．０９４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１５ｍｇ，３２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (d, 3 H, J = 4.4 Hz), 0.21 (d, 3 H, J = 3.7 Hz,), 0.30 (s, 6 H), 0.99 (d, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.03 (s, 6 H), 1.12 (s, 4 H), 1.15 (s, 4 H), 1.19 (s, 10 H), 1.26 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.51 (brs, 8 H), 1.71 - 1.88 (m, 6 H), 2.05 - 2.92 (m, 2 H), 3.84 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.28 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.81 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 5.76 (t, 1 H, J = 3.7 Hz), 7.03 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.19 - 7.15 (m, 2 H), 7.26 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.30 - 7.34 (m, 1 H), 7.45 - 7.39 (m, 3 H), 7.46 - 7.56 (m, 7 H), 7.58 - 7.65 (m, 1 H), 7.81 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.07 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.13 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C55H76O7S2Si2 (M)+ 968.4571; found: 968.4577.
（２４ａ）フェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１、８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（３−ブロモフェニル）オクタン（５０ｍｇ，０．０９４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （５９μＬ，０．０９４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（１５ｍｇ，３２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (d, 3 H, J = 4.4 Hz), 0.21 (d, 3 H, J = 3.7 Hz,), 0.30 (s, 6 H), 0.99 (d, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.03 (s, 6 H), 1.12 (s, 4 H), 1.15 (s, 4 H), 1.19 (s, 10 H), 1.26 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.50 - 1.51 (brs, 8 H), 1.71 - 1.88 (m, 6 H), 2.05 - 2.92 (m, 2 H), 3.84 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.28 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.81 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 5.76 (t, 1 H, J = 3.7 Hz), 7.03 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.19 - 7.15 (m, 2 H), 7.26 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.30 - 7.34 (m, 1 H), 7.45 - 7.39 (m, 3 H), 7.46 - 7.56 (m, 7 H), 7.58 - 7.65 (m, 1 H), 7.81 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.07 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.13 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C55H76O7S2Si2 (M)+ 968.4571; found: 968.4577.
（２４ｂ）テトラブチルアンモニウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（１，８−ジヒドロキシオクチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２４（２４ａ）で得られたフェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１６ｍＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６．７ｍｇ，１５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.02 (t, 12 H, J = 7.3 Hz), 1.22 - 1.36 (brs, 8 H), 1.40 (q, 6 H, J = 7.3 Hz), 1.46 - 1.57 (m, 6 H), 1.62 - 1.75 (m, 6 H), 1.76 - 1.80 (m, 2 H), 3.21 - 3.31 (m, 6 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.46 - 4.50 (m, 1 H), 5.82 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.98 - 7.02 (m, 5 H), 7.12 - 7.20 (m, 3 H), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.9 Hz), 7.32 - 7.36 (m, 1 H), 7.53 - 7.58 (m, 3 H), 7.87 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
実施例２４（２４ａ）で得られたフェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１６ｍＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６．７ｍｇ，１５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.02 (t, 12 H, J = 7.3 Hz), 1.22 - 1.36 (brs, 8 H), 1.40 (q, 6 H, J = 7.3 Hz), 1.46 - 1.57 (m, 6 H), 1.62 - 1.75 (m, 6 H), 1.76 - 1.80 (m, 2 H), 3.21 - 3.31 (m, 6 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.46 - 4.50 (m, 1 H), 5.82 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.98 - 7.02 (m, 5 H), 7.12 - 7.20 (m, 3 H), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.9 Hz), 7.32 - 7.36 (m, 1 H), 7.53 - 7.58 (m, 3 H), 7.87 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
（実施例２５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２５ａ）フェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（４−ブロモチエン−２−イル）オクタン（０．１７ｇ，０．３１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１６ｍＬ，０．２６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８７ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（９１ｍｇ，５４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.03 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 0.15 - 0.19 (m, 9 H), 1.00 (s, 9 H), 1.05 (s, 9 H), 1.16 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.31 - 1.56 (brs, 8 H), 1.61 - 1.71 (m, 4 H), 1.72 - 1.87 (m, 1 H), 1.93 - 1.99 (m, 2 H), 2.15 (t, 0.5 H, J = 4.4 Hz), 2.35 (t, 0.5 H, J = 4.4 Hz), 3.74 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.17 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 4.90 - 4.96 (m, 1 H), 5.59 (s, 0.5 Hz), 5.77 (t, 0.5 H, J = 5.1 Hz), 6.51 (dd, 0.5 Hz, J = 3.7 Hz, 14.7 Hz), 6.64 (d, 0.5 Hz, J = 13.9 Hz), 6.76 (dd, 0.5 Hz, J = 3.7 Hz, 5.1 Hz), 6.85 (s, 0.5 H), 7.01 - 7.05 (m, 1 H), 7.16 (dd, 1.5 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.20 (d, 1.5 H, J = 7.3 Hz), 7.31 - 7.38 (m, 4 H), 7.41 - 7.56 (m, 4 H), 7.61 (d, 0.5 H, J = 7.3 Hz), 7.64 (d, 0.5 Hz, J = 7.3 Hz), 7.70 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.93 (dd, 0.5 H, J = 2.0 Hz, 5.1 Hz), 7.97 (dd, 0.5 H, J = 2.0 Hz, 5.1 Hz).
（２５ａ）フェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（４−ブロモチエン−２−イル）オクタン（０．１７ｇ，０．３１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１６ｍＬ，０．２６ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８７ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（９１ｍｇ，５４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.03 (d, 3 H, J = 8.1 Hz), 0.15 - 0.19 (m, 9 H), 1.00 (s, 9 H), 1.05 (s, 9 H), 1.16 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.31 - 1.56 (brs, 8 H), 1.61 - 1.71 (m, 4 H), 1.72 - 1.87 (m, 1 H), 1.93 - 1.99 (m, 2 H), 2.15 (t, 0.5 H, J = 4.4 Hz), 2.35 (t, 0.5 H, J = 4.4 Hz), 3.74 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.17 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 4.90 - 4.96 (m, 1 H), 5.59 (s, 0.5 Hz), 5.77 (t, 0.5 H, J = 5.1 Hz), 6.51 (dd, 0.5 Hz, J = 3.7 Hz, 14.7 Hz), 6.64 (d, 0.5 Hz, J = 13.9 Hz), 6.76 (dd, 0.5 Hz, J = 3.7 Hz, 5.1 Hz), 6.85 (s, 0.5 H), 7.01 - 7.05 (m, 1 H), 7.16 (dd, 1.5 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.20 (d, 1.5 H, J = 7.3 Hz), 7.31 - 7.38 (m, 4 H), 7.41 - 7.56 (m, 4 H), 7.61 (d, 0.5 H, J = 7.3 Hz), 7.64 (d, 0.5 Hz, J = 7.3 Hz), 7.70 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.93 (dd, 0.5 H, J = 2.0 Hz, 5.1 Hz), 7.97 (dd, 0.5 H, J = 2.0 Hz, 5.1 Hz).
（２５ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２５（２５ａ）で得られたフェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．２８ｍＬ、０．２８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ，３６％）を得た。
IR (KBr) 3376, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO7S2 (M+Na)+ 769.2304; found: 769.2299.
実施例２５（２５ａ）で得られたフェニル ２’−［［３−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．２８ｍＬ、０．２８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ，３６％）を得た。
IR (KBr) 3376, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H46NaO7S2 (M+Na)+ 769.2304; found: 769.2299.
（２５ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２５（２５ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２５ｍｇ，０．０３３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１３ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（８．８ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.39 (brs, 8 H), 1.46 - 1.57 (m, 4 H), 1.62 - 1.82 (m, 4 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.83 - 4.85 (m, 1 H), 5.76 (s, 0.5 H), 5.91 (s, 0.5 Hz), 6.42 (dd, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz, 8.4 Hz), 6.62 - 6.63 (m, 0.5 Hz), 6.68 (d, 0.5 H, J = 3.2 Hz), 6.73 - 6.75 (m, 0.5 H), 6.76 (dd, 0.5 Hz, J = 3.2 Hz, 8.3 Hz), 6.83 (d, 0.5 Hz, J = 8.4 Hz), 6.97 - 7.02 (m, 3 H), 7.14 - 7.17 (m, 1 H), 7.28 - 7.32 (m, 1 H), 7.33 - 7.39 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.61 (t, 0.5 H, J = 7.3 Hz), 7.70 - 7.73 (m, 0.5 Hz), 7.85 - 7.87 (m, 0.5 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3408, 2931, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C35H41O7S3 (M-Na)- 669.2014; found: 669.2019.
実施例２５（２５ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）チエン−３−イル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２５ｍｇ，０．０３３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１３ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（８．８ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.39 (brs, 8 H), 1.46 - 1.57 (m, 4 H), 1.62 - 1.82 (m, 4 H), 3.51 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.83 - 4.85 (m, 1 H), 5.76 (s, 0.5 H), 5.91 (s, 0.5 Hz), 6.42 (dd, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz, 8.4 Hz), 6.62 - 6.63 (m, 0.5 Hz), 6.68 (d, 0.5 H, J = 3.2 Hz), 6.73 - 6.75 (m, 0.5 H), 6.76 (dd, 0.5 Hz, J = 3.2 Hz, 8.3 Hz), 6.83 (d, 0.5 Hz, J = 8.4 Hz), 6.97 - 7.02 (m, 3 H), 7.14 - 7.17 (m, 1 H), 7.28 - 7.32 (m, 1 H), 7.33 - 7.39 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.61 (t, 0.5 H, J = 7.3 Hz), 7.70 - 7.73 (m, 0.5 Hz), 7.85 - 7.87 (m, 0.5 Hz), 7.90 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3408, 2931, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C35H41O7S3 (M-Na)- 669.2014; found: 669.2019.
（実施例２６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２６ａ）フェニル ２’−［［５−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）オクタン（５２ｍｇ，０．９３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （５８μＬ，０．９３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.04 (d, 3 H, J = 19.1 Hz), 0.23 (d, 9 H, J =19.8 Hz), 1.04 (s, 9 H), 1.11 (s, 9 H), 1.22 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.51 (brs, 8 H), 1.69 - 1.78 (m, 6 H), 1.99 - 2.04 (m, 1 H), 3.74 (s, 1.5 H), 3.75 (s, 0.5 H), 3.80 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.24 (dt, 2 H, J = 1.0 Hz, 7.5 Hz), 4.33 (q, 1 H, J = 7.1 Hz), 4.78 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 5.96 (d, 0.5 H, J = 4.1 Hz), 5.98 (d, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 6.89 (d, 0.5 H, J = 6.1 Hz), 6.90 (d, 0.5 H, J = 6.1 Hz), 7.10 (d, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz), 7.12 (d, 0.5 H, J = 3.6 Hz), 7.22 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.28 - 7.44 (m, 6 H), 7.45 - 7.54 (m, 6 H), 7.76 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 8.04 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 8.09 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C56H78NaO8S2Si2 (M+Na)+ 1021.4574; found: 1021.4603.
（２６ａ）フェニル ２’−［［５−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（３−ブロモ−４−メトキシフェニル）オクタン（５２ｍｇ，０．９３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （５８μＬ，０．９３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２４ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（３２ｍｇ，６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.04 (d, 3 H, J = 19.1 Hz), 0.23 (d, 9 H, J =19.8 Hz), 1.04 (s, 9 H), 1.11 (s, 9 H), 1.22 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.51 (brs, 8 H), 1.69 - 1.78 (m, 6 H), 1.99 - 2.04 (m, 1 H), 3.74 (s, 1.5 H), 3.75 (s, 0.5 H), 3.80 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.24 (dt, 2 H, J = 1.0 Hz, 7.5 Hz), 4.33 (q, 1 H, J = 7.1 Hz), 4.78 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 5.96 (d, 0.5 H, J = 4.1 Hz), 5.98 (d, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 6.89 (d, 0.5 H, J = 6.1 Hz), 6.90 (d, 0.5 H, J = 6.1 Hz), 7.10 (d, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz), 7.12 (d, 0.5 H, J = 3.6 Hz), 7.22 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.28 - 7.44 (m, 6 H), 7.45 - 7.54 (m, 6 H), 7.76 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 8.04 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 8.09 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 2931, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C56H78NaO8S2Si2 (M+Na)+ 1021.4574; found: 1021.4603.
（２６ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２６（２６ａ）で得られたフェニル ２’−［［５−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８４ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．２５ｍＬ、０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（１８ｍｇ，２８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.36 - 1.45 (brs, 8 H), 1.50 - 1.55 (m, 6 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 3.54 (s, 1.5 H), 3.55 (s, 1.5 H), 3.60 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 5.78 (s, 0.5 H), 5.79 (s, 0.5 H), 6.69 (d, 0.5 H, J = 6.2 Hz), 6.72 (d, 0.5 Hz, J = 5.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.03 (m, 1 H), 7.14 - 7.19 (m, 5 H), 7.22 - 7.25 (m, 2 H), 7.28 - 7.34 (m, 3 H), 7.40 - 7.43 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.68 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.70 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3386, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO8S2 (M+Na)+ 793.2845; found: 793.2869 .
実施例２６（２６ａ）で得られたフェニル ２’−［［５−［１，８−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）オクチル］−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８４ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．２５ｍＬ、０．２５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（１８ｍｇ，２８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.36 - 1.45 (brs, 8 H), 1.50 - 1.55 (m, 6 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 3.54 (s, 1.5 H), 3.55 (s, 1.5 H), 3.60 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.56 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 5.78 (s, 0.5 H), 5.79 (s, 0.5 H), 6.69 (d, 0.5 H, J = 6.2 Hz), 6.72 (d, 0.5 Hz, J = 5.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.03 (m, 1 H), 7.14 - 7.19 (m, 5 H), 7.22 - 7.25 (m, 2 H), 7.28 - 7.34 (m, 3 H), 7.40 - 7.43 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.68 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.70 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3386, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO8S2 (M+Na)+ 793.2845; found: 793.2869 .
（２６ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２６（２６ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１８ｍｇ，０．０２３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（９．２ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．３ｍｇ，２０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.19 - 1.29 (brs, 8 H), 1.48 - 1.58 (m, 4 H), 1.65 - 1.90 (m, 4 H), 3.48 - 3.53 (m, 5 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.51 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 6.06 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.42 (dd, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz, 8.4 Hz), 6.62 - 6.63 (m, 0.5 Hz), 6.68 (d, 0.5 H, J = 3.2 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.08 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.22 - 7.26 (m, 2 H), 7.36 - 7.37 (m, 1 H), 7.43 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.9 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.97 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 2.9 Hz).
IR (KBr) 3409, 2930, 1245 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O8S2 (M-Na)- 693.2556; found: 693.2540.
実施例２６（２６ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（１，８−ジヒドロキシオクチル）−２−メトキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１８ｍｇ，０．０２３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（９．２ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．３ｍｇ，２０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.19 - 1.29 (brs, 8 H), 1.48 - 1.58 (m, 4 H), 1.65 - 1.90 (m, 4 H), 3.48 - 3.53 (m, 5 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.51 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 6.06 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 3.7 Hz), 6.42 (dd, 0.5 Hz, J = 3.6 Hz, 8.4 Hz), 6.62 - 6.63 (m, 0.5 Hz), 6.68 (d, 0.5 H, J = 3.2 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.08 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.22 - 7.26 (m, 2 H), 7.36 - 7.37 (m, 1 H), 7.43 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.9 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.97 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 2.9 Hz).
IR (KBr) 3409, 2930, 1245 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O8S2 (M-Na)- 693.2556; found: 693.2540.
（実施例２７）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（６−ノニルピリジン−２−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２７ａ）１−（６−ブロモピリジン−２−イル）ノナン−１−オール
２，６−ジブロモピリジン（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（３．５ｍＬ、５．５ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌した。ついでノニルアルデヒド（０．９０ｍＬ、５．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．４５ｇ、収率３０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.26 (brs, 10 H), 1.36 - 1.47 (m, 2 H), 1.63 - 1.74 (m, 1 H), 1.74 - 1.85 (m, 1 H), 3.26 (d, 1 H, J = 6.0 Hz), 4.67 - 4.73 (m, 1 H), 7.25 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.54 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1583, 1557, 1435, 1407 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H22 79BrNO (M)+ 299.0885; found: 299.0879.
（２７ａ）１−（６−ブロモピリジン−２−イル）ノナン−１−オール
２，６−ジブロモピリジン（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（３．５ｍＬ、５．５ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌した。ついでノニルアルデヒド（０．９０ｍＬ、５．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、さらに１時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．４５ｇ、収率３０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.26 (brs, 10 H), 1.36 - 1.47 (m, 2 H), 1.63 - 1.74 (m, 1 H), 1.74 - 1.85 (m, 1 H), 3.26 (d, 1 H, J = 6.0 Hz), 4.67 - 4.73 (m, 1 H), 7.25 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.38 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.54 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1583, 1557, 1435, 1407 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H22 79BrNO (M)+ 299.0885; found: 299.0879.
（２７ｂ）２−ブロモ−６−（１−ブロモノニル）ピリジン
実施例２７（２７ａ）で得られた１−（６−ブロモピリジン−２−イル）ノナン−１−オール（０．４５ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリフェニルホスフィン（０．５５ｇ、２．１ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（０．３５ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。さらに室温で１時間攪拌した後、ヘキサン（３０ｍＬ）を加え、セライトろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４３ｇ、収率７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.20 - 1.39 (m, 10 H), 1.43 - 1.57 (m, 2 H), 2.15 - 2.29 (m, 2 H), 4.95 (dd, 1 H, J = 6.7 Hz, 8.2 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.55 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 1580, 1557, 1434, 1409 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 361 (M)+.
実施例２７（２７ａ）で得られた１−（６−ブロモピリジン−２−イル）ノナン−１−オール（０．４５ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリフェニルホスフィン（０．５５ｇ、２．１ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（０．３５ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。さらに室温で１時間攪拌した後、ヘキサン（３０ｍＬ）を加え、セライトろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４３ｇ、収率７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.20 - 1.39 (m, 10 H), 1.43 - 1.57 (m, 2 H), 2.15 - 2.29 (m, 2 H), 4.95 (dd, 1 H, J = 6.7 Hz, 8.2 Hz), 7.39 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.55 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 1580, 1557, 1434, 1409 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 361 (M)+.
（２７ｃ）２−ブロモ−６−ノニルピリジン
実施例２７（２７ｂ）で得られた２−ブロモ−６−（１−ブロモノニル）ピリジン（０．４３ｇ、１．２ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（３ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（０．２７ｇ、７．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．３３ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.19 - 1.40 (m, 12 H), 1.63 - 1.77 (m, 2 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.29 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.44 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 1583, 1555, 1435, 1405 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H22 79BrN (M)+ 283.0936; found: 283.0934.
実施例２７（２７ｂ）で得られた２−ブロモ−６−（１−ブロモノニル）ピリジン（０．４３ｇ、１．２ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（３ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（０．２７ｇ、７．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．３３ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.19 - 1.40 (m, 12 H), 1.63 - 1.77 (m, 2 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.29 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.44 (t, 1 H, J = 7.7 Hz).
IR (Thin film) 1583, 1555, 1435, 1405 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H22 79BrN (M)+ 283.0936; found: 283.0934.
（２７ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（６−ノニルピリジン−２−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２７（２７ｃ）で得られた２−ブロモ−６−ノニルピリジン（５１ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（７３ｍｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.40 (m, 12 H), 1.47 - 1.60 (m, 2 H), 1.68 - 1.86 (m, 4 H), 2.77 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.42 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 5.78 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 6.44 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.93 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 - 7.03 (m, 3 H), 7.05 - 7.15 (m, 4 H), 7.17 - 7.29 (m, 5 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.50 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.55 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 3359, 1593, 1489, 1458, 1388, 1369, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H50NO5S2 (M+H)+ 724.3130; found: 724.3121.
実施例２７（２７ｃ）で得られた２−ブロモ−６−ノニルピリジン（５１ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（７３ｍｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.40 (m, 12 H), 1.47 - 1.60 (m, 2 H), 1.68 - 1.86 (m, 4 H), 2.77 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.42 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 5.78 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 6.44 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.93 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 - 7.03 (m, 3 H), 7.05 - 7.15 (m, 4 H), 7.17 - 7.29 (m, 5 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.50 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.55 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 3359, 1593, 1489, 1458, 1388, 1369, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H50NO5S2 (M+H)+ 724.3130; found: 724.3121.
（２７ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（６−ノニルピリジン−２−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２７（２７ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（６−ノニルピリジン−２−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７３ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率６４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 (brs, 12 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.57 - 1.66 (m, 2 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 2.69 (t, 2 H, J = 7.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.82 (s, 1 H), 6.79 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.20 - 7.23 (m, 1 H), 7.26 - 7.35 (m, 4 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.60 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3398, 1593, 1575, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H44NO5S2 (M-Na)- 646.2661; found: 646.2665.
実施例２７（２７ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（６−ノニルピリジン−２−イル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７３ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（４３ｍｇ、収率６４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 (brs, 12 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.57 - 1.66 (m, 2 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 2.69 (t, 2 H, J = 7.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.82 (s, 1 H), 6.79 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 7.20 - 7.23 (m, 1 H), 7.26 - 7.35 (m, 4 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.60 (t, 1 H, J = 7.7 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3398, 1593, 1575, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H44NO5S2 (M-Na)- 646.2661; found: 646.2665.
（実施例２８）ナトリウム ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２８ａ）4−アリルオキシ−3−ブロモベンゾニトリル
3−ブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（１７．８ｇ、９０ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（９．３ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（９０ｍL）に溶解し、0℃に冷却した後、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（４．７ｇ、１０８ｍｍｏｌ）を加え、1時間撹拌した。室温に昇温した後、更に６時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍL）を加え反応を停止した。反応溶液を水（１００ｍL）に注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （２０．８ｇ，９７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.68 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.37 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 17.6 Hz), 6.04 (ddt, 1 H, J = 11.7 Hz, 17.6 Hz, 5.9 Hz), 6.92 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (dd, 1 H, J = 2.9 Hz, 8.8 Hz), 7.84 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 2228, 1596, 1493 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C10H8 79BrNO (M-Na)- 236.9789; found: 236.9796.
（２８ａ）4−アリルオキシ−3−ブロモベンゾニトリル
3−ブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（１７．８ｇ、９０ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（９．３ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（９０ｍL）に溶解し、0℃に冷却した後、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（４．７ｇ、１０８ｍｍｏｌ）を加え、1時間撹拌した。室温に昇温した後、更に６時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍL）を加え反応を停止した。反応溶液を水（１００ｍL）に注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （２０．８ｇ，９７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.68 (d, 2 H, J = 5.9 Hz), 5.37 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 17.6 Hz), 6.04 (ddt, 1 H, J = 11.7 Hz, 17.6 Hz, 5.9 Hz), 6.92 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (dd, 1 H, J = 2.9 Hz, 8.8 Hz), 7.84 (d, 1 H, J = 2.9 Hz).
IR (neat) 2228, 1596, 1493 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C10H8 79BrNO (M-Na)- 236.9789; found: 236.9796.
（２８ｂ）４−アリロキシ−３−ブロモベンズアルデヒド
実施例２８（２８ａ）で得られた3−ブロモ−４−アリロキシベンゾニトリル（１９．９ｇ、８４ｍｍｏｌ）をトルエン（８０ｍL）に溶解し、0℃に冷却した。１．０M水素化ジイソブチルアルミニウム（１００ｍL、１００ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し、2時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１８ｍL）をゆっくり滴下し、30分撹拌した。エーテル（１００ｍL）を加え、更に室温で1時間撹拌した後、生じた沈殿物をセライトろ過により除去し、ろ液を減圧下溶媒留去して粗製物を得た。得られた粗製物をテトラヒドロフラン５０ｍLに溶解し、２N塩酸水溶液（１００ｍL）を加え、室温で1時間撹拌した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （１９．５ｇ，９９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.72 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.37 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.52 (d, 1 H, J = 18.6 Hz), 6.08 (ddt, 1 H, J = 18.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 6.99 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.79 (dd, 1 H, J = 7.8 Hz, 2.0 Hz), 8.10 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 9.85 (s, 1 H).
実施例２８（２８ａ）で得られた3−ブロモ−４−アリロキシベンゾニトリル（１９．９ｇ、８４ｍｍｏｌ）をトルエン（８０ｍL）に溶解し、0℃に冷却した。１．０M水素化ジイソブチルアルミニウム（１００ｍL、１００ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し、2時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１８ｍL）をゆっくり滴下し、30分撹拌した。エーテル（１００ｍL）を加え、更に室温で1時間撹拌した後、生じた沈殿物をセライトろ過により除去し、ろ液を減圧下溶媒留去して粗製物を得た。得られた粗製物をテトラヒドロフラン５０ｍLに溶解し、２N塩酸水溶液（１００ｍL）を加え、室温で1時間撹拌した後、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （１９．５ｇ，９９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.72 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.37 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.52 (d, 1 H, J = 18.6 Hz), 6.08 (ddt, 1 H, J = 18.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 6.99 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.79 (dd, 1 H, J = 7.8 Hz, 2.0 Hz), 8.10 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 9.85 (s, 1 H).
（２８ｃ）（４−アリルオキシ−3−ブロモフェニル）メタノール
実施例２８（２８ｂ）で得られた3−ブロモ−４−アリロキシベンズアルデヒド（１９．５ｇ、８４ｍｍｏｌ）をメタノール（１００ｍL）に溶解し、0℃に冷却した後水素化ホウ素ナトリウム（３．２ｇ、８４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え1時間撹拌した。水１０ｍLを加え反応を停止した後、反応溶液中のメタノールを減圧下留去した。得られた残渣をエーテルに溶解し、水５０ｍLを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１９．９ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.61 (brs, 1 H), 4.61 (s, 2 H), 4.62 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.31 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.48 (d, 1 H, J = 17.6 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 10.7 Hz, 17.6 Hz, 4.9 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.23 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
実施例２８（２８ｂ）で得られた3−ブロモ−４−アリロキシベンズアルデヒド（１９．５ｇ、８４ｍｍｏｌ）をメタノール（１００ｍL）に溶解し、0℃に冷却した後水素化ホウ素ナトリウム（３．２ｇ、８４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え1時間撹拌した。水１０ｍLを加え反応を停止した後、反応溶液中のメタノールを減圧下留去した。得られた残渣をエーテルに溶解し、水５０ｍLを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物（１９．９ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.61 (brs, 1 H), 4.61 (s, 2 H), 4.62 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.31 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.48 (d, 1 H, J = 17.6 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 10.7 Hz, 17.6 Hz, 4.9 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.23 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
（２８ｄ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−ヘプチロキシメチルベンゼン
実施例２８（２８ｃ）で得られた（４−アリルオキシ−3−ブロモフェニル）メタノール（０．４２ｇ，１．９ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４０ｍL、２．９ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１０ｇ，２．３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．５０ｇ，７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.24-1.39 (m, 8 H), 1.60 (quintet, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.58-4.62 (m, 2 H), 5.30 (dq, 1 H, J = 11.0 Hz, 1.5 Hz), 5.47 (dq, 1 H, J = 16.8 Hz, 1.5 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 11.0 Hz, 16.8 Hz, 4.4 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 1605, 1496, 1456 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1037; found: 340.1035.
実施例２８（２８ｃ）で得られた（４−アリルオキシ−3−ブロモフェニル）メタノール（０．４２ｇ，１．９ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４０ｍL、２．９ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１０ｇ，２．３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．５０ｇ，７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.24-1.39 (m, 8 H), 1.60 (quintet, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.58-4.62 (m, 2 H), 5.30 (dq, 1 H, J = 11.0 Hz, 1.5 Hz), 5.47 (dq, 1 H, J = 16.8 Hz, 1.5 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 11.0 Hz, 16.8 Hz, 4.4 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 1605, 1496, 1456 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1037; found: 340.1035.
（２８ｅ）フェニル ２’−［（２−アリロキシ−5−ヘプチロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２８（２８ｄ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−ヘプチロキシメチルベンゼン（０．４１ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．５２ｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．７６ｍL，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （０．７３ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.47-1.62 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.24 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.42 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.25 (ddt, 1 H, J = 6.6 Hz, 14.6 Hz, 1.5 Hz), 4.28 (ddt, 1 H, J = 6.6 Hz, 14.6 Hz, 1.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 4.98-5.02 (m, 1 H), 5.05-5.10 (m, 1 H), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 16.1 Hz, 11.0 Hz), 5.76 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03-7.06 (m, 1 H), 7.12-7.16 (m, 1 H), 7.17-7.22 (m, 2 H), 7.23-7.35 (m, 7 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (neat) 3550, 3418, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52O7S2Na (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3038.
実施例２８（２８ｄ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−ヘプチロキシメチルベンゼン（０．４１ｇ、１．２ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．５２ｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．７６ｍL，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （０．７３ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.47-1.62 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.24 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 3.42 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.25 (ddt, 1 H, J = 6.6 Hz, 14.6 Hz, 1.5 Hz), 4.28 (ddt, 1 H, J = 6.6 Hz, 14.6 Hz, 1.5 Hz), 4.41 (s, 2 H), 4.98-5.02 (m, 1 H), 5.05-5.10 (m, 1 H), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 16.1 Hz, 11.0 Hz), 5.76 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03-7.06 (m, 1 H), 7.12-7.16 (m, 1 H), 7.17-7.22 (m, 2 H), 7.23-7.35 (m, 7 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (neat) 3550, 3418, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52O7S2Na (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3038.
（２８ｆ）フェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２８（２８ｅ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリロキシ−5−ヘプチロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３７ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６３ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（２７ｍｇ，０．０２４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．３３ｍＬ、２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．１８ｍＬ、４．７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （０．３１ｇ，８９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.36 (m, 8 H), 1.46-1.60 (m, 4 H), 1.79 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.92 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (s, 2 H), 5.63 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.50 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05-7.10 (m, 2 H), 7.15-7.21 (m, 3 H), 7.21-7.34 (m, 5 H), 7.37-7.41 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.86 (brs, 1 H).
IR (neat) 3302, 1738, 1708, 1593, 1492, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2773.
実施例２８（２８ｅ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリロキシ−5−ヘプチロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３７ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６３ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（２７ｍｇ，０．０２４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．３３ｍＬ、２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．１８ｍＬ、４．７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝２：８）により精製を行い、標記目的化合物 （０．３１ｇ，８９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.36 (m, 8 H), 1.46-1.60 (m, 4 H), 1.79 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.92 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (s, 2 H), 5.63 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.50 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05-7.10 (m, 2 H), 7.15-7.21 (m, 3 H), 7.21-7.34 (m, 5 H), 7.37-7.41 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.86 (brs, 1 H).
IR (neat) 3302, 1738, 1708, 1593, 1492, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2773.
（２８ｇ）ナトリウム ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２８（２８ｆ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３１ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（０．１０ｇ，２．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（０．２３ｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.33 (m, 8 H), 1.47-1.56 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.32 (s, 2 H), 6.05 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.02 (m, 3 H), 7.09-7.13 (m, 2 H), 7.16 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.8 Hz), 7.23-7.30 (m, 2 H), 7.41-7.44 (m, 1 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3398, 1681, 1594, 1493, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 665.2450; found: 663.2457.
実施例２８（２８ｆ）で得られたフェニル ４−（4−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３１ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（０．１０ｇ，２．５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（０．２３ｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.33 (m, 8 H), 1.47-1.56 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.38 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.32 (s, 2 H), 6.05 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.02 (m, 3 H), 7.09-7.13 (m, 2 H), 7.16 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.8 Hz), 7.23-7.30 (m, 2 H), 7.41-7.44 (m, 1 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (CHCl3) 3398, 1681, 1594, 1493, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 665.2450; found: 663.2457.
（実施例２９）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（２９ａ）３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベンズアルデヒド
３−ブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（０．９９ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（１２．５ｍL、１２．５ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに室温で２時間攪拌した。次いで、飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え室温で１５分間攪拌した。反応溶液にロッシェル塩水溶液（１０ｍＬ）を加え攪拌した後、セライトろ過して得られた溶液を酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物（０．８５ｇ）を得た。
得られた粗製物（０．５５ｇ、２．８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１０ｍL）に溶解し、そこへＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．４ｍL、８．３ｍｍｏｌ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（０．９７ｍL、５．５ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１２）により精製を行い、標記目的化合物（０．６９ｇ、収率７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 9 H), 1.00 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 3.86 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.44 (s, 2 H), 7.33 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.5 Hz), 7.83 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.5 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 9.90 (s, 1 H).
（２９ａ）３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベンズアルデヒド
３−ブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（０．９９ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（１２．５ｍL、１２．５ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに室温で２時間攪拌した。次いで、飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え室温で１５分間攪拌した。反応溶液にロッシェル塩水溶液（１０ｍＬ）を加え攪拌した後、セライトろ過して得られた溶液を酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物（０．８５ｇ）を得た。
得られた粗製物（０．５５ｇ、２．８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（１０ｍL）に溶解し、そこへＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．４ｍL、８．３ｍｍｏｌ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリド（０．９７ｍL、５．５ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１２）により精製を行い、標記目的化合物（０．６９ｇ、収率７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 9 H), 1.00 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 3.86 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.44 (s, 2 H), 7.33 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.5 Hz), 7.83 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.5 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 9.90 (s, 1 H).
（２９ｂ）１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オール
実施例２９（２９ａ）で得られた３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベンズアルデヒド（０．１７ｇ、０．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、−７８度に冷却した。２．０Ｍオクチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．３８ｍL、０．７５ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.20 (s, 9 H), 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.96 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 1.56 (s, 12 H), 1.33 - 1.44 (m, 1 H), 1.60 - 1.71 (m, 1 H), 1.76 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 3.81 (t, 2 H, J = 8.4 Hz), 4.56 - 4.63 (m, 1 H), 5.28 (s, 2 H), 7.13 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.21 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.5 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 3397, 1494, 1248, 1241 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 467 (M+Na)+.
実施例２９（２９ａ）で得られた３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］ベンズアルデヒド（０．１７ｇ、０．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、−７８度に冷却した。２．０Ｍオクチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（０．３８ｍL、０．７５ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ、収率９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.20 (s, 9 H), 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.96 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 1.56 (s, 12 H), 1.33 - 1.44 (m, 1 H), 1.60 - 1.71 (m, 1 H), 1.76 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 3.81 (t, 2 H, J = 8.4 Hz), 4.56 - 4.63 (m, 1 H), 5.28 (s, 2 H), 7.13 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 7.21 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.5 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 3397, 1494, 1248, 1241 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 467 (M+Na)+.
（２９ｃ）１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オン
実施例２９（２９ｂ）で得られた１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オール（０．１８ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（２ｍＬ）に溶解し、ピリジウムクロロクロメイト（０．１８ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を加えて室温で１０時間撹拌した。セライトろ過した後、濾液を減圧下溶媒留去し、標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 9 H), 0.93 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 1.20 - 1.42 (m, 10 H), 1.65 - 1.77 (m, 2 H), 2.94 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.85 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.41 (s, 2 H), 7.25 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.92 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.7 Hz), 8.22 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (KBr) 1685, 1593, 1250 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 443 (M+H)+.
実施例２９（２９ｂ）で得られた１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オール（０．１８ｇ、０．４１ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（２ｍＬ）に溶解し、ピリジウムクロロクロメイト（０．１８ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を加えて室温で１０時間撹拌した。セライトろ過した後、濾液を減圧下溶媒留去し、標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 9 H), 0.93 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 1.20 - 1.42 (m, 10 H), 1.65 - 1.77 (m, 2 H), 2.94 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.85 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.41 (s, 2 H), 7.25 (d, 1 H, J = 8.7 Hz), 7.92 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.7 Hz), 8.22 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (KBr) 1685, 1593, 1250 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 443 (M+H)+.
（２９ｄ）（２−［［２−ブロモ−４−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）フェノキシ］メトキシ］エチル）（トリメチル）シラン
実施例２９（２９ｃ）で得られた１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オン（０．１３ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍL）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（８４μL、０．６０ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（０．１４ｍL、０．６０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.02 (s, 6 H), 0.05 (s, 9 H), 0.94 (t, 3 H, J = 7.6 Hz), 0.95 - 1.02 (m, 2 H), 1.03 (s, 9 H), 1.23 - 1.47 (m, 10 H), 2.15 - 2.24 (m, 1 H), 3.86 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.08 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.33 (s, 2 H), 7.12 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.6 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 1494, 1251 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 557 (M+H)+.
実施例２９（２９ｃ）で得られた１−（３−ブロモ−４−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）ノナン−１−オン（０．１３ｇ、０．３０ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍL）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（８４μL、０．６０ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（０．１４ｍL、０．６０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.02 (s, 6 H), 0.05 (s, 9 H), 0.94 (t, 3 H, J = 7.6 Hz), 0.95 - 1.02 (m, 2 H), 1.03 (s, 9 H), 1.23 - 1.47 (m, 10 H), 2.15 - 2.24 (m, 1 H), 3.86 (t, 2 H, J = 8.3 Hz), 5.08 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.33 (s, 2 H), 7.12 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.6 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 1494, 1251 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 557 (M+H)+.
（２９ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｄ）で得られた（２−［［２−ブロモ−４−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）フェノキシ］メトキシ］エチル）（トリメチル）シラン（０．１０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（５８ｍｇ、収率４９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 9 H), 0.03 (s, 3 H), 0.07 (s, 3 H), 0.84 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 0.96 - 1.02 (m, 3 H), 1.06 (s, 9 H), 1.11 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.54 (m, 10 H), 1.59 - 1.68 (m, 2 H), 1.69 (s, 1 H), 1.88 - 1.97 (m, 2 H), 2.13 - 2.18 (m, 1 H), 2.24 - 2.32 (m, 1 H), 3.25 - 3.34 (m, 1 H), 3.39 - 3.48 (m, 1 H), 4.14 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.91 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.16 (t, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.84 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.99 - 7.06 (m, 2 H), 7.12 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 - 7.19 (m, 1 H), 7.22 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.28 - 7.43 (m, 8 H), 7.45 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.63 - 7.68 (m, 3 H), 7.98 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1594, 1492, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C56H76NaO8S2Si2 (M+Na)+ 1019.4418; found: 1019.4406.
実施例２９（２９ｄ）で得られた（２−［［２−ブロモ−４−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）フェノキシ］メトキシ］エチル）（トリメチル）シラン（０．１０ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１１ｍＬ、０．１８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（５８ｍｇ、収率４９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 9 H), 0.03 (s, 3 H), 0.07 (s, 3 H), 0.84 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 0.96 - 1.02 (m, 3 H), 1.06 (s, 9 H), 1.11 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.33 - 1.54 (m, 10 H), 1.59 - 1.68 (m, 2 H), 1.69 (s, 1 H), 1.88 - 1.97 (m, 2 H), 2.13 - 2.18 (m, 1 H), 2.24 - 2.32 (m, 1 H), 3.25 - 3.34 (m, 1 H), 3.39 - 3.48 (m, 1 H), 4.14 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.91 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.16 (t, 1 H, J = 7.1 Hz), 5.84 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 6.99 - 7.06 (m, 2 H), 7.12 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 - 7.19 (m, 1 H), 7.22 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.28 - 7.43 (m, 8 H), 7.45 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.63 - 7.68 (m, 3 H), 7.98 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1594, 1492, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C56H76NaO8S2Si2 (M+Na)+ 1019.4418; found: 1019.4406.
（２９ｆ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−ノナノイル−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５８ｍｇ、０．０５８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍL）に溶解し、そこへ１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１２ｍL、０．１２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 9 H), 0.78 - 0.86 (m, 2 H), 1.01 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.13 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.35 - 1.54 (m, 10 H), 1.60 - 1.71 (m, 2 H), 1.82 - 1.90 (m, 2 H), 1.90 - 1.98 (m, 2 H), 2.13 - 2.17 (m, 1 H), 3.06 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.22 (dt, 1 H, J = 7.1 Hz, 9.5 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 7.1 Hz, 9.4 Hz), 4.15 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.96 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.13 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.82 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.12 - 7.41 (m, 12 H), 7.50 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.3 Hz), 7.68 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.7 Hz), 7.99 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.0 Hz), 8.27 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 1594, 1492, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C50H62NaO8S2Si (M+Na)+ 905.3553; found: 905.3580.
実施例２９（２９ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−（（１Ｚ）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノン−１−エニル）−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５８ｍｇ、０．０５８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍL）に溶解し、そこへ１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．１２ｍL、０．１２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 9 H), 0.78 - 0.86 (m, 2 H), 1.01 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.13 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.35 - 1.54 (m, 10 H), 1.60 - 1.71 (m, 2 H), 1.82 - 1.90 (m, 2 H), 1.90 - 1.98 (m, 2 H), 2.13 - 2.17 (m, 1 H), 3.06 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.22 (dt, 1 H, J = 7.1 Hz, 9.5 Hz), 3.36 (dt, 1 H, J = 7.1 Hz, 9.4 Hz), 4.15 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.96 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.13 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 5.82 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.12 - 7.41 (m, 12 H), 7.50 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.3 Hz), 7.68 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.7 Hz), 7.99 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.0 Hz), 8.27 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 1594, 1492, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C50H62NaO8S2Si (M+Na)+ 905.3553; found: 905.3580.
（２９ｇ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−ノナノイル−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（３ｍL）に溶解し、そこへフッ化水素ピリジン錯体（０．１ｍL）を加え、５０℃で２時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：９）により精製を行い、標記目的化合物（３９ｍｇ、収率４７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.26 (brs, 10 H), 1.48 - 1.66 (m, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.47 (brs, 1 H), 2.76 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.1 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.93 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.11 - 7.15 (m, 2 H), 7.18 - 7.19 (m, 6 H), 7.32 - 7.37 (m, 3 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.79 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 8.50 (brs, 1 H).
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H48NaO7S2 (M+Na)+ 775.2739; found: 775.2710.
実施例２９（２９ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（５−ノナノイル−２−［［２−（トリメチルシリル）エトキシ］メトキシ］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（３ｍL）に溶解し、そこへフッ化水素ピリジン錯体（０．１ｍL）を加え、５０℃で２時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：９）により精製を行い、標記目的化合物（３９ｍｇ、収率４７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.26 (brs, 10 H), 1.48 - 1.66 (m, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.47 (brs, 1 H), 2.76 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.1 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.93 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.11 - 7.15 (m, 2 H), 7.18 - 7.19 (m, 6 H), 7.32 - 7.37 (m, 3 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.79 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 8.50 (brs, 1 H).
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H48NaO7S2 (M+Na)+ 775.2739; found: 775.2710.
（２９ｈ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例２９（２９ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２１ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ、収率６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 10 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.59 - 1.68 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.87 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.08 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.16 - 7.21 (m, 1 H), 7.25 - 7.32 (m, 2 H), 7.37 - 7.42 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.73 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.5 Hz), 7.97 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3388, 1674, 1594, 1493, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O7S2 (M-Na)+ 675.2450; found: 675.2457.
実施例２９（２９ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−ノナノイルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２１ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２５ｍｇ、収率６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 10 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.59 - 1.68 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.87 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.08 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.16 - 7.21 (m, 1 H), 7.25 - 7.32 (m, 2 H), 7.37 - 7.42 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.73 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.5 Hz), 7.97 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3388, 1674, 1594, 1493, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O7S2 (M-Na)+ 675.2450; found: 675.2457.
（実施例３０）ナトリウム ２’−［アミノ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（３０ａ）１−アリロキシ−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン
２−ブロモ−４−ノニルフェノール（０．４３ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、アリルブロマイド（０．１５ｍＬ、１．７ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後５５ｗｔ％水素化ナトリウム（７４ｍｇ、１，７ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加え、ヘキサンを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．４６ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.34 (m, 12 H), 1.52-1.60 (m, 2 H), 2.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.58 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.29 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 15.6 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 8.8 Hz, 15.6 Hz, 4.9 Hz), 6.80 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.02 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.36 (s, 1 H).
IR (neat) 1496, 1456, 1282, 1254 cm-1.
（３０ａ）１−アリロキシ−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン
２−ブロモ−４−ノニルフェノール（０．４３ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、アリルブロマイド（０．１５ｍＬ、１．７ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後５５ｗｔ％水素化ナトリウム（７４ｍｇ、１，７ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加え、ヘキサンを用いて抽出操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．４６ｇ，９６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.34 (m, 12 H), 1.52-1.60 (m, 2 H), 2.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.58 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.29 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 15.6 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 8.8 Hz, 15.6 Hz, 4.9 Hz), 6.80 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.02 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.36 (s, 1 H).
IR (neat) 1496, 1456, 1282, 1254 cm-1.
（３０ｂ）フェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例３０（３０ａ）で得られた１−（アリロキシ）−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン（０．１７ｇ、０．４９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ，０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３１ｍL，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．２５ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 12 H), 1.48-1.54 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.28 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 2.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 5.01 (d, 1 H, J = 18.6 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.66 (ddt, 1 H, J = 18.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 5.75 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.65 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.01-7.06 (m, 2 H), 7.13 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.22-7.36 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (neat) 3551, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO6S2 (M+Na)+ 801.3260; found: 801.3251.
実施例３０（３０ａ）で得られた１−（アリロキシ）−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン（０．１７ｇ、０．４９ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ，０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３１ｍL，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．２５ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.33 (m, 12 H), 1.48-1.54 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.28 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 2.51 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 5.01 (d, 1 H, J = 18.6 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.66 (ddt, 1 H, J = 18.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 5.75 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.65 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.01-7.06 (m, 2 H), 7.13 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.22-7.36 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (neat) 3551, 1593, 1493, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO6S2 (M+Na)+ 801.3260; found: 801.3251.
（３０ｃ）フェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）フェノキシカルボニルアミノ］メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例３０（３０ｂ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３７ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）、フェニルカーバメート（１９ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．２ｍＬ） で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エーテル錯体（６．０μＬ，０．０４７ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、３時間撹拌した。飽和重曹水（０．２ｍＬ）を加え反応を停止し、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルカラムクロマトグラフィー (酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.32 (m, 12 H), 1.46-1.56 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.44 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.24-4.32 (m, 2 H), 5.11-5.18 (m, 2 H), 5.71-5.80 (m, 2 H), 6.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.61 (s, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.93-7.00 (m, 3 H), 7.21-7.36 (m, 5 H), 7.45 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (s, 1 H).
IR (neat) 3399, 1744, 1593, 1488 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C54H59NNaO7S2 (M+Na)+ 920.3631; found: 920.3606.
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例３０（３０ｂ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３７ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）、フェニルカーバメート（１９ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．２ｍＬ） で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エーテル錯体（６．０μＬ，０．０４７ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、３時間撹拌した。飽和重曹水（０．２ｍＬ）を加え反応を停止し、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルカラムクロマトグラフィー (酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.32 (m, 12 H), 1.46-1.56 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.44 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.24-4.32 (m, 2 H), 5.11-5.18 (m, 2 H), 5.71-5.80 (m, 2 H), 6.13 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.61 (s, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.93-7.00 (m, 3 H), 7.21-7.36 (m, 5 H), 7.45 (t, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.57 (s, 1 H).
IR (neat) 3399, 1744, 1593, 1488 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C54H59NNaO7S2 (M+Na)+ 920.3631; found: 920.3606.
（３０ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ノニル−2−オキソ−3、4−ジヒドロ−2Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３０（３０ｃ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）フェノキシカルボニルアミノ］メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３５ｍｇ、０．０３９ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（５．０ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（４．０ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．３０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（２８μＬ、０．２０ｍｍｏｌ）、ギ酸（１５μＬ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で３時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。この粗製物をジオキサン（０．２ｍＬ）に溶解した後、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で３０分撹拌した。水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.40-1.58 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 2.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.22 (s, 1 H), 5.46 (s, 1 H), 6.30 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.98 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04-7.18 (m, 6 H), 7.20-7.24 (m, 1 H), 7.28 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.31-7.38 (m, 2 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3262, 3144, 1732, 1593, 1491, 1457 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z 802 (M+K)+, 786 (M+Na)+.
実施例３０（３０ｃ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）フェノキシカルボニルアミノ］メチル］−４−（4−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３５ｍｇ、０．０３９ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（５．０ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（４．０ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．３０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（２８μＬ、０．２０ｍｍｏｌ）、ギ酸（１５μＬ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で３時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。この粗製物をジオキサン（０．２ｍＬ）に溶解した後、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で３０分撹拌した。水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.40-1.58 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 2.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.22 (s, 1 H), 5.46 (s, 1 H), 6.30 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.98 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04-7.18 (m, 6 H), 7.20-7.24 (m, 1 H), 7.28 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.31-7.38 (m, 2 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3262, 3144, 1732, 1593, 1491, 1457 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z 802 (M+K)+, 786 (M+Na)+.
（３０ｅ）ナトリウム ２’−［アミノ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例３０（３０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ノニル−2−オキソ−3、4−ジヒドロ−2Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６０ｍｇ、０．０８１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２３ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.12-1.32 (m, 12 H), 1.37-1.45 (m, 2 H), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.37 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.67 (s, 1 H), 6.50 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 5.2 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 5.2 Hz), 6.78 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.1 Hz), 6.93-6.99 (m, 3 H), 7.28 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.6 Hz), 7.43-7.53 (m, 5 H), 7.69 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3059, 1593, 1494, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H46NO5S2 (M-Na)- 660.2817; found: 660.2811.
実施例３０（３０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ノニル−2−オキソ−3、4−ジヒドロ−2Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６０ｍｇ、０．０８１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：４）により精製し、標記目的化合物（２３ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.12-1.32 (m, 12 H), 1.37-1.45 (m, 2 H), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.37 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.67 (s, 1 H), 6.50 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 5.2 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 5.2 Hz), 6.78 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.1 Hz), 6.93-6.99 (m, 3 H), 7.28 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.6 Hz), 7.43-7.53 (m, 5 H), 7.69 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3059, 1593, 1494, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H46NO5S2 (M-Na)- 660.2817; found: 660.2811.
（実施例３１）４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−カルボン酸
（３１ａ）メチル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート
実施例３０（３０ａ）で得られた１−（アリロキシ）−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン（０．１６ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１７ｇ，０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３１ｍL，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１９ｇ，６８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.32 (m, 12 H), 1.46-1.56 (m, 4 H), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.46 (dd, 2 H, J = 5.9 Hz, 7.8 Hz), 2.70 (brs, 1 H), 3.85 (s, 3 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.28 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 4.37 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 5.10-5.16 (m, 2 H), 5.72-5.80 (m, 1 H), 6.05 (s, 1 H), 6.66 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (s, 1 H), 6.94-6.99 (m, 3 H), 7.18 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.83 (s, 1 H).
IR (neat) 3519, 1716, 1594, 1494, 1464 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H52NaO5S (M+Na)+ 703.3433; found: 703.3436.
（３１ａ）メチル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート
実施例３０（３０ａ）で得られた１−（アリロキシ）−２−ブロモ−4−ノニルベンゼン（０．１６ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１７ｇ，０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３１ｍL，０．４８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１９ｇ，６８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.32 (m, 12 H), 1.46-1.56 (m, 4 H), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.46 (dd, 2 H, J = 5.9 Hz, 7.8 Hz), 2.70 (brs, 1 H), 3.85 (s, 3 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.28 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 4.37 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 12.7 Hz), 5.10-5.16 (m, 2 H), 5.72-5.80 (m, 1 H), 6.05 (s, 1 H), 6.66 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (s, 1 H), 6.94-6.99 (m, 3 H), 7.18 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.83 (s, 1 H).
IR (neat) 3519, 1716, 1594, 1494, 1464 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H52NaO5S (M+Na)+ 703.3433; found: 703.3436.
（３１ｂ）メチル −４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート
実施例３１（３１ａ）で得られたメチル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート（０．１９ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３７ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（３．５ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．１９ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．１０ｍＬ、２．７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （８９ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.30 (m, 12 H), 1.39-1.46 (m, 2 H), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.37 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 2.86 (brs, 1 H), 3.87 (s, 3 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.39 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.94-6.99 (m, 3 H), 7.17 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.25 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.8 Hz), 7.38 (quintet, 2 H, J = 5.9 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 HZ), 7.53 (d, 1 H, J = 8.8 HZ), 7.75 (brs, 1 H), 7.94 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3382, 1716, 1594, 1495, 1465 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H48NaO5S (M+Na)+ 663.3120; found: 663.3141.
実施例３１（３１ａ）で得られたメチル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ノニルフェニル）ヒドロキシメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート（０．１９ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３７ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（３．５ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．１９ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．１０ｍＬ、２．７ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝３：７) により精製を行い、標記目的化合物 （８９ｍｇ，５２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.30 (m, 12 H), 1.39-1.46 (m, 2 H), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.37 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 2.86 (brs, 1 H), 3.87 (s, 3 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.39 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.94-6.99 (m, 3 H), 7.17 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.25 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.8 Hz), 7.38 (quintet, 2 H, J = 5.9 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 HZ), 7.53 (d, 1 H, J = 8.8 HZ), 7.75 (brs, 1 H), 7.94 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3382, 1716, 1594, 1495, 1465 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H48NaO5S (M+Na)+ 663.3120; found: 663.3141.
（３１ｃ）４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−カルボン酸
実施例３１（３１ｂ）で得られたメチル −４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート（８２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：９）により精製し、標記目的化合物（３２ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.44-1.56 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.41 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.56 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.80-6.83 (m, 2 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.12-7.17 (m, 2 H), 7.27 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3304, 1686, 1594, 1495, 1465 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H46NO5S (M+H)+ 649.2964; found: 649.2975.
実施例３１（３１ｂ）で得られたメチル −４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−5−ノニルフェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−カルボキシラート（８２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝１：９）により精製し、標記目的化合物（３２ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 12 H), 1.44-1.56 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.41 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.56 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.80-6.83 (m, 2 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.12-7.17 (m, 2 H), 7.27 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.89 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3304, 1686, 1594, 1495, 1465 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H46NO5S (M+H)+ 649.2964; found: 649.2975.
（実施例３２）ナトリウム ２’−［アミノ（５−ヘプチルオキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（３２ａ）フェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ヘプチルオキシメチル）フェノキシカルボニルアミノメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例２８（２８ｅ）で得られたアルコール（０．１４ｇ，０．１８ｍｍｏｌ）、フェニルカーバメート（７４ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．５ｍＬ） で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エーテル錯体（２６μＬ，０．１８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１時間撹拌した。飽和重曹水（０．２ｍＬ）を加え反応を停止し、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー (酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物（９４ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.21-1.36 (m, 8 H), 1.48-1.61 (m, 4 H), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37-3.46 (m, 2 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 HZ), 4.20-4.42 (m, 4 H), 5.00-5.20 (m, 2 H), 5.66-5.76 (m, 2 H), 6.14 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.70 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.86-6.93 (m, 2 H), 6.93-7.00 (m, 2 H), 7.05 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.13-7.20 (m, 4 H), 7.22-7.35 (m, 5 H), 7.42 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.56 (brs, 1 H).
IR (neat) 3410, 1742, 1593, 1489 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H57NNaO8S2 (M+Na)+ 922.3423; found: 922.3391.
（３２ａ）フェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ヘプチルオキシメチル）フェノキシカルボニルアミノメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
乾燥、窒素置換された２５ｍＬ二口フラスコに実施例２８（２８ｅ）で得られたアルコール（０．１４ｇ，０．１８ｍｍｏｌ）、フェニルカーバメート（７４ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）をとり、メチレンクロライド（０．５ｍＬ） で溶解した。反応溶液を０℃に冷却した後、３フッ化ホウ素エーテル錯体（２６μＬ，０．１８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、１時間撹拌した。飽和重曹水（０．２ｍＬ）を加え反応を停止し、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー (酢酸エチル：ヘキサン＝２：８) により精製を行い、標記目的化合物（９４ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.21-1.36 (m, 8 H), 1.48-1.61 (m, 4 H), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37-3.46 (m, 2 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 HZ), 4.20-4.42 (m, 4 H), 5.00-5.20 (m, 2 H), 5.66-5.76 (m, 2 H), 6.14 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.70 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.86-6.93 (m, 2 H), 6.93-7.00 (m, 2 H), 7.05 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.13-7.20 (m, 4 H), 7.22-7.35 (m, 5 H), 7.42 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.49 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.56 (brs, 1 H).
IR (neat) 3410, 1742, 1593, 1489 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H57NNaO8S2 (M+Na)+ 922.3423; found: 922.3391.
（３２ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ヘプチルオキシメチル−２−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例３２（３２ａ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ヘプチルオキシメチル）フェノキシカルボニルアミノメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（７３ｍｇ、０．０８１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１１ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．２ｍｇ，０．００１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．３０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（５５μＬ、０．４０ｍｍｏｌ）、ギ酸（３１μＬ、０．８０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。この粗製物をジオキサン（０．３ｍＬ）に溶解した後、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で３０分撹拌した。水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（４７ｍｇ，７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 8.1 Hz), 1.18-1.30 (m, 8 H), 1.47-1.56 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 5.9 Hz), 3.37 (dt, 2 H, J = 2.9 Hz, 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.30 (s, 2 H), 5.25 (s, 1 H), 5.73 (brs, 1 H), 6.47 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.97 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00-7.05 (m, 3 H), 7.08-7.19 (m, 5 H), 7.22-7.26 (m, 2 H), 7.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.31-7.33 (m, 2 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.66 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3263, 3145, 1734, 1593, 1491, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H47NNaO8S2 (M+Na)+ 788.2692; found: 788.2672.
実施例３２（３２ａ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−5−ヘプチルオキシメチル）フェノキシカルボニルアミノメチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（７３ｍｇ、０．０８１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１１ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．２ｍｇ，０．００１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．３０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（５５μＬ、０．４０ｍｍｏｌ）、ギ酸（３１μＬ、０．８０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。この粗製物をジオキサン（０．３ｍＬ）に溶解した後、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、室温で３０分撹拌した。水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（４７ｍｇ，７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 8.1 Hz), 1.18-1.30 (m, 8 H), 1.47-1.56 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 5.9 Hz), 3.37 (dt, 2 H, J = 2.9 Hz, 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.30 (s, 2 H), 5.25 (s, 1 H), 5.73 (brs, 1 H), 6.47 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.97 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.00-7.05 (m, 3 H), 7.08-7.19 (m, 5 H), 7.22-7.26 (m, 2 H), 7.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.31-7.33 (m, 2 H), 7.57 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.66 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3263, 3145, 1734, 1593, 1491, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H47NNaO8S2 (M+Na)+ 788.2692; found: 788.2672.
（３２ｃ）ナトリウム ２’−［アミノ（５−ヘプチルオキシメチル−２−ヒドロキシフェニル）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例３２（３２ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ヘプチルオキシメチル−２−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（４３ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（２８ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.31 (m, 8 H), 1.42-1.55 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.33 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.27 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.72 (brs, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.80 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.44 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.47-7.54 (m, 3 H), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.86 (s, 1 H).
IR (KBr) 3060, 1593, 1494, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H44NO6S2 (M-Na)- 662.2610; found: 662.2609.
実施例３２（３２ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（６−ヘプチルオキシメチル−２−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−4−イル）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（４３ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（２８ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.31 (m, 8 H), 1.42-1.55 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.33 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.23 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.27 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.72 (brs, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.80 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.44 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.47-7.54 (m, 3 H), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.86 (s, 1 H).
IR (KBr) 3060, 1593, 1494, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H44NO6S2 (M-Na)- 662.2610; found: 662.2609.
（実施例３３）ナトリウム ２’−［（２−アミノ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３３ａ）１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オール
３−ブロモ−４−フロロベンズアルデヒド（３．０ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１５ｍＬ） に溶解した後、２．０Ｍ−オクチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、室温で１時間攪拌した。氷冷下で反応溶液を水（３０ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９−１：８)により精製を行い、標記目的化合物（３．５ｇ，７４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.21 - 1.30 (brs, 11 H), 1.34 - 1.42 (m, 1 H), 1.62 - 1.69 (m, 1 H), 1.72 - 1.79 (m, 1 H), 1.86 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.62 - 4.65 (m, 1 H), 7.09 (t, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.23 - 7.25 (m, 1 H), 7.54 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.6 Hz).
IR (Liquid film) 3348, 2928, 1497 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H22 79BrFO (M)+ 316.0838; found: 316.0833.
（３３ａ）１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オール
３−ブロモ−４−フロロベンズアルデヒド（３．０ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（１５ｍＬ） に溶解した後、２．０Ｍ−オクチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、室温で１時間攪拌した。氷冷下で反応溶液を水（３０ｍＬ）に注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９−１：８)により精製を行い、標記目的化合物（３．５ｇ，７４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.21 - 1.30 (brs, 11 H), 1.34 - 1.42 (m, 1 H), 1.62 - 1.69 (m, 1 H), 1.72 - 1.79 (m, 1 H), 1.86 (d, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.62 - 4.65 (m, 1 H), 7.09 (t, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.23 - 7.25 (m, 1 H), 7.54 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.6 Hz).
IR (Liquid film) 3348, 2928, 1497 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H22 79BrFO (M)+ 316.0838; found: 316.0833.
（３３ｂ）１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オン
ピリジニウム クロロクロメイト（２．０ｇ，９．４ｍｍｏｌ）とセライト（２．０ｇ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ） に懸濁させ、そこへ実施例３３（３３ａ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オール（１．５ｇ，４．７ｍｍｏｌ）のメチレンクロリド溶液（２０ｍＬ）を加え、室温で３時間半攪拌した。反応溶液をろ過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ，８８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.21 - 1.40 (brs, 10 H), 1.69 - 1.75 (m, 2 H), 2.91 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.19 (t, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.89 - 7.92 (m, 1 H), 8.17 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.6 Hz).
IR (Liquid film) 2927, 1692, 1258 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H20 79BrFO (M)+ 314.0681; found: 314.0674.
ピリジニウム クロロクロメイト（２．０ｇ，９．４ｍｍｏｌ）とセライト（２．０ｇ）をメチレンクロリド（２０ｍＬ） に懸濁させ、そこへ実施例３３（３３ａ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オール（１．５ｇ，４．７ｍｍｏｌ）のメチレンクロリド溶液（２０ｍＬ）を加え、室温で３時間半攪拌した。反応溶液をろ過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ，８８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.21 - 1.40 (brs, 10 H), 1.69 - 1.75 (m, 2 H), 2.91 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.19 (t, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.89 - 7.92 (m, 1 H), 8.17 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.6 Hz).
IR (Liquid film) 2927, 1692, 1258 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C15H20 79BrFO (M)+ 314.0681; found: 314.0674.
（３３ｃ）１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン
実施例３３（３３ｂ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オン（０．１ｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（１ｍＬ） に溶解した後、エチレングリコール（３５μＬ，０．６４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２８ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃に加熱して２時間１５分攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止し、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５)により精製を行い、標記目的化合物（９３ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J =6.7 Hz), 1.23 - 1.30 (brs, 12 H), 1.81 - 1.85 (m, 2 H), 3.74 - 3.77 (m, 2 H), 3.99 - 4.01 (m, 2 H), 7.07 (t, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.33 - 7.37 (m, 1 H), 7.63 dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 6.7 Hz).
IR (Liquid film) 2927, 1491 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H23 79BrFO2 (M-H)+ 357.0865; found: 357.0862.
実施例３３（３３ｂ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）ノナン−１−オン（０．１ｇ，０．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（１ｍＬ） に溶解した後、エチレングリコール（３５μＬ，０．６４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２８ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃に加熱して２時間１５分攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）に注ぎ反応を停止し、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５)により精製を行い、標記目的化合物（９３ｇ，８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J =6.7 Hz), 1.23 - 1.30 (brs, 12 H), 1.81 - 1.85 (m, 2 H), 3.74 - 3.77 (m, 2 H), 3.99 - 4.01 (m, 2 H), 7.07 (t, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.33 - 7.37 (m, 1 H), 7.63 dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 6.7 Hz).
IR (Liquid film) 2927, 1491 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H23 79BrFO2 (M-H)+ 357.0865; found: 357.0862.
（３３ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フロロ−５−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｃ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン（０．３３ｇ，０．９３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．５８ｍＬ，０．９３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．４ｇ，０．７７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５−１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．３０ｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.11 - 1.29 (brs, 12 H), 1.45 - 1.57 (m, 2 H), 1.78 - 1.87 (m, 4 H), 3.70 - 3.77 (m, 2 H), 3.95 - 4.01 (m, 2 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.80 - 6.85 (m, 1 H), 6.93 (dd, 1 H, J = 3.2 Hz, 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 2 H), 7.18 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.24 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.26 - 7.34 (m, 5 H), 7.53 - 7.58 (m, 3 H), 7.76 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.81 (d, 0.5 H, J = 1.8 Hz).
IR (Thin film) 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51FNaO7S2 (M+Na)+ 821.2958; found: 821.2966.
実施例３３（３３ｃ）で得られた１−（３−ブロモ−４−フロロフェニル）−２−オクチル−１，３−ジオキソラン（０．３３ｇ，０．９３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．５８ｍＬ，０．９３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．４ｇ，０．７７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５−１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．３０ｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.11 - 1.29 (brs, 12 H), 1.45 - 1.57 (m, 2 H), 1.78 - 1.87 (m, 4 H), 3.70 - 3.77 (m, 2 H), 3.95 - 4.01 (m, 2 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.80 - 6.85 (m, 1 H), 6.93 (dd, 1 H, J = 3.2 Hz, 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07 - 7.11 (m, 2 H), 7.18 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.24 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.26 - 7.34 (m, 5 H), 7.53 - 7.58 (m, 3 H), 7.76 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.81 (d, 0.5 H, J = 1.8 Hz).
IR (Thin film) 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51FNaO7S2 (M+Na)+ 821.2958; found: 821.2966.
（３３ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（２−フロロ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フロロ−５−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をアセトン（２ｍＬ）−水（１ｍＬ） に溶解した後、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホン酸（８３ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃に加熱して２時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.37 (brs, 10 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.68 - 1.73 (m, 2 H), 1.75 - 1.85 (m, 2 H), 2.94 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.69 (s, 1 H), 6.90 - 6.94 (m, 2 H), 7.02 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.04 - 7.11 (m, 2 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.24 (d, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.27 - 7.50 (m, 4 H), 7.56 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.83 - 7.87 (m, 1 H), 8.13 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 7.3 Hz).
IR (Thin film) 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H47FNaO6S2 (M+Na)+ 777.2695; found: 777.2662.
実施例３３（３３ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−フロロ−５−（２−オクチル−１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をアセトン（２ｍＬ）−水（１ｍＬ） に溶解した後、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホン酸（８３ｍｇ，０．３３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃に加熱して２時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：３)により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.23 - 1.37 (brs, 10 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.68 - 1.73 (m, 2 H), 1.75 - 1.85 (m, 2 H), 2.94 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 5.69 (s, 1 H), 6.90 - 6.94 (m, 2 H), 7.02 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.04 - 7.11 (m, 2 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.24 (d, 2 H, J = 7.3 Hz), 7.27 - 7.50 (m, 4 H), 7.56 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.83 - 7.87 (m, 1 H), 8.13 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 7.3 Hz).
IR (Thin film) 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H47FNaO6S2 (M+Na)+ 777.2695; found: 777.2662.
（３３ｆ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（２−フロロ−５−ノナノイルベンゾイル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（２−フロロ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）、ピリジニウム クロロクロメイト（６９ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ，７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.25 - 1.37 (brs, 10 H), 1.50 - 1.57 (m, 2 H), 1.66 - 1.74 (m, 2 H), 1.77 - 1.82 (m, 2 H), 2.91 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.89 - 6.94 (m, 1 H), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.13 - 7.19 (m, 3 H), 7.24 (d, 2 H, J = 7.5 Hz), 7.29 - 7.33 (m, 2 H), 7.40 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.48 (dt, 1 H, J = 1.2 Hz, 8.7 Hz), 7.55 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.4 Hz), 7.60 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.7 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 8.00 - 8.02 (m, 1 H), 8.04 (d, 1 H, J = 5.7 Hz).
IR (Liquid film) 2929, 1489, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H45FNaO6S2 (M+Na)+ 775.2539; found: 775.2510.
実施例３３（３３ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（２−フロロ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）、ピリジニウム クロロクロメイト（６９ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ，７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.25 - 1.37 (brs, 10 H), 1.50 - 1.57 (m, 2 H), 1.66 - 1.74 (m, 2 H), 1.77 - 1.82 (m, 2 H), 2.91 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 4.00 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.89 - 6.94 (m, 1 H), 6.96 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.13 - 7.19 (m, 3 H), 7.24 (d, 2 H, J = 7.5 Hz), 7.29 - 7.33 (m, 2 H), 7.40 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.48 (dt, 1 H, J = 1.2 Hz, 8.7 Hz), 7.55 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.4 Hz), 7.60 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.7 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 8.00 - 8.02 (m, 1 H), 8.04 (d, 1 H, J = 5.7 Hz).
IR (Liquid film) 2929, 1489, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H45FNaO6S2 (M+Na)+ 775.2539; found: 775.2510.
（３３ｇ）フェニル ２’−（２−アジド−５−ノナノイルベンゾイル）−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（２−フロロ−５−ノナノイルベンゾイル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ，０．１５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ） に溶解した後、アジ化ナトリウム（２０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃に加熱して３０分間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（９７ｍｇ，８２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.36 (brs, 10 H), 1.48 - 1.55 (m, 2 H), 1.67 - 1.73 (m, 2 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 2.80 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.98 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.98 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.4 Hz), 7.15 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 - 7.37 (m, 2 H), 7.39 - 7.43 (m, 3 H), 7.54 (d, 1 H, J = 9.4 Hz), 7.58 - 7.65 (m, 2 H), 7.74 - 7.77 (m, 2 H), 7.78 (s, 1 H), 7.85−7.87 (m, 2 H).
IR (KBr) 2928, 1249 cm-1.
実施例３３（３３ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（２−フロロ−５−ノナノイルベンゾイル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ，０．１５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ） に溶解した後、アジ化ナトリウム（２０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃に加熱して３０分間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（９７ｍｇ，８２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.36 (brs, 10 H), 1.48 - 1.55 (m, 2 H), 1.67 - 1.73 (m, 2 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 2.80 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.98 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 6.98 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.4 Hz), 7.15 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.33 - 7.37 (m, 2 H), 7.39 - 7.43 (m, 3 H), 7.54 (d, 1 H, J = 9.4 Hz), 7.58 - 7.65 (m, 2 H), 7.74 - 7.77 (m, 2 H), 7.78 (s, 1 H), 7.85−7.87 (m, 2 H).
IR (KBr) 2928, 1249 cm-1.
（３３ｈ）フェニル ２’−［（２−アミノ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｇ）で得られたフェニル ２’−（２−アジド−５−ノナノイルベンゾイル）−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９７ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をエタノール（１ｍＬ） に溶解した後、亜鉛（２０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、塩化アンモニウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、５０℃に加熱して３時間半攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（９７ｍｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.30 (brs, 10 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.60 - 1.65 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 6.55 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.14 - 7.17 (m, 1 H), 7.19 (d, 3 H, J = 8.0 Hz), 7.27 - 7.30 (m, 2 H), 7.31 - 7.38 (m, 2 H), 7.48 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.68 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.76 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3373, 2928, 1594, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H49NNaO6S2 (M+Na)+ 774.2849; found: 774.2895.
実施例３３（３３ｇ）で得られたフェニル ２’−（２−アジド−５−ノナノイルベンゾイル）−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９７ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をエタノール（１ｍＬ） に溶解した後、亜鉛（２０ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、塩化アンモニウム水溶液（０．１ｍＬ）を加え、５０℃に加熱して３時間半攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：４)により精製を行い、標記目的化合物（９７ｍｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.30 (brs, 10 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.60 - 1.65 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 4.1 Hz), 6.55 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.14 - 7.17 (m, 1 H), 7.19 (d, 3 H, J = 8.0 Hz), 7.27 - 7.30 (m, 2 H), 7.31 - 7.38 (m, 2 H), 7.48 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.68 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.76 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3373, 2928, 1594, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H49NNaO6S2 (M+Na)+ 774.2849; found: 774.2895.
（３３ｉ）ナトリウム ２’−［（２−アミノ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｈ）で得られたフェニル ２’−［（２−アミノ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４９ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２４ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.31 (brs, 10 H), 1.49 - 1.53 (m, 2 H), 1.55 - 1.58 (m, 2 H), 1.74 - 1.79 (m, 2 H), 2.69 - 2.73 (m, 2 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.78 (s, 1 H), 6.59 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.21 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.5 Hz), 7.36 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.9 Hz), 7.41 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.8 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.51 - 7.52 (m, 2 H), 7.61 - 7.64 (m, 2 H), 7.96 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3365, 2927, 1594, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H44NO6S2 (M-Na)- 674.2610; found: 674.2623.
実施例３３（３３ｈ）で得られたフェニル ２’−［（２−アミノ−５−ノナノイルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４９ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２４ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３０ｍｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.31 (brs, 10 H), 1.49 - 1.53 (m, 2 H), 1.55 - 1.58 (m, 2 H), 1.74 - 1.79 (m, 2 H), 2.69 - 2.73 (m, 2 H), 4.00 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.78 (s, 1 H), 6.59 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.21 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.5 Hz), 7.36 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.9 Hz), 7.41 (dt, 1 H, J = 1.4 Hz, 8.8 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.51 - 7.52 (m, 2 H), 7.61 - 7.64 (m, 2 H), 7.96 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3365, 2927, 1594, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H44NO6S2 (M-Na)- 674.2610; found: 674.2623.
（実施例３４）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３４ａ）［３−ブロモ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール
５−ブロモイソフタル酸ジメチル（１．４ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（２４．８ｍL、２５．０ｍｍｏｌ）を滴下した後３０分間攪拌し、更に室温で３０分間攪拌した。次いで、飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え室温で１５分間攪拌した。反応溶液にロシェル塩水溶液（１０ｍＬ）を加えて攪拌した後セライトろ過して、得られた溶液を酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶により精製を行い、標記目的化合物（１．０ｇ、収率９５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.58 (s, 4 H), 7.27 (s, 1 H), 7.41 (s, 2 H).
IR (KBr) 3328, 3246, 1576, 1444 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（３４ａ）［３−ブロモ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール
５−ブロモイソフタル酸ジメチル（１．４ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。そこへ１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（２４．８ｍL、２５．０ｍｍｏｌ）を滴下した後３０分間攪拌し、更に室温で３０分間攪拌した。次いで、飽和塩化アンモニア水（２０ｍＬ）を加え室温で１５分間攪拌した。反応溶液にロシェル塩水溶液（１０ｍＬ）を加えて攪拌した後セライトろ過して、得られた溶液を酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶により精製を行い、標記目的化合物（１．０ｇ、収率９５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.58 (s, 4 H), 7.27 (s, 1 H), 7.41 (s, 2 H).
IR (KBr) 3328, 3246, 1576, 1444 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（３４ｂ）［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メタノール
実施例３４（３４ａ）で得られた［３−ブロモ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１２ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（０．１７ｍL、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率３５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.82 - 0.97 (m, 3 H), 1.20 - 1.43 (m, 8 H), 1.55 - 1.69 (m, 2 H), 1.80 (brs, 1 H), 3.47 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 4.67 (d, 2 H, J = 4.5 Hz), 7.25 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H), 7.43 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3382, 2929, 2857, 1575, 1444 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 314 (M)+.
実施例３４（３４ａ）で得られた［３−ブロモ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール（０．２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（０．１２ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（０．１７ｍL、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率３５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.82 - 0.97 (m, 3 H), 1.20 - 1.43 (m, 8 H), 1.55 - 1.69 (m, 2 H), 1.80 (brs, 1 H), 3.47 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.46 (s, 2 H), 4.67 (d, 2 H, J = 4.5 Hz), 7.25 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H), 7.43 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3382, 2929, 2857, 1575, 1444 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 314 (M)+.
（３４ｃ）２−［［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ］テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例３４（３４ｂ）で得られた［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メタノール（０．１１ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（６４μL、０．７０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（６ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.22 - 1.40 (m, 8 H), 1.51 - 1.71 (m, 6 H), 1.71 - 1.78 (m, 1 H), 1.84 - 1.93 (m, 1 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.53 - 3.58 (m, 1 H), 3.87 - 3.93 (m, 1 H), 4.45 (s, 2 H), 4.46 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 4.70 (t, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.74 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 7.23 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H), 7.43 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2930, 2856, 1576, 1443, 1352 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C20H30 79BrO3 (M-H)+ 397.1378; found: 397.1357.
実施例３４（３４ｂ）で得られた［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メタノール（０．１１ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（６４μL、０．７０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（６ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.22 - 1.40 (m, 8 H), 1.51 - 1.71 (m, 6 H), 1.71 - 1.78 (m, 1 H), 1.84 - 1.93 (m, 1 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.53 - 3.58 (m, 1 H), 3.87 - 3.93 (m, 1 H), 4.45 (s, 2 H), 4.46 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 4.70 (t, 1 H, J = 3.4 Hz), 4.74 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 7.23 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H), 7.43 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2930, 2856, 1576, 1443, 1352 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C20H30 79BrO3 (M-H)+ 397.1378; found: 397.1357.
（３４ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３４（３４ｃ）で得られた２−（［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１４ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２１ｍＬ、０．３４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率６０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.63 (m, 8 H), 1.67 - 1.73 (m, 1 H), 1.78 - 1.84 (m, 3 H), 1.93 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.48 - 3.54 (m, 1 H), 3.84 - 3.90 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.38 - 4.46 (m, 3 H), 4.65 (dd, 1 H, J = 4.3 Hz, 7.6 Hz), 4.71 (dd, 1 H, J = 3.0 Hz, 12.2 Hz), 5.51 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 (brs, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.15 - 7.24 (m, 5 H), 7.24 - 7.30 (m, 3 H), 7.33 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.41 (dd, 1 H, J = 4.1 Hz, 6.8 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.56 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.79 (t, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1593, 1489, 1457, 1387, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3483.
実施例３４（３４ｃ）で得られた２−（［３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１４ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２１ｍＬ、０．３４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率６０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.63 (m, 8 H), 1.67 - 1.73 (m, 1 H), 1.78 - 1.84 (m, 3 H), 1.93 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.48 - 3.54 (m, 1 H), 3.84 - 3.90 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.38 - 4.46 (m, 3 H), 4.65 (dd, 1 H, J = 4.3 Hz, 7.6 Hz), 4.71 (dd, 1 H, J = 3.0 Hz, 12.2 Hz), 5.51 (t, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 (brs, 2 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.15 - 7.24 (m, 5 H), 7.24 - 7.30 (m, 3 H), 7.33 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.41 (dd, 1 H, J = 4.1 Hz, 6.8 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.56 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.79 (t, 1 H, J = 2.5 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1593, 1489, 1457, 1387, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3483.
（３４ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３４（３４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（７９ｍｇ、収率８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.91 (t, 3 H, J = 6.2 Hz), 1.04 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 8 H), 1.53 - 1.64 (m, 4 H), 1.80 - 1.88 (m, 2 H), 1.93 - 1.98 (m, 1 H), 2.05 (s, 1 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.06 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.44 (s, 2 H), 4.63 (d, 2 H, J = 4.0 Hz), 5.58 (s, 1 H), 6.92 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 6.98 (s, 1 H), 7.03 - 7.08 (m, 3 H), 7.21 - 7.28 (m, 4 H), 7.28 - 7.37 (m, 4 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.55 - 7.64 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3542, 3380, 1593, 1489, 1457, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2895; found: 777.2872.
実施例３４（３４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（７９ｍｇ、収率８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.91 (t, 3 H, J = 6.2 Hz), 1.04 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 (brs, 8 H), 1.53 - 1.64 (m, 4 H), 1.80 - 1.88 (m, 2 H), 1.93 - 1.98 (m, 1 H), 2.05 (s, 1 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.06 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.44 (s, 2 H), 4.63 (d, 2 H, J = 4.0 Hz), 5.58 (s, 1 H), 6.92 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 6.98 (s, 1 H), 7.03 - 7.08 (m, 3 H), 7.21 - 7.28 (m, 4 H), 7.28 - 7.37 (m, 4 H), 7.41 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.55 - 7.64 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3542, 3380, 1593, 1489, 1457, 1387, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2895; found: 777.2872.
（３４ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３４（３４ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.56 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.38 (d, 1 H, J = 12.1 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 12.1 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.83 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 - 7.03 (m, 5 H), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.27 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.34 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3401, 1593, 1494, 1457, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)+ 677.2607; found: 677.2603.
実施例３４（３４ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９０ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.56 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.38 (d, 1 H, J = 12.1 Hz), 4.41 (d, 1 H, J = 12.1 Hz), 4.51 (s, 2 H), 5.83 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 - 7.03 (m, 5 H), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.27 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.34 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.59 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3401, 1593, 1494, 1457, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)+ 677.2607; found: 677.2603.
（実施例３５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３５ａ）［３−ブロモ−４−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール
２−ブロモテレフタル酸（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン錯塩−テトラヒドロフラン溶液（２８．９ｍL、３０．０ｍｍｏｌ）を滴下し、５０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶により精製を行い、標記目的化合物（１．０ｇ、収率９５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.58 (s, 2 H), 4.65 (s, 2 H), 7.32 (dd, 1 H, J = 1.1 Hz, 7.8 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 1.1 Hz).
IR (KBr) 3332, 3248 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（３５ａ）［３−ブロモ−４−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール
２−ブロモテレフタル酸（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン錯塩−テトラヒドロフラン溶液（２８．９ｍL、３０．０ｍｍｏｌ）を滴下し、５０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。再結晶により精製を行い、標記目的化合物（１．０ｇ、収率９５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 4.58 (s, 2 H), 4.65 (s, 2 H), 7.32 (dd, 1 H, J = 1.1 Hz, 7.8 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 1.1 Hz).
IR (KBr) 3332, 3248 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 216 (M)+.
（３５ｂ）［３−ブロモ−４−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メタノール
実施例３５（３５ａ）で得られた［３−ブロモ−４−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール（０．３３ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（６ｍＬ）に溶解し、そこへ３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１６ｍL、１．８ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間加熱環流した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率２７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.50 - 1.94 (m, 5 H), 2.00 (s, 1 H), 3.52 - 3.60 (m, 1 H), 3.86 - 3.97 (m, 1 H), 4.56 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.65 (s, 2 H), 4.76 (t, 2 H, J = 3.4 Hz), 4.81 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 7.29 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.9 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.56 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1454, 1390, 1348 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 301 (M+H)+.
実施例３５（３５ａ）で得られた［３−ブロモ−４−（ヒドロキシメチル）フェニル］メタノール（０．３３ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（６ｍＬ）に溶解し、そこへ３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１６ｍL、１．８ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（２６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間加熱環流した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率２７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.50 - 1.94 (m, 5 H), 2.00 (s, 1 H), 3.52 - 3.60 (m, 1 H), 3.86 - 3.97 (m, 1 H), 4.56 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.65 (s, 2 H), 4.76 (t, 2 H, J = 3.4 Hz), 4.81 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 7.29 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.9 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.56 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (Thin film) 3408, 1454, 1390, 1348 cm-1.
MS (FAB, positive) m/z, 301 (M+H)+.
（３５ｃ）２−（［２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン
実施例３５（３５ｂ）で得られた［３−ブロモ−４−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メタノール（０．１２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（４８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（０．１９ｍL、１．２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.44 (m, 8 H), 1.52 - 1.97 (m, 8 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.53 - 3.59 (m, 1 H), 3.88 - 3.97 (m, 1 H), 4.46 (s, 2 H), 4.57 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.76 (t, 1 H, J = 3.5 Hz), 4.81 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.53 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927, 2854, 1456, 1349 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C20H31 79BrNaO3 (M+Na)+ 421.1354; found: 421.1345.
実施例３５（３５ｂ）で得られた［３−ブロモ−４−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メタノール（０．１２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（４８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（０．１９ｍL、１．２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.44 (m, 8 H), 1.52 - 1.97 (m, 8 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.53 - 3.59 (m, 1 H), 3.88 - 3.97 (m, 1 H), 4.46 (s, 2 H), 4.57 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.76 (t, 1 H, J = 3.5 Hz), 4.81 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 7.27 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.53 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927, 2854, 1456, 1349 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C20H31 79BrNaO3 (M+Na)+ 421.1354; found: 421.1345.
（３５ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３５（３５ｃ）で得られた２−（［２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１１ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１７ｍＬ、０．２７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.20 - 1.34 (m, 8 H), 1.40 - 1.72 (m, 10 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.15 (d, 0.5 H, J = 3.4 Hz), 3.22 (d, 0.5 H, J = 3.7 Hz), 3.37 - 3.47 (m, 3 H), 3.65 - 3.73 (m, 1 H), 3.98 - 4.06 (m, 3 H), 4.28 (d, 0.5 H, J = 11.7 Hz), 4.34 (d, 0.5 H, J = 12.1 Hz), 4.41 (s, 1 H), 4.43 (s, 1 H), 4.43 - 4.51 (m, 1 H), 5.79 (d, 0.5 H, J = 3.4 Hz), 5.81 (d, 0.5 H, J = 3.7 Hz), 6.80 (t, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.97 - 7.12 (m, 4 H), 7.15 - 7.43 (m, 10 H), 7.48 - 7.65 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3417, 1593, 1489, 1457, 1388, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3472.
実施例３５（３５ｃ）で得られた２−（［２−ブロモ−４−（へプチルオキシメチル）ベンジル］オキシ）テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１１ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１７ｍＬ、０．２７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.20 - 1.34 (m, 8 H), 1.40 - 1.72 (m, 10 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 3.15 (d, 0.5 H, J = 3.4 Hz), 3.22 (d, 0.5 H, J = 3.7 Hz), 3.37 - 3.47 (m, 3 H), 3.65 - 3.73 (m, 1 H), 3.98 - 4.06 (m, 3 H), 4.28 (d, 0.5 H, J = 11.7 Hz), 4.34 (d, 0.5 H, J = 12.1 Hz), 4.41 (s, 1 H), 4.43 (s, 1 H), 4.43 - 4.51 (m, 1 H), 5.79 (d, 0.5 H, J = 3.4 Hz), 5.81 (d, 0.5 H, J = 3.7 Hz), 6.80 (t, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.97 - 7.12 (m, 4 H), 7.15 - 7.43 (m, 10 H), 7.48 - 7.65 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3417, 1593, 1489, 1457, 1388, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3472.
（３５ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３５（３５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：５）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.32 (m, 10 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 2.15 (brs, 1 H), 3.08 (brs, 1 H), 3.39 (dt, 2 H, J = 1.8 Hz, 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.14 (d, 1 H, J = 9.2 Hz), 4.22 (d, 1 H, J = 9.2 Hz), 4.40 (s, 2 H), 5.77 (s, 1 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 - 7.09 (m, 3 H), 7.17 - 7.22 (m, 5 H), 7.27 - 7.34 (m, 3 H), 7.40 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.61 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3376, 1593, 1489, 1457, 1386, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2905.
実施例３５（３５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：５）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.32 (m, 10 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 2.15 (brs, 1 H), 3.08 (brs, 1 H), 3.39 (dt, 2 H, J = 1.8 Hz, 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.14 (d, 1 H, J = 9.2 Hz), 4.22 (d, 1 H, J = 9.2 Hz), 4.40 (s, 2 H), 5.77 (s, 1 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 - 7.09 (m, 3 H), 7.17 - 7.22 (m, 5 H), 7.27 - 7.34 (m, 3 H), 7.40 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.57 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.61 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3376, 1593, 1489, 1457, 1386, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO7S (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2905.
（３５ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３５（３５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７０ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ、収率５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.06 (d, 1 H, J = 13.6 Hz), 4.28 (d, 1 H, J = 13.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 5.95 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.16 - 7.22 (m, 2 H), 7.28 - 7.37 (m, 4 H), 7.47 (dd, 1 H, J = 2.6 Hz, 6.4 Hz), 7.51 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.94 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3409, 1593, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)+ 677.2607; found: 677.2608.
実施例３５（３５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７０ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３７ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３７ｍｇ、収率５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.06 (d, 1 H, J = 13.6 Hz), 4.28 (d, 1 H, J = 13.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 5.95 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.16 - 7.22 (m, 2 H), 7.28 - 7.37 (m, 4 H), 7.47 (dd, 1 H, J = 2.6 Hz, 6.4 Hz), 7.51 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.94 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3409, 1593, 1494, 1458, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)+ 677.2607; found: 677.2608.
（実施例３６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３６ａ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［（ヘプチルチオ）メチル］ベンゼン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．１４ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ１−ヘプタンチオール（０．１３ｍL、０．８２ｍｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（９３ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.7 Hz), 1.20 - 1.37 (m, 8 H), 1.50 - 1.58 (m, 2 H), 2.40 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.62 (s, 2 H), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 5.1 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 10.5 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 10.5 Hz, 17.2 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.18 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 1494, 1282, 1256, 1236 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H25 79BrOS (M)+ 356.0810; found: 356.0817.
（３６ａ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［（ヘプチルチオ）メチル］ベンゼン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．１４ｇ、０．５８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ１−ヘプタンチオール（０．１３ｍL、０．８２ｍｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛（９３ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１４ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.7 Hz), 1.20 - 1.37 (m, 8 H), 1.50 - 1.58 (m, 2 H), 2.40 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.62 (s, 2 H), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 5.1 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 10.5 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.7 Hz, 1.7 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 10.5 Hz, 17.2 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.18 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 1494, 1282, 1256, 1236 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C17H25 79BrOS (M)+ 356.0810; found: 356.0817.
（３６ｂ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（ヘプチルチオ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ａ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［（ヘプチルチオ）メチル］ベンゼン（０．１４ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２５ｍＬ、０．４０ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.22 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 2.38 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.64 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 - 4.34 (m, 2 H), 4.99 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.74 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 2.6 Hz, 6.3 Hz), 7.11 - 7.35 (m, 11 H), 7.54 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 1593, 1492, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO6S3 (M+Na)+ 819.2824; found: 819.2818.
実施例３６（３６ａ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［（ヘプチルチオ）メチル］ベンゼン（０．１４ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２５ｍＬ、０．４０ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.22 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 2.38 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.64 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 - 4.34 (m, 2 H), 4.99 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.74 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 2.6 Hz, 6.3 Hz), 7.11 - 7.35 (m, 11 H), 7.54 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 1593, 1492, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO6S3 (M+Na)+ 819.2824; found: 819.2818.
（３６ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（ヘプチルチオ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解し、そこへトリフェニルホスフィン（１８ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ）を加え室温で攪拌した。次いで、トリエチルアミン（２９μL、０．２１ｍｍｏｌ）、ギ酸（５３μL、１．４ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.17 - 1.31 (m, 8 H), 1.42 - 1.57 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 2.31 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.46 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 3.50 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.64 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.49 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.06 - 7.13 (m, 2 H), 7.13 - 7.22 (m, 3 H), 7.23 - 7.42 (m, 6 H), 7.56 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.69 (s, 1 H), 7.83 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 3479, 3329, 1593, 1494, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S3 (M+Na)+ 779.2511; found: 779.2530.
実施例３６（３６ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（ヘプチルチオ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解し、そこへトリフェニルホスフィン（１８ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ）を加え室温で攪拌した。次いで、トリエチルアミン（２９μL、０．２１ｍｍｏｌ）、ギ酸（５３μL、１．４ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｇ、収率９４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.17 - 1.31 (m, 8 H), 1.42 - 1.57 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 2.31 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 2.46 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 3.50 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.64 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.49 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.06 - 7.13 (m, 2 H), 7.13 - 7.22 (m, 3 H), 7.23 - 7.42 (m, 6 H), 7.56 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.69 (s, 1 H), 7.83 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 3479, 3329, 1593, 1494, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO6S3 (M+Na)+ 779.2511; found: 779.2530.
（３６ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（６４ｍｇ、１．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８４ｍｇ、収率７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.22 (m, 8 H), 1.41 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.29 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.55 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.58 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 - 7.00 (m, 1 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.01 (s, 1 H), 7.09 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.16 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.25 - 7.32 (m, 2 H), 7.45 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.00 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3336, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O6S3 (M-Na)+ 679.2222; found: 679.2248.
実施例３６（３６ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（６４ｍｇ、１．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８４ｍｇ、収率７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.22 (m, 8 H), 1.41 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.29 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.55 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.58 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 - 7.00 (m, 1 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.01 (s, 1 H), 7.09 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.16 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.25 - 7.32 (m, 2 H), 7.45 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.00 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3336, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O6S3 (M-Na)+ 679.2222; found: 679.2248.
（実施例３７）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３７ａ）Ｎ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチルアミン
実施例２８（２８ｃ）で得られた４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（０．２４ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をメタノール（４ｍＬ）に溶解し、そこへヘプチルアミン（０．１８ｍL、１．２ｍｍｏｌ）、シアノトリヒドロホウ酸ナトリウム（０．１９ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.44 - 1.56 (m, 2 H), 2.18 (brs, 1 H), 2.61 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.71 (s, 2 H), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 10.6 Hz), 5.47 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.52 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 3310, 1495, 1455, 1282, 1255 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 339 (M)+.
（３７ａ）Ｎ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチルアミン
実施例２８（２８ｃ）で得られた４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（０．２４ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をメタノール（４ｍＬ）に溶解し、そこへヘプチルアミン（０．１８ｍL、１．２ｍｍｏｌ）、シアノトリヒドロホウ酸ナトリウム（０．１９ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.44 - 1.56 (m, 2 H), 2.18 (brs, 1 H), 2.61 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.71 (s, 2 H), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 10.6 Hz), 5.47 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.52 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Liquid film) 3310, 1495, 1455, 1282, 1255 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 339 (M)+.
（３７ｂ）Ｎ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチル−Ｎ−メチルアミン
実施例３７（３７ａ）で得られたＮ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチルアミン（０．３１ｇ、０．９１ｍｍｏｌ）にホルムアルデヒド（３ｍＬ）、ギ酸（３ｍＬ）を加え、８０℃で４時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した残渣を水（２ｍＬ）で希釈し、水酸化カリウムで中和した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.27 (brs, 8 H), 1.45 - 1.52 (m, 2 H), 2.16 (s, 3 H), 2.33 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 3.38 (s, 2 H), 4.59 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.30 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.48 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.17 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 1.6 Hz).
IR (Liquid film) 1494, 1281, 1253 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C18H28 79BrNO (M)+ 353.1354; found: 353.1358.
実施例３７（３７ａ）で得られたＮ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチルアミン（０．３１ｇ、０．９１ｍｍｏｌ）にホルムアルデヒド（３ｍＬ）、ギ酸（３ｍＬ）を加え、８０℃で４時間攪拌した。減圧下溶媒を留去した残渣を水（２ｍＬ）で希釈し、水酸化カリウムで中和した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ、収率６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.27 (brs, 8 H), 1.45 - 1.52 (m, 2 H), 2.16 (s, 3 H), 2.33 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 3.38 (s, 2 H), 4.59 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.30 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.48 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.17 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.51 (d, 1 H, J = 1.6 Hz).
IR (Liquid film) 1494, 1281, 1253 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C18H28 79BrNO (M)+ 353.1354; found: 353.1358.
（３７ｃ）フェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３７（３７ｂ）で得られたＮ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチル−Ｎ−メチルアミン（０．１２ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２１ｍＬ、０．３３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.26 (brs, 8 H), 1.45 - 1.57 (m, 4 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.16 (s, 3 H), 2.20 - 2.27 (m, 3 H), 3.43 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.8 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.8 Hz), 4.99 (d, 1 H, J = 16.7 Hz), 5.07 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 16.7 Hz), 5.76 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 6.7 Hz), 7.11 - 7.38 (m, 11 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (KBr) 3549, 3333, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H56NO6S2 (M+H)+ 794.3549; found: 794.3557.
実施例３７（３７ｂ）で得られたＮ−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］−Ｎ−ヘプチル−Ｎ−メチルアミン（０．１２ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２１ｍＬ、０．３３ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率６８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.26 (brs, 8 H), 1.45 - 1.57 (m, 4 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.16 (s, 3 H), 2.20 - 2.27 (m, 3 H), 3.43 (s, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.8 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.8 Hz), 4.99 (d, 1 H, J = 16.7 Hz), 5.07 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 16.7 Hz), 5.76 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 6.7 Hz), 7.11 - 7.38 (m, 11 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (KBr) 3549, 3333, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H56NO6S2 (M+H)+ 794.3549; found: 794.3557.
（３７ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３７（３７ｃ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２３ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３６μL、０．２６ｍｍｏｌ）、ギ酸（６４μL、１．７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（９８ｍｇ、収率７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.14 - 1.30 (m, 9 H), 1.37 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.83 (m, 2 H), 2.05 (s, 3 H), 2.29 (brs, 2 H), 3.23 - 3.37 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.62 (s, 1 H), 6.48 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.02 - 7.05 (m, 2 H), 7.16 - 7.23 (m, 4 H), 7.25 - 7.32 (m, 5 H), 7.39 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.9 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (Liquid film) 3258, 1592, 1491, 1458, 1386, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H52NO6S2 (M+H)+ 754.3236; found: 754.3248.
実施例３７（３７ｃ）で得られたフェニル ２’−［（２−アリルオキシ−５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］フェニル）（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２３ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３６μL、０．２６ｍｍｏｌ）、ギ酸（６４μL、１．７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（９８ｍｇ、収率７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.14 - 1.30 (m, 9 H), 1.37 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.83 (m, 2 H), 2.05 (s, 3 H), 2.29 (brs, 2 H), 3.23 - 3.37 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.62 (s, 1 H), 6.48 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.02 - 7.05 (m, 2 H), 7.16 - 7.23 (m, 4 H), 7.25 - 7.32 (m, 5 H), 7.39 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 6.9 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (Liquid film) 3258, 1592, 1491, 1458, 1386, 1366, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H52NO6S2 (M+H)+ 754.3236; found: 754.3248.
（３７ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３７（３７ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９８ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５２ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率５５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.34 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.63 - 1.72 (m, 2 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 2.65 (s, 3 H), 2.96 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.05 (s, 2 H), 6.03 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.07 (s, 1 H), 7.08 - 7.16 (m, 3 H), 7.26 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.51 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3257, 1593, 1493, 1457, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H46NO6S2 (M-Na)+ 676.2767; found: 676.2760.
実施例３７（３７ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−［［ヘプチル（メチル）アミノ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９８ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５２ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ、収率５５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.34 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.63 - 1.72 (m, 2 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 2.65 (s, 3 H), 2.96 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.05 (s, 2 H), 6.03 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.07 (s, 1 H), 7.08 - 7.16 (m, 3 H), 7.26 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.31 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.51 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3257, 1593, 1493, 1457, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H46NO6S2 (M-Na)+ 676.2767; found: 676.2760.
（実施例３８）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３８ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（３８ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を加え１０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.19 - 1.40 (m, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.58 - 1.73 (m, 2 H), 1.76 - 1.84 (m, 2 H), 2.50 (t, 1 H, J = 8.0 Hz), 2.56 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 3.49 - 3.61 (m, 1 H), 3.65 (d, 0.5 H, J = 13.3 Hz), 3.66 (d, 0.5 H, J = 13.0 Hz), 3.72 (d, 0.5 H, J = 13.0 Hz), 3.78 (d, 0.5 H, J = 13.3 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.54 (s, 0.5 H), 5.61 (s, 0.5 H), 6.47 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 6.53 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 6.65 (d, 0.5 H, J = 8.3 Hz), 6.66 (d, 0.5 H, J = 8.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 9.5 Hz), 6.95 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.03 - 7.07 (m, 1 H), 7.16 - 7.23 (m, 3 H), 7.26 - 7.34 (m, 5 H), 7.36 - 7.39 (m, 1 H), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.73 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.76 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 8.34 (brs, 0.5 H), 8.39 (brs, 0.5 H).
IR (Liquid film) 3175, 3067, 1593, 1491, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S3 (M+Na)+ 795.2460; found: 795.2435.
（３８ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３６（３６ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルチオ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１４ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（３８ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を加え１０分間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝５：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１１ｇ、収率７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.19 - 1.40 (m, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.58 - 1.73 (m, 2 H), 1.76 - 1.84 (m, 2 H), 2.50 (t, 1 H, J = 8.0 Hz), 2.56 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 3.49 - 3.61 (m, 1 H), 3.65 (d, 0.5 H, J = 13.3 Hz), 3.66 (d, 0.5 H, J = 13.0 Hz), 3.72 (d, 0.5 H, J = 13.0 Hz), 3.78 (d, 0.5 H, J = 13.3 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.54 (s, 0.5 H), 5.61 (s, 0.5 H), 6.47 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 6.53 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 6.65 (d, 0.5 H, J = 8.3 Hz), 6.66 (d, 0.5 H, J = 8.3 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 9.5 Hz), 6.95 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.03 - 7.07 (m, 1 H), 7.16 - 7.23 (m, 3 H), 7.26 - 7.34 (m, 5 H), 7.36 - 7.39 (m, 1 H), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.73 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.76 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 8.34 (brs, 0.5 H), 8.39 (brs, 0.5 H).
IR (Liquid film) 3175, 3067, 1593, 1491, 1458, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S3 (M+Na)+ 795.2460; found: 795.2435.
（３８ｂ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３８（３８ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（６０ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２０ｍｇ、収率１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.46 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.65 - 1.74 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.54 - 2.62 (m, 1 H), 2.66 - 2.73 (m, 1 H), 3.91 (d, 1 H, J = 13.4 Hz), 3.99 (d, 1 H, J = 13.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (d, 1 H, J = 3.0 Hz), 6.65 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.76 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.77 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.01 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.2 Hz), 7.08 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 2 H), 7.42 - 7.46 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.97 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.98 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3349, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S3 (M-Na)+ 695.2171 ; found: 695.2158.
実施例３８（３８ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプチルスルフィニル）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（６０ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２０ｍｇ、収率１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.46 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.65 - 1.74 (m, 2 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 2.54 - 2.62 (m, 1 H), 2.66 - 2.73 (m, 1 H), 3.91 (d, 1 H, J = 13.4 Hz), 3.99 (d, 1 H, J = 13.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (d, 1 H, J = 3.0 Hz), 6.65 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.76 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.77 (d, 0.5 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.01 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 8.2 Hz), 7.08 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 2 H), 7.42 - 7.46 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.97 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.98 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3349, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S3 (M-Na)+ 695.2171 ; found: 695.2158.
（実施例３９）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルフェニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（３９ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルベンゾイル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（２−フロロ−５−ノナノイルベンゾイル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９７ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ） に溶解した後、水硫化ナトリウム−水和物（１４ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃に加熱して７時間４５分攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水、飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（３１ｍｇ，３１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.30 (brs, 10 H), 1.47 - 1.55 (m, 2 H), 1.62 - 1.68 (m, 2 H), 1.76 - 1.82 (m, 2 H), 2.70 (s, 6 H), 2.77 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.56 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.63 (d, 1 H, J = 8.9 Hz), 6.95 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.99 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz ), 7.17 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.24 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.32 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.42 - 7.44 (m, 3 H), 7.52 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 7.87 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.9 Hz), 7.96 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 2929, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO6S2 (M+Na)+800.3056; found: 800.3051.
（３９ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルベンゾイル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３３（３３ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−（２−フロロ−５−ノナノイルベンゾイル）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９７ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍＬ） に溶解した後、水硫化ナトリウム−水和物（１４ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）を加え、１００℃に加熱して７時間４５分攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水、飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（３１ｍｇ，３１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.30 (brs, 10 H), 1.47 - 1.55 (m, 2 H), 1.62 - 1.68 (m, 2 H), 1.76 - 1.82 (m, 2 H), 2.70 (s, 6 H), 2.77 (t, 2 H, J = 7.5 Hz), 3.99 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 6.56 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.63 (d, 1 H, J = 8.9 Hz), 6.95 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 6.99 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz ), 7.17 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.24 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.32 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.42 - 7.44 (m, 3 H), 7.52 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.71 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 7.87 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.9 Hz), 7.96 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 2929, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO6S2 (M+Na)+800.3056; found: 800.3051.
（３９ｂ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルフェニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３９（３９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルベンゾイル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３１ｍｇ，０．０４１ｍｍｏｌ）、亜鉛（６．３ｍｇ，０．０９７ｍｍｏｌ）を用い、実施例３３（３３ｈ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６．０ｍｇ，１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.31 (brs, 10 H), 1.49 - 1.53 (m, 2 H), 1.57 - 1.62 (m, 2 H), 1.77 - 1.83 (m, 2 H), 2.54 (s, 6 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.99 (s, 1 H), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.8 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.17 - 7.22 (m, 4 H), 7.27 - 7.33 (m, 3 H), 7.39 (dt, 1 H, J = 1.3 Hz, 8.8 Hz), 7.49 - 7.54 (m, 4 H), 7.73 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.80 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz).
IR (KBr) 3412, 2928, 1594, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H53NNaO6S2 (M+Na)+ 802.3212; found: 802.3210.
実施例３９（３９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルベンゾイル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３１ｍｇ，０．０４１ｍｍｏｌ）、亜鉛（６．３ｍｇ，０．０９７ｍｍｏｌ）を用い、実施例３３（３３ｈ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（６．０ｍｇ，１９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.31 (brs, 10 H), 1.49 - 1.53 (m, 2 H), 1.57 - 1.62 (m, 2 H), 1.77 - 1.83 (m, 2 H), 2.54 (s, 6 H), 2.75 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.99 (s, 1 H), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.8 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.17 - 7.22 (m, 4 H), 7.27 - 7.33 (m, 3 H), 7.39 (dt, 1 H, J = 1.3 Hz, 8.8 Hz), 7.49 - 7.54 (m, 4 H), 7.73 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.80 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz).
IR (KBr) 3412, 2928, 1594, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H53NNaO6S2 (M+Na)+ 802.3212; found: 802.3210.
（３９ｃ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルフェニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例３９（３９ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルフェニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６．０ｍｇ，０．００７８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３．０ｍｇ，０．０７８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５．６ｍｇ，９９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.31 (brs, 10 H), 1.50 - 1.55 (m, 2 H), 1.56 - 1.60 (m, 2 H), 1.75 - 1.80 (m, 2 H), 2.81 - 2.86 (m, 2 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.20 (s, 1 H), 6.66 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.26 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.52 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.73 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 7.90 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3399, 2926, 1595, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H48NO6S2 (M-Na)- 702.2923; found: 702.2926.
実施例３９（３９ｂ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［２−（ジメチルアミノ）−５−ノナノイルフェニル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６．０ｍｇ，０．００７８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３．０ｍｇ，０．０７８ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５．６ｍｇ，９９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.31 (brs, 10 H), 1.50 - 1.55 (m, 2 H), 1.56 - 1.60 (m, 2 H), 1.75 - 1.80 (m, 2 H), 2.81 - 2.86 (m, 2 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.20 (s, 1 H), 6.66 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.26 (t, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.36 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.52 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.73 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.5 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 7.90 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3399, 2926, 1595, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C40H48NO6S2 (M-Na)- 702.2923; found: 702.2926.
（実施例４０）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（４０ａ）１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−ノナン−１−オール
3−ブロモ−４−アリルオキシベンズアルデヒド（０．９５ｇ，３．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍL）に溶解し、−７８℃に冷却した。２．０Mｎ−オクチルマグネシウムブロミド（２．４ｍＬ，４．７ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍL）を加え反応を停止した後、水（２０ｍL）を加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.20-1.44 (m, 12 H), 1.60-1.80 (m, 3 H), 4.56-4.63 (m, 3 H), 5.31 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 15.3 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 8.8 Hz, 15.3 Hz, 5.1 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3363, 1603, 1495, 1456 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C18H27 79BrO2 (M)+ 354.1194; found: 354.1200.
（４０ａ）１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−ノナン−１−オール
3−ブロモ−４−アリルオキシベンズアルデヒド（０．９５ｇ，３．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍL）に溶解し、−７８℃に冷却した。２．０Mｎ−オクチルマグネシウムブロミド（２．４ｍＬ，４．７ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、1時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍL）を加え反応を停止した後、水（２０ｍL）を加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物（１．３ｇ，９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.20-1.44 (m, 12 H), 1.60-1.80 (m, 3 H), 4.56-4.63 (m, 3 H), 5.31 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 15.3 Hz), 6.06 (ddt, 1 H, J = 8.8 Hz, 15.3 Hz, 5.1 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (neat) 3363, 1603, 1495, 1456 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C18H27 79BrO2 (M)+ 354.1194; found: 354.1200.
（４０ｂ）１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナン
実施例４０（４０ａ）で得られた１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−ノナン−１−オール（０．２６ｇ、０．７３ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．１５ｇ、２．２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍL）で溶解した。ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（０．１３ｇ、０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で1時間撹拌した。
飽和重曹水（１ｍL）を加え反応を停止した後、水１０ｍLを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（０．３２ｇ，９４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ -0.14 (s, 3 H), 0.02 (s, 3 H), 0.84-0.90 (m, 12 H), 1.16-1.36 (m, 12 H), 1.50-1.58 (m, 1 H), 1.60-1.69 (m, 1 H), 4.53 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 6.8 Hz), 4.59 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.30 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 15.6 Hz), 6.07 (ddt, 1 H, J = 15.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.14 (dd, 1 H, J = 8.8 Hz, 2.0 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 1494, 1471 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C24H40 79BrO2Si (M-H)+ 467.1981; found: 467.1974.
実施例４０（４０ａ）で得られた１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−ノナン−１−オール（０．２６ｇ、０．７３ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．１５ｇ、２．２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（２ｍL）で溶解した。ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（０．１３ｇ、０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で1時間撹拌した。
飽和重曹水（１ｍL）を加え反応を停止した後、水１０ｍLを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製を行い、標記目的化合物（０．３２ｇ，９４％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ -0.14 (s, 3 H), 0.02 (s, 3 H), 0.84-0.90 (m, 12 H), 1.16-1.36 (m, 12 H), 1.50-1.58 (m, 1 H), 1.60-1.69 (m, 1 H), 4.53 (dd, 1 H, J = 4.9 Hz, 6.8 Hz), 4.59 (d, 2 H, J = 4.9 Hz), 5.30 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.49 (d, 1 H, J = 15.6 Hz), 6.07 (ddt, 1 H, J = 15.6 Hz, 10.7 Hz, 4.9 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.14 (dd, 1 H, J = 8.8 Hz, 2.0 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 1494, 1471 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C24H40 79BrO2Si (M-H)+ 467.1981; found: 467.1974.
（４０ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−［１−（ｔ−ブトキシジメチルシリル）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４０（４０ｂ）で得られた１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナン（０．１０ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１３ｍL，０．２１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１４ｇ，８８％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.04 (s, 1.5 H), 0.20 (s, 3 H), 1.02 (s, 4.5 H), 1.05 (s, 4.5 H), 1.07 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.20 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.38-1.57 (m, 12 H), 1.68-1.79 (m, 3 H), 1.81-1.90 (m, 1 H), 2.01 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.27 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 2.37 (d, 0.5 H, J = 3.9 Hz), 4.22 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.41-4.53 (m, 2 H), 4.77 (t, 1 H, J = 5.9 Hz), 5.20 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 15.6 Hz), 5.26 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 10.7 Hz), 5.80-5.90 (m, 1 H), 5.94 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 5.96 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 6.88 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.08 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 7.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.25-7.34 (m, 3 H), 7.37-7.57 (m, 8 H), 7.73 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.03 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.08 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3557, 1593, 1492, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H68NaO7S2Si (M+Na)+ 931.4073; found: 931.4053.
実施例４０（４０ｂ）で得られた１−（4−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）−１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノナン（０．１０ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．１３ｍL，０．２１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．１４ｇ，８８％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.00 (s, 1.5 H), 0.04 (s, 1.5 H), 0.20 (s, 3 H), 1.02 (s, 4.5 H), 1.05 (s, 4.5 H), 1.07 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.20 (t, 1.5 H, J = 6.8 Hz), 1.38-1.57 (m, 12 H), 1.68-1.79 (m, 3 H), 1.81-1.90 (m, 1 H), 2.01 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.27 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 2.37 (d, 0.5 H, J = 3.9 Hz), 4.22 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 4.41-4.53 (m, 2 H), 4.77 (t, 1 H, J = 5.9 Hz), 5.20 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 15.6 Hz), 5.26 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 10.7 Hz), 5.80-5.90 (m, 1 H), 5.94 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 5.96 (d, 0.5 H, J = 4.9 Hz), 6.88 (t, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.08 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 7.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.25-7.34 (m, 3 H), 7.37-7.57 (m, 8 H), 7.73 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.03 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.08 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3557, 1593, 1492, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H68NaO7S2Si (M+Na)+ 931.4073; found: 931.4053.
（４０ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４０（４０ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−［１−（ｔ−ブトキシジメチルシリル）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（６７ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１１ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．０ｍｇ，０．０００８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（５８μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）、ギ酸（３２μＬ、０．８４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （６６ｍｇ，１００％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.33 (m, 12 H), 1.46-1.57 (m, 3 H), 1.58-1.70 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.84 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.41 (q, 1 H, J = 5.9 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.53 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.78 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 5.6 Hz), 6.90 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06-7.11 (m, 2 H), 7.14-7.20 (m, 3 H), 7.24-7.37 (m, 5 H), 7.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.51-7.60 (m, 3 H), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 7.8 Hz).
IR (neat) 3519, 3292, 1593, 1492, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2895; found: 777.2858.
実施例４０（４０ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−［１−（ｔ−ブトキシジメチルシリル）ノニル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（６７ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１１ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．０ｍｇ，０．０００８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．５０ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（５８μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）、ギ酸（３２μＬ、０．８４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （６６ｍｇ，１００％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 7.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.33 (m, 12 H), 1.46-1.57 (m, 3 H), 1.58-1.70 (m, 1 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.84 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.41 (q, 1 H, J = 5.9 Hz), 5.68 (s, 1 H), 6.53 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.78 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 5.6 Hz), 6.90 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06-7.11 (m, 2 H), 7.14-7.20 (m, 3 H), 7.24-7.37 (m, 5 H), 7.43 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.51-7.60 (m, 3 H), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 7.8 Hz).
IR (neat) 3519, 3292, 1593, 1492, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2895; found: 777.2858.
（４０ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４０（４０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５６ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（２５ｍｇ，４９％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.32 (m, 12 H), 1.48-1.60 (m, 3 H), 1.64-1.73 (m, 1 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.41 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.06 (s, 0.5 H), 6.07 (s, 0.5 H), 6.62 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.03 (m, 4 H), 7.04 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.98 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3385, 1730, 1597, 1495, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2607; found: 677.2606.
実施例４０（４０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−5−（１−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（５６ｍｇ、０．０７４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（２５ｍｇ，４９％）を得た。
（２種の立体異性体の混合物）
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.10-1.32 (m, 12 H), 1.48-1.60 (m, 3 H), 1.64-1.73 (m, 1 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.41 (t, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.06 (s, 0.5 H), 6.07 (s, 0.5 H), 6.62 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.96-7.03 (m, 4 H), 7.04 (d, 1 H, J = 5.9 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.98 (s, 1 H).
IR (CHCl3) 3385, 1730, 1597, 1495, 1460 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C38H45O7S2 (M-Na)- 677.2607; found: 677.2606.
（実施例４１）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４１ａ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（メトキシメチル）ベンゼン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．１９ｇ、０．７９ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（０．１５ｍＬ、２．４ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（９５ｍｇ、２．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.36 (s, 3 H), 4.36 (s, 2 H), 4.61 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 5.31 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 1605, 1496, 1283, 1256 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C11H13 79BrO2 (M)+ 256.0099; found: 256.0101.
（４１ａ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（メトキシメチル）ベンゼン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．１９ｇ、０．７９ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（０．１５ｍＬ、２．４ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（９５ｍｇ、２．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.36 (s, 3 H), 4.36 (s, 2 H), 4.61 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 5.31 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.54 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 1605, 1496, 1283, 1256 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C11H13 79BrO2 (M)+ 256.0099; found: 256.0101.
（４１ｂ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４１（４１ａ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（メトキシメチル）ベンゼン（０．１７ｇ、０．６５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４１ｍＬ、０．６５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１９ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.25 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.35 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.26 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.32 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.37 (s, 2 H), 4.99 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.77 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 6.9 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.17 - 7.21 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 5 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3407, 1591, 1493, 1458, 1386, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H40NaO7S2 (M+Na)+ 719.2113; found: 719.2121.
実施例４１（４１ａ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（メトキシメチル）ベンゼン（０．１７ｇ、０．６５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．４１ｍＬ、０．６５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１９ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１８ｇ、収率７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 2.25 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.35 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.26 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.32 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.37 (s, 2 H), 4.99 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 10.6 Hz), 5.63 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.77 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 6.9 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.17 - 7.21 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 5 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3407, 1591, 1493, 1458, 1386, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C40H40NaO7S2 (M+Na)+ 719.2113; found: 719.2121.
（４１ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４１（４１ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１８ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３４ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５４μL、０．３９ｍｍｏｌ）、ギ酸（９８μL、２．６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ、収率９０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.58 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.27 (s, 3 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.23 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 5.67 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.54 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 - 7.14 (m, 2 H), 7.15 - 7.22 (m, 3 H), 7.24 - 7.37 (m, 5 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.0 Hz), 7.56 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (s, 1 H), 7.84 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3302, 1593, 1491, 1458, 1386, 1365, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H36NaO7S2 (M+Na)+ 679.1800; found: 679.1813.
実施例４１（４１ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１８ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３４ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５４μL、０．３９ｍｍｏｌ）、ギ酸（９８μL、２．６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ、収率９０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.58 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 3.27 (s, 3 H), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 4.23 (d, 1 H, J = 11.5 Hz), 5.67 (d, 1 H, J = 3.9 Hz), 6.54 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 6.82 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.08 - 7.14 (m, 2 H), 7.15 - 7.22 (m, 3 H), 7.24 - 7.37 (m, 5 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.0 Hz), 7.56 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (s, 1 H), 7.84 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (KBr) 3302, 1593, 1491, 1458, 1386, 1365, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C37H36NaO7S2 (M+Na)+ 679.1800; found: 679.1813.
（４１ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４１（４１ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（９２ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７５ｍｇ、収率５３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.56 (m, 2 H), 1.73 - 1.81 (m, 2 H), 3.28 (s, 3 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.3 Hz), 4.29 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.63 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 - 7.04 (m, 3 H), 7.12 - 7.20 (m, 3 H), 7.23 - 7.32 (m, 2 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.3 Hz, 6.3 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 8.02 (s, 1 H).
IR (KBr) 3347, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C31H31O7S2 (M-Na)+ 579.1511; found: 579.1506.
実施例４１（４１ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（メトキシメチル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（９２ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（７５ｍｇ、収率５３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.46 - 1.56 (m, 2 H), 1.73 - 1.81 (m, 2 H), 3.28 (s, 3 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.3 Hz), 4.29 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.63 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 - 7.04 (m, 3 H), 7.12 - 7.20 (m, 3 H), 7.23 - 7.32 (m, 2 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.3 Hz, 6.3 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 8.02 (s, 1 H).
IR (KBr) 3347, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C31H31O7S2 (M-Na)+ 579.1511; found: 579.1506.
（実施例４２）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−カルボキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４２ａ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート
実施例３４（３４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２１ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ４−ジメチルアミノピリジン（９２ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１０ｍＬ、０．７５ｍｍｏｌ）、無水酢酸（７１μＬ、０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率９７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.65 (m, 8 H), 1.65 - 1.74 (m, 1 H), 1.77 - 1.86 (m, 3 H), 2.06 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.46 - 3.54 (m, 1 H), 3.81 - 3.89 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.38 - 4.43 (m, 1 H), 4.63 (t, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 4.64 (t, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 4.68 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.84 - 6.89 (m, 3 H), 6.98 - 7.05 (m, 3 H), 7.18 - 7.33 (m, 8 H), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.6 Hz), 7.44 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (dd, 2 H, J = 1.4 Hz, 8.6 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 1.6 Hz).
IR (Liquid film) 1744, 1593, 1490, 1458, 1387, 1370, 1247, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H60NaO9S2 (M+Na)+ 903.3577; found: 903.3542.
（４２ａ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート
実施例３４（３４ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２１ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、そこへ４−ジメチルアミノピリジン（９２ｍｇ、０．７５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１０ｍＬ、０．７５ｍｍｏｌ）、無水酢酸（７１μＬ、０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率９７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.65 (m, 8 H), 1.65 - 1.74 (m, 1 H), 1.77 - 1.86 (m, 3 H), 2.06 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.46 - 3.54 (m, 1 H), 3.81 - 3.89 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.38 - 4.43 (m, 1 H), 4.63 (t, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 4.64 (t, 0.5 H, J = 3.8 Hz), 4.68 (d, 1 H, J = 12.3 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.84 - 6.89 (m, 3 H), 6.98 - 7.05 (m, 3 H), 7.18 - 7.33 (m, 8 H), 7.35 (dt, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.6 Hz), 7.44 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.53 (dd, 2 H, J = 1.4 Hz, 8.6 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 1.6 Hz).
IR (Liquid film) 1744, 1593, 1490, 1458, 1387, 1370, 1247, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H60NaO9S2 (M+Na)+ 903.3577; found: 903.3542.
（４２ｂ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート
実施例４２（４２ａ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート（０．２１ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（６ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ、７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.01 (t, 1 H, J = 6.1 Hz), 2.08 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.56 (d, 2 H, J = 6.0 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.79 (s, 1 H), 6.87 - 6.92 (m, 2 H), 6.98 - 7.04 (m, 3 H), 7.18 - 7.33 (m, 8 H), 7.39 (dt, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.6 Hz), 7.50 - 7.57 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3432, 1744, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52O8S2 (M)+ 796.3103; found: 796.3077.
実施例４２（４２ａ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート（０．２１ｇ、０．２４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（６ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ、７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.01 (t, 1 H, J = 6.1 Hz), 2.08 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.56 (d, 2 H, J = 6.0 Hz), 6.62 (s, 1 H), 6.79 (s, 1 H), 6.87 - 6.92 (m, 2 H), 6.98 - 7.04 (m, 3 H), 7.18 - 7.33 (m, 8 H), 7.39 (dt, 1 H, J = 1.2 Hz, 7.6 Hz), 7.50 - 7.57 (m, 4 H).
IR (Thin film) 3432, 1744, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52O8S2 (M)+ 796.3103; found: 796.3077.
（４２ｃ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート
実施例４２（４２ｂ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート（０．１４ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下、デス−マーチン試薬（０．１３ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。チオ硫酸ナトリウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.37 (m, 8 H), 1.48 - 1.63 (m, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.10 (s, 3 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.46 (s, 2 H), 6.67 (s, 1 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.15 (s, 1 H), 7.17 - 7.24 (m, 4 H), 7.26 - 7.42 (m, 5 H), 7.47 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.69 (s, 1 H), 7.71 (s, 1 H), 9.89 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 1746, 1700, 1593, 1489, 1458, 1387, 1370, 1247, 1227 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO8S2 (M+Na)+ 817.2845; found: 817.2847.
実施例４２（４２ｂ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−（へプチルオキシメチル）−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート（０．１４ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（４ｍＬ）に溶解し、氷冷下、デス−マーチン試薬（０．１３ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。チオ硫酸ナトリウム水溶液（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.37 (m, 8 H), 1.48 - 1.63 (m, 4 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.10 (s, 3 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.46 (s, 2 H), 6.67 (s, 1 H), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.15 (s, 1 H), 7.17 - 7.24 (m, 4 H), 7.26 - 7.42 (m, 5 H), 7.47 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.69 (s, 1 H), 7.71 (s, 1 H), 9.89 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 1746, 1700, 1593, 1489, 1458, 1387, 1370, 1247, 1227 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO8S2 (M+Na)+ 817.2845; found: 817.2847.
（４２ｄ）３−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−５−（へプチルオキシメチル）安息香酸
実施例４２（４２ｃ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート（０．１３ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（１．５ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、そこへリン酸一ナトリウム（４１ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（４６ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（７２μＬ、０．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.33 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 2.08 (s, 3 H), 3.40 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.38 (d, 1 H, J = 12.5 Hz), 4.42 (d, 1 H, J = 12.5 Hz), 6.50 (s, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 (s, 1 H), 7.03 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.15 - 7.22 (m, 3 H), 7.26 - 7.34 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.54 (s, 1 H), 7.67 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (KBr) 1744, 1694, 1593, 1490, 1458, 1388, 1369, 1248, 1227 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO9S2 (M+Na)+ 833.2794; found: 833.2789.
実施例４２（４２ｃ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［３−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート（０．１３ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（１．５ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、そこへリン酸一ナトリウム（４１ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（４６ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（７２μＬ、０．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.33 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.75 - 1.82 (m, 2 H), 2.08 (s, 3 H), 3.40 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.38 (d, 1 H, J = 12.5 Hz), 4.42 (d, 1 H, J = 12.5 Hz), 6.50 (s, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 (s, 1 H), 7.03 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.07 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.12 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.15 - 7.22 (m, 3 H), 7.26 - 7.34 (m, 3 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.54 (s, 1 H), 7.67 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (KBr) 1744, 1694, 1593, 1490, 1458, 1388, 1369, 1248, 1227 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO9S2 (M+Na)+ 833.2794; found: 833.2789.
（４２ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−カルボキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４２（４２ｄ）で得られた３−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−５−（へプチルオキシメチル）安息香酸（３０ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（７ｍｇ、収率２７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.42 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 4.45 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 5.88 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.02 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.13 (s, 1 H), 7.17 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.77 (s, 2 H), 8.00 (s, 1 H).
IR (KBr) 3409, 1592, 1570, 1458, 1398, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O8S2 (M-Na)+ 691.2399; found: 691.2409.
実施例４２（４２ｄ）で得られた３−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−５−（へプチルオキシメチル）安息香酸（３０ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（７ｍｇ、収率２７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.35 (m, 8 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.42 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 4.45 (d, 1 H, J = 12.2 Hz), 5.88 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.02 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 7.13 (s, 1 H), 7.17 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.28 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.33 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.77 (s, 2 H), 8.00 (s, 1 H).
IR (KBr) 3409, 1592, 1570, 1458, 1398, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O8S2 (M-Na)+ 691.2399; found: 691.2409.
（実施例４３）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−カルボキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４３ａ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート
実施例３５（３５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（５１ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５９μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）、無水酢酸（４０μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.53 (m, 18 H), 1.77 - 1.86 (m, 2 H), 1.97 (s, 1.5 H), 2.00 (s, 1.5 H), 3.32 - 3.38 (m, 1 H), 3.43 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 3.44 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 3.60 - 3.72 (m, 1 H), 4.02 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 4.03 (t, 1 H, J = 6.4 Hz), 4.11 (d, 0.5 H, J = 11.8 Hz), 4.14 (d, 0.5 H, J = 12.4 Hz), 4.19 (t, 0.5 H, J = 3.5 Hz), 4.27 (d, 0.5 H, J = 12.4 Hz), 4.33 (d, 0.5 H, J = 11.8 Hz), 4.34 (t, 0.5 H, J = 3.1 Hz), 4.46 (s, 1 H), 4.48 (s, 1 H), 6.88 - 6.94 (m, 1.5 H), 6.97 - 7.03 (m, 2.5 H), 7.03 - 7.07 (m, 1 H), 7.13 - 7.38 (m, 12 H), 7.51 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 8.8 Hz) 7.75 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.82 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 1743, 1593, 1489, 1458, 1387, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H60NaO9S2 (M+Na)+ 903.3576; found: 903.3573.
（４３ａ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート
実施例３５（３５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１２ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（５１ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５９μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）、無水酢酸（４０μＬ、０．４２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.53 (m, 18 H), 1.77 - 1.86 (m, 2 H), 1.97 (s, 1.5 H), 2.00 (s, 1.5 H), 3.32 - 3.38 (m, 1 H), 3.43 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 3.44 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 3.60 - 3.72 (m, 1 H), 4.02 (t, 1 H, J = 6.5 Hz), 4.03 (t, 1 H, J = 6.4 Hz), 4.11 (d, 0.5 H, J = 11.8 Hz), 4.14 (d, 0.5 H, J = 12.4 Hz), 4.19 (t, 0.5 H, J = 3.5 Hz), 4.27 (d, 0.5 H, J = 12.4 Hz), 4.33 (d, 0.5 H, J = 11.8 Hz), 4.34 (t, 0.5 H, J = 3.1 Hz), 4.46 (s, 1 H), 4.48 (s, 1 H), 6.88 - 6.94 (m, 1.5 H), 6.97 - 7.03 (m, 2.5 H), 7.03 - 7.07 (m, 1 H), 7.13 - 7.38 (m, 12 H), 7.51 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 8.8 Hz) 7.75 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz), 7.82 (d, 0.5 H, J = 1.9 Hz).
IR (Thin film) 1743, 1593, 1489, 1458, 1387, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H60NaO9S2 (M+Na)+ 903.3576; found: 903.3573.
（４３ｂ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート
実施例４３（４３ａ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート（０．１２ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（４ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（７４ｍｇ、収率６６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.74 (dd, 1 H, J = 5.4 Hz, 6.4 Hz), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.01 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.12 (dd, 1 H, J = 6.4 Hz, 13.0 Hz), 4.22 (dd, 1 H, J = 5.4 Hz, 13.0 Hz), 4.45 (s, 2 H), 6.89 (s, 1 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 - 7.08 (m, 1 H), 7.15 (s, 1 H), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz), 7.23 - 7.28 (m, 4 H), 7.29 - 7.38 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.65 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (Thin film) 3446, 1742, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO8S2 (M+Na)+ 819.3001; found: 819.3020.
実施例４３（４３ａ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）メチル］フェニル］メチル アセテート（０．１２ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（４ｍｇ、０．０１４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例７（７ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（７４ｍｇ、収率６６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.21 - 1.36 (m, 8 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.74 (dd, 1 H, J = 5.4 Hz, 6.4 Hz), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.01 (s, 3 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.12 (dd, 1 H, J = 6.4 Hz, 13.0 Hz), 4.22 (dd, 1 H, J = 5.4 Hz, 13.0 Hz), 4.45 (s, 2 H), 6.89 (s, 1 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.05 - 7.08 (m, 1 H), 7.15 (s, 1 H), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz), 7.23 - 7.28 (m, 4 H), 7.29 - 7.38 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.65 (d, 1 H, J = 1.8 Hz).
IR (Thin film) 3446, 1742, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO8S2 (M+Na)+ 819.3001; found: 819.3020.
（４３ｃ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［２−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート
実施例４３（４３ｂ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート（７４ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）、デス−マーチン試薬（６９ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（６９ｍｇ、収率９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.40 (m, 8 H), 1.48 - 1.65 (m, 4 H), 1.77 - 1.86 (m, 2 H), 2.01 (s, 3 H), 3.48 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.55 (s, 2 H), 6.92 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 6.97 - 7.04 (m, 1 H), 7.07 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.4 Hz), 7.22 - 7.38 (m, 9 H), 7.43 - 7.48 (m, 2 H), 7.53 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 9.77 (s, 1 H).
IR (Thin film) 1743, 1699, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50O8S2 (M)+ 794.2947; found: 794.2941.
実施例４３（４３ｂ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−（へプチルオキシメチル）−２−（ヒドロキシメチル）フェニル］メチル アセテート（７４ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）、デス−マーチン試薬（６９ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物（６９ｍｇ、収率９３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.40 (m, 8 H), 1.48 - 1.65 (m, 4 H), 1.77 - 1.86 (m, 2 H), 2.01 (s, 3 H), 3.48 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.55 (s, 2 H), 6.92 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 6.97 - 7.04 (m, 1 H), 7.07 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 7.4 Hz), 7.22 - 7.38 (m, 9 H), 7.43 - 7.48 (m, 2 H), 7.53 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.77 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 9.77 (s, 1 H).
IR (Thin film) 1743, 1699, 1593, 1489, 1458, 1386, 1369, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50O8S2 (M)+ 794.2947; found: 794.2941.
（４３ｄ）２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（へプチルオキシメチル）安息香酸
実施例４３（４３ｃ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［２−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート（６９ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、リン酸一ナトリウム（２０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（２４ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（３７μＬ、０．３５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（６０ｍｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.37 (m, 8 H), 1.48 - 1.59 (m, 4 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 1.97 (s, 3 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.47 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.50 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 - 7.04 (m, 4 H), 7.14 - 7.21 (m, 3 H), 7.24 - 7.38 (m, 6 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.47 - 7.52 (m, 3 H), 7.69 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 7.9 Hz).
IR (Thin film) 1743, 1689, 1593, 1490, 1458, 1386, 1368, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO9S2 (M+Na)+ 833.2794; found: 833.2828.
実施例４３（４３ｃ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［２−ホルミル−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］メチル アセテート（６９ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、リン酸一ナトリウム（２０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（２４ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（３７μＬ、０．３５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４２（４２ｄ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（６０ｍｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.37 (m, 8 H), 1.48 - 1.59 (m, 4 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 1.97 (s, 3 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.47 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 4.50 (d, 1 H, J = 13.2 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 - 7.04 (m, 4 H), 7.14 - 7.21 (m, 3 H), 7.24 - 7.38 (m, 6 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 7.47 - 7.52 (m, 3 H), 7.69 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 7.9 Hz).
IR (Thin film) 1743, 1689, 1593, 1490, 1458, 1386, 1368, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H50NaO9S2 (M+Na)+ 833.2794; found: 833.2828.
（４３ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［２−カルボキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４３（４３ｄ）で得られた２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（へプチルオキシメチル）安息香酸（７０ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３４ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ、収率５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.49 - 1.58 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.44 (s, 2 H), 6.33 (s, 1 H), 6.64 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.15 (brs, 2 H), 7.20 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.26 - 7.34 (m, 2 H), 7.46 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.91 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3426, 1593, 1494, 1388, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O8S2 (M-Na)+ 691.2399; found: 691.2388.
実施例４３（４３ｄ）で得られた２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（へプチルオキシメチル）安息香酸（７０ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３４ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（３６ｍｇ、収率５９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.28 (brs, 8 H), 1.49 - 1.58 (m, 4 H), 1.74 - 1.82 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.44 (s, 2 H), 6.33 (s, 1 H), 6.64 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 6.97 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.15 (brs, 2 H), 7.20 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.26 - 7.34 (m, 2 H), 7.46 (d, 2 H, J = 7.4 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.72 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.91 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3426, 1593, 1494, 1388, 1243 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H43O8S2 (M-Na)+ 691.2399; found: 691.2388.
（実施例４４）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４４ａ）７−ブロモ−１，１−ジメトキシへプタン
７−ブロモヘプタナ−ル（０．２８ｇ，１．５ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍＬ） に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（２５ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分攪拌した。反応溶液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（３１ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.33 - 1.39 (brs, 4 H), 1.41 - 1.46 (brs, 2 H), 1.57 - 1.62 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 2 H), 3.32 (s, 6 H), 3.40 (t, 2 H, J = 8.4 Hz), 4.35 (t, 1 H, J = 5.7 Hz).
IR (Thin film) 2939, 1463, 1127 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C9H18 79BrO2 (M-H)- 237.0490; found: 237.0499.
（４４ａ）７−ブロモ−１，１−ジメトキシへプタン
７−ブロモヘプタナ−ル（０．２８ｇ，１．５ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍＬ） に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（２５ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分攪拌した。反応溶液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（３１ｍｇ，８９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.33 - 1.39 (brs, 4 H), 1.41 - 1.46 (brs, 2 H), 1.57 - 1.62 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 2 H), 3.32 (s, 6 H), 3.40 (t, 2 H, J = 8.4 Hz), 4.35 (t, 1 H, J = 5.7 Hz).
IR (Thin film) 2939, 1463, 1127 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C9H18 79BrO2 (M-H)- 237.0490; found: 237.0499.
（４４ｂ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［［（７，７−ジメチトキシへプチル）オキシ］メチル］ベンゼン
実施例４４（４４ａ）で得られた７−ブロモ−１，１−ジメトキシへプタン（０．３１ｇ，１．３ｍｍｏｌ）、［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．３２ｇ，１．３ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（８５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．３６ｇ，６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.24 - 1.40 (brs, 6 H), 1.58 - 1.62 (m, 4 H), 3.31 (s, 6 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.35 (t, 1 H, J = 5.1 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 - 5.32 (m, 1 H), 5.45 - 5.50 (m, 1 H), 6.01 - 6.08 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2937, 1497, 1256 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C19H29 79BrNaO4 (M+Na)+ 423.1147; found: 423.1169.
実施例４４（４４ａ）で得られた７−ブロモ−１，１−ジメトキシへプタン（０．３１ｇ，１．３ｍｍｏｌ）、［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．３２ｇ，１．３ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（８５ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．３６ｇ，６９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.24 - 1.40 (brs, 6 H), 1.58 - 1.62 (m, 4 H), 3.31 (s, 6 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.35 (t, 1 H, J = 5.1 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 - 5.32 (m, 1 H), 5.45 - 5.50 (m, 1 H), 6.01 - 6.08 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2937, 1497, 1256 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C19H29 79BrNaO4 (M+Na)+ 423.1147; found: 423.1169.
(４４ｃ) ７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］ヘプタナール
実施例４４（４４ｂ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［［（７，７−ジメチトキシへプチル）オキシ］メチル］ベンゼン（４２ｍｇ，０．１０５ｍｍｏｌ）をアセトン（１ｍＬ） に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（２．０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。反応溶液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.32 - 1.43 (brs, 4 H), 1.57 - 1.67 (m, 4 H), 2.42 (dt, 2 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 - 5.32 (m, 1 H), 5.45 - 5.50 (m, 1 H), 6.01 - 6.11 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 9.76 (t, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1724, 1496, 1256 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C17H23 79BrNaO3 (M+Na)+ 377.0728; found: 377.0727.
実施例４４（４４ｂ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［［（７，７−ジメチトキシへプチル）オキシ］メチル］ベンゼン（４２ｍｇ，０．１０５ｍｍｏｌ）をアセトン（１ｍＬ） に溶解した後、ｐ−トルエンスルホン酸（２．０ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。反応溶液を減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：１０)により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.32 - 1.43 (brs, 4 H), 1.57 - 1.67 (m, 4 H), 2.42 (dt, 2 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 - 5.32 (m, 1 H), 5.45 - 5.50 (m, 1 H), 6.01 - 6.11 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 9.76 (t, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1724, 1496, 1256 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C17H23 79BrNaO3 (M+Na)+ 377.0728; found: 377.0727.
（４４ｄ）１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール
実施例４４（４４ｃ）で得られた７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］ヘプタナール（０．３０ｇ，０．８ｍｍｏｌ）、２．０Ｍ−ヘキシルマグネシウム ブロミド−テトラヒドロフラン溶液（０．８ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例２９（２９ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２９ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.29 - 1.43 (brs, 18 H), 1.53 - 1.64 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.58 - 3.62 (m, 1 H), 4.40 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 6.01 - 6.11 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3305, 2931, 1498 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C23H37 79BrNaO3 (M+Na)+ 463.1823; found: 463.1819.
実施例４４（４４ｃ）で得られた７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］ヘプタナール（０．３０ｇ，０．８ｍｍｏｌ）、２．０Ｍ−ヘキシルマグネシウム ブロミド−テトラヒドロフラン溶液（０．８ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例２９（２９ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．２９ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.29 - 1.43 (brs, 18 H), 1.53 - 1.64 (m, 2 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.58 - 3.62 (m, 1 H), 4.40 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 6.01 - 6.11 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3305, 2931, 1498 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C23H37 79BrNaO3 (M+Na)+ 463.1823; found: 463.1819.
（４４ｅ）７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール
実施例４４（４４ｄ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（０．１ｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ） に溶解した後、クロロトリメチルシラン（８４μＬ，０．６８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９５μＬ，０．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（８７ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.25 - 1.32 (brs, 8 H), 1.35 - 1.42 (brs, 8 H), 1.57 - 1.62 (m, 4 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.58 - 3.60 (m, 1 H), 4.40 (s, 2 H), 4.60 (dd, 2 H, J = 1.4 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.6 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 6.03 - 6.09 (m, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Liquid film) 2932, 1497, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C26H44 79BrO3Si (M-H)+ 511.2243; found: 511.2264.
実施例４４（４４ｄ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（０．１ｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ） に溶解した後、クロロトリメチルシラン（８４μＬ，０．６８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９５μＬ，０．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分攪拌した。反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（８７ｍｇ，７４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.25 - 1.32 (brs, 8 H), 1.35 - 1.42 (brs, 8 H), 1.57 - 1.62 (m, 4 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.58 - 3.60 (m, 1 H), 4.40 (s, 2 H), 4.60 (dd, 2 H, J = 1.4 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.6 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 6.03 - 6.09 (m, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.3 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Liquid film) 2932, 1497, 1250 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C26H44 79BrO3Si (M-H)+ 511.2243; found: 511.2264.
（４４ｆ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［［［７−（トリメチルシリルオキシ）トリデシル］オキシ］メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｅ）で得られた７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（８６ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１１ｍＬ，０．１７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７２ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５９ｍｇ，４５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.30 (brs, 12 H), 1.34 - 1.39 (brs, 6 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 4.02 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 4.32 - 4.38 (m, 2 H), 4.41 (s, 2 H), 4.98 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.9 Hz), 5.06 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.7 Hz), 5.58 - 5.67 (m, 1 H), 5.76 (d, 1 H, J = 5.1 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.06 (m, 1 H), 7.12 - 7.16 (m, 1 H), 7.19 (dd, 3 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.23 - 7.30 (m, 5 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C55H72NaO8S2Si (M+Na)+ 975.4336; found: 975.4332.
実施例４４（４４ｅ）で得られた７−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（８６ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．１１ｍＬ，０．１７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７２ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（５９ｍｇ，４５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.30 (brs, 12 H), 1.34 - 1.39 (brs, 6 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.56 - 3.61 (m, 1 H), 4.02 (t, 1 H, J = 6.6 Hz), 4.32 - 4.38 (m, 2 H), 4.41 (s, 2 H), 4.98 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.9 Hz), 5.06 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.7 Hz), 5.58 - 5.67 (m, 1 H), 5.76 (d, 1 H, J = 5.1 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.06 (m, 1 H), 7.12 - 7.16 (m, 1 H), 7.19 (dd, 3 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.23 - 7.30 (m, 5 H), 7.32 - 7.35 (m, 2 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C55H72NaO8S2Si (M+Na)+ 975.4336; found: 975.4332.
（４４ｇ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシメチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｆ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［［［７−（トリメチルシリルオキシ）トリデシル］オキシ］メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５９ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．１２ｍＬ、０．１２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４１ｍｇ，７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.41 (brs, 12 H), 1.48 - 1.51 (brs, 6 H), 1.52 - 1.60 (m, 4 H), 1.62 - 1.85 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.56 (s, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.27 (dq, 2 H, J = 5.1 Hz, 12.5 Hz), 4.11 (s, 2 H), 4.97 (d, 1 H, J = 16.9 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.3 Hz), 5.57 - 5.65 (m, 1 H), 5.77 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.06 (m, 1 H), 7.12 - 7.20 (m, 4 H), 7.24 - 7.30 (m, 5 H), 7.33 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3396, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C52H64NaO8S2 (M+Na)+ 903.3940; found: 903.3944.
実施例４４（４４ｆ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［［［７−（トリメチルシリルオキシ）トリデシル］オキシ］メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５９ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフロリド（０．１２ｍＬ、０．１２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４１ｍｇ，７５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.41 (brs, 12 H), 1.48 - 1.51 (brs, 6 H), 1.52 - 1.60 (m, 4 H), 1.62 - 1.85 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.56 (s, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.27 (dq, 2 H, J = 5.1 Hz, 12.5 Hz), 4.11 (s, 2 H), 4.97 (d, 1 H, J = 16.9 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.3 Hz), 5.57 - 5.65 (m, 1 H), 5.77 (s, 1 H), 6.70 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.06 (m, 1 H), 7.12 - 7.20 (m, 4 H), 7.24 - 7.30 (m, 5 H), 7.33 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3396, 2931, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C52H64NaO8S2 (M+Na)+ 903.3940; found: 903.3944.
（４４ｈ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｇ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ，０．０４５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ） に溶解した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．５ｍｇ，０．０００４５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６．０ｍｇ，０．００２３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３１μＬ，０．２３ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１７μＬ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃に加熱して３時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止し酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.93 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 1.05 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.44 (brs, 20 H), 1.48 - 1.53 (m, 2 H), 1.54 - 1.62 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 2 H), 3.32 - 3.36 (m, 1 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.57 - 3.58 (m, 0.5 H), 3.63 - 3.64 (m, 0.5 H), 4.07 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.26 (t, 1 H, J = 1.7 Hz), 4.34 (dd, 1 H, J = 4.3 Hz, 11.8 Hz), 5.75 (t, 1 H, J = 5.7 Hz), 6.60 (s, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 6.98 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 7.06 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.25 (d, 3 H, J = 8.7 Hz), 7.31 - 7.40 (m, 5 H), 7.46 - 7.47 (m, 1 H), 7.60 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.92 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.94 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.06 (s, 0.5 H), 8.21 (s, 0.5 H).
IR (KBr) 3290, 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C49H60NaO8S2 (M+Na)+ 863.3628; found: 863.3605.
実施例４４（４４ｇ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（４０ｍｇ，０．０４５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ） に溶解した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．５ｍｇ，０．０００４５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６．０ｍｇ，０．００２３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３１μＬ，０．２３ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１７μＬ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃に加熱して３時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止し酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ベンゼン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ，４２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.93 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 1.05 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.20 - 1.44 (brs, 20 H), 1.48 - 1.53 (m, 2 H), 1.54 - 1.62 (m, 2 H), 1.82 - 1.89 (m, 2 H), 3.32 - 3.36 (m, 1 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.57 - 3.58 (m, 0.5 H), 3.63 - 3.64 (m, 0.5 H), 4.07 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.26 (t, 1 H, J = 1.7 Hz), 4.34 (dd, 1 H, J = 4.3 Hz, 11.8 Hz), 5.75 (t, 1 H, J = 5.7 Hz), 6.60 (s, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.96 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 6.98 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 7.06 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.12 - 7.16 (m, 2 H), 7.25 (d, 3 H, J = 8.7 Hz), 7.31 - 7.40 (m, 5 H), 7.46 - 7.47 (m, 1 H), 7.60 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.92 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 7.94 (d, 0.5 H, J = 2.0 Hz), 8.06 (s, 0.5 H), 8.21 (s, 0.5 H).
IR (KBr) 3290, 2930, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C49H60NaO8S2 (M+Na)+ 863.3628; found: 863.3605.
（４４ｉ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４４（４４ｈ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１６ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（７．６ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．９ｍｇ，２６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.30 - 1.41 (brs, 18 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.75 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.48 - 3.59 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.33 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.01 - 7.02 (m, 1 H), 7.10 - 7.13 (m, 2 H), 7.16 - 7.18 (m, 1 H), 7.25 - 7.29 (m, 2 H), 7.42 - 7.45 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.99 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3366, 2929, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C43H55O8S2 (M-Na)- 763.3338; found: 763.3332.
実施例４４（４４ｈ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−ヒドロキシトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（１６ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（７．６ｍｇ，０．１９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．９ｍｇ，２６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.30 - 1.41 (brs, 18 H), 1.48 - 1.57 (m, 4 H), 1.75 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 3.48 - 3.59 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.33 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.01 - 7.02 (m, 1 H), 7.10 - 7.13 (m, 2 H), 7.16 - 7.18 (m, 1 H), 7.25 - 7.29 (m, 2 H), 7.42 - 7.45 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.99 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 3366, 2929, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C43H55O8S2 (M-Na)- 763.3338; found: 763.3332.
（実施例４５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−オキソトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４５ａ）１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オン
実施例４４（４４ｄ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（０．１５ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）、ピリジニウム クロロクロメイト（０．１５ｇ，０．６８ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ，７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22 - 1.40 (brs, 10 H), 1.52 - 1.61 (brs, 6 H), 2.38 (dt, 4 H, J = 2.8 Hz, 10.3 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 15.4 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2930, 1713, 1496 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C23H35 79BrNaO3 (M+Na)+ 461.1667; found: 461.1669.
（４５ａ）１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オン
実施例４４（４４ｄ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オール（０．１５ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）、ピリジニウム クロロクロメイト（０．１５ｇ，０．６８ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１２ｇ，７８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22 - 1.40 (brs, 10 H), 1.52 - 1.61 (brs, 6 H), 2.38 (dt, 4 H, J = 2.8 Hz, 10.3 Hz), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.39 (s, 2 H), 4.60 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 15.4 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.86 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2930, 1713, 1496 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C23H35 79BrNaO3 (M+Na)+ 461.1667; found: 461.1669.
（４５ｂ）２−［６−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］へキシル］−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン
実施例４５（４５ａ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オン（０．１２ｇ，０．２６ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（３７μＬ，０．６６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（４．５ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ，５５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.24 - 1.38 (brs, 14 H), 1.56 - 1.62 (brs, 6 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.92 (s, 4 H), 4.39 (s, 2 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.7 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1497 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C25H39 79BrNaO4 (M+Na)+ 505.1929; found: 505.1928.
実施例４５（４５ａ）で得られた１−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］トリデカン−７−オン（０．１２ｇ，０．２６ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（３７μＬ，０．６６ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（４．５ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｃ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製を行い、標記目的化合物（７０ｍｇ，５５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.24 - 1.38 (brs, 14 H), 1.56 - 1.62 (brs, 6 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.92 (s, 4 H), 4.39 (s, 2 H), 4.61 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.47 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.7 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.20 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.53 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2935, 1497 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C25H39 79BrNaO4 (M+Na)+ 505.1929; found: 505.1928.
（４５ｃ）フェニル ２’−［[ ２−アリルオキシ−５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル]（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４５（４５ｂ）で得られた２−［６−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］へキシル］−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン（７０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （９１μＬ，０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.3 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.33 (brs, 14 H), 1.49 - 1.64 (m, 6 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.89 (s, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 - 4.32 (m, 2 H), 4.41 (s, 2 H), 4.97 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 5.59 - 5.64 (m, 1 H), 5.75 - 5.77 (m, 1 H), 6.68 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.18 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.27 (m, 5 H), 7.31 - 7.35 (m, 2 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2934, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C54H66NaO9S2 (M+Na)+ 945.4046; found: 945.4053.
実施例４５（４５ｂ）で得られた２−［６−［（４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル）オキシ］へキシル］−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン（７０ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （９１μＬ，０．１５ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（６２ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４０ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.3 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.33 (brs, 14 H), 1.49 - 1.64 (m, 6 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.89 (s, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 - 4.32 (m, 2 H), 4.41 (s, 2 H), 4.97 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 5.59 - 5.64 (m, 1 H), 5.75 - 5.77 (m, 1 H), 6.68 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.4 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.3 Hz), 7.18 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.27 (m, 5 H), 7.31 - 7.35 (m, 2 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2934, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C54H66NaO9S2 (M+Na)+ 945.4046; found: 945.4053.
（４５ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４５（４５ｃ）で得られたフェニル ２’−［[ ２−アリルオキシ−５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル]（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３９ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．５ｍｇ，０．０００４２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６．０ｍｇ，０．００２１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２９μＬ，０．２１ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１６μＬ，０．４２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，６２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.19 - 1.30 (brs, 14 H), 1.48 - 1.57 (m, 8 H), 1.81 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.35 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.86 - 3.92 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.23 - 4.28 (m, 2 H), 5.66−5.67 (m, 1 H), 5.54 (s, 1 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (t, 2 H, J = 7.1 Hz), 7.15 - 7.17 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24 - 7.35 (m, 5 H), 7.40 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.84 (s, 1 H).
IR (Liuid film) 3312, 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H62NaO9S2 (M+Na)+ 905.3733; found: 905.3745.
実施例４５（４５ｃ）で得られたフェニル ２’−［[ ２−アリルオキシ−５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］フェニル]（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（３９ｍｇ，０．０４２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．５ｍｇ，０．０００４２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（６．０ｍｇ，０．００２１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２９μＬ，０．２１ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１６μＬ，０．４２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（２３ｍｇ，６２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.19 - 1.30 (brs, 14 H), 1.48 - 1.57 (m, 8 H), 1.81 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.35 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.86 - 3.92 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.23 - 4.28 (m, 2 H), 5.66−5.67 (m, 1 H), 5.54 (s, 1 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (t, 2 H, J = 7.1 Hz), 7.15 - 7.17 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24 - 7.35 (m, 5 H), 7.40 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.84 (s, 1 H).
IR (Liuid film) 3312, 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C51H62NaO9S2 (M+Na)+ 905.3733; found: 905.3745.
（４５ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−オキソトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４５（４５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２３ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホン酸（１６ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｅ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（７．８ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18−1.29 (brs, 10 H), 1.49−1.57 (m, 8 H), 1.78−1.84 (m, 2 H), 2.33−2.76 (m, 4 H), 3.34 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.23−4.29 (m, 2 H), 5.68−5.69 (m, 1 H), 6.54 (s, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.11 (t, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.16−7.18 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.25−7.34 (m, 5 H), 7.41 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.84 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3319, 2932, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3477.
実施例４５（４５ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［［［６−（２−ヘキシル−１，３−ジオキソラン−２−イル）ヘキシル］オキシ］メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２３ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホン酸（１６ｍｇ，０．０６５ｍｍｏｌ）を用い、実施例５（５ｅ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（７．８ｍｇ，３６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18−1.29 (brs, 10 H), 1.49−1.57 (m, 8 H), 1.78−1.84 (m, 2 H), 2.33−2.76 (m, 4 H), 3.34 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.23−4.29 (m, 2 H), 5.68−5.69 (m, 1 H), 6.54 (s, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.11 (t, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.16−7.18 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.25−7.34 (m, 5 H), 7.41 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.84 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3319, 2932, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C49H58NaO8S2 (M+Na)+ 861.3471; found: 861.3477.
（４５ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−オキソトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４５（４５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−オキソトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７．０ｍｇ，０．００８３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３．３ｍｇ，０．０８３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．８ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.32 (brs, 10 H), 1.48 - 1.55 (m, 8 H), 1.76 - 1.79 (m, 2 H), 2.39 - 2.43 (m, 4 H), 3.30 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.00 - 7.01 (m, 1 H), 7.09 - 7.13 (m, 2 H), 7.16 - 7.17 (m, 1 H), 7.26 - 7.29 (m, 2 H), 7.42 - 7.44 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.99 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3310, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C43H53O8S2 (M-Na)- 761.3182; found: 761.3181.
実施例４５（４５ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ（２−ヒドロキシ−５−［［（７−オキソトリデシル）オキシ］メチル］フェニル）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７．０ｍｇ，０．００８３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３．３ｍｇ，０．０８３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（３．８ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24 - 1.32 (brs, 10 H), 1.48 - 1.55 (m, 8 H), 1.76 - 1.79 (m, 2 H), 2.39 - 2.43 (m, 4 H), 3.30 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 (s, 2 H), 6.06 (s, 1 H), 6.62 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.74 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.00 - 7.01 (m, 1 H), 7.09 - 7.13 (m, 2 H), 7.16 - 7.17 (m, 1 H), 7.26 - 7.29 (m, 2 H), 7.42 - 7.44 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.99 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3310, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C43H53O8S2 (M-Na)- 761.3182; found: 761.3181.
（実施例４６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４６ａ）（３，５−ジブロモフェニル）メタノール
３，５−ジブロモ安息香酸（０．２８ｇ，１．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン溶液（２．０ｍＬ，２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え室温で３０分、５０℃に加熱して２時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.65 (d, 2 H, J = 5.5 Hz), 7.44 (d, 2 H, J = 1.7 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3322, 1426, 1034 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C7H6 79Br2O (M)+ 263.8785; found: 263.8789.
（４６ａ）（３，５−ジブロモフェニル）メタノール
３，５−ジブロモ安息香酸（０．２８ｇ，１．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解した後、１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン溶液（２．０ｍＬ，２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え室温で３０分、５０℃に加熱して２時間攪拌した。室温に冷却した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：５)により精製を行い、標記目的化合物（０．２２ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 4.65 (d, 2 H, J = 5.5 Hz), 7.44 (d, 2 H, J = 1.7 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (KBr) 3322, 1426, 1034 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C7H6 79Br2O (M)+ 263.8785; found: 263.8789.
（４６ｂ）１，３−ジブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン
実施例４６（４６ａ）で得られた（３，５−ジブロモフェニル）メタノール（３．０ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（２．１ｍＬ，１４．０ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（１．２ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝０：１００）により精製を行い、標記目的化合物（３．０ｇ，７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.9 Hz), 1.24 - 1.43 (brs, 10 H), 1.58 - 1.65 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 7.41 (s, 1 H), 7.57 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1559, 1115 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H20 79Br2O (M)+ 361.9881; found: 361.9882.
実施例４６（４６ａ）で得られた（３，５−ジブロモフェニル）メタノール（３．０ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘプタン（２．１ｍＬ，１４．０ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（１．２ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝０：１００）により精製を行い、標記目的化合物（３．０ｇ，７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.9 Hz), 1.24 - 1.43 (brs, 10 H), 1.58 - 1.65 (m, 2 H), 3.46 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.43 (s, 2 H), 7.41 (s, 1 H), 7.57 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1559, 1115 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H20 79Br2O (M)+ 361.9881; found: 361.9882.
（４６ｃ）３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニルボロン酸
実施例４６（４６ｂ）で得られた１，３−ジブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（１．５ｇ，４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、−７８度に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （２．８ｍＬ，４．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、５分間撹拌した。ボロン酸 トリイソプロピル エステル（１．０ｍＬ，４．４ｍｍｏｌ）を加え、更に１時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した。水（２０ｍＬ）に反応溶液を注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。このものはこれ以上の精製を行うことなく次の反応に用いた。
実施例４６（４６ｂ）で得られた１，３−ジブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（１．５ｇ，４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、−７８度に冷却した後、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （２．８ｍＬ，４．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、５分間撹拌した。ボロン酸 トリイソプロピル エステル（１．０ｍＬ，４．４ｍｍｏｌ）を加え、更に１時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液（２ｍＬ）を加え反応を停止した。水（２０ｍＬ）に反応溶液を注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。このものはこれ以上の精製を行うことなく次の反応に用いた。
（４６ｄ）３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェノール
実施例４６（４６ｃ）で得られた３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニルボロン酸の粗精製物（１．０ｇ，３．２ｍｍｏｌ相当）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解し、３０％過酸化水素水（０．３ｍＬ）を加え数分攪拌した後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（０．３ｍＬ）を加え室温で３時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（０．６３ｇ，２工程５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.1 Hz), 1.25 - 1.38 (brs, 8 H), 1.58 - 1.65 (m, 2 H), 4.15 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.42 (s, 2 H), 6.76 (s, 1 H), 6.90 (t, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.02 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3307, 2930, 1578, 1447 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO2 (M)+ 300.0725; found: 300.0719.
実施例４６（４６ｃ）で得られた３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェニルボロン酸の粗精製物（１．０ｇ，３．２ｍｍｏｌ相当）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解し、３０％過酸化水素水（０．３ｍＬ）を加え数分攪拌した後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（０．３ｍＬ）を加え室温で３時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍＬ）を注ぎ反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：８)により精製を行い、標記目的化合物（０．６３ｇ，２工程５２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 5.1 Hz), 1.25 - 1.38 (brs, 8 H), 1.58 - 1.65 (m, 2 H), 4.15 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.42 (s, 2 H), 6.76 (s, 1 H), 6.90 (t, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.02 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3307, 2930, 1578, 1447 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H21 79BrO2 (M)+ 300.0725; found: 300.0719.
（４６ｅ）１−アリルオキシ−３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン
実施例４６（４６ｄ）で得られた３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェノール（０．５５ｇ，１．８ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（０．２４ｍＬ，２．８ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１６ｇ，３．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４６ｇ，７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.28 - 1.37 (brs, 8 H), 1.57 - 1.64 (m, 2 H), 3.45 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (s, 2 H), 4.51 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 hz, 10.3 Hz), 5.39 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 5.97 - 6.07 (m, 1 H), 6.84 (s, 1 H), 6.97 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.06 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1572, 1447, 1271 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1036.
実施例４６（４６ｄ）で得られた３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）フェノール（０．５５ｇ，１．８ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（０．２４ｍＬ，２．８ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１６ｇ，３．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２０）により精製を行い、標記目的化合物（０．４６ｇ，７３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.28 - 1.37 (brs, 8 H), 1.57 - 1.64 (m, 2 H), 3.45 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (s, 2 H), 4.51 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 hz, 10.3 Hz), 5.39 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 5.97 - 6.07 (m, 1 H), 6.84 (s, 1 H), 6.97 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.06 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2929, 1572, 1447, 1271 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1036.
（４６ｆ）フェニル ２’−［［３−アリルオキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４６（４６ｅ）で得られた１−アリルオキシ−３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（０．１５ｇ，０．４４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２８ｍＬ，０．４４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１９ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（９４ｍｇ，３３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.35 (brs, 8 H), 1.50 - 1.60 (m, 4 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.38 (s, 2 H), 4.46 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.25 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 10.6 Hz), 5.39 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.3 Hz), 5.47 (s, 1 H), 5.97 - 6.04 (m, 1 H), 6.56 (d, 1 H, J = 20.3 Hz), 6.78 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.15 - 7.23 (m, 4 H), 7.26 - 7.29 (m, 3 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.1 Hz, 7.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1594, 1457, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3042.
実施例４６（４６ｅ）で得られた１−アリルオキシ−３−ブロモ−５−（へプチルオキシメチル）ベンゼン（０．１５ｇ，０．４４ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．２８ｍＬ，０．４４ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１９ｇ，０．３７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ベンゼン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（９４ｍｇ，３３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.35 (brs, 8 H), 1.50 - 1.60 (m, 4 H), 1.78 - 1.84 (m, 2 H), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.38 (s, 2 H), 4.46 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.25 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 10.6 Hz), 5.39 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.3 Hz), 5.47 (s, 1 H), 5.97 - 6.04 (m, 1 H), 6.56 (d, 1 H, J = 20.3 Hz), 6.78 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.15 - 7.23 (m, 4 H), 7.26 - 7.29 (m, 3 H), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.1 Hz, 7.7 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 2931, 1594, 1457, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3042.
（４６ｇ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−へプチルオキシメチル−５−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４６（４６ｆ）で得られたフェニル ２’−［［３−アリルオキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．３ｍｇ，０．００１２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１６ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（８４μＬ，０．６ｍｍｏｌ）、ぎ酸（４６μＬ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（７７ｍｇ，８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.25 - 1.28 (brs, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 4 H), 1.76 - 1.84 (m, 2 H), 3.40 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.32 (s, 2 H), 5.89 (s, 1 H), 6.40 (s, 1 H), 6.50 (s, 1 H), 6.66 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 - 7.14 (m, 3 H), 7.15 - 7.22 (m, 4 H), 7.24 - 7.31 (m, 4 H), 7.41 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3350, 2931, 1457, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2751.
実施例４６（４６ｆ）で得られたフェニル ２’−［［３−アリルオキシ−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（９３ｍｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１．３ｍｇ，０．００１２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１６ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（８４μＬ，０．６ｍｍｏｌ）、ぎ酸（４６μＬ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（７７ｍｇ，８７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.25 - 1.28 (brs, 8 H), 1.47 - 1.58 (m, 4 H), 1.76 - 1.84 (m, 2 H), 3.40 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.32 (s, 2 H), 5.89 (s, 1 H), 6.40 (s, 1 H), 6.50 (s, 1 H), 6.66 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.99 - 7.14 (m, 3 H), 7.15 - 7.22 (m, 4 H), 7.24 - 7.31 (m, 4 H), 7.41 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.74 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3350, 2931, 1457, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2751.
（４６ｈ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４６（４６ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７７ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.38 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.74 - 1.74 (m, 2 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.27 - 4.34 (m, 2 H), 5.75 (s, 1 H), 6.50 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 6.57 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.96 - 7.01 (m, 3 H), 7.14 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.53 - 7.56 (m, 3 H), 7.97 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3388, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)- 663.2451; found: 663.2457.
実施例４６（４６ｇ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［３−（へプチルオキシメチル）−５−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（７７ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４２ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（５０ｍｇ，７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.38 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.74 - 1.74 (m, 2 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.27 - 4.34 (m, 2 H), 5.75 (s, 1 H), 6.50 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 6.57 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.96 - 7.01 (m, 3 H), 7.14 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.1 Hz), 7.27 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.33 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.53 - 7.56 (m, 3 H), 7.97 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3388, 2930, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)- 663.2451; found: 663.2457.
（実施例４７）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ホルミル−2−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（４７ａ）２−（４−アリロキシ−3−ブロモフェニル）−1、3−ジオキソラン
実施例２８（２８ｂ）で得られた４−アリロキシ−3−ブロモベンズアルデヒド（１．１ｇ、４．６ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（０．５２ｍＬ、９．２ｍｍｏｌ）をベンゼン（２０ｍＬ）に溶解し、カンファースルホン酸（０．１ｇ）を加えた。反応溶液を10時間加熱還流し、反応により生ずる水を共沸操作で除いた後、飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止し、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （１．０ｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.00-4.06 (m, 2 H), 4.07-4.13 (m, 2 H), 4.60-4.64 (m, 2 H), 5.28-5.33 (m, 1 H), 5.44-5.50 (m, 1 H), 5.73 (s, 1 H), 6.05 (ddt, 1 H, J = 11.0 Hz, 17.6 Hz, 4.4 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.34 (dd, 1 H, J = 8.1 Hz, 2.2 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 1606, 1500, 1424 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H14 79BrO3 (M+H)+ 285.0118; found: 285.0122.
（４７ａ）２−（４−アリロキシ−3−ブロモフェニル）−1、3−ジオキソラン
実施例２８（２８ｂ）で得られた４−アリロキシ−3−ブロモベンズアルデヒド（１．１ｇ、４．６ｍｍｏｌ）、エチレングリコール（０．５２ｍＬ、９．２ｍｍｏｌ）をベンゼン（２０ｍＬ）に溶解し、カンファースルホン酸（０．１ｇ）を加えた。反応溶液を10時間加熱還流し、反応により生ずる水を共沸操作で除いた後、飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止し、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （１．０ｇ，７６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 4.00-4.06 (m, 2 H), 4.07-4.13 (m, 2 H), 4.60-4.64 (m, 2 H), 5.28-5.33 (m, 1 H), 5.44-5.50 (m, 1 H), 5.73 (s, 1 H), 6.05 (ddt, 1 H, J = 11.0 Hz, 17.6 Hz, 4.4 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.34 (dd, 1 H, J = 8.1 Hz, 2.2 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (neat) 1606, 1500, 1424 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C12H14 79BrO3 (M+H)+ 285.0118; found: 285.0122.
（４７ｂ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−5−（１，３−ジオキソラン−2−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４７（４７ａ）で得られた２−（４−アリロキシ−3−ブロモフェニル）−1、3−ジオキソラン（０．３１ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．４７ｇ，０．９１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６９ｍL，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８〜５：５）により精製を行い、標記目的化合物 （０．５７ｇ，８７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.98-4.06 (m, 4 H), 4.25 (dd, 1 H, J = 5.9 Hz, 12.7 Hz), 4.31 (dd, 1 H, J = 5.9 Hz, 12.7 Hz), 4.94 (d, 1 H, J = 15.8 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.58 (ddt, 1 H, J = 10.7 Hz, 15.8 Hz, 5.9 Hz), 5.72 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 5.74 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03-7.07 (m, 1 H), 7.12 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3438, 1688, 1594, 1491, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C41H41O8S2 (M+H)+ 725.2243; found: 725.2238.
実施例４７（４７ａ）で得られた２−（４−アリロキシ−3−ブロモフェニル）−1、3−ジオキソラン（０．３１ｇ、１．１ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．４７ｇ，０．９１ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６９ｍL，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：８〜５：５）により精製を行い、標記目的化合物 （０．５７ｇ，８７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.14 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.98-4.06 (m, 4 H), 4.25 (dd, 1 H, J = 5.9 Hz, 12.7 Hz), 4.31 (dd, 1 H, J = 5.9 Hz, 12.7 Hz), 4.94 (d, 1 H, J = 15.8 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 10.7 Hz), 5.58 (ddt, 1 H, J = 10.7 Hz, 15.8 Hz, 5.9 Hz), 5.72 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 5.74 (s, 1 H), 6.73 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03-7.07 (m, 1 H), 7.12 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.19 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.48 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3438, 1688, 1594, 1491, 1458 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C41H41O8S2 (M+H)+ 725.2243; found: 725.2238.
（４７ｃ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ホルミル−2−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４７（４７ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−5−（１，３−ジオキソラン−2−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（８７ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１６ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．０ｍｇ，０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（８３μＬ、０．６０ｍｍｏｌ）、ギ酸（４６μＬ、１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （４１ｍｇ，５３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.36 (brs, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.75 (s, 1 H), 6.91 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07-7.18 (m, 3 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.64 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.79 (s, 1 H), 9.60 (s, 1 H).
IR (neat) 3370, 3268, 1671, 1592, 1490, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H32NaO7S2 (M+Na)+ 663.1487; found: 663.1488.
実施例４７（４７ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−5−（１，３−ジオキソラン−2−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（８７ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１６ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）、パラジウムテトラキストリフェニルホスフィン（１．０ｍｇ，０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（８３μＬ、０．６０ｍｍｏｌ）、ギ酸（４６μＬ、１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （４１ｍｇ，５３％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.51 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.80 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.36 (brs, 1 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 5.75 (s, 1 H), 6.91 (t, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.07-7.18 (m, 3 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.64 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.79 (s, 1 H), 9.60 (s, 1 H).
IR (neat) 3370, 3268, 1671, 1592, 1490, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C36H32NaO7S2 (M+Na)+ 663.1487; found: 663.1488.
（４７ｄ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ホルミル−2−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４７（４７ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ホルミル−2−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３４ｍｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（８．３ｍｇ，２７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15-7.20 (m, 2 H), 7.25-7.30 (m, 2 H), 7.32-7.36 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.63 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.92 (s, 1 H), 8.00 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 9.60 (s, 1 H).
IR (KBr) 3433, 1683, 1594, 1494, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C30H27O7S2 (M-Na)- 563.1198; found: 563.1213.
実施例４７（４７ｃ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ホルミル−2−ヒドロキシフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（３４ｍｇ、０．０５３ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（８．３ｍｇ，２７％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.52 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 6.06 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.77 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15-7.20 (m, 2 H), 7.25-7.30 (m, 2 H), 7.32-7.36 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.63 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.8 Hz), 7.92 (s, 1 H), 8.00 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 9.60 (s, 1 H).
IR (KBr) 3433, 1683, 1594, 1494, 1457 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C30H27O7S2 (M-Na)- 563.1198; found: 563.1213.
（実施例４８）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（４８ａ）２−ブロモ−4、6−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール
5−ブロモ−４−ヒドロキシイソフタル酸（３．２ｇ，１２．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン溶液（３７ｍＬ，３７ｍｍｏｌ）を加え、室温で15時間撹拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液を水３０ｍＬに注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （１．６ｇ，５５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 4.49 (s, 2 H), 4.69 (s, 2 H), 7.22 (s, 1 H), 7.39 (s, 1 H).
IR (KBr) 3436, 3304, 1476, 1448, 1438 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C8H9 79BrO3 (M)+ 231.9735; found: 231.9743.
（４８ａ）２−ブロモ−4、6−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール
5−ブロモ−４−ヒドロキシイソフタル酸（３．２ｇ，１２．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後１．０Ｍボラン−テトラヒドロフラン溶液（３７ｍＬ，３７ｍｍｏｌ）を加え、室温で15時間撹拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液を水３０ｍＬに注ぎ、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （１．６ｇ，５５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 4.49 (s, 2 H), 4.69 (s, 2 H), 7.22 (s, 1 H), 7.39 (s, 1 H).
IR (KBr) 3436, 3304, 1476, 1448, 1438 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C8H9 79BrO3 (M)+ 231.9735; found: 231.9743.
（４８ｂ）（８−ブロモ−2、2−ジメチル−4Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−6−イル）メタノール
実施例４８（４８ａ）で得られた２−ブロモ−4、6−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール（０．９５ｇ、４．１ｍｍｏｌ）、アセトンジメチルアセタール（１．５ｍＬ，１２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、カンファースルホン酸（０．１ｇ）を加え６０℃で７時間撹拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝７：１３）により精製を行い、標記目的化合物 （０．６６ｇ，５９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.57 (s, 6 H), 4.56 (s, 2 H), 4.81 (s, 2 H), 6.92 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H).
IR (neat) 3375, 1478 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C11H13 79BrO3 (M)+ 272.0048; found: 272.0057.
実施例４８（４８ａ）で得られた２−ブロモ−4、6−ビス（ヒドロキシメチル）フェノール（０．９５ｇ、４．１ｍｍｏｌ）、アセトンジメチルアセタール（１．５ｍＬ，１２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、カンファースルホン酸（０．１ｇ）を加え６０℃で７時間撹拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水１０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝７：１３）により精製を行い、標記目的化合物 （０．６６ｇ，５９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.57 (s, 6 H), 4.56 (s, 2 H), 4.81 (s, 2 H), 6.92 (s, 1 H), 7.41 (s, 1 H).
IR (neat) 3375, 1478 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C11H13 79BrO3 (M)+ 272.0048; found: 272.0057.
（４８ｃ）８−ブロモ−6−ヘプチロキシメチル−２，２−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン
実施例４８（４８ｂ）で得られた（８−ブロモ−2、2−ジメチル−4Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−6−イル）メタノール（０．６６ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４１ｍL、３．０ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１３ｇ，３．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．７８ｇ，８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22-1.40 (m, 8 H), 1.56-1.64 (m, 8 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.91 (s, 1 H), 7.39 (s, 1 H).
IR (neat) 1478, 1277, 1205 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C18H27 79BrO3 (M)+ 370.1144; found: 370.1146.
実施例４８（４８ｂ）で得られた（８−ブロモ−2、2−ジメチル−4Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−6−イル）メタノール（０．６６ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ヘプチルブロミド（０．４１ｍL、３．０ｍｍｏｌ）、５５ｗｔ％水素化ナトリウム（０．１３ｇ，３．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９) により精製を行い、標記目的化合物 （０．７８ｇ，８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.22-1.40 (m, 8 H), 1.56-1.64 (m, 8 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 6.91 (s, 1 H), 7.39 (s, 1 H).
IR (neat) 1478, 1277, 1205 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C18H27 79BrO3 (M)+ 370.1144; found: 370.1146.
（４８ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ｃ）で得られた８−ブロモ−6−ヘプチロキシメチル−２，２−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン（０．２３ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２７ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３９ｍL，０．６２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （０．３５ｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 11 H), 1.48-1.62 (m, 7 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.20 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 4.76 (s, 2 H), 5.65 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.87-6.90 (m, 2 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04-7.07 (m, 2 H), 7.15 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24-7.30 (m, 3 H), 7.32 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3549, 3434, 1593, 1489 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2 (M+Na)+ 833.3158; found: 833.3179.
実施例４８（４８ｃ）で得られた８−ブロモ−6−ヘプチロキシメチル−２，２−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン（０．２３ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２７ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．３９ｍL，０．６２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （０．３５ｇ，８２％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 11 H), 1.48-1.62 (m, 7 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.20 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 3.45 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.38 (s, 2 H), 4.76 (s, 2 H), 5.65 (d, 1 H, J = 4.9 Hz), 6.87-6.90 (m, 2 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04-7.07 (m, 2 H), 7.15 (t, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.20 (d, 2 H, J = 7.8 Hz), 7.24-7.30 (m, 3 H), 7.32 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.82 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3549, 3434, 1593, 1489 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2 (M+Na)+ 833.3158; found: 833.3179.
（４８ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４８（４８ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５８ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（３０ｍｇ，５６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.98 (s, 3 H), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.36 (m, 11 H), 1.47-1.60 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.71 (s, 2 H), 5.97 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.86 (s, 1 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.16-7.28 (m, 5 H), 7.36 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.08 (s, 1 H).
IR (neat) 3410, 1593, 1494 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C41H49O8S2 (M-Na)- 733.2869; found: 733.2858.
実施例４８（４８ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５８ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５０ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（３０ｍｇ，５６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.98 (s, 3 H), 0.99 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.23-1.36 (m, 11 H), 1.47-1.60 (m, 4 H), 1.77 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.40 (s, 2 H), 4.71 (s, 2 H), 5.97 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.86 (s, 1 H), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.16-7.28 (m, 5 H), 7.36 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.08 (s, 1 H).
IR (neat) 3410, 1593, 1494 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C41H49O8S2 (M-Na)- 733.2869; found: 733.2858.
（実施例４９）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
（４９ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４８（４８ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍＬ）に溶解し、５％硫酸水溶液（０．１ｍＬ）を加え、４５℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （１９ｍｇ，３９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 8 H), 1.46-1.55 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.56 (brs, 1 H), 2.80 (brs, 1 H), 3.34 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.24 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.28 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.72 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 12.7 Hz), 4.77 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 12.7 Hz), 5.84 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.66 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.98 (s, 1 H), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.16-7.22 (m, 3 H), 7.23-7.33 (m, 4 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.50 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 8.16 (s, 1 H).
IR (neat) 3298, 1593, 1488, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO8S2 (M+Na)+ 793.2845; found: 793.2875.
（４９ａ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４８（４８ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（６−ヘプチロキシメチル−２，２’−ジメチル−４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシン−8−イル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５２ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍＬ）に溶解し、５％硫酸水溶液（０．１ｍＬ）を加え、４５℃で２時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （１９ｍｇ，３９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.18-1.32 (m, 8 H), 1.46-1.55 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 2.56 (brs, 1 H), 2.80 (brs, 1 H), 3.34 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.24 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.28 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.72 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 12.7 Hz), 4.77 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 12.7 Hz), 5.84 (d, 1 H, J = 2.9 Hz), 6.66 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 6.98 (s, 1 H), 7.00 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.16-7.22 (m, 3 H), 7.23-7.33 (m, 4 H), 7.39 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.50 (s, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.58 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 8.16 (s, 1 H).
IR (neat) 3298, 1593, 1488, 1458 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C44H50NaO8S2 (M+Na)+ 793.2845; found: 793.2875.
（４９ｂ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート
実施例４９（４９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１９ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３０ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（７．２ｍｇ，４０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.32 (m, 8 H), 1.44-1.55 (m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.26 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.29 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.63 (s, 2 H), 6.07 (s, 1 H), 6.71 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06-7.09 (m, 2 H), 7.18 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.9 Hz), 7.29 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 8.8 Hz), 7.32 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.91 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3392, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O8S2 (M-Na)- 693.2556; found: 693.2557.
実施例４９（４９ａ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［（５−ヘプチロキシメチル−２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−3−スルホナート（１９ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（３０ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロライド＝２：８）により精製し、標記目的化合物（７．２ｍｇ，４０％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.20-1.32 (m, 8 H), 1.44-1.55 (m, 4 H), 1.78 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.26 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.29 (d, 1 H, J = 11.7 Hz), 4.63 (s, 2 H), 6.07 (s, 1 H), 6.71 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.06-7.09 (m, 2 H), 7.18 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 6.9 Hz), 7.29 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 8.8 Hz), 7.32 (dd, 1 H, J = 6.8 Hz, 8.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.91 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (neat) 3392, 1594, 1494, 1459 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H45O8S2 (M-Na)- 693.2556; found: 693.2557.
（実施例５０）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（へプチルアミノ）カルボニル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５０ａ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−ホルミルフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４７（４７ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２５ｇ，０３５ｍｍｏｌ）をアセトン（３ｍＬ） に溶解した後、５％硫酸水溶液（０．１５ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．２３ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 - 4.38 (m, 2 H), 4.92 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.53 - 5.61 (m, 1 H), 5.74 (s, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.05 - 7.07 (m, 1 H), 7.09 - 7.12 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.23 - 7.27 (m, 5 H), 7.36 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.79 (s, 1 H), 7.98 (s, 1 H), 9.85 (s, 1 H).
IR (KBr) 1598, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H36NaO7S2 (M+Na)+ 703.1800; found: 703.1796.
（５０ａ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−ホルミルフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例４７（４７ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２５ｇ，０３５ｍｍｏｌ）をアセトン（３ｍＬ） に溶解した後、５％硫酸水溶液（０．１５ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．２３ｇ，９８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 - 4.38 (m, 2 H), 4.92 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.53 - 5.61 (m, 1 H), 5.74 (s, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.05 - 7.07 (m, 1 H), 7.09 - 7.12 (m, 1 H), 7.19 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.23 - 7.27 (m, 5 H), 7.36 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.4 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.79 (s, 1 H), 7.98 (s, 1 H), 9.85 (s, 1 H).
IR (KBr) 1598, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H36NaO7S2 (M+Na)+ 703.1800; found: 703.1796.
（５０ｂ）４−アリルオキシ−３−［［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］（ヒドロキシ）メチル］安息香酸
実施例５０（５０ａ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−ホルミルフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２３ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（６ｍＬ）−水（２ｍＬ）に溶解した後、リン酸一ナトリウム（７８ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（９５ｍｇ、１．３５ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（９２ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間４０分攪拌した。反応溶液に水（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ，７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 - 4.39 (m, 2 H), 4.93 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 5.08 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.54 - 5.64 (m, 1 H), 5.72 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.15 (m, 2 H), 7.17 - 7.33 (m, 5 H), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 8.01 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 8.18 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 2958, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H36NaO8S2 (M+Na)+ 719.1750; found: 719.1741.
実施例５０（５０ａ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−ホルミルフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２３ｇ，０．３４ｍｍｏｌ）をｔ−ブタノール（６ｍＬ）−水（２ｍＬ）に溶解した後、リン酸一ナトリウム（７８ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、２−メチル−２−ブテン（９５ｍｇ、１．３５ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（９２ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間４０分攪拌した。反応溶液に水（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ，７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.84 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.30 - 4.39 (m, 2 H), 4.93 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 16.8 Hz), 5.08 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 11.0 Hz), 5.54 - 5.64 (m, 1 H), 5.72 (s, 1 H), 6.76 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.03 - 7.15 (m, 2 H), 7.17 - 7.33 (m, 5 H), 7.36 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 1.5 Hz), 8.01 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 8.18 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (KBr) 2958, 1250 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C39H36NaO8S2 (M+Na)+ 719.1750; found: 719.1741.
（５０ｃ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（へプチルアミノ）カルボニル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５０（５０ｂ）で得られた４−アリルオキシ−３−［［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］（ヒドロキシ）メチル］ベンゾイック アシッド（５７ｍｇ，０．０８１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール（３９ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を加え室温で４０分間攪拌した後、ｎ−ヘプチルアミン（２４μＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を加え、さらに１５分間攪拌した。反応溶液に水（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（２６ｍｇ，４１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.37 (brs, 8 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.57 - 1.63 (m, 2 H), 1.78 - 1.82 (m, 2 H), 3.40 - 3.44 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.29 - 4.32 (m, 2 H), 4.93 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 17.3 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.5 Hz), 5.52 - 5.60 (m, 1 H), 5.74 (s, 1 H), 6.71 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 - 7.03 (m, 3 H), 7.11 - 7.15 (m, 1 H), 7.17 - 7.20 (m, 2 H), 7.23 - 7.27 (m, 5 H), 7.34 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.65 (dd, 1 H, J = 2.3 Hz, 8.5 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.76 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3335, 2928, 1490, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO7S2 (M+Na)+ 816.3005; found: 816.3006.
実施例５０（５０ｂ）で得られた４−アリルオキシ−３−［［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］（ヒドロキシ）メチル］ベンゾイック アシッド（５７ｍｇ，０．０８１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール（３９ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）を加え室温で４０分間攪拌した後、ｎ−ヘプチルアミン（２４μＬ、０．１６ｍｍｏｌ）を加え、さらに１５分間攪拌した。反応溶液に水（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：２)により精製を行い、標記目的化合物（２６ｍｇ，４１％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.26 - 1.37 (brs, 8 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.57 - 1.63 (m, 2 H), 1.78 - 1.82 (m, 2 H), 3.40 - 3.44 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.29 - 4.32 (m, 2 H), 4.93 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 17.3 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.5 Hz), 5.52 - 5.60 (m, 1 H), 5.74 (s, 1 H), 6.71 (d, 1 H, J = 8.6 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 - 7.03 (m, 3 H), 7.11 - 7.15 (m, 1 H), 7.17 - 7.20 (m, 2 H), 7.23 - 7.27 (m, 5 H), 7.34 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.65 (dd, 1 H, J = 2.3 Hz, 8.5 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.76 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3335, 2928, 1490, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO7S2 (M+Na)+ 816.3005; found: 816.3006.
（５０ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（へプチルアミノ）カルボニル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５０（５０ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（へプチルアミノ）カルボニル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２６ｍｇ，０．０３３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．４ｍｇ，０．０００３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４．３ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２３μＬ，０．１６ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１３μＬ，０．３３ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（２１ｍｇ，８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.36 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.76 - 1.81 (m, 2 H), 3.27−3.32 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.64 - 5.65 (m, 1 H), 6.05 - 6.08 (m, 1 H), 6.79 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.00 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.04 (m, 2 H), 7.16 (d, 3 H, J = 8.0 Hz), 7.25 - 7.34 (m, 5 H), 7.37 - 7.40 (m, 1 H), 7.43 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3308, 2928, 1492, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H47NNaO7S2 (M+Na)+ 776.2691; found: 776.2690.
実施例５０（５０ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［（へプチルアミノ）カルボニル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２６ｍｇ，０．０３３ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．４ｍｇ，０．０００３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（４．３ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２３μＬ，０．１６ｍｍｏｌ）、ぎ酸（１３μＬ，０．３３ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（２１ｍｇ，８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.86 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.25 - 1.36 (brs, 8 H), 1.47 - 1.56 (m, 4 H), 1.76 - 1.81 (m, 2 H), 3.27−3.32 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.64 - 5.65 (m, 1 H), 6.05 - 6.08 (m, 1 H), 6.79 (d, 1 H, J = 8.5 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.95 (d, 1 H, J = 2.0 Hz), 7.00 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.02 - 7.04 (m, 2 H), 7.16 (d, 3 H, J = 8.0 Hz), 7.25 - 7.34 (m, 5 H), 7.37 - 7.40 (m, 1 H), 7.43 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.73 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3308, 2928, 1492, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H47NNaO7S2 (M+Na)+ 776.2691; found: 776.2690.
（５０ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（へプチルアミノ）カルボニル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５０（５０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（へプチルアミノ）カルボニル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２０ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８．５ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 - 1.35 (brs, 8 H), 1.49 - 1.61 (m, 4 H), 1.75 - 1.81 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 - 7.18 (m, 2 H), 7.24 - 7.29 (m, 2 H), 7.38 - 7.40 (m, 1 H), 7.50 - 7.52 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 7.98 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3336, 2928, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H41NNaO7S2 (M-H)- 698.2222; found: 698.2220.
実施例５０（５０ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（へプチルアミノ）カルボニル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（２０ｍｇ，０．０２６ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１０ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（８．５ｍｇ，４６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.29 - 1.35 (brs, 8 H), 1.49 - 1.61 (m, 4 H), 1.75 - 1.81 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.76 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 - 7.18 (m, 2 H), 7.24 - 7.29 (m, 2 H), 7.38 - 7.40 (m, 1 H), 7.50 - 7.52 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.78 (d, 1 H, J = 2.1 Hz), 7.98 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 3336, 2928, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H41NNaO7S2 (M-H)- 698.2222; found: 698.2220.
（実施例５１）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５１ａ）［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド
実施例２８（２８ｂ）で得られた４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、（メトキシメチル）トリフェニルホスホニウムクロリド（１．７ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、カリウムｔ−ブトキシド（０．５６ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。
得られた粗製物をメチレンクロリド（１０ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（０．７ｍＬ）を加え室温で１時間３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率１６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.61 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 4.61 (ddd, 2 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 5.0 Hz), 5.32 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.4 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 9.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 1725, 1496 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 254 (M)+.
（５１ａ）［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド
実施例２８（２８ｂ）で得られた４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（１．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、（メトキシメチル）トリフェニルホスホニウムクロリド（１．７ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、カリウムｔ−ブトキシド（０．５６ｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間攪拌した。水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。
得られた粗製物をメチレンクロリド（１０ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（０．７ｍＬ）を加え室温で１時間３０分間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．２１ｇ、収率１６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.61 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 4.61 (ddd, 2 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 5.0 Hz), 5.32 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.6 Hz, 1.6 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.4 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 9.72 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 1725, 1496 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 254 (M)+.
（５１ｂ）２−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］エタノール
実施例５１（５１ａ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド（０．２１ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（６１ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.38 (t, 1 H, J = 6.0 Hz), 2.79 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 3.83 (dt, 2 H, J = 6.0 Hz, 6.4 Hz), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.5 Hz), 5.47 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.5 Hz, 17.2 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.10 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3351, 1496, 1282, 1254 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 256 (M)+.
実施例５１（５１ａ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド（０．２１ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（６１ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.38 (t, 1 H, J = 6.0 Hz), 2.79 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 3.83 (dt, 2 H, J = 6.0 Hz, 6.4 Hz), 4.59 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.5 Hz), 5.47 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.5 Hz, 17.2 Hz), 6.84 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.10 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.43 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Thin film) 3351, 1496, 1282, 1254 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 256 (M)+.
（５１ｃ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］ベンゼン
実施例５１（５１ｂ）で得られた２−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］エタノール（０．１６ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘキサン（０．２７ｍＬ、１．９ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（７６ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.23 - 1.37 (m, 6 H), 1.53 - 1.60 (m, 2 H), 2.79 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.57 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.58 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.32 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.05 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.81 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1497, 1281, 1254 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1033.
実施例５１（５１ｂ）で得られた２−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］エタノール（０．１６ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、１−ブロモヘキサン（０．２７ｍＬ、１．９ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（７６ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率６１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.9 Hz), 1.23 - 1.37 (m, 6 H), 1.53 - 1.60 (m, 2 H), 2.79 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 3.41 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.57 (t, 2 H, J = 7.0 Hz), 4.58 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.32 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.05 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.81 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.09 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1497, 1281, 1254 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1033.
（５１ｄ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５１（５１ｃ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］ベンゼン（０．１３ｇ、０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２４ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率９８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.7 Hz), 1.24 - 1.36 (m, 6 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.31 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 2.79 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.50 - 3.60 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.31 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.76 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.66 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.03 - 7.10 (m, 3 H), 7.12 - 7.22 (m, 3 H), 7.23 - 7.38 (m, 6 H), 7.53 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Liquid film) 3550, 3411, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3040.
実施例５１（５１ｃ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］ベンゼン（０．１３ｇ、０．３８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２４ｍＬ、０．３８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１１ｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ、収率９８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.7 Hz), 1.24 - 1.36 (m, 6 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.31 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 2.79 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.40 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.50 - 3.60 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.31 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.76 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.66 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.03 - 7.10 (m, 3 H), 7.12 - 7.22 (m, 3 H), 7.23 - 7.38 (m, 6 H), 7.53 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (Liquid film) 3550, 3411, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3040.
（５１ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５１（５１ｄ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２６ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４２μL、０．３０ｍｍｏｌ）、ギ酸（７５μL、２．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８４ｍｇ、収率５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.33 (m, 6 H), 1.43 - 1.58 (m, 4 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.57 (s, 1 H), 2.65 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.67 (d, 1 H, J = 3.5 Hz), 6.40 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.05 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.14 - 7.38 (m, 8 H), 7.41 (d, 1 H, J = 6.9 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.62 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3300, 1593, 1494, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2740.
実施例５１（５１ｄ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１６ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２６ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（４２μL、０．３０ｍｍｏｌ）、ギ酸（７５μL、２．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８４ｍｇ、収率５７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.7 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.33 (m, 6 H), 1.43 - 1.58 (m, 4 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.57 (s, 1 H), 2.65 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 3.34 (t, 2 H, J = 6.7 Hz), 3.46 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 5.67 (d, 1 H, J = 3.5 Hz), 6.40 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.90 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.05 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (d, 1 H, J = 6.6 Hz), 7.14 - 7.38 (m, 8 H), 7.41 (d, 1 H, J = 6.9 Hz), 7.55 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.62 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3300, 1593, 1494, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2740.
（５１ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５１（５１ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４４ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５４ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.19 - 1.35 (m, 6 H), 1.43 - 1.57 (m, 4 H), 1.73 - 1.82 (m, 2 H), 2.68 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37 (t, 2 H, J = 5.5 Hz), 3.52 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.57 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.94 (s, 1 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.24 - 7.35 (m, 2 H), 7.44 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 8.01 (s, 1 H).
IR (KBr) 3347, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 663.2450; found: 663.2460.
実施例５１（５１ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［２−（ヘキシルオキシ）エチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４４ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（５４ｍｇ、収率７１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.19 - 1.35 (m, 6 H), 1.43 - 1.57 (m, 4 H), 1.73 - 1.82 (m, 2 H), 2.68 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.37 (t, 2 H, J = 5.5 Hz), 3.52 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.01 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 6.04 (s, 1 H), 6.57 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.94 (s, 1 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 7.11 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.24 - 7.35 (m, 2 H), 7.44 (d, 1 H, J = 6.8 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.3 Hz), 8.01 (s, 1 H).
IR (KBr) 3347, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 663.2450; found: 663.2460.
（実施例５２）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５２ａ）１−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］ノナン−２−オール
実施例５１（５１ａ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド（０．１７ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）、１．０Ｍｎ−ヘプチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（１．０ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２９（２９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.38 (m, 10 H), 1.43 - 1.53 (m, 3 H), 2.56 (dd, 1 H, J = 8.4 Hz, 13.8 Hz), 2.74 (dd, 1 H, J = 4.2 Hz, 13.8 Hz), 3.72 - 3.81 (m, 1 H), 4.59 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.08 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 3398, 1496, 1282, 1255 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 354 (M)+.
（５２ａ）１−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］ノナン−２−オール
実施例５１（５１ａ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アセトアルデヒド（０．１７ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）、１．０Ｍｎ−ヘプチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液（１．０ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２９（２９ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率７０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22 - 1.38 (m, 10 H), 1.43 - 1.53 (m, 3 H), 2.56 (dd, 1 H, J = 8.4 Hz, 13.8 Hz), 2.74 (dd, 1 H, J = 4.2 Hz, 13.8 Hz), 3.72 - 3.81 (m, 1 H), 4.59 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.30 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.2 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 6.83 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.08 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 3398, 1496, 1282, 1255 cm-1.
MS (EI, positive) m/z, 354 (M)+.
（５２ｂ）（［１−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オクチル］オキシ）（ｔ−ブチル）ジメチルシラン
実施例５２（５２ａ）で得られた１−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］ノナン−２−オール（０．１７ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、２，６−ルチジン（０．１１ｍＬ、０．９４ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（０．２２ｍＬ、０．９４ｍｍｏｌ）を加え３０分間攪拌した。飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ -0.21 (s, 3 H), -0.06 (s, 3 H), 0.85 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24 - 1.43 (m, 12 H), 2.57 (dd, 1 H, J = 7.1 Hz, 13.6 Hz), 2.65 (dd, 1 H, J = 5.1 Hz, 13.6 Hz), 3.70 - 3.78 (m, 1 H), 4.58 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.6 Hz), 5.46 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.79 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.36 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1496, 1255 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C24H41 79BrKO2Si (M+K)+ 507.1696; found: 507.1716.
実施例５２（５２ａ）で得られた１−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］ノナン−２−オール（０．１７ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、２，６−ルチジン（０．１１ｍＬ、０．９４ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸ｔ−ブチルジメチルシリル（０．２２ｍＬ、０．９４ｍｍｏｌ）を加え３０分間攪拌した。飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１５）により精製を行い、標記目的化合物（０．１７ｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ -0.21 (s, 3 H), -0.06 (s, 3 H), 0.85 (s, 9 H), 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24 - 1.43 (m, 12 H), 2.57 (dd, 1 H, J = 7.1 Hz, 13.6 Hz), 2.65 (dd, 1 H, J = 5.1 Hz, 13.6 Hz), 3.70 - 3.78 (m, 1 H), 4.58 (d, 2 H, J = 5.0 Hz), 5.29 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.6 Hz), 5.46 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.79 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.02 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.3 Hz), 7.36 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Thin film) 1496, 1255 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C24H41 79BrKO2Si (M+K)+ 507.1696; found: 507.1716.
（５２ｃ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｂ）で得られた（［１−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オクチル］オキシ）（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．１７ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ -0.18 (s, 1.5 H), -0.16 (s, 1.5 H), -0.05 (s, 1.5 H), -0.04 (s, 1.5 H), 0.83 (s, 4.5 H), 0.84 (s, 4.5 H), 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 (brs, 10 H), 1.37 (brs, 2 H), 1.47 - 1.56 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.23 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 2.25 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 2.59 - 2.66 (m, 2 H), 3.76 (q, 1 H, J = 5.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 5.00 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.58 - 5.69 (m, 1 H), 5.75 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 6.63 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.09 (m, 5 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.17 - 7.37 (m, 8 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 3554, 1593, 1493, 1459, 1388, 1368, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H68NaO9S2Si (M+Na)+ 931.4252; found: 931.4229.
実施例５２（５２ｂ）で得られた（［１−［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オクチル］オキシ）（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．１７ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率７２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ -0.18 (s, 1.5 H), -0.16 (s, 1.5 H), -0.05 (s, 1.5 H), -0.04 (s, 1.5 H), 0.83 (s, 4.5 H), 0.84 (s, 4.5 H), 0.87 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 (brs, 10 H), 1.37 (brs, 2 H), 1.47 - 1.56 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.23 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 2.25 (d, 0.5 H, J = 4.7 Hz), 2.59 - 2.66 (m, 2 H), 3.76 (q, 1 H, J = 5.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.24 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 5.00 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 5.06 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.58 - 5.69 (m, 1 H), 5.75 (d, 1 H, J = 4.7 Hz), 6.63 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.09 (m, 5 H), 7.13 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.17 - 7.37 (m, 8 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.83 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (Liquid film) 3554, 1593, 1493, 1459, 1388, 1368, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C53H68NaO9S2Si (M+Na)+ 931.4252; found: 931.4229.
（５２ｄ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、そこへ１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．７０ｍＬ、０．７０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間攪拌した。飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８８ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.34 (m, 10 H), 1.38 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.42 (brs, 2 H), 2.52 (dd, 1 H, J = 8.5 Hz, 12.9 Hz), 2.74 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 12.9 Hz), 3.66 - 3.78 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.27 (dd, 1 H, J = 5.2 Hz, 12.8 Hz), 4.34 (dd, 1 H, J = 5.2 Hz, 12.8 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 5.10 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.14 - 5.23 (m, 1 H), 5.79 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 6.70 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 6.88 (dd, 1 H, J = 3.0 Hz, 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 6.98 - 7.03 (m, 1 H), 7.03 - 7.08 (m, 2 H), 7.14 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 3 H), 7.31 - 7.35 (m, 2 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 8.0 Hz, 11.1 Hz), 7.53 (dd, 2 H, J = 1.8 Hz, 8.7 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (Liquid film) 3361, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO7S2 (M+Na)+ 817.3209; found: 817.3220.
実施例５２（５２ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）ノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、そこへ１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．７０ｍＬ、０．７０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間攪拌した。飽和重曹水（３ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（８８ｍｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.23 - 1.34 (m, 10 H), 1.38 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.42 (brs, 2 H), 2.52 (dd, 1 H, J = 8.5 Hz, 12.9 Hz), 2.74 (dd, 1 H, J = 3.9 Hz, 12.9 Hz), 3.66 - 3.78 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.27 (dd, 1 H, J = 5.2 Hz, 12.8 Hz), 4.34 (dd, 1 H, J = 5.2 Hz, 12.8 Hz), 5.05 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 5.10 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.14 - 5.23 (m, 1 H), 5.79 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 6.70 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.3 Hz), 6.88 (dd, 1 H, J = 3.0 Hz, 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 6.98 - 7.03 (m, 1 H), 7.03 - 7.08 (m, 2 H), 7.14 - 7.20 (m, 3 H), 7.24 - 7.31 (m, 3 H), 7.31 - 7.35 (m, 2 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 8.0 Hz, 11.1 Hz), 7.53 (dd, 2 H, J = 1.8 Hz, 8.7 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 1.7 Hz).
IR (Liquid film) 3361, 1593, 1493, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO7S2 (M+Na)+ 817.3209; found: 817.3220.
（５２ｅ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｄ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１４ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１ｍｇ、０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２４μL、０．１７ｍｍｏｌ）、ギ酸（４２μL、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５４ｍｇ、収率６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.32 (m, 10 H), 1.33 - 1.45 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.34 - 2.45 (m, 3 H), 2.61 (d, 1 H, J = 13.9 Hz), 3.58 - 3.66 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.70 (s, 1 H), 6.40 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.97 - 7.03 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.15 - 7.24 (m, 3 H), 7.24 - 7.40 (m, 6 H), 7.43 - 7.48 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3533, 3289, 1593, 1493, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2898.
実施例５２（５２ｄ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（８８ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１４ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１ｍｇ、０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２４μL、０．１７ｍｍｏｌ）、ギ酸（４２μL、１．１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（５４ｍｇ、収率６５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.18 - 1.32 (m, 10 H), 1.33 - 1.45 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.34 - 2.45 (m, 3 H), 2.61 (d, 1 H, J = 13.9 Hz), 3.58 - 3.66 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.70 (s, 1 H), 6.40 (s, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.97 - 7.03 (m, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.10 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.15 - 7.24 (m, 3 H), 7.24 - 7.40 (m, 6 H), 7.43 - 7.48 (m, 1 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (s, 1 H).
IR (Thin film) 3533, 3289, 1593, 1493, 1458, 1387, 1367, 1248 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C44H50NaO7S2 (M+Na)+ 777.2896; found: 777.2898.
（５２ｆ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５２（５２ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５４ｍｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２９ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率４８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 (brs, 10 H), 1.35 - 1.47 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.73 - 1.83 (m, 2 H), 2.50 - 2.63 (m, 2 H), 3.62 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.0 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.58 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.84 - 6.94 (m, 2 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.2 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 9.4 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.5 Hz), 7.24 - 7.34 (m, 2 H), 7.43 - 7.48 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.2 Hz), 7.99 (s, 1 H).
IR (KBr) 3358, 1593, 1494, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H44NaO7S2 (M-H)+ 699.2426; found: 699.2402.
実施例５２（５２ｅ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシノニル）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（５４ｍｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２９ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（２４ｍｇ、収率４８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 (brs, 10 H), 1.35 - 1.47 (m, 2 H), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.73 - 1.83 (m, 2 H), 2.50 - 2.63 (m, 2 H), 3.62 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.0 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.58 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.84 - 6.94 (m, 2 H), 6.98 (d, 2 H, J = 8.2 Hz), 7.10 (t, 1 H, J = 9.4 Hz), 7.16 (d, 1 H, J = 6.5 Hz), 7.24 - 7.34 (m, 2 H), 7.43 - 7.48 (m, 1 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.2 Hz), 7.99 (s, 1 H).
IR (KBr) 3358, 1593, 1494, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H44NaO7S2 (M-H)+ 699.2426; found: 699.2402.
（実施例５３）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５３ａ）２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）フェノール
ブロモヒドロキノン（１．９ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１−ブロモオクタン（１．７ｍＬ、１０．０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（３．０ｍＬ、２０．０ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．９７ｇ、収率３２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24 - 1.39 (m, 8 H), 1.43 - 1.53 (m, 2 H), 1.75 - 1.85 (m, 2 H), 3.94 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.02 (s, 1 H), 6.73 (dd, 1 H, J = 2.8 Hz, 8.8 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 2.8 Hz).
（５３ａ）２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）フェノール
ブロモヒドロキノン（１．９ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）に溶解し、氷冷下、１−ブロモオクタン（１．７ｍＬ、１０．０ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセ−７−エン（３．０ｍＬ、２０．０ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間攪拌した。飽和重曹水（１０ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（２０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製を行い、標記目的化合物（０．９７ｇ、収率３２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.24 - 1.39 (m, 8 H), 1.43 - 1.53 (m, 2 H), 1.75 - 1.85 (m, 2 H), 3.94 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 5.02 (s, 1 H), 6.73 (dd, 1 H, J = 2.8 Hz, 8.8 Hz), 6.78 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 2.8 Hz).
（５３ｂ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）ベンゼン
実施例５３（５３ａ）で得られた２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）フェノール（０．１２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（１９ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（４１μL、０．４８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.23 - 1.40 (m, 8 H), 1.45 - 1.54 (m, 2 H), 1.74 - 1.85 (m, 2 H), 3.95 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.46 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.28 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.39 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 6.02 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.5 Hz, 17.3 Hz), 6.81 (s, 2 H), 7.13 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927, 2857, 1494 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1037.
実施例５３（５３ａ）で得られた２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）フェノール（０．１２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム（１９ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、アリルブロミド（４１μL、０．４８ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１８）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、９２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 1.23 - 1.40 (m, 8 H), 1.45 - 1.54 (m, 2 H), 1.74 - 1.85 (m, 2 H), 3.95 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.46 (d, 2 H, J = 5.3 Hz), 5.28 (d, 1 H, J = 10.5 Hz), 5.39 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 6.02 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.5 Hz, 17.3 Hz), 6.81 (s, 2 H), 7.13 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 2927, 2857, 1494 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1037.
（５３ｃ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５３（５３ｂ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）ベンゼン（０．１３ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.03 - 1.10 (m, 2 H), 1.17 (brs, 6 H), 1.23 - 1.30 (m, 2 H), 1.39 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.40 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 3.63 (td, 1 H, J = 6.7 Hz, 15.4 Hz), 3.75 (td, 1 H, J = 6.5 Hz, 15.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.45 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.24 (d, 1 H, J = 10.4 Hz), 5.36 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 5.69 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 6.02 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 10.4 Hz, 17.3 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.81 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 6.7 Hz), 7.12 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.16 - 7.22 (m, 2 H), 7.22 - 7.37 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3548, 1593, 1494, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3069.
実施例５３（５３ｂ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−（オクチルオキシ）ベンゼン（０．１３ｇ、０．３７ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．２３ｍＬ、０．３７ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１３ｇ、収率８４％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.03 - 1.10 (m, 2 H), 1.17 (brs, 6 H), 1.23 - 1.30 (m, 2 H), 1.39 - 1.48 (m, 2 H), 1.48 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.40 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 3.63 (td, 1 H, J = 6.7 Hz, 15.4 Hz), 3.75 (td, 1 H, J = 6.5 Hz, 15.4 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.45 (d, 2 H, J = 5.1 Hz), 5.24 (d, 1 H, J = 10.4 Hz), 5.36 (d, 1 H, J = 17.3 Hz), 5.69 (d, 1 H, J = 4.6 Hz), 6.02 (tdd, 1 H, J = 5.1 Hz, 10.4 Hz, 17.3 Hz), 6.67 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 6.81 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 6.7 Hz), 7.12 (t, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.16 - 7.22 (m, 2 H), 7.22 - 7.37 (m, 6 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.82 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3548, 1593, 1494, 1458, 1387, 1368, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3069.
（５３ｄ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５３（５３ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２２ｍｇ、０．０８５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３６μL、０．２６ｍｍｏｌ）、ギ酸（６４μL、１．７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｍｇ、収率８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.03 - 1.12 (m, 2 H), 1.12 - 1.30 (m, 8 H), 1.38 - 1.47 (m, 2 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.52 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 3.61 (td, 1 H, J = 6.7 Hz, 15.5 Hz), 3.73 (td, 1 H, J = 6.5 Hz, 15.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.77 (s, 1 H), 5.66 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.58 - 6.69 (m, 3 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.17 - 7.23 (m, 2 H), 7.23 - 7.32 (m, 5 H), 7.35 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (s, 1 H).
IR (KBr) 3357, 1593, 1494, 1457, 1387, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2738.
実施例５３（５３ｃ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１３ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２２ｍｇ、０．０８５ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３６μL、０．２６ｍｍｏｌ）、ギ酸（６４μL、１．７ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．１０ｍｇ、収率８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 7.0 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.03 - 1.12 (m, 2 H), 1.12 - 1.30 (m, 8 H), 1.38 - 1.47 (m, 2 H), 1.47 - 1.58 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.52 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 3.61 (td, 1 H, J = 6.7 Hz, 15.5 Hz), 3.73 (td, 1 H, J = 6.5 Hz, 15.5 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.77 (s, 1 H), 5.66 (d, 1 H, J = 4.8 Hz), 6.58 - 6.69 (m, 3 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.04 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.14 (t, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.17 - 7.23 (m, 2 H), 7.23 - 7.32 (m, 5 H), 7.35 (d, 1 H, J = 7.0 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (s, 1 H).
IR (KBr) 3357, 1593, 1494, 1457, 1387, 1366, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2738.
（５３ｅ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５３（５３ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ、収率１７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.1 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.08 - 1.39 (m, 12 H), 1.48 - 1.58 (m, 2 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 3.47 - 3.54 (m, 1 H), 3.63 - 3.71 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.02 (s, 1 H), 6.60 (s, 2 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (s, 1 H), 7.17 - 7.28 (m, 5 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (KBr) 3360, 1593, 1496, 1458, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 663.2450; found: 663.2419.
実施例５３（５３ｄ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−（オクチルオキシ）フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１０ｇ、０．１４ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（５６ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１６ｍｇ、収率１７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.1 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.08 - 1.39 (m, 12 H), 1.48 - 1.58 (m, 2 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 3.47 - 3.54 (m, 1 H), 3.63 - 3.71 (m, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.02 (s, 1 H), 6.60 (s, 2 H), 6.80 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (s, 1 H), 7.17 - 7.28 (m, 5 H), 7.54 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.13 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (KBr) 3360, 1593, 1496, 1458, 1242 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C37H43O7S2 (M-Na)+ 663.2450; found: 663.2419.
（実施例５４）ナトリウム ２’−［［３−アミノカルボニル−５−（ヘプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５４ａ）［３−（アミノカルボニル）−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）］−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチルアセテート
実施例４２（４２ｄ）で得られた３−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−５−（へプチルオキシメチル）安息香酸（０．１ｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール（６０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）をエタノール（０．２ｍＬ）に溶解した後、２．０Ｍアンモニア−エタノール溶液（０．５５ｍＬ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。減圧下溶媒を留去した後、薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８６ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.31 (brs, 8 H), 1.49 - 1.61 (m, 4 H), 1.79 - 1.84 (m, 2 H), 2.09 (s, 3 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.44 (s, 2 H), 6.65 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 - 7.03 (m, 3 H), 7.12 (s, 1 H), 7.18 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.20 - 7.29 (m, 5 H), 7.31 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.60 (s, 1 H), 7.63 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2932, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO8S2 (M+Na)+ 832.2954; found: 832.2941.
（５４ａ）［３−（アミノカルボニル）−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）］−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチルアセテート
実施例４２（４２ｄ）で得られた３−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−５−（へプチルオキシメチル）安息香酸（０．１ｇ，０．１２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール（６０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）をエタノール（０．２ｍＬ）に溶解した後、２．０Ｍアンモニア−エタノール溶液（０．５５ｍＬ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。減圧下溶媒を留去した後、薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（８６ｍｇ，８６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.4 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.31 (brs, 8 H), 1.49 - 1.61 (m, 4 H), 1.79 - 1.84 (m, 2 H), 2.09 (s, 3 H), 3.43 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.03 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 4.44 (s, 2 H), 6.65 (s, 1 H), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.00 - 7.03 (m, 3 H), 7.12 (s, 1 H), 7.18 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.20 - 7.29 (m, 5 H), 7.31 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.38 (t, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.49 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 8.5 Hz), 7.60 (s, 1 H), 7.63 (s, 1 H).
IR (Thin film) 2932, 1247 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H51NNaO8S2 (M+Na)+ 832.2954; found: 832.2941.
（５４ｂ）ナトリウム ２’−［［３−アミノカルボニル−５−（ヘプチルオキシメチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５４（５４ａ）で得られた［３−（アミノカルボニル）−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）］−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチルアセテート（８６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４２ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４４ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.27 - 1.32 (brs, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 5.92 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.90 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.14 (dd, 2 H, J = 1.5 Hz, 5.9 Hz), 7.29 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.37 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 - 7.54 (m, 3 H), 7.60 (s, 1 H), 7.63 (s, 1 H), 7.91 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3354, 2930, 1243 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H44NO7S2 (M-Na)- 690.2574; found: 690.2567.
実施例５４（５４ａ）で得られた［３−（アミノカルボニル）−５−（へプチルオキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）］−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチルアセテート（８６ｍｇ，０．１１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４２ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：３）により精製を行い、標記目的化合物（４４ｍｇ，５８％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.27 - 1.32 (brs, 8 H), 1.47 - 1.57 (m, 4 H), 1.74 - 1.81 (m, 2 H), 3.39 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.42 (d, 2 H, J = 2.2 Hz), 5.92 (s, 1 H), 6.69 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.90 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.14 (dd, 2 H, J = 1.5 Hz, 5.9 Hz), 7.29 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.37 (dt, 1 H, J = 1.5 Hz, 8.8 Hz), 7.50 - 7.54 (m, 3 H), 7.60 (s, 1 H), 7.63 (s, 1 H), 7.91 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 3354, 2930, 1243 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C38H44NO7S2 (M-Na)- 690.2574; found: 690.2567.
（実施例５５）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５５ａ）エチル （２Ｅ）−３−（４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）アクリレート
４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（０．５０ｇ，２．１ｍｍｏｌ）、ジエチルホスホノ酢酸エチル（０．８２ｍＬ，４．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後、５５％水素化ナトリウム（０．２７ｇ，６．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水２０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去し粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．５２ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.35 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 4.25 (q, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.64 - 4.65 (m, 2 H), 5.34 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.2 Hz), 5.49 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 19.1 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.30 (d, 1 H, J = 16.1 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.40 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 16.1 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 1704, 1183 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H15 79BrO3 (M)+ 310.0204; found: 310.0200.
（５５ａ）エチル （２Ｅ）−３−（４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）アクリレート
４−アリルオキシ−３−ブロモベンズアルデヒド（０．５０ｇ，２．１ｍｍｏｌ）、ジエチルホスホノ酢酸エチル（０．８２ｍＬ，４．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した後、５５％水素化ナトリウム（０．２７ｇ，６．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水２０ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去し粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（０．５２ｇ，８０％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.35 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 4.25 (q, 2 H, J = 7.3 Hz), 4.64 - 4.65 (m, 2 H), 5.34 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.2 Hz), 5.49 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 19.1 Hz), 6.01 - 6.10 (m, 1 H), 6.30 (d, 1 H, J = 16.1 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.40 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.55 (d, 1 H, J = 16.1 Hz), 7.75 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (KBr) 1704, 1183 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H15 79BrO3 (M)+ 310.0204; found: 310.0200.
（５５ｂ）エチル ３−（４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）プロパノエート
実施例５５（５５ａ）で得られたエチル （２Ｅ）−３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アクリレート（０．２９ｇ，０．９４ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍL）に溶解した後、塩化ビスマス（０．５４ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、水酸化ほう素ナトリウム（０．４３ｇ，１４．９ｍｍｏｌ）を加え、１０℃で２時間攪拌した。希塩酸（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：７)により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ，６９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.23 (dt, 2 H, J = 2.5 Hz, 9.7 Hz), 2.57 (dt, 2 H, J = 2.4 Hz, 10.2 Hz), 2.86 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 9.8 Hz), 4.10 - 4.14 (m, 2 H), 4.57 - 4.58 (m, 2 H), 5.29 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.01 - 6.09 (m, 1 H), 6.81 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.39 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 1733, 1497, 1255 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H17 79BrO3 (M)+ 312.0361; found: 312.0368.
実施例５５（５５ａ）で得られたエチル （２Ｅ）−３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］アクリレート（０．２９ｇ，０．９４ｍｍｏｌ）をエタノール（５ｍL）に溶解した後、塩化ビスマス（０．５４ｇ，２．３ｍｍｏｌ）、水酸化ほう素ナトリウム（０．４３ｇ，１４．９ｍｍｏｌ）を加え、１０℃で２時間攪拌した。希塩酸（５ｍL）を加え反応を停止した後、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を水及び飽和食塩水で洗った後硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝１：７)により精製を行い、標記目的化合物（０．２０ｇ，６９％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 1.23 (dt, 2 H, J = 2.5 Hz, 9.7 Hz), 2.57 (dt, 2 H, J = 2.4 Hz, 10.2 Hz), 2.86 (dt, 2 H, J = 2.2 Hz, 9.8 Hz), 4.10 - 4.14 (m, 2 H), 4.57 - 4.58 (m, 2 H), 5.29 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.01 - 6.09 (m, 1 H), 6.81 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.3 Hz), 7.07 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.39 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 1733, 1497, 1255 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C14H17 79BrO3 (M)+ 312.0361; found: 312.0368.
（５５ｃ）３−（４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル）プロパン−１−オール
実施例５５（５５ｂ）で得られたエチル ３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］プロパノエート（０．２０ｇ，０．６４ｍｍｏｌ）を無水トルエン（５ｍL）に溶解した後、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（１．６ｍＬ，１．６ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１５分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（８０μL）を加え反応を停止し１５分間攪拌した後、セライトを用いてろ過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：３−１：１)により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ，９１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.82−1.87 (m, 2 H), 2.63 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.65 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.57 - 4.59 (m, 2 H), 5.29 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.02 - 6.09 (m, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.39 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3351, 2939, 1496 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C12H15 79BrO2 (M)+ 270.0255; found: 270.0264.
実施例５５（５５ｂ）で得られたエチル ３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］プロパノエート（０．２０ｇ，０．６４ｍｍｏｌ）を無水トルエン（５ｍL）に溶解した後、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム−トルエン溶液（１．６ｍＬ，１．６ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１５分間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液（８０μL）を加え反応を停止し１５分間攪拌した後、セライトを用いてろ過し、減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル：ヘキサン＝２：３−１：１)により精製を行い、標記目的化合物（０．１６ｇ，９１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.82−1.87 (m, 2 H), 2.63 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.65 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.57 - 4.59 (m, 2 H), 5.29 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.47 (d, 1 H, J = 17.2 Hz), 6.02 - 6.09 (m, 1 H), 6.81 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.06 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 7.39 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3351, 2939, 1496 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C12H15 79BrO2 (M)+ 270.0255; found: 270.0264.
（５５ｄ）１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］ベンゼン
実施例５５（５５ｃ）で得られた３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］プロパン−１−オール（０．１９ｇ，０．７０ｍｍｏｌ）、１−ブロモペンタン（０．２４ｍＬ，１．９ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１４ｇ，３．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.91 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.31 - 1.35 (brs, 8 H), 1.54 - 1.61 (m, 2 H), 1.79 - 1.86 (m, 2 H), 2.60 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 3.36 - 3.40 (m, 4 H), 4.55 - 4.57 (m, 2 H), 5.28 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 12.5 Hz), 5.46 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 19.2 Hz), 5.99 - 6.09 (m, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.03 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.37 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2933, 1496 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1030.
実施例５５（５５ｃ）で得られた３−［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］プロパン−１−オール（０．１９ｇ，０．７０ｍｍｏｌ）、１−ブロモペンタン（０．２４ｍＬ，１．９ｍｍｏｌ）、５５％水素化ナトリウム（０．１４ｇ，３．１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ａ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製を行い、標記目的化合物（０．２ｇ，８３％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.91 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.31 - 1.35 (brs, 8 H), 1.54 - 1.61 (m, 2 H), 1.79 - 1.86 (m, 2 H), 2.60 (t, 2 H, J = 8.1 Hz), 3.36 - 3.40 (m, 4 H), 4.55 - 4.57 (m, 2 H), 5.28 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 12.5 Hz), 5.46 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 19.2 Hz), 5.99 - 6.09 (m, 1 H), 6.78 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 7.03 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.1 Hz), 7.37 (d, 1 H, J = 2.2 Hz).
IR (Liquid film) 2933, 1496 cm-1.
HRMS (EI, positive) calcd for C17H25 79BrO2 (M)+ 340.1038; found: 340.1030.
（５５ｅ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５５（５５ｄ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］ベンゼン（０．２０ｇ，０．５８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．３７ｍＬ，０．５８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．２３ｇ，７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.29 - 1.33 (brs, 4 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.73 - 1.87 (m, 4 H), 2.59 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.35 - 3.40 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.21 - 4.32 (m, 2 H), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.6 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.3 Hz), 5.60 - 5.70 (m, 1 H), 5.75 - 5.77 (m, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.98 - 7.06 (m, 5 H), 7.12 - 7.19 (m, 2 H), 7.20 - 7.39 (m, 7 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Liquid film) 2934, 1493, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3066.
実施例５５（５５ｄ）で得られた１−アリルオキシ−２−ブロモ−４−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］ベンゼン（０．２０ｇ，０．５８ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液 （０．３７ｍＬ，０．５８ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２０ｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．２３ｇ，７７％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.29 - 1.33 (brs, 4 H), 1.47 - 1.60 (m, 4 H), 1.73 - 1.87 (m, 4 H), 2.59 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.35 - 3.40 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 4.21 - 4.32 (m, 2 H), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 17.6 Hz), 5.07 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.3 Hz), 5.60 - 5.70 (m, 1 H), 5.75 - 5.77 (m, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.98 - 7.06 (m, 5 H), 7.12 - 7.19 (m, 2 H), 7.20 - 7.39 (m, 7 H), 7.53 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Liquid film) 2934, 1493, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C46H52NaO7S2 (M+Na)+ 803.3052; found: 803.3066.
（５５ｆ）フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５５（５５ｅ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２３ｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（４．０ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３９ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２１ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）、ぎ酸（０．１１ｍＬ，３．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.1 Hz), 1.24 - 1.29 (brs, 4 H), 1.50 - 1.55 (m, 4 H), 1.68 - 1.74 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 2.46 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.30 - 3.33 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 5.66 - 5.67 (m, 1 H), 6.37 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 6.96 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 7.5 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.18 (d, 2 H, J = 7.9 Hz), 7.23 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.26 - 7.29 (m, 2 H), 7.31 - 7.38 (m, 2 H), 7.41 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.62 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3317, 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2751.
実施例５５（５５ｅ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．２３ｇ，０．３０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（４．０ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３９ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２１ｍＬ，１．５ｍｍｏｌ）、ぎ酸（０．１１ｍＬ，３．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製を行い、標記目的化合物（０．１５ｇ，６６％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.6 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.1 Hz), 1.24 - 1.29 (brs, 4 H), 1.50 - 1.55 (m, 4 H), 1.68 - 1.74 (m, 2 H), 1.78 - 1.83 (m, 2 H), 2.46 (t, 2 H, J = 7.3 Hz), 3.30 - 3.33 (m, 4 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.2 Hz), 5.66 - 5.67 (m, 1 H), 6.37 (s, 1 H), 6.75 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 6.89 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 6.96 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.01 (d, 2 H, J = 7.5 Hz), 7.09 (d, 1 H, J = 7.5 Hz), 7.18 (d, 2 H, J = 7.9 Hz), 7.23 (d, 1 H, J = 7.9 Hz), 7.26 - 7.29 (m, 2 H), 7.31 - 7.38 (m, 2 H), 7.41 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.54 (d, 2 H, J = 7.7 Hz), 7.62 (s, 1 H), 7.83 (s, 1 H).
IR (Liquid film) 3317, 2933, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C43H48NaO7S2 (M+Na)+ 763.2739; found: 763.2751.
（５５ｇ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５５（５５ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（７９ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝２：９）により精製を行い、標記目的化合物（９３ｍｇ，６８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.90 (t, 3 H, J = 6.8 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.37 (brs, 4 H), 1.48 - 1.55 (m, 4 H), 1.71 - 1.80 (m, 4 H), 2.50 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.30 - 3.35 (m, 4 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.57 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.84 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.10 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.15 - 7.17 (m, 1 H), 7.25 - 7.30 (m, 2 H), 7.44 (d, 1 H, J = 8.9 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3335, 2933, 1243 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H42NaO7S2 (M-H)- 685.2269; found: 685.2280.
実施例５５（５５ｆ）で得られたフェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［ヒドロキシ［２−ヒドロキシ−５−［３−（ペンチルオキシ）プロピル］フェニル］メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．１５ｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（７９ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝２：９）により精製を行い、標記目的化合物（９３ｍｇ，６８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.90 (t, 3 H, J = 6.8 Hz,), 0.99 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.24 - 1.37 (brs, 4 H), 1.48 - 1.55 (m, 4 H), 1.71 - 1.80 (m, 4 H), 2.50 (t, 2 H, J = 7.4 Hz), 3.30 - 3.35 (m, 4 H), 4.01 (t, 2 H, J = 6.4 Hz), 6.05 (s, 1 H), 6.57 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.84 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.2 Hz), 6.91 (d, 1 H, J = 1.6 Hz), 6.98 (d, 2 H, J = 8.7 Hz), 7.10 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.2 Hz), 7.15 - 7.17 (m, 1 H), 7.25 - 7.30 (m, 2 H), 7.44 (d, 1 H, J = 8.9 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 1.9 Hz).
IR (KBr) 3335, 2933, 1243 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H42NaO7S2 (M-H)- 685.2269; found: 685.2280.
（実施例５６）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
（５６ａ）［［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オキシ］（ｔ−ブチル）ジメチルシラン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．３６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、イミダゾール（０．２０ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン（０．４５ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３０）により精製を行い、標記目的化合物（０．５１ｇ、収率９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 6 H), 0.93 (s, 9 H), 4.60 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 4.64 (s, 2 H), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.19 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 1494, 1256 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C16H25 79BrKO2Si (M+K)+ 395.0445; found: 395.0442.
（５６ａ）［［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オキシ］（ｔ−ブチル）ジメチルシラン
実施例２８（２８ｃ）で得られた［４−アリルオキシ−３−ブロモフェニル］メタノール（０．３６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解し、氷冷下、イミダゾール（０．２０ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン（０．４５ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。飽和重曹水（５ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（１０ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３０）により精製を行い、標記目的化合物（０．５１ｇ、収率９６％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.10 (s, 6 H), 0.93 (s, 9 H), 4.60 (ddd, 2 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 5.0 Hz), 4.64 (s, 2 H), 5.30 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.48 (tdd, 1 H, J = 1.5 Hz, 1.5 Hz, 17.3 Hz), 6.06 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.3 Hz), 6.85 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.19 (dd, 1 H, J = 2.1 Hz, 8.4 Hz), 7.50 (d, 1 H, J = 2.1 Hz).
IR (Thin film) 1494, 1256 cm-1.
HRMS (FAB, positive) calcd for C16H25 79BrKO2Si (M+K)+ 395.0445; found: 395.0442.
（５６ｂ）フェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５６（５６ａ）で得られた［［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オキシ］（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．３７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６４ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３１ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．３８ｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 3 H), 0.06 (s, 3 H), 0.89 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.30 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.27 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.33 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.65 (s, 2 H), 5.02 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 17.2 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.66 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.78 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.11 - 7.22 (m, 5 H), 7.22 - 7.32 (m, 5 H), 7.37 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (KBr) 3548, 3448, 1593, 1493, 1459, 1387, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H52NaO7S2Si (M+Na)+ 819.2821; found: 819.2793.
実施例５６（５６ａ）で得られた［［４−アリルオキシ−３−ブロモベンジル］オキシ］（ｔ−ブチル）ジメチルシラン（０．３７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）、１．６Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（０．６４ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）、フェニル ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−ホルミル−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３１ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｂ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．３８ｇ、収率７９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.05 (s, 3 H), 0.06 (s, 3 H), 0.89 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.76 - 1.85 (m, 2 H), 2.30 (brs, 1 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.27 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.33 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 12.9 Hz), 4.65 (s, 2 H), 5.02 (dd, 1 H, J = 1.2 Hz, 17.2 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.6 Hz), 5.66 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.6 Hz, 17.2 Hz), 5.78 (d, 1 H, J = 4.3 Hz), 6.71 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.99 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.05 (d, 1 H, J = 7.1 Hz), 7.11 - 7.22 (m, 5 H), 7.22 - 7.32 (m, 5 H), 7.37 (d, 1 H, J = 7.2 Hz), 7.53 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.80 (d, 1 H, J = 1.2 Hz).
IR (KBr) 3548, 3448, 1593, 1493, 1459, 1387, 1367, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H52NaO7S2Si (M+Na)+ 819.2821; found: 819.2793.
（５６ｃ）［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート
実施例５６（５６ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３８ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１７ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２０ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、無水酢酸（０．１３ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４３（４３ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．３９ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.03 (s, 3 H), 0.04 (s, 3 H), 0.88 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.03 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.28 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.63 (s, 2 H), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 17.2 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.7 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.7 Hz, 17.2 Hz), 6.68 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.01 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.02 (s, 1 H), 7.10 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.18 - 7.23 (m, 3 H), 7.27 - 7.38 (m, 6 H), 7.51 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 1741, 1593, 1494, 1459, 1387, 1369, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2Si (M+Na)+ 861.2827; found: 861.2955.
実施例５６（５６ｂ）で得られたフェニル ２’−［［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］（ヒドロキシ）メチル］−４−（４−ブトキシフェニルチオ）−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート（０．３８ｇ、０．４７ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１７ｇ、１．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２０ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）、無水酢酸（０．１３ｍＬ、１．４ｍｍｏｌ）を使用して、実施例４３（４３ａ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製を行い、標記目的化合物（０．３９ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.03 (s, 3 H), 0.04 (s, 3 H), 0.88 (s, 9 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.57 (m, 2 H), 1.77 - 1.85 (m, 2 H), 2.03 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.28 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.63 (s, 2 H), 5.01 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 17.2 Hz), 5.05 (dd, 1 H, J = 1.4 Hz, 10.7 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.7 Hz, 17.2 Hz), 6.68 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.87 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.98 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.01 (dd, 1 H, J = 1.9 Hz, 7.0 Hz), 7.02 (s, 1 H), 7.10 (d, 1 H, J = 1.9 Hz), 7.13 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 8.4 Hz), 7.18 - 7.23 (m, 3 H), 7.27 - 7.38 (m, 6 H), 7.51 (dd, 2 H, J = 2.0 Hz, 8.7 Hz), 7.67 (d, 1 H, J = 2.0 Hz).
IR (KBr) 1741, 1593, 1494, 1459, 1387, 1369, 1249 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H54NaO8S2Si (M+Na)+ 861.2827; found: 861.2955.
（５６ｄ）［２−アリルオキシ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート
実施例５６（５６ｃ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（０．３９ｇ、０．４６ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．９３ｍＬ、０．９３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．３３ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.49 - 1.60 (m, 2 H), 1.77 - 1.88 (m, 2 H), 2.06 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.48 - 4.57 (m, 2 H), 5.06 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 17.1 Hz), 5.09 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.59 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 5.9 Hz), 5.68 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.1 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 - 7.04 (m, 5 H), 7.18 - 7.38 (m, 9 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.7 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 7.51 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz).
IR (Thin film) 3418, 1740, 1593, 1494, 1458, 1386, 1369, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H40NaO8S2 (M+Na)+ 747.2062; found: 747.2094.
実施例５６（５６ｃ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）メチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（０．３９ｇ、０．４６ｍｍｏｌ）、１．０Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド−テトラヒドロフラン溶液（０．９３ｍＬ、０．９３ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１３（１３ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３）により精製を行い、標記目的化合物（０．３３ｇ、収率９９％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.49 - 1.60 (m, 2 H), 1.77 - 1.88 (m, 2 H), 2.06 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.21 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.0 Hz, 13.2 Hz), 4.48 - 4.57 (m, 2 H), 5.06 (dd, 1 H, J = 1.6 Hz, 17.1 Hz), 5.09 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 10.6 Hz), 5.59 (dd, 1 H, J = 2.0 Hz, 5.9 Hz), 5.68 (tdd, 1 H, J = 5.0 Hz, 10.6 Hz, 17.1 Hz), 6.69 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.86 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.96 - 7.04 (m, 5 H), 7.18 - 7.38 (m, 9 H), 7.42 (dd, 1 H, J = 1.3 Hz, 7.7 Hz), 7.47 (d, 1 H, J = 1.8 Hz), 7.51 (dd, 2 H, J = 2.1 Hz, 8.8 Hz).
IR (Thin film) 3418, 1740, 1593, 1494, 1458, 1386, 1369, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H40NaO8S2 (M+Na)+ 747.2062; found: 747.2094.
（５６ｅ）［２−アリルオキシ−５−（アジドメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート
実施例５６（５６ｄ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（４０ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（２８μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（２１μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。次いで、氷冷下アジ化ナトリウム（２９ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。反応溶液を氷水（１０ｍＬ）に注いで反応を停止し、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.60 (m, 2 H), 1.75 - 1.86 (m, 2 H), 2.05 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 (s, 2 H), 4.20 - 4.27 (m, 1 H), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 13.1 Hz), 5.01 (d, 1 H, J = 16.7 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.9 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.9 Hz, 16.7 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.05 (m, 5 H), 7.16 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.4 Hz), 7.18 - 7.38 (m, 9 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 2098, 1741, 1593, 1494, 1287, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H39N3NaO7S2 (M+Na)+ 772.2127; found: 772.2131.
実施例５６（５６ｄ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（ヒドロキシメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（４０ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（２８μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（２１μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。次いで、氷冷下アジ化ナトリウム（２９ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１時間攪拌した。反応溶液を氷水（１０ｍＬ）に注いで反応を停止し、酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製を行い、標記目的化合物（３５ｍｇ、収率８５％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.47 - 1.60 (m, 2 H), 1.75 - 1.86 (m, 2 H), 2.05 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.22 (s, 2 H), 4.20 - 4.27 (m, 1 H), 4.30 (dd, 1 H, J = 5.3 Hz, 13.1 Hz), 5.01 (d, 1 H, J = 16.7 Hz), 5.08 (d, 1 H, J = 10.9 Hz), 5.65 (tdd, 1 H, J = 5.3 Hz, 10.9 Hz, 16.7 Hz), 6.72 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.88 (d, 1 H, J = 8.3 Hz), 6.97 - 7.05 (m, 5 H), 7.16 (dd, 1 H, J = 1.8 Hz, 8.4 Hz), 7.18 - 7.38 (m, 9 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.6 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 1.5 Hz).
IR (Thin film) 2098, 1741, 1593, 1494, 1287, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C41H39N3NaO7S2 (M+Na)+ 772.2127; found: 772.2131.
（５６ｆ）［２−アリルオキシ−５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート
実施例５６（５６ｅ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（アジドメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（４９ｍｇ、０．０６５ｍｍｏｌ）をジオキサン（１ｍＬ）に溶解し、そこへ飽和塩化アンモニア水（０．２ｍＬ）、亜鉛（４３ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。
得られた粗製物をメチレンクロリド（３ｍＬ）に溶解し、そこへヘプタン酸（１１μＬ、０．０７８ｍｍｏｌ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩（２５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物（１８ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（４４ｍｇ、収率８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.33 (m, 6 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.56 - 1.64 (m, 2 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.07 (s, 3 H), 2.13 - 2.19 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.15 - 4.24 (m, 2 H), 4.30 (dd, 2 H, J = 5.2 Hz, 14.2 Hz), 5.10 (d, 1 H, J = 18.3 Hz), 5.11 (d, 1 H, J = 10.3 Hz), 5.70 (tdd, 1 H, J = 5.2 Hz, 10.3 Hz, 18.3 Hz), 5.92 (brs, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.77 (s, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 - 7.03 (m, 4 H), 7.11 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.17 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.23 - 7.35 (m, 6 H), 7.38 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.6 Hz).
IR (KBr) 3298, 1741, 1649, 1593, 1495, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C48H53NNaO8S2 (M+Na)+ 858.3110 ; found: 858.3127.
実施例５６（５６ｅ）で得られた［２−アリルオキシ−５−（アジドメチル）フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（４９ｍｇ、０．０６５ｍｍｏｌ）をジオキサン（１ｍＬ）に溶解し、そこへ飽和塩化アンモニア水（０．２ｍＬ）、亜鉛（４３ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応溶液をセライトろ過した後減圧下溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで希釈した。さらに飽和重曹水（５ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。
得られた粗製物をメチレンクロリド（３ｍＬ）に溶解し、そこへヘプタン酸（１１μＬ、０．０７８ｍｍｏｌ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド塩酸塩（２５ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物（１８ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間３０分攪拌した。飽和重曹水（２ｍＬ）を加え反応を停止した後、反応溶液に水（５ｍＬ）を加え酢酸エチルを用いて分液操作を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製を行い、標記目的化合物（４４ｍｇ、収率８１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.5 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.4 Hz), 1.22 - 1.33 (m, 6 H), 1.48 - 1.56 (m, 2 H), 1.56 - 1.64 (m, 2 H), 1.78 - 1.85 (m, 2 H), 2.07 (s, 3 H), 2.13 - 2.19 (m, 2 H), 4.02 (t, 2 H, J = 6.5 Hz), 4.15 - 4.24 (m, 2 H), 4.30 (dd, 2 H, J = 5.2 Hz, 14.2 Hz), 5.10 (d, 1 H, J = 18.3 Hz), 5.11 (d, 1 H, J = 10.3 Hz), 5.70 (tdd, 1 H, J = 5.2 Hz, 10.3 Hz, 18.3 Hz), 5.92 (brs, 1 H), 6.65 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 6.77 (s, 1 H), 6.85 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.94 - 7.03 (m, 4 H), 7.11 (d, 1 H, J = 8.4 Hz), 7.17 (d, 2 H, J = 8.0 Hz), 7.23 - 7.35 (m, 6 H), 7.38 (t, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.42 (d, 1 H, J = 7.6 Hz), 7.50 (d, 2 H, J = 8.6 Hz).
IR (KBr) 3298, 1741, 1649, 1593, 1495, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C48H53NNaO8S2 (M+Na)+ 858.3110 ; found: 858.3127.
（５６ｇ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］メチル アセテート
実施例５６（５６ｆ）で得られた［２−アリルオキシ−５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（５９ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（９ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１ｍｇ、０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１５μL、０．１１ｍｍｏｌ）、ギ酸（２７μL、０．７１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ、収率５０％）を得た。
IR (KBr) 3404, 3285, 1645, 1593, 1491, 1458, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H49NNaO8S2 (M+Na)+ 818.2797; found: 818.2762.
実施例５６（５６ｆ）で得られた［２−アリルオキシ−５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］フェニル］［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェノキシスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル アセテート（５９ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（９ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（１ｍｇ、０．００１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１５μL、０．１１ｍｍｏｌ）、ギ酸（２７μL、０．７１ｍｍｏｌ）を使用して、実施例２８（２８ｆ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝２：１）により精製を行い、標記目的化合物（２８ｍｇ、収率５０％）を得た。
IR (KBr) 3404, 3285, 1645, 1593, 1491, 1458, 1248 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C45H49NNaO8S2 (M+Na)+ 818.2797; found: 818.2762.
（５６ｈ）ナトリウム ４−（４−ブトキシフェニルチオ）−２’−［［５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］（ヒドロキシ）メチル］−１，１’−ビフェニル−３−スルホナート
実施例５６（５６ｇ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェニルスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］メチル アセテート（２８ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１４ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１０ｍｇ、収率４１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (brs, 3 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.28 (brs, 6 H), 1.47 - 1.61 (m, 4 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 2.17 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.18 (s, 2 H), 6.02 (s, 1 H), 6.59 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.91 - 7.03 (m, 4 H), 7.09 - 7.18 (m, 2 H), 7.23 - 7.36 (m, 2 H), 7.47 - 7.58 (m, 3 H), 7.90 (s, 1 H).
IR (KBr) 3310, 1648, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H42NO7S2 (M-Na)+ 676.2403; found: 676.2404.
実施例５６（５６ｇ）で得られた［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−（フェニルスルホニル）−１，１’−ビフェニル−２−イル］［５−［（ヘプタノイルアミノ）メチル］−２−ヒドロキシフェニル］メチル アセテート（２８ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（１４ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）を使用して、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行い標題化合物の粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（メタノール：メチレンクロリド＝１：５）により精製を行い、標記目的化合物（１０ｍｇ、収率４１％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CD3OD) δ 0.88 (brs, 3 H), 1.00 (t, 3 H, J = 7.2 Hz), 1.28 (brs, 6 H), 1.47 - 1.61 (m, 4 H), 1.74 - 1.83 (m, 2 H), 2.17 (t, 2 H, J = 7.2 Hz), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.18 (s, 2 H), 6.02 (s, 1 H), 6.59 (d, 1 H, J = 8.2 Hz), 6.75 (d, 1 H, J = 7.7 Hz), 6.91 - 7.03 (m, 4 H), 7.09 - 7.18 (m, 2 H), 7.23 - 7.36 (m, 2 H), 7.47 - 7.58 (m, 3 H), 7.90 (s, 1 H).
IR (KBr) 3310, 1648, 1593, 1495, 1458, 1244 cm-1.
HRMS (FAB, negative) calcd for C37H42NO7S2 (M-Na)+ 676.2403; found: 676.2404.
（実施例５７）ジナトリウム ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルスルホニル）−３’−スルホ−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート
（５７ａ）メチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート
実施例４３（４３ｄ）で得られた２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）安息香酸（０．４５ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．２３ｇ、１．７ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（１．０ｍＬ）に懸濁させ、ヨウ化メチル（０．１０ｍＬ、１．７ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。ｐＨ６．８リン酸緩衝水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （０．２８ｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24-1.38 (m, 8 H), 1.47-1.63 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 1.96 (s, 3 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.60 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.51 (s, 2 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.96-7.03 (m, 3 H), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.19-7.34 (m, 8 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.45 (s, 1 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz).
IR (neat) 1743, 1723, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H52NaO9S2 (M+Na)+ 847.2950; found: 847.2958.
（５７ａ）メチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート
実施例４３（４３ｄ）で得られた２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）安息香酸（０．４５ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．２３ｇ、１．７ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（１．０ｍＬ）に懸濁させ、ヨウ化メチル（０．１０ｍＬ、１．７ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。ｐＨ６．８リン酸緩衝水溶液（１ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加え、エーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製を行い、標記目的化合物 （０．２８ｇ，６２％）を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.00 (t, 3 H, J = 7.3 Hz), 1.24-1.38 (m, 8 H), 1.47-1.63 (m, 4 H), 1.81 (quintet, 2 H, J = 7.3 Hz), 1.96 (s, 3 H), 3.45 (t, 2 H, J = 6.6 Hz), 3.60 (s, 3 H), 4.02 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.51 (s, 2 H), 6.90 (d, 1 H, J = 8.1 Hz), 6.96-7.03 (m, 3 H), 7.05 (dd, 1 H, J = 1.5 Hz, 7.3 Hz), 7.19-7.34 (m, 8 H), 7.41 (dd, 1 H, J = 2.2 Hz, 8.8 Hz), 7.45 (s, 1 H), 7.52 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.81 (d, 1 H, J = 2.2 Hz), 7.87 (d, 1 H, J = 8.1 Hz).
IR (neat) 1743, 1723, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H52NaO9S2 (M+Na)+ 847.2950; found: 847.2958.
（５７ｂ）メチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルスルホニル）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート
実施例５７（５７ａ）で得られたメチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート（９４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（０．３ｍＬ）に溶解し０℃に冷却した後、ｍ−クロロ過安息香酸（２２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （４５ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.95 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.46 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.55-1.62 (m, 2 H), 1.75 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.85 (s, 3 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.62 (s, 3 H), 3.98 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.48 (s, 2 H), 6.94 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 7.20-7.36 (m, 9 H), 7.52 (s, 1 H), 7.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.04 (s, 1 H), 8.57 (d, 1 H, J = 8.8 Hz).
IR (neat) 1744, 1721, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H52NaO11S2 (M+Na)+ 879.2849; found: 879.2899.
実施例５７（５７ａ）で得られたメチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルチオ）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート（９４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド（０．３ｍＬ）に溶解し０℃に冷却した後、ｍ−クロロ過安息香酸（２２ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。飽和重曹水（０．５ｍＬ）を加え反応を停止した後、水５ｍＬを加えエーテルを用いて分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過の後減圧下溶媒を留去して粗製物を得た。薄層シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７）により精製を行い、標記目的化合物 （４５ｍｇ，３８％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.95 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.36 (m, 8 H), 1.46 (sextet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.55-1.62 (m, 2 H), 1.75 (quintet, 2 H, J = 6.8 Hz), 1.85 (s, 3 H), 3.44 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 3.62 (s, 3 H), 3.98 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 4.48 (s, 2 H), 6.94 (d, 1 H, J = 8.8 Hz), 7.01 (t, 2 H, J = 5.9 Hz), 7.20-7.36 (m, 9 H), 7.52 (s, 1 H), 7.87 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.04 (s, 1 H), 8.57 (d, 1 H, J = 8.8 Hz).
IR (neat) 1744, 1721, 1593 cm-1.
HRMS (ESI, positive) calcd for C47H52NaO11S2 (M+Na)+ 879.2849; found: 879.2899.
（５７ｃ）ジナトリウム ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルスルホニル）−３’−スルホ−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート
実施例５７（５７ｂ）で得られたメチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルスルホニル）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート（４０ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。Ｃ１８逆相カラムクロマトグラフィー（アセトニトリル：水＝０：１０〜４：６）により精製し、標記目的化合物（３４ｍｇ，９５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.97 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.33 (m, 8 H), 1.45-1.54 (m, 4 H), 1.76 (quintet, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.36 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.29 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 4.33 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 6.85 (s, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 (d, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.28 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.43 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 8.15 (s, 1 H).
IR (neat) 3422, 1666, 1593, 1558 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H42NaO10S2 (M-Na)- 745.2117; found: 745.2138.
実施例５７（５７ｂ）で得られたメチル ２−［（アセチルオキシ）［４’−（４−ブトキシフェニルスルホニル）−３’−フェノキシスルホニル−１，１’−ビフェニル−２−イル］メチル］−４−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾアート（４０ｍｇ、０．０４７ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（４０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（１ｃ）と同様の操作を行った。Ｃ１８逆相カラムクロマトグラフィー（アセトニトリル：水＝０：１０〜４：６）により精製し、標記目的化合物（３４ｍｇ，９５％）を得た。
1HNMR (500 MHz, CD3OD) δ 0.88 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 0.97 (t, 3 H, J = 6.8 Hz), 1.22-1.33 (m, 8 H), 1.45-1.54 (m, 4 H), 1.76 (quintet, 2 H, J = 7.8 Hz), 3.36 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.04 (t, 2 H, J = 6.8 Hz), 4.29 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 4.33 (d, 1 H, J = 12.7 Hz), 6.85 (s, 1 H), 7.01 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 7.15 (d, 2 H, J = 6.8 Hz), 7.28 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.35 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.43 (t, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.63 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.68 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 7.93 (d, 2 H, J = 8.8 Hz), 8.01 (d, 1 H, J = 7.8 Hz), 8.15 (s, 1 H).
IR (neat) 3422, 1666, 1593, 1558 cm-1.
HRMS (ESI, negative) calcd for C38H42NaO10S2 (M-Na)- 745.2117; found: 745.2138.
試験例１：細胞内サイクリックAMP（cAMP）濃度変化測定試験
Edg-1発現細胞をS1Pで刺激した際に生じる細胞内cAMPの濃度変化を測定した。Edg-1を発現させたCHO細胞を96穴プレート（コーニング社）に4×104個／ウェルで播種し、37℃、5%CO2存在下で一晩培養した。翌日、無血清培地に交換して37℃、5%CO2存在下で15分間培養し、次いで1mMの3-イソブチル-1-メチルキサンチン（IBMX）を含む培地で37℃、5分間前処理した後、1mMのIBMX、30μMのフォルスコリン、100nMのS1P、及び被検化合物またはジメチルスルホキシド（DMSO）を含む培地に交換して37℃で15分間刺激した。培地を除去後、1% トライトン X-100溶液で細胞を溶解し、cAMP femtomolar kit（日本シェーリング社）を用いて溶液中のcAMP濃度を測定した。また、個々の被検化合物についてIC50値を求めて下記の表に示した。
Edg-1発現細胞をS1Pで刺激した際に生じる細胞内cAMPの濃度変化を測定した。Edg-1を発現させたCHO細胞を96穴プレート（コーニング社）に4×104個／ウェルで播種し、37℃、5%CO2存在下で一晩培養した。翌日、無血清培地に交換して37℃、5%CO2存在下で15分間培養し、次いで1mMの3-イソブチル-1-メチルキサンチン（IBMX）を含む培地で37℃、5分間前処理した後、1mMのIBMX、30μMのフォルスコリン、100nMのS1P、及び被検化合物またはジメチルスルホキシド（DMSO）を含む培地に交換して37℃で15分間刺激した。培地を除去後、1% トライトン X-100溶液で細胞を溶解し、cAMP femtomolar kit（日本シェーリング社）を用いて溶液中のcAMP濃度を測定した。また、個々の被検化合物についてIC50値を求めて下記の表に示した。
試験例２：HUVEC[3H]チミジン取り込み試験
HUVECを1%ウシ胎児血清を含むHuMedia培地（クラボウ社）に懸濁し、96穴プレート（コーニング社）に2,500個／ウェルで播種して37℃、5%CO2存在下で一晩培養した。翌日これにS1Pもしくは血管内皮細胞増殖因子（VEGF）を、各々終濃度100nM及び10ng/mlとなるように加えた。次いでDMSOまたは実施例３６の化合物を種々の濃度で加えた後、同条件下で24時間培養した。各ウェルに0.4μCiの[3H]チミジン溶液（アマシャム社）を添加し、同条件下で更に6時間培養した後、セルハーベスター（HARVESTER 96、トムテック社）を用いてHUVECをβプレート上に回収した。βプレート上の放射活性を1205 BETAPLATE（ワラック社）で測定し、各ウェルの[3H]チミジン取り込み量を求めた。100nMのS1Pもしくは10ng/mlのVEGFにより惹起された、HUVECの[3H]チミジン取り込み亢進現象に対する実施例３６の化合物のIC50値は、各々18nM及び<14nMであった。
HUVECを1%ウシ胎児血清を含むHuMedia培地（クラボウ社）に懸濁し、96穴プレート（コーニング社）に2,500個／ウェルで播種して37℃、5%CO2存在下で一晩培養した。翌日これにS1Pもしくは血管内皮細胞増殖因子（VEGF）を、各々終濃度100nM及び10ng/mlとなるように加えた。次いでDMSOまたは実施例３６の化合物を種々の濃度で加えた後、同条件下で24時間培養した。各ウェルに0.4μCiの[3H]チミジン溶液（アマシャム社）を添加し、同条件下で更に6時間培養した後、セルハーベスター（HARVESTER 96、トムテック社）を用いてHUVECをβプレート上に回収した。βプレート上の放射活性を1205 BETAPLATE（ワラック社）で測定し、各ウェルの[3H]チミジン取り込み量を求めた。100nMのS1Pもしくは10ng/mlのVEGFにより惹起された、HUVECの[3H]チミジン取り込み亢進現象に対する実施例３６の化合物のIC50値は、各々18nM及び<14nMであった。
試験例３：HUVEC遊走試験
遊走試験には96穴ケモタキシスチャンバー（Neuro Probe社）を用いた。8μm孔のフィルター（同社）を0.5mg/mlのマトリゲル溶液（ベクトンディッキンソン社）に浸し、室温で1時間放置した。HUVECを無血清培地に懸濁し、DMSOまたは種々の濃度の実施例３６の化合物を加えた後、37℃、5%CO2存在下で10分間培養した。ケモタキシスチャンバーの下層に100nMのS1Pまたは10ng/mlのVEGFを含む無血清培地を入れ、フィルターをセットし、上層に先述のHUVEC懸濁液（8×104個）を加え、同条件下で4時間培養した。フィルターをディフ・クイック（国際試薬社）で染色し、非遊走細胞を除去した後、スペクトラレインボーサーモ（テカンジャパン社）でOD595を測定し、遊走した細胞数の指標とした。100nMのS1Pを遊走刺激とした場合、実施例３６の化合物のIC50値は0.65μMであった。一方で、10ng/mlのVEGFによるHUVECの遊走に対しては、実施例３６の化合物は14μMにおいても全く阻害効果を示さなかった。
遊走試験には96穴ケモタキシスチャンバー（Neuro Probe社）を用いた。8μm孔のフィルター（同社）を0.5mg/mlのマトリゲル溶液（ベクトンディッキンソン社）に浸し、室温で1時間放置した。HUVECを無血清培地に懸濁し、DMSOまたは種々の濃度の実施例３６の化合物を加えた後、37℃、5%CO2存在下で10分間培養した。ケモタキシスチャンバーの下層に100nMのS1Pまたは10ng/mlのVEGFを含む無血清培地を入れ、フィルターをセットし、上層に先述のHUVEC懸濁液（8×104個）を加え、同条件下で4時間培養した。フィルターをディフ・クイック（国際試薬社）で染色し、非遊走細胞を除去した後、スペクトラレインボーサーモ（テカンジャパン社）でOD595を測定し、遊走した細胞数の指標とした。100nMのS1Pを遊走刺激とした場合、実施例３６の化合物のIC50値は0.65μMであった。一方で、10ng/mlのVEGFによるHUVECの遊走に対しては、実施例３６の化合物は14μMにおいても全く阻害効果を示さなかった。
試験例４：HUVEC管腔形成試験
HUVECをMedium 199培地（インビトロジェン社）に無血清状態で懸濁し、バイオコート・マトリゲルベースメントメンブレンマトリックス・48穴プレート（ベクトンディッキンソン社）に5×104個／mlの細胞密度で400μl播種した。次いでDMSOまたは種々の濃度の実施例３６の化合物を添加し、更にアラマーブルー（大日本製薬株式会社）を40μl加えて混合した。これに80%エタノールもしくは終濃度1μMのS1Pを加えた後、37℃、5%CO2存在下で3時間培養した。各ウェルの培養上清200μlを新しい平底96穴プレート（コーニング社）に分取し、後の細胞毒性試験に用いた。残りの培養上清を除去し、3.7%ホルマリン/PBSで細胞を固定後、ディフ・クイックで染色し、染色された管腔像を位相差顕微鏡下（倍率：接眼10倍、対物4倍）にデジタルカメラで撮影した。画像を血管新生定量ソフトウェア（クラボウ社）を用いて解析し、管腔の総延長を数値化した。HUVECの管腔形成に対する実施例３６の化合物のIC50値は0.23μMであった。アラマーブルーの還元量は細胞の代謝活性と比例する。そこで、先述の平底96ウェルプレートをARVO SX（ワラック社）で測定し、530nm励起時に放出される590nmの蛍光強度をもって還元型アラマーブルーの絶対量とした。実施例３６の化合物は14μMにおいても590nmの蛍光強度をわずかに低下させるのみであったので、HUVEC管腔形成試験における実施例３６の化合物の阻害効果は細胞毒性によるものではないと考えられる。
HUVECをMedium 199培地（インビトロジェン社）に無血清状態で懸濁し、バイオコート・マトリゲルベースメントメンブレンマトリックス・48穴プレート（ベクトンディッキンソン社）に5×104個／mlの細胞密度で400μl播種した。次いでDMSOまたは種々の濃度の実施例３６の化合物を添加し、更にアラマーブルー（大日本製薬株式会社）を40μl加えて混合した。これに80%エタノールもしくは終濃度1μMのS1Pを加えた後、37℃、5%CO2存在下で3時間培養した。各ウェルの培養上清200μlを新しい平底96穴プレート（コーニング社）に分取し、後の細胞毒性試験に用いた。残りの培養上清を除去し、3.7%ホルマリン/PBSで細胞を固定後、ディフ・クイックで染色し、染色された管腔像を位相差顕微鏡下（倍率：接眼10倍、対物4倍）にデジタルカメラで撮影した。画像を血管新生定量ソフトウェア（クラボウ社）を用いて解析し、管腔の総延長を数値化した。HUVECの管腔形成に対する実施例３６の化合物のIC50値は0.23μMであった。アラマーブルーの還元量は細胞の代謝活性と比例する。そこで、先述の平底96ウェルプレートをARVO SX（ワラック社）で測定し、530nm励起時に放出される590nmの蛍光強度をもって還元型アラマーブルーの絶対量とした。実施例３６の化合物は14μMにおいても590nmの蛍光強度をわずかに低下させるのみであったので、HUVEC管腔形成試験における実施例３６の化合物の阻害効果は細胞毒性によるものではないと考えられる。
Claims (4)
- 下記の一般式（Ｉ）：
Ｒ1は水素原子又は炭素原子数１〜１７個のアルキル基［該アルキル基は鎖中に２重結合、３重結合、ベンゼン環（該ベンゼン環は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニル基、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、又はフェニル基を示す）、及びカルボニル基からなる群から選ばれる部分構造を１個又は２個以上含んでいてもよく、また該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい］を示し；
Ｒ2はＣ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし３個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｒ3はＤ環上の置換可能な任意の位置に存在する１個ないし５個の同一又は異なる置換基を示し、該置換基は、水素原子、ヒドロキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、及び炭素原子数１〜６個のアルキル基（該アルキル基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１種又は２種以上の置換基を有していてもよい）からなる群から選ばれる置換基であり；
Ｘはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、又は炭素原子数１〜６個のアルコキシ基（該アルコキシ基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ｙはカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノ基を示し；
Ｚは酸素原子、硫黄原子、−Ｎ(Ｒ4)−（式中、Ｒ4は前記と同義である）、カルボニル基、スルフィニル基、スルホニル基、又はメチレン基（該メチレン基は下記の「置換基群Ａ」から選択された１個又は２個以上の置換基を有していてもよい）を示し；
Ａで表される環は５又は６員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよく；
Ｂで表される環は上記式に示される１個の−Ｃ＝Ｃ−を部分構造として含む４ないし７員の飽和又は不飽和の炭化水素環を示し、該環は、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子からなる群から選ばれる環構成原子を１個又は２個以上有していてもよく、該環は該環上の置換可能な任意の位置に下記の「置換基群Ａ」から選択された置換基を１個又は２個以上有していてもよい。
「置換基群Ａ」
アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルキルチオ基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシ基、オキソ基、シアノ基〕
で表される化合物、その塩、又はそのエステル。 - 請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物、薬理上許容されるその塩、及び薬理上許容されるそのエステル、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む医薬。
- ＥＤＧが関与する疾患の予防及び／又は治療のための請求項２に記載の医薬。
- 炎症疾患、異常な血管新生を伴う疾患、脳血管痙攣、脳虚血、癌関連疾患、脳梗塞、心筋梗塞症、腎炎、肺炎、免疫性疾患、クローン病、大腸炎、又は慢性下痢の予防及び／又は治療のための請求項２に記載の医薬。
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| JP2003358892A JP2005120047A (ja) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | Ｅｄｇ受容体拮抗作用を有するアルキレン誘導体 |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP2021187809A (ja) * | 2020-06-04 | 2021-12-13 | 信越化学工業株式会社 | オニウム塩、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
-
2003
- 2003-10-20 JP JP2003358892A patent/JP2005120047A/ja active Pending
Cited By (2)
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| JP7310724B2 (ja) | 2020-06-04 | 2023-07-19 | 信越化学工業株式会社 | オニウム塩、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
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