JP2005114946A - 光学素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】素子に入射する偏光に依存することなく、素子内部の屈折率分布を動的に制御することができ、応用範囲が広い光学素子を提供する。
【解決手段】第1透明基板1と第2透明基板2の間に満たされた透明絶縁性液体4に保持され、かつ第1透明電極群11内、または第2透明電極群21内、または第1透明電極群11と第2透明電極群21間を移動する帯電微粒子3の平均粒径を、光学素子を透過する光波の波長の10分の1以下とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学素子に関するものである。
従来、光学素子内部の屈折率分布を動的に制御するために、液晶が使われてきた。しかしながら、液晶の複屈折による偏光依存性が大きいため、素子に入射する偏光を揃える必要があった。このような液晶素子は、たとえば、光記録媒体に情報の記録・再生を行う光ヘッド装置において、光波の波面収差補正に利用されている(たとえば、特許文献1参照)。この場合、光源から光記録媒体への光路中に液晶素子が配設されており、光源からの光波を直線偏光として維持する必要がある。また、液晶素子の他に、4分の1波長板などの光波の偏光状態を変える素子を使うためには、液晶素子を2つ使うといった提案もされているが、光学系が複雑かつ大型になるという欠点があった。
そこで、光学系の簡素化、小型化のためには、偏光に依存せずに、素子内部の屈折率分布を動的に変調する素子が望まれている。
一方、液体中に分散した帯電微粒子が電気的に動く現象、すなわち電気泳動を使った表示装置が提案されている(たとえば、特許文献2または特許文献3参照)。電気泳動表示装置は、1対の電極間に満たされた液体中に帯電微粒子が分散しており、その帯電微粒子を電気的に動かして密集状態を作り出し、密集した帯電微粒子による外光の反射を利用した表示装置である。
特開2001−273663号公報 特開平9−185087号公報 特開平11−219135号公報
しかしながら、電気泳動表示装置用に開発されてきた帯電微粒子は、反射光を利用するため、帯電微粒子の大きさが200nm程度あり、光散乱による光損失が大きくて透過型のデバイスに応用するには不向きであった。
昨今、帯電微粒子の大きさが数nm〜数十nmという、とくに可視光の波長に対して10分の1以下の微粒子が作られるようになっており、透過型の光学素子として、帯電微粒子の電気泳動を利用しても光散乱による光損失が少ない光学素子が期待できる。また、電気泳動を利用するので、偏光に依存しない光学素子としても期待できるが、このような光学素子は提案されていないのが現状であった。
本発明は、斯かる実情に鑑み、素子に入射する偏光に依存することなく、素子内部の屈折率分布を動的に制御でき、応用範囲が広い光学素子を提供するものである。
本発明は、第1透明電極群を有する第1透明基板と、第2透明電極群を有する第2透明基板と、第1透明電極群内、または第2透明電極群内、または第1透明電極群と第2透明電極群間を移動する帯電微粒子と、第1透明基板と第2透明基板の間に満たされ、かつ前記帯電微粒子を保持する透明絶縁性液体とを備えたセル構造の光学素子であって、
前記帯電微粒子の平均粒径が該素子を透過する光波の波長の10分の1以下であることを特徴とする光学素子を提供する。
また、前記第1透明電極群、および/または前記第2透明電極群がほぼ同心円状の平面パターンを有している上記の光学素子を提供する。
さらにまた、前記第1透明電極群が、フラットで一様な透明導電膜、絶縁性保護膜、パターニングされた透明導電膜を順に積層した構造を有している上記の光学素子を提供する。
本発明の光学素子によれば、素子に入射する偏光に依存することなく、素子内部の屈折率分布を動的に制御でき、応用範囲が広いという優れた効果を奏し得る。
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態となる光学素子の概念的断面図であり、表面に第1透明電極群11と絶縁性保護膜5と電極引き出し部8とが形成された第1透明基板1と、表面に第2透明電極群21と絶縁性保護膜6が成膜された第2透明基板2とを、絶縁性保護膜5と絶縁性保護膜6が所要間隔をあけて対向するよう、隔壁7により支持してセルが形成されており、該セル内部には、帯電微粒子3と、該帯電微粒子3を保持する透明絶縁性液体(以下、分散媒と表記する)4とが充填されている。
第1透明基板1および第2透明基板2としては、ガラスや石英ガラスなどの光学的に等方である透明な平行基板を用いることができる。また、可撓性を得るためにポリエステルやポリオレフィンなどのプラスチックフィルムを用いても良い。
帯電微粒子3としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、石英などの微粒子を使うことができ、その粒径を透過する光波の波長の10分の1以下にすることで、光の散乱による損失を減らすことができる。また、帯電微粒子3の帯電量の指標であるゼータ電位は、大きい方が好ましい。
分散媒4としては、シリコーンオイル、流動パラフィン、キシレン、トルエンなどの液体を用いることができる。また、分散媒4の粘度は小さい方が好ましく、揮発性の少ない方が好ましい。
また、帯電微粒子3と分散媒4は、おのおのの屈折率の差が大きくなるように選定するのが好ましい。
第1透明電極群11(第2透明電極群21)としては、前記第1透明基板1(第2透明基板2)に、ITO、酸化亜鉛、酸化スズなどの透明導電膜を、スパッタリングや真空蒸着によって成膜したものを用いることができる。
図2は、第1透明電極群11の平面パターンの1例を示す図である。
第1透明電極群11は、図2に示すように、同心円状の電極(図中では、4つの輪帯で描画)と、最外周部の電極と、電極引き出し部8とからなる。最外周部の電極は、第2透明基板2上の第2透明電極群21と結線するためにある。
第2透明電極群21は、第1透明電極群11と同様の構造を取っても良いが、1層のフラットで一様な低抵抗の透明導電膜からなる電極の構造を取るほうが、単純かつセル化時の位置合わせが必要無いので好ましい。
また、図1の絶縁性保護膜5および絶縁性保護膜6は、帯電微粒子3の電極への固着を防ぐためにあり、石英などの低屈折率材料からなる薄膜である。
隔壁7としては、第1透明電極群11の最外周部の電極と、第2透明電極群21を結線するために導電性ビーズを含ませた熱硬化型の接着剤を用いることができる。
つぎに、第1実施形態の光学素子の作製方法を説明する。
まず、第1透明基板1、第2透明基板2の空気側の表面に、真空蒸着などで反射防止膜を成膜する。つぎに、第1透明基板1のセル内側の表面に透明導電膜を成膜して、その上にフォトレジストを塗布し、フォトリソグラフィの技術で図2のようなパターンになるように露光する。さらに、フォトレジストが除去された部分の前記透明導電膜をウエットエッチング処理し、フォトレジストのパターンを転写する。残ったフォトレジストをリフトオフして、第1透明電極群11を形成する。さらに、第1透明電極群11の表面を保護するために絶縁性保護膜5を、電極引き出し部8および、第1透明電極群11の最外周部の電極と、第2透明電極群21を結線するための部分以外に成膜する。
一方、第2透明基板2のセル内側の表面には、1層のフラットで一様な透明導電膜を成膜して第2透明電極群21とし、該第2透明電極群21の表面を保護するために絶縁性保護膜6を、第1透明電極群11の最外周部の電極と、第2透明電極群21を結線するための部分以外に成膜する。
つぎに、第1透明基板1と第2透明基板2が、平行にかつ一定のギャップをもつように、シール材からなる隔壁7を設けてセル化する。さらに、前記セルのギャップ間に、帯電微粒子3を分散させた分散媒4を、真空注入などで充填したのち、注入口を接着剤で封止する。
上述のように作製される第1実施形態の光学素子において、第1透明電極群11を陽極、第2透明電極群21を陰極(第1透明電極群11の最外周の電極も陰極)として用いた場合、帯電微粒子3が負に帯電している場合、帯電微粒子3は、その濃度が第1透明電極群11の同心円状の電極部分において密になるように移動する。したがって、該光学素子内部において帯電微粒子3の粗密ができるので、該光学素子内部に屈折率の分布が生じる。この場合、透過する光波に球面収差を付与できる。すなわち、透過する光波に、特定の球面収差が存在する場合、第1実施形態の光学素子を用いることで、該球面収差を動的に相殺できる。また、透過する光波の偏光に依存しないという利点もある。
[第2実施形態]
本発明の第2実施形態の光学素子は、第1透明電極群の構造を変えて、第1実施形態の光学素子にくらべ、帯電微粒子3の移動特性を高めたものである。図3に第2実施形態の光学素子の概念的断面図を示す(図中、図1と同じ要素のものには、同じ符号を付してある)。
第2実施形態の光学素子の特徴となる第1透明電極群31は、フラットで一様な透明導電膜32、絶縁性保護膜33、パターニングされた透明導電膜34が順に積層された構造を有している。
つぎに、第1透明電極群31の作製方法を説明する。
第1透明基板1上に、透明導電膜32、絶縁性保護膜33、透明導電膜34を順に成膜したものに、フォトレジストを塗布し、フォトリソグラフィの技術でパターニングを施して、フォトレジストが除去された部分の透明導電膜34をエッチング処理にて除去する。このとき、透明導電膜34は、図2に示すように、同心円状にパターニングされる。残ったフォトレジストを除去して、第1透明電極群31は、透明導電膜32、絶縁性保護膜33、透明導電膜34が、第1透明基板1上に積層された構造として作製される。
さらに、第1透明電極群31に絶縁性保護膜5を成膜した後、第1実施形態の光学素子と同様の方法で、セル化して、帯電微粒子3を分散させた分散媒4を充たして、第2実施形態の光学素子を作製する。
上述のように作製される第2実施形態の光学素子において、第1透明電極群31の同心円状の電極(透明導電膜34)を陽極、透明導電膜32を陰極、第2透明電極群21を陰極(第1透明電極群31の透明導電膜34の最外周の電極も陰極)として用いて、かつ帯電微粒子3が負に帯電している場合は、帯電微粒子3が第1透明電極群31の同心円状の電極の部分に引力が、その他の部分に斥力が働き、帯電微粒子3は第1透明電極群31の同心円状の部分に集中する。すなわち、第1実施形態の光学素子に比べ帯電微粒子3を移動させるために働く力が増すことになる。
上述したように、第2実施形態の光学素子内部において、帯電微粒子3の濃度の粗密ができるので、該光学素子内部に実効的な屈折率の分布が生じる。この場合、第1実施形態の光学素子と同様に、透過する光波に球面収差を付与できる。また、透過する光波の偏光に依存しない利点もある。
本実施例は図1、図2に示す構造を持つ第1実施形態の光学素子の具体例であり、以下のように作製する。
まず、ガラス製の第1透明基板1、第2透明基板2の空気側の表面に、真空蒸着で可視光域用の反射防止膜を成膜した。つぎに、第1透明基板1のセル内側の表面に、第1透明電極群11となる透明導電膜として、シート抵抗値が100Ω/□、厚さが約10nmのITO膜をスパッタ成膜した。その上にポジ型のフォトレジストを塗布し、フォトリソグラフィの技術で、図2に示すような同心円状のパターニングを施して、感光した部分のフォトレジストを除去した。さらに、塩化第3鉄系のエッチング液で、フォトレジストが除去された部分の透明導電膜を除去した。残ったフォトレジストを除去して第1透明電極群31を作製した。さらに、石英を主成分とする絶縁性保護膜用のコート液をスピンコートで厚さが50nmになるように成膜し、熱焼成して絶縁性保護膜5とし、電極引き出し部8と、第1透明電極群11の最外周部の電極と、第2透明電極群21を結線するための部分の絶縁性保護膜をドライエッチングで除去した。
つぎに、第2透明基板2のセル内側の表面に、第2透明電極群21として、フラットで一様な、かつシート抵抗値が100Ω/□、厚さが約10nmのITO膜をスパッタ成膜した。さらに、石英を主成分とする絶縁性保護膜用のコート液をスピンコートで厚さが50nmになるように成膜し、熱焼成して絶縁性保護膜6とした。さらに、第1透明電極群11の最外周部の電極と、第2透明電極群21を結線するための部分の絶縁性保護膜をドライエッチングで除去した。
つぎに、図1に示すごとく、セルギャップが一様に3μmになるよう、第2透明基板2に径が3μmの石英製の微小球を散布し、導電性ビーズを混合した熱硬化型の接着剤を用いて隔壁7として、熱圧着をしてセル化した。上述のセルギャップ間に、平均粒径が30nmの酸化亜鉛製の帯電微粒子3を分散させたキシレンからなる分散媒4を、毛細管現象を利用して注入したのち、注入口をエポキシ接着剤で封止して、本発明の光学素子を作製した。
フレキシブル回路基板を電極引き出し部8に接着して、本発明の光学素子の動作を確認した。第1透明電極群11と第2透明電極群21に、±5V、10Hzの交流電圧を印加したところ、透過する光波に球面収差が加わり、波面の変化を確認した。なお、帯電微粒子3が各電極群への固着を防ぐことを主目的として交流電圧を印加した。本実施例では、電圧印加開始後約5分で変化が飽和した。変化が飽和するまでの速さ、すなわち応答速度は帯電微粒子3のゼータ電位の大きさ、および印加する電場の大きさに依存するので、より大きなゼータ電位をもつ帯電微粒子3を用いることと、電場の大きさを増すことで、高速化できる。なお、本実施例で用いた帯電微粒子3のゼータ電位は数mVであり、ゼータ電位の大きさとしては小さい部類に入る。
また、変化した波面の量は、約25nmであり、屈折率の変化量に換算すると約0.008であった。本実施例における変化した波面の量、屈折率の変化量を増すためには、セルギャップの間隔を拡げること、帯電微粒子3と分散媒4の材料を変えて屈折率差を拡げることで対応できる。
以上、本実施例によると、動的に素子内部の屈折率分布を制御することを確認できた。また、本発明の光学素子の原理上、透過する偏光に依存しないと考える。
本発明の光学素子は、偏光に依存せずに素子内部の屈折率を制御できるので、カメラのように自然光を扱う分野、またはプロジェクタのように無偏光光源を扱う用途にも応用できる。
本発明の第1実施形態の光学素子の断面を示す概念的断面図である。 本発明の第1実施形態の光学素子の構成要素である第1透明電極群のパターンを示す平面図である。 本発明の第2実施形態の光学素子の断面を示す概念的断面図である。
符号の説明
1 第1透明基板
2 第2透明基板
3 帯電微粒子
4 分散媒(透明絶縁性液体)
5 絶縁性保護膜
6 絶縁性保護膜
7 隔壁
8 電極引き出し部
11 第1透明電極群
21 第2透明電極群
31 第1透明電極群
32 透明導電膜
33 絶縁性保護膜
34 透明導電膜

Claims (3)

  1. 第1透明電極群を有する第1透明基板と、第2透明電極群を有する第2透明基板と、第1透明電極群内、または第2透明電極群内、または第1透明電極群と第2透明電極群間を移動する帯電微粒子と、第1透明基板と第2透明基板の間に満たされ、かつ前記帯電微粒子を保持する透明絶縁性液体とを備えたセル構造の光学素子であって、
    前記帯電微粒子の平均粒径が該素子を透過する光波の波長の10分の1以下であることを特徴とする光学素子。
  2. 前記第1透明電極群、および/または前記第2透明電極群がほぼ同心円状の平面パターンを有している請求項1に記載の光学素子。
  3. 前記第1透明電極群が、フラットで一様な透明導電膜、絶縁性保護膜、パターニングされた透明導電膜を順に積層した構造を有している請求項1または2に記載の光学素子。
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