JP2005112701A - シリコンナノワイヤーの製造方法 - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 46
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 41
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
【構成】 シリコン粉末の焼結体を不活性ガス気流中で蒸発させ、不活性ガス気流の下流側において、1200℃〜900℃の間で10℃/cm以上の温度勾配が形成された位置に配置された基板上にシリコンナノワイヤーを成長させる。
【選択図】図2
Description
℃の間で10℃/cm以上の温度勾配が形成された位置に配置された基板上にシリコンナノ
ワイヤーを成長させる。前述の熱蒸発法の限界を超える長さのシリコンナノワイヤーが、温度勾配の形成という簡便な条件により作製される。温度が1200℃を超えると粒状となり
、900℃未満では膜状となり、シリコンナノワイヤーが形成されにくくなる。温度勾配に
ついては、10℃/cm未満では、シリコンナノワイヤーが長尺とならず、短尺のたとえば
1mm以下のナノワイヤーとなってしまう。
は、大気圧下、1350℃で蒸発させた。シリコン基板の位置は、1130℃〜1160℃の温度で15℃/cmの温度勾配が形成された位置にあった。シリコン基板上にはシリコンナノワイヤ
ーが生成した。このシリコンナノワイヤーは、図2に示したように、外径50nm〜100nm
で、長さ数cmの長尺のものであった。透過型電子顕微鏡で観察すると、図3に示したように、直線的であり、また、電子線回折結果を示した図4にから理解されるように、単結晶である。
2 不活性ガス
3 ヒータ
4 焼結体
5 基板
6 熱電対
Claims (1)
- シリコン粉末の焼結体を不活性ガス気流中で蒸発させ、不活性ガス気流の下流側において、1200℃〜900℃の間で10℃/cm以上の温度勾配が形成された位置に配置された基板上にシリコンナノワイヤーを成長させることを特徴とするシリコンナノワイヤーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003352799A JP3849026B2 (ja) | 2003-10-10 | 2003-10-10 | シリコンナノワイヤーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003352799A JP3849026B2 (ja) | 2003-10-10 | 2003-10-10 | シリコンナノワイヤーの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005112701A true JP2005112701A (ja) | 2005-04-28 |
JP3849026B2 JP3849026B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=34543611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003352799A Expired - Lifetime JP3849026B2 (ja) | 2003-10-10 | 2003-10-10 | シリコンナノワイヤーの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3849026B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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- 2003-10-10 JP JP2003352799A patent/JP3849026B2/ja not_active Expired - Lifetime
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---|---|
JP3849026B2 (ja) | 2006-11-22 |
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A977 | Report on retrieval |
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