JP2005109301A - Substrate dividing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板の分割方法に関し、詳しくは、レーザー加工法を用いる基板の分割方法に関する。 The present invention relates to a substrate dividing method, and more particularly to a substrate dividing method using a laser processing method.
従来、例えば、アルミナなどのセラミック材料からなる基板を分割する工程を経てプリント回路基板などの電子部品を製造する場合、1つのマザー基板を複数の子基板に分割して同時に多数個の電子部品を製造するいわゆる多数個取りの製造方法が一般に用いられている。 Conventionally, for example, when manufacturing an electronic component such as a printed circuit board through a process of dividing a substrate made of a ceramic material such as alumina, a single mother board is divided into a plurality of sub-boards, and a large number of electronic components are simultaneously formed. A so-called multi-cavity manufacturing method for manufacturing is generally used.
そして、この多数個取りの製造方法においては、マザー基板(以下、単に「基板」という)を分割する場合、基板の所定の位置(分割ライン)に分割用の溝など(以下、単に「分割溝」ともいう。なお、ここでいう「分割溝」には、文字通りの溝だけではなく、貫通孔を所定の間隔をおいて連続的に形成した貫通ミシン目加工や、未貫通の穴を所定の間隔をおいて連続的に形成した未貫通ミシン目加工などが施されたものも含まれる。)を形成し、基板に所定の回路パターンを形成したり、抵抗素子を配設したりした後、分割溝に沿って基板をブレイクして個々の電子部品素子(製品)に分割する方法が広く用いられている。 In this multi-cavity manufacturing method, when a mother substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) is divided, a dividing groove or the like (hereinafter simply referred to as “divided groove”) at a predetermined position (division line) of the substrate. It should be noted that the “divided groove” here is not limited to a literal groove, but a through perforation in which through holes are continuously formed at predetermined intervals, and a non-through hole is defined as a predetermined groove. Including a non-penetrating perforation formed continuously at intervals, etc.), forming a predetermined circuit pattern on the substrate, or arranging a resistance element, A method of breaking a substrate along the dividing groove and dividing the substrate into individual electronic component elements (products) is widely used.
ところで、上記の分割溝を形成する方法としては、
(1)基板の形成時に、あらかじめ金型などで分割溝を形成しておく方法、
(2)形成された基板に、例えばレーザー加工などの方法で分割溝を形成する方法
などがある。
By the way, as a method of forming the above dividing grooves,
(1) A method of forming a dividing groove with a mold or the like in advance when forming a substrate,
(2) There is a method of forming divided grooves on the formed substrate by a method such as laser processing.
しかし、図8に示すように、分割溝Lが基板51の一方端部52a,53aから互いに対向する他方端部52b,53bにまで形成されていると、分割溝形成後の基板51の強度が低下し、分割前の、部品搭載などの工程で基板51が割れてしまうというような問題点がある。
However, as shown in FIG. 8, when the dividing groove L is formed from one
そこで、図9に示すように、縦方向両端側の分割溝La,Lbを除いた分割溝Lを基板51の一方端部52a,53aから互いに対向する他方端部52b,53bにまでは形成せず、少し手前の部分で止める方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。
Therefore, as shown in FIG. 9, the dividing grooves L excluding the dividing grooves La and Lb on both ends in the vertical direction are formed from the one
しかしながら、この方法の場合、基板の強度は確保されるが、加工に手間がかかるという問題点がある。すなわち、例えば、レーザー加工により分割溝を形成する場合、レーザービームの移動速度(基板とレーザービームの相対的な移動速度)を速くすると終点位置にばらつきが生じて分割溝が端部まで形成されてしまうことがあるため、加工速度を遅くして、終点位置のばらつきを抑制しているのが実情で、加工速度が遅く、生産性が低いという問題点がある。
また、レーザービームの照射の開始、終了位置においては、必要以上のレーザービームが照射され、基板強度を低下させてしまうという問題点がある。
Further, at the start and end positions of the laser beam irradiation, there is a problem that an excessive laser beam is irradiated and the substrate strength is lowered.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、レーザー加工法による分割用前処理加工(基板分割用の溝やスリットなどを形成するための加工処理)を効率よく速やかに行うことが可能で、かつ、その後に基板を取り扱う工程において基板に割れが発生することを抑制、防止することが可能な基板の分割方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to efficiently and quickly perform pre-processing for division (processing for forming a substrate dividing groove or slit) by a laser processing method. In addition, it is an object of the present invention to provide a method for dividing a substrate that can suppress or prevent the substrate from being cracked in a subsequent process of handling the substrate.
上記課題を解決するため、本発明(請求項1)の基板の分割方法は、
基板表面の少なくとも1辺側の端部近傍領域の、少なくとも基板を分割すべき分割ラインが通過する領域に、該辺に沿ってレーザー反射用の膜を形成する工程と、
基板を分割すべき分割ラインに沿って、レーザービームを基板の一方端部の外側から基板上を通って他方端部の外側まで照射することにより、基板に分割用前処理加工を施す工程と、
基板を前記分割ラインに沿って分割する工程と
を具備することを特徴としている。
In order to solve the above problems, a substrate dividing method according to the present invention (Claim 1) includes:
Forming a film for laser reflection along the side at least in a region through which a dividing line to divide the substrate passes, in a region near the end of at least one side of the substrate surface;
A step of performing pre-processing for division on the substrate by irradiating a laser beam from the outside of one end portion of the substrate to the outside of the other end portion along the dividing line where the substrate is to be divided;
And a step of dividing the substrate along the dividing line.
また、請求項2の基板の分割方法は、前記レーザー反射用の膜を、少なくとも基板表面の互いに対向する2つの辺側の端部近傍領域に形成することを特徴としている。 The substrate dividing method according to claim 2 is characterized in that the laser reflecting film is formed at least in a region in the vicinity of the ends on the two sides facing each other on the substrate surface.
また、請求項3の基板の分割方法は、前記基板表面の端部近傍領域にレーザー反射用の膜を形成するにあたって、基板表面の端部近傍領域の最も外側寄りの領域を除いた領域に膜を形成することを特徴としている。 According to another aspect of the substrate dividing method of the present invention, when the laser reflecting film is formed in the region near the edge of the substrate surface, the film is formed in a region excluding the outermost region of the region near the edge of the substrate surface. It is characterized by forming.
また、請求項4の基板の分割方法は、前記基板の端部の最も外側寄りの領域よりも内側の領域に不要領域を有し、前記レーザー反射用の膜を形成する工程において、前記不要領域のうちの、前記基板の最外側分割ラインよりも内側の分割ラインが通過する領域の少なくとも一部にレーザー反射用の膜を形成することを特徴としている。 Further, in the method for dividing a substrate according to claim 4, in the step of forming the laser reflecting film, the unnecessary region has an unnecessary region in a region inside the outermost region of the end portion of the substrate. Among them, a film for laser reflection is formed in at least a part of a region through which a division line inside the outermost division line of the substrate passes.
本発明(請求項1)の基板の分割方法は、基板表面の少なくとも1辺側の端部近傍領域の、少なくとも基板を分割すべき分割ラインが通過する領域に、該辺に沿ってレーザー反射用の膜を形成し、基板を分割すべき分割ラインに沿って、レーザービームを基板の一方端部の外側から基板上を通って他方端部の外側まで照射することにより、基板に分割用前処理加工を施し、基板を分割用前処理加工が施された分割ラインに沿って分割するようにしているので、レーザービームを照射することによる分割用前処理加工速度を高めることが可能になるとともに、その後の、基板を分割するまでの加工工程における基板の割れを効率よく防止することが可能になる。 The substrate dividing method according to the present invention (Claim 1) is for laser reflection along the side of at least one side of the substrate surface in the vicinity of the edge of the substrate surface along the side where the dividing line for dividing the substrate passes. The substrate is subjected to pretreatment for division by irradiating a laser beam from the outside of one end portion of the substrate to the outside of the other end portion along the dividing line where the substrate is to be divided. Since processing is performed and the substrate is divided along the dividing line where the pretreatment for division is performed, it is possible to increase the pretreatment speed for division by irradiating the laser beam, Subsequent cracking of the substrate in the processing step until the substrate is divided can be efficiently prevented.
すなわち、基板表面の少なくとも1辺側の端部近傍領域の、少なくとも基板を分割すべき分割ラインが通過する領域に、該辺に沿ってレーザー反射用の膜を形成した場合、膜でレーザービームが反射されるため、レーザービームを照射して基板に分割用前処理加工を施すにあたって、レーザービーム照射の始点及び終点の位置ばらつきを問題とすることなく、基板の一方端部から他方端部まで高速でレーザービームの照射を行うことが可能になり、基板に分割用の溝、未貫通穴、貫通孔などを形成するための分割用前処理加工を速やかに行うことが可能になるとともに、膜が形成されている領域は分割用前処理加工が施されていない状態に保たれ、かつ、膜により補強された状態となるため、基板の機械的強度を確保することが可能になり、分割用前処理加工工程の後の工程における基板の割れを効率よく防止することが可能になる。
したがって、本発明を、基板を分割する工程を経て製造される電子部品の製造方法に適用することにより、電子部品を効率よく製造することが可能になる。
That is, when a film for laser reflection is formed along the side at least in a region in the vicinity of the edge on the side of the substrate side where a dividing line for dividing the substrate passes, Because it is reflected, when performing pre-processing for division on the substrate by irradiating the laser beam, high-speed from one end of the substrate to the other end without causing a problem in the position variation of the start point and end point of laser beam irradiation It is possible to irradiate with a laser beam, and it is possible to perform pre-processing for dividing to form a dividing groove, a non-through hole, a through hole, etc. in the substrate quickly, and the film Since the formed region is kept in a state where the pretreatment for division is not performed and is reinforced by the film, it becomes possible to ensure the mechanical strength of the substrate, It is possible to prevent cracking of the substrate efficiently in the process after the split pretreatment processing steps.
Therefore, by applying the present invention to a method for manufacturing an electronic component manufactured through the process of dividing the substrate, it is possible to efficiently manufacture the electronic component.
なお、本発明の基板の分割方法において、レーザー反射用の膜が形成された基板に分割用前処理加工を施した後、基板を分割ラインに沿って分割するにあたっては、基板を分割する前の段階で、レーザー反射用の膜が形成された領域を分割して除去することにより、基板の端部にまで溝などの分割用前処理加工が施された状態となるため、その後に、基板の残りの部分を所定の分割ラインに沿って、容易かつ確実に分割することができる。
また、本発明においては、レーザー反射用の膜として、基板の端部近傍領域に、所定の辺に沿って帯状のパターンの膜を形成することも可能であり、各分割ラインが通過する複数の領域上に位置するように、基板の端部近傍領域の所定の辺に沿って、一定の間隔をおいて複数の膜を形成することも可能である。
In the substrate dividing method of the present invention, after dividing the substrate along the dividing line after performing the pretreatment for dividing the substrate on which the laser reflecting film is formed, the substrate is divided. At this stage, by dividing and removing the region where the film for laser reflection is formed, the pre-processing for dividing such as grooves is applied to the edge of the substrate, and then the substrate The remaining portion can be easily and reliably divided along a predetermined dividing line.
In the present invention, it is also possible to form a belt-like pattern film along a predetermined side in a region near the edge of the substrate as the laser reflecting film, and a plurality of lines through which each divided line passes. It is also possible to form a plurality of films at regular intervals along a predetermined side of the region near the edge of the substrate so as to be located on the region.
また、本発明において、分割用前処理加工とは、
(1)パルス状のレーザーを一定間隔毎に照射してミシン目状の未貫通穴を形成する加工処理、
(2)上記(1)の場合と同様の方法で、ミシン目状の貫通孔を形成する加工処理、
(3)レーザーの連続照射による方法や、パルス状のレーザーを未貫通穴が連続して形成されるように照射する方法などにより溝を形成する加工処理
などの基板を所定の位置で分割することを可能にするための種々の加工処理を含む広い概念であり、加工された部分の具体的な形状に特に制約はない。
また、本発明におけるレーザー反射用の膜としては、Agなどの金属からなる電極(膜)が例示される。
In the present invention, the pre-processing for division is
(1) Processing that forms a perforated hole by irradiating a pulsed laser at regular intervals,
(2) Processing for forming perforated through holes in the same manner as in (1) above,
(3) Dividing the substrate at a predetermined position, such as processing to form grooves by a method of continuous laser irradiation or a method of irradiating a pulsed laser so that non-through holes are continuously formed This is a broad concept including various processing processes for enabling the processing, and the specific shape of the processed part is not particularly limited.
In addition, examples of the laser reflecting film in the present invention include an electrode (film) made of a metal such as Ag.
また、請求項2の基板の分割方法のように、少なくとも基板表面の互いに対向する2つの辺側の端部近傍領域にレーザー反射用の膜を形成するようにした場合、互いに対向する2つの辺側の端部近傍領域が、分割用前処理加工が施されていない状態に保たれるため、基板の強度をより確実に保持することが可能になり、信頼性を向上させることが可能になる。
なお、例えば、基板を一方向及びそれに直交する方向(すなわち、縦方向と横方向)にそれぞれ複数の位置で分割する場合、基板表面の互いに対向する2つの辺側の端部近傍領域にレーザー反射用の膜を形成するだけでも、基板の全体的な強度を向上させることが可能になるとともに、基板を取り扱う場合に、基板の強度が高い位置や方向などを考慮して基板を保持することにより、基板に割れを生じたりすることなく、容易かつ安全に基板を取り扱うことが可能になる。
また、場合によっては、平面形状が方形の基板の4つの辺側の端部近傍領域のそれぞれにレーザー反射用の膜を形成することも可能である。なお、その場合には、実際に分割する前に膜が形成された4つの辺側の端部近傍領域を除去した後、分割ラインに沿って分割することにより、所望の位置で基板を分割することができる。
In addition, when the film for laser reflection is formed at least in the vicinity of the end portions on the two sides facing each other on the surface of the substrate as in the method for dividing a substrate according to claim 2, the two sides facing each other Since the region near the end on the side is kept in a state where the pre-processing for dividing is not performed, the strength of the substrate can be held more reliably and the reliability can be improved. .
In addition, for example, when the substrate is divided at a plurality of positions in one direction and in a direction perpendicular thereto (that is, in the vertical direction and the horizontal direction), the laser reflection is performed on the region near the edges on the two opposite sides of the substrate surface. It is possible to improve the overall strength of the substrate simply by forming a film for use, and when handling the substrate, by holding the substrate in consideration of the position and direction where the strength of the substrate is high The substrate can be handled easily and safely without causing any cracks in the substrate.
In some cases, it is also possible to form a film for laser reflection in each of the vicinity of the end portions on the four sides of the substrate having a square planar shape. In this case, the substrate is divided at a desired position by removing the regions near the end portions on the four sides where the film is formed before actually dividing, and then dividing along the dividing line. be able to.
また、請求項3の基板の分割方法のように、基板表面の端部近傍領域にレーザー反射用の膜を形成するにあたって、基板表面の端部近傍領域の最も外側寄りの領域(端部最外領域)を除いた領域に膜を形成するようにした場合、膜が形成された領域の内側の領域だけではなく、膜が形成された領域の外側の領域(端部最外領域)にも分割用前処理加工(例えば溝など)が施され、この端部最外領域の分割用前処理加工が施された部分(例えば溝などが形成された部分)が、基板に加わる外部応力を吸収する機能を果たすため、後工程における基板の割れをより確実に防止することが可能になり、信頼性をさらに向上させることが可能になる。 In addition, as in the method for dividing a substrate according to claim 3, when forming a film for laser reflection in a region near the end of the substrate surface, an outermost region (outermost end) When a film is formed in a region excluding (region), it is divided not only into the region inside the region where the film is formed but also into the region outside the region where the film is formed (outermost end region) A pre-processing process (for example, a groove) is performed, and a portion (for example, a part in which a groove or the like is formed) of the edge outermost region absorbs an external stress applied to the substrate. Since the function is fulfilled, it becomes possible to more reliably prevent the substrate from being cracked in the subsequent process, and to further improve the reliability.
すなわち、端部最外領域に分割用前処理加工が施されていない基板の場合、外部から応力が加わって基板が割れる際に、基板のどの部分から割れが発生するかは定まらず、しかも、割れが発生すると内側の個々の素子となる部分(子基板)にまで割れが発生する可能性があるが、基板端部に分割用前処理加工が施されている場合(溝などが形成されている場合)には、外部から応力が加わった場合に、分割用前処理加工が施されている部分から割れが発生し、それにより、ある程度外部応力を吸収することが可能になり、基板全体が受けるダメージを軽減することが可能になるとともに、分割用前処理加工が施され、溝などが形成された端部最外領域より内側の領域には、レーザー反射用の膜が形成され、基板が補強されており、膜が割れの進行を阻止する機能を果たすため、子基板にまで割れが発生したり、基板全体が割れたりすることを抑制、防止することが可能になり、さらに信頼性を向上させることが可能になる。 That is, in the case of a substrate that has not been subjected to pretreatment for division in the outermost region of the end portion, when the substrate is cracked by applying stress from the outside, it is not determined from which part of the substrate cracking occurs, When cracks occur, cracks may occur even in the parts (sub-boards) that become the individual elements inside, but when pre-processing for division is applied to the edge of the substrate (grooves are formed) When the external stress is applied, cracks are generated from the part that has been pre-processed for splitting, which makes it possible to absorb external stress to some extent, It is possible to reduce the damage received, and a pretreatment process for division is applied, and a film for laser reflection is formed in a region inside the outermost region of the end where the grooves are formed, and the substrate is It is reinforced and the membrane is cracked To fulfill the function of preventing the line, or cracks occur until the child substrate, it prevents the entire substrate is cracked, it is possible to prevent, it is possible to further improve reliability.
また、請求項4の基板の分割方法のように、基板の端部の最も外側寄りの領域よりも内側の領域に不要領域を有し、レーザー反射用の膜を形成する工程において、不要領域のうちの、基板の最外側分割ラインよりも内側の分割ラインが通過する領域の少なくとも一部にレーザー反射用の膜を形成するようにした場合、さらに基板強度を向上させることが可能になり、部品搭載時などに基板の割れが発生することをさらに確実に防止することが可能になり、信頼性をより向上させることが可能になる。 Further, as in the method for dividing a substrate according to claim 4, in the step of forming an unnecessary region in a region inside the outermost region of the end portion of the substrate and forming a film for laser reflection, If a film for laser reflection is formed in at least a part of the region through which the division line inside the outermost division line of the board passes, the strength of the board can be further improved, and the component It is possible to more reliably prevent the substrate from cracking during mounting or the like, and to further improve the reliability.
以下に本発明の実施例を示して、本発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。 Examples of the present invention will be described below to describe the features of the present invention in more detail.
なお、この実施例1では、マザー基板を分割して多数個の回路基板を同時に製造する多数個取りの方法により回路基板を製造する場合を例にとって説明する。
[レーザー反射用の電極を備えたマザー基板の作製]
(1)まず、アルミナなどのセラミックからなる基板(マザー基板)(一辺101.6mmの略正方形の基板)に、所定の電極パターン(回路パターン)形成用の導電性ペーストを印刷し、焼成することにより回路パターンを形成する。
(2)次に、Ag系の導電性ペーストを基板表面の互いに対向する2つの辺側の端部近傍領域に印刷し、焼成することにより、厚みが8〜20μmでレーザービームを反射しやすいAg膜として、厚膜電極からなるレーザー反射用の電極を形成する。
(3)それから、基板表面の所定の領域に、抵抗形成用の抵抗ペーストを印刷し、焼成することにより、抵抗を形成する。
(4)その後、基板表面に保護膜(ガラス膜、樹脂膜など)を形成する。
In the first embodiment, a case will be described as an example in which a circuit board is manufactured by a multi-chip manufacturing method in which a mother board is divided and a large number of circuit boards are manufactured simultaneously.
[Manufacture of mother board with electrodes for laser reflection]
(1) First, a conductive paste for forming a predetermined electrode pattern (circuit pattern) is printed on a substrate made of ceramic such as alumina (mother substrate) (substantially square substrate with a side of 101.6 mm) and fired. To form a circuit pattern.
(2) Next, an Ag-based conductive paste is printed on a region near the ends of the two opposite sides of the substrate surface and baked, whereby Ag is easy to reflect a laser beam with a thickness of 8 to 20 μm. As the film, an electrode for laser reflection made of a thick film electrode is formed.
(3) Then, a resistor paste is printed on a predetermined region of the substrate surface and baked to form a resistor.
(4) Thereafter, a protective film (glass film, resin film, etc.) is formed on the substrate surface.
なお、図1は、上述のような手順で形成された、回路パターン、レーザー反射用の電極、抵抗、保護膜などが形成されたマザー基板における、レーザー反射用の電極の配設態様を模式的に示す図であり、図2はその要部拡大図である。
なお、図1及び図2においては、回路パターン、抵抗、保護膜は図示を省略している。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the arrangement of the laser reflecting electrodes on the mother substrate formed with the circuit pattern, the laser reflecting electrode, the resistor, the protective film, and the like formed in the above-described procedure. FIG. 2 is an enlarged view of a main part thereof.
In FIG. 1 and FIG. 2, the circuit pattern, resistance, and protective film are not shown.
図1,図2に示すように、マザー基板(以下、単に「基板」ともいう)1は、互いに対向する2つの辺2a,2b側の端部近傍領域(幅W=4mm)X1,X2及び辺2a,2bと直交する辺2c,2d側の端部近傍領域(幅W=4mm)X3,X4が製品とはならない余白部分となっている。
そして、端部近傍領域X1,X2には、辺2a,2bに沿って、所定の間隔をおいて複数のレーザー反射用の電極10が配設されている。各電極10は、端部近傍領域X1,X2の、基板1を分割すべき分割ラインL(L1)が通過する領域を覆うように配設されており、各電極10の寸法は、横方向の寸法A(図2参照)が3mm、縦方向の寸法B(図2参照)が2mmとされている。
また、電極10と基板1の端部との間の領域(端部最外領域)Rには、電極10が形成されないように構成されており、該端部最外領域Rの幅Cは0.3mmとされている。
さらに、この実施例1においては、互いに隣り合う各電極10の間隔Dは約2mmとなっている。
なお、間隔Dをゼロにする、すなわち各電極10のすべてあるいは一部をその並び方向に連続して形成することも可能である。
As shown in FIGS. 1 and 2, a mother substrate (hereinafter also simply referred to as “substrate”) 1 includes two
In the end vicinity regions X1 and X2, a plurality of
Further, the region (end outermost region) R between the
Furthermore, in the first embodiment, the distance D between the
It is also possible to reduce the distance D to zero, that is, to form all or part of each
[マザー基板の分割用前処理加工及び分割]
(1)上記のように形成された、レーザー反射用の電極10を備えたマザー基板(基板)1の分割ライン(図1,図2における水平方向の分割ライン)L(L1)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側まで照射するとともに、分割ラインL(L1)と直交する方向の分割ライン(図1,図2における垂直方向の分割ライン)L(L2)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部から他方端部にまで照射することにより、基板1に分割用前処理加工を施す。なお、この実施例1では、分割用前処理加工として、レーザービームを連続的に照射することにより断面形状が略V字状で、幅が約0.15mm、深さが約0.1〜0.25mmの溝20を形成した。
なお、レーザービームを照射する工程において、レーザービームが電極10の表面で反射されるため、レーザービームを照射して基板1に分割用前処理加工を施すにあたって、レーザービーム照射の始点及び終点のばらつきを問題とすることなく、基板1の一方端部から他方端部まで高速でレーザービームの照射を行うことができる。
[Pre-processing and division for dividing mother board]
(1) Along the dividing line (horizontal dividing line in FIGS. 1 and 2) L (L1) of the mother substrate (substrate) 1 having the
In the step of irradiating the laser beam, since the laser beam is reflected from the surface of the
この実施例1では、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側まで照射する方法として、例えば、図3に矢印Yで示すような経路でレーザービームを照射するいわゆる双方向スクライブの方法を用いて分割用前処理加工を行い、従来の、分割用前処理加工を、基板の一方端部から互いに対向する他方端部にまでは形成せず、少し手前の部分で止める方法に比べて、短時間で分割用前処理加工を行った。
In the first embodiment, as a method of irradiating the laser beam from the outside of one end of the
また、電極10が形成された部分は、分割用前処理加工が施されていない状態に保たれるため、基板1の機械的強度(抗折強度など)を確保することが可能になり、分割用前処理加工を施した後の工程における基板1の割れを防止することが可能になる。
さらに、基板1の表面の端部の最も外側寄りの領域(端部最外領域)Rには電極10を形成しないようにしているので、電極10より内側の領域だけではなく、電極10の外側の領域(端部最外領域R)にも溝20が形成され、この溝20が、基板1に加わる外部応力を吸収する機能を果たすため、後工程における基板の割れをより確実に防止することが可能になり、信頼性をさらに向上させることが可能になる。
In addition, since the portion where the
Furthermore, since the
(2)それから、垂直の分割ラインL(L2)のうちの左右両端側の分割ラインL(L2a,L2b)に沿って基板を分割して、左右の端部近傍領域(余白部分)X1,X2を除去するとともに、水平の分割ラインL(L1)のうちの上下両端側の分割ラインL(L1a,L1b)に沿って基板1を分割して、上下の端部近傍領域(余白部分)X3,X4を除去する。これにより、図4に示すように、基板1の周辺部の余白部分が除去され、かつ、すべての分割ラインL(L1,L2)について、基板1の一方端部から他方端部まで溝20が形成された(分割用前処理加工が施された)状態の基板1(1a)が得られる。なお、この状態の基板1(1a)においては、所望の分割ラインL(L1,L2)に沿って基板1を分割することが可能である。
(2) Then, the substrate is divided along the dividing lines L (L2 a , L2 b ) on the left and right ends of the vertical dividing line L (L2), and the left and right end vicinity regions (margin portions) X1 , X2 and the
(3)次に、各分割ラインL(L1,L2)に沿って基板1(1a)を分割して、個々の素子に分割する。
これにより、マザー基板を分割する工程を経て製造される回路基板を、いわゆる多数個取りの方法により効率よく製造することが可能になる。
(3) Next, the substrate 1 (1a) is divided along the respective dividing lines L (L1, L2) to be divided into individual elements.
As a result, it becomes possible to efficiently manufacture a circuit board manufactured through a process of dividing the mother board by a so-called multi-chip method.
なお、上記実施例1では、基板1の表面の端部の最も外側寄りの領域を除いた領域に電極10を形成することにより、基板10の強度が向上し、溝20の深さを従来の60〜120μmから100〜150μmにまで深くすることが可能になり、基板のブレイク性の向上を実現することができた。
In Example 1, the strength of the
また、電極10が形成された領域ではレーザービームが反射されるため、レーザービームを照射して基板1に分割用前処理加工を施すにあたって、レーザービーム照射の始点及び終点のばらつきを問題とすることなく、基板の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側まで高速でレーザービームの照射を行うことが可能で、生産性を向上させることができた。
In addition, since the laser beam is reflected in the region where the
さらに、基板1の表面の端部の最も外側寄りの領域(端部最外領域)Rには電極10を形成しないようにしているので、電極10より内側の領域だけではなく、電極10の外側の領域(端部最外領域R)にも溝20が形成され、この溝20が、基板1に加わる外部応力を吸収する機能を果たすため、ブレイク性を低減させることなく、後工程における基板1の割れをより確実に防止することが可能になり、信頼性をさらに向上させることができた。
また、この実施例1では、基板1の表面の互いに対向する2つの辺側のみに電極10を形成するようにしたが、このように基板表面の互いに対向する2つの辺側のみに電極を形成しただけでも、基板1の全体的な強度を向上させることが可能になり、基板を取り扱う場合に、基板の強度が高い位置や方向などを考慮して基板を保持することにより、基板1に割れを生じたりすることなく、容易かつ安全に基板1を取り扱うことが可能になる。
Furthermore, since the
In the first embodiment, the
なお、上記実施例1では、分割用前処理加工として、レーザービームを連続的に照射することにより断面形状が略V字状の溝20を形成したが、例えば、パルス状のレーザービームを一定間隔毎に照射して、図5に示すように、約0.12mmピッチで、長さ約130mm、幅約0.15mmの未貫通穴21をミシン目のように形成することも可能である。また、特に図示しないが、未貫通穴21の代わりに貫通孔を形成することも可能である。
In the first embodiment, the
図6は、本願発明の他の実施例にかかる基板の分割方法において形成されたレーザー反射用の電極を備えたマザー基板を模式的に示す図である。
この実施例2では、図6に示すように、基板1は、互いに対向する2つの辺2a,2b側の端部近傍領域X1,X2及び辺2a,2bと直交する辺2c,2d側の端部近傍領域X3,X4が製品とはならない余白部分となっている。
そして、端部近傍領域X1,X2、及びX3,X4には、辺2a,2b及び辺2c,2dに沿って、所定の間隔をおいて複数のレーザー反射用の電極10が配設されている。各電極10は、端部近傍領域X1,X2、及びX3,X4の、基板1を分割すべき分割ラインL(L1,L2)が通過する領域を覆うように配設されている。なお、最終的に所定の分割ラインL1,L2に沿って基板1を分割することができるように、左右両端側の分割ラインL(L2a,L2b)には電極は形成されていない。
その他の構成は上記実施例1の場合と同様であり、図6において、図1と同一符号を付した部分は、同一または相当する部分を示している。
そして、上記のように形成された、レーザー反射用の電極10を備えたマザー基板(基板)1の分割ライン(図6における水平方向の分割ライン)L(L1)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側まで照射するとともに、分割ラインL(L1)と直交する方向の分割ライン(図6における垂直方向の分割ライン)L(L2)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側にまで照射することにより、基板1に分割用前処理加工を施す。
なお、この実施例2においても、分割用前処理加工は上記実施例1の場合と同様の方法で行った。
FIG. 6 is a diagram schematically showing a mother substrate provided with a laser reflecting electrode formed in the substrate dividing method according to another embodiment of the present invention.
In the second embodiment, as shown in FIG. 6, the
In the end vicinity regions X1, X2, and X3, X4, a plurality of
Other configurations are the same as in the case of the first embodiment, and in FIG. 6, portions denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding portions.
Then, the laser beam is applied to the mother substrate (substrate) 1 formed as described above along the dividing line (horizontal dividing line in FIG. 6) L (L1) of the mother substrate (substrate) 1. Irradiation from the outer side of one end of 1 to the outer side of the other end through the
Also in this Example 2, the pre-processing for division was performed in the same manner as in Example 1 above.
それから、垂直の分割ラインL(L2)のうちの左右両端側の分割ラインL(L2a,L2b)に沿って基板を分割して、左右の端部近傍領域(余白部分)X1,X2を除去するとともに、水平の分割ラインL(L1)のうちの上下両端側の分割ラインL(L1a,L1b)に沿って基板1を分割して、上下の端部近傍領域(余白部分)X3,X4を除去する。これにより、基板1の周辺部の余白部分が除去され、かつ、すべての分割ラインL(L1,L2)について、基板1の一方端部から他方端部まで溝20が形成された(分割用前処理加工が施された)状態の基板1(1a)が得られる。なお、この状態の基板1(1a)においては、所望の分割ラインL(L1,L2)に沿って基板1を分割することが可能である。
Then, the substrate is divided along the dividing lines L (L2 a , L2 b ) on the left and right ends of the vertical dividing line L (L2), and the left and right end vicinity regions (margin portions) X1, X2 are In addition to the removal, the
次に、各分割ラインL(L1,L2)に沿って基板1(1a)を分割して、個々の素子に分割する。
これにより、マザー基板を分割する工程を経て製造される回路基板を、いわゆる多数個取りの方法により効率よく製造することが可能になる。
なお、この実施例2の場合には、基板1の、互いに対向する2つの辺2a,2bと直交する辺2c,2d側の端部近傍領域X3,X4の、分割ラインL(L2)が通過する領域を覆うように電極10を配設するようにしているので、基板1の強度を十分に向上させることが可能になり、部品搭載工程などにおいて基板1に割れが発生することを確実に防止して、信頼性をより向上させることが可能になる。
Next, the substrate 1 (1a) is divided along each dividing line L (L1, L2) to be divided into individual elements.
As a result, it becomes possible to efficiently manufacture a circuit board manufactured through a process of dividing the mother board by a so-called multi-chip method.
In the case of the second embodiment, the dividing line L (L2) of the end vicinity regions X3 and X4 on the
図7は本願発明のさらに他の実施例にかかる基板の分割方法において形成されたレーザー反射用の電極を備えたマザー基板を模式的に示す図である。
この実施例3では、図7に示すように、基板1は、互いに対向する2つの辺2a,2b側の端部近傍領域)X1,X2、辺2a,2bと直交する辺2c,2d側の端部近傍領域X3,X4が製品とはならない余白部分となっており、また、上記垂直の端部近傍領域X1,X2に挟まれた垂直の帯状の領域X5,X6,X7,X8,X9が製品とはならない不要領域となっている。
そして、端部近傍領域X1,X2には、辺2a,2bに沿って、所定の間隔をおいて複数のレーザー反射用の電極10が配設されており、また、垂直の帯状の領域(不要領域)X5,X6,X7,X8,X9の、最外側分割ライン(上下両端側の分割ライン)L1a,L1b以外の分割ラインL1が通過する領域のうちの少なくとも一部にレーザー反射用の電極10aが形成されている。
その他の構成は上記実施例1の場合と同様であり、図7において、図1と同一符号を付した部分は、同一または相当する部分を示している。
そして、上記のように形成された、レーザー反射用の電極10,10aを備えたマザー基板(基板)1の分割ライン(図7における水平方向の分割ライン)L(L1)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側まで照射するとともに、分割ラインL(L1)と直交する方向の分割ライン(図7における垂直方向の分割ライン)L(L2)に沿って、レーザービームを基板1の一方端部の外側から基板1上を通って他方端部の外側にまで照射することにより、基板1に分割用前処理加工を施す。
なお、この実施例3においても、分割用前処理加工は上記実施例1,2の場合と同様の方法で行った。
FIG. 7 is a diagram schematically showing a mother substrate provided with a laser reflecting electrode formed in the substrate dividing method according to still another embodiment of the present invention.
In the third embodiment, as shown in FIG. 7, the
In the end vicinity regions X1 and X2, a plurality of
Other configurations are the same as in the case of the first embodiment, and in FIG. 7, portions denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same or corresponding portions.
A laser beam is formed along a division line (horizontal division line in FIG. 7) L (L1) of the mother substrate (substrate) 1 provided with the
In the third embodiment, the pre-processing for dividing was performed in the same manner as in the first and second embodiments.
それから、垂直の分割ラインL(L2)のうちの左右両端側の分割ラインL(L2a,L2b)に沿って基板を分割して、左右の端部近傍領域(余白部分)X1,X2を除去するとともに、水平の分割ラインL(L1)のうちの上下両端側の分割ラインL(L1a,L1b)に沿って基板1を分割して、上下の端部近傍領域(余白部分)X3,X4を除去する。これにより、基板1の周辺部の余白部分が除去される。その後、所定の分割ラインL(L1,L2)に沿って基板1(1a)を分割することにより、不要領域X5,X6,X7,X8,X9を除去するとともに、必要部分を分割して、個々の素子を得る。
これにより、マザー基板を分割する工程を経て製造される回路基板を、いわゆる多数個取りの方法により効率よく製造することが可能になる。
なお、この実施例3では、端部近傍領域X1,X2に電極10を形成するとともに、不要領域X5,X6,X7,X8,X9のうちの、基板1の最外側分割ライン(上下両端側の水平の分割ライン)L(L1a,L1b)よりも内側の分割ラインL1が通過する領域の少なくとも一部にレーザー反射用の電極10aを形成するようにしているので、さらに基板1の強度を向上させることが可能になり、部品搭載工程などにおいて基板1に割れが発生することを確実に防止して、信頼性をさらに向上させることが可能になる。
Then, the substrate is divided along the dividing lines L (L2 a , L2 b ) on the left and right ends of the vertical dividing line L (L2), and the left and right end vicinity regions (margin portions) X1, X2 are In addition to the removal, the
As a result, it becomes possible to efficiently manufacture a circuit board manufactured through a process of dividing the mother board by a so-called multi-chip method.
In the third embodiment, the
本発明はさらにその他の点においても上記実施例に限定されるものではなく、分割すべき基板の具体的な形状や構成材料、基板を分割すべき分割ラインの位置や分割すべき数、レーザーの照射方法、分割用前処理加工の種類、レーザー反射用の電極の形状や配設位置、基板端部最外領域における電極の有無、電極の形成方法、電極の構成材料などに関し、発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。
また、レーザー反射用の膜も電極に限られるものではなく、レーザーを反射できるものであれば材質は問わない。但し、印刷形成できるものであることが望ましい。
The present invention is not limited to the above-described embodiments in other respects. The specific shape and constituent material of the substrate to be divided, the position and number of division lines to divide the substrate, the laser Within the scope of the invention, regarding the irradiation method, the type of pre-processing for division, the shape and arrangement position of the electrode for laser reflection, the presence or absence of the electrode in the outermost region of the substrate edge, the electrode formation method, the electrode constituent material, etc. It is possible to add various applications and modifications.
Further, the laser reflecting film is not limited to the electrode, and any material can be used as long as it can reflect the laser. However, it is desirable that it can be formed by printing.
本発明は、分割ラインが通過する領域に、該辺に沿ってレーザー反射用の膜を形成し、基板を分割すべき分割ラインに沿って、レーザービームを基板の一方端部の外側から基板上を通って他方端部の外側まで照射することにより、基板に分割用前処理加工を施し、基板を分割用前処理加工が施された分割ラインに沿って分割するようにしているので、レーザー加工法による分割用前処理加工を高速で行うことが可能になるとともに、その後の加工工程における基板の割れを抑制防止することが可能になる。さらに、基板表面の端部の最も外側寄りの領域(端部最外領域)に膜を形成しないようにした場合、端部最外領域にも分割用前処理加工が施され、この端部最外領域の分割用前処理加工が施された部分(例えば溝などが形成された部分)が、基板に加わる外部応力を吸収する機能を果たすため、後工程における基板の割れをより確実に防止することが可能になり、信頼性をさらに向上させることが可能になる。
したがって、本発明は、レーザー加工法により分割用前処理加工が施された基板を分割する工程を経て製造される電子部品の製造方法に広く適用することが可能である。
In the present invention, a laser reflecting film is formed along the side in a region through which the dividing line passes, and the laser beam is emitted from the outside of one end of the substrate onto the substrate along the dividing line to be divided. By irradiating to the outside of the other end through the substrate, the substrate is subjected to pre-processing for division, and the substrate is divided along the dividing line where the pre-processing for division is performed. It is possible to perform the pre-processing for division by the method at a high speed, and it is possible to suppress and prevent cracking of the substrate in the subsequent processing steps. Further, when a film is not formed in the outermost area (end outermost area) of the edge of the substrate surface, the pretreatment for division is also applied to the outermost edge, and this edge outermost is processed. The portion of the outer region that has been subjected to the pre-processing for dividing (for example, the portion in which the groove or the like is formed) functions to absorb external stress applied to the substrate, thereby more reliably preventing the substrate from cracking in the subsequent process. It becomes possible to further improve the reliability.
Therefore, the present invention can be widely applied to a method of manufacturing an electronic component manufactured through a step of dividing a substrate that has been subjected to pretreatment for division by a laser processing method.
1 マザー基板(基板)
1a 基板
2a,2b 基板の互いに対向する2つの辺
2c,2d 基板の互いに対向する2つの辺
10,10a レーザー反射用の電極(膜)
20 溝
21 未貫通穴
L1a,L1b 上下両端側の水平の分割ライン(最外側分割ライン)
L2a,L2b 左右両端側の垂直の分割ライン
L(L1,L2) 分割ライン
D 互いに隣り合う電極の間隔
R 基板の最も外側寄りの領域(端部最外領域)
X1,X2,X3,X4 端部近傍領域(余白部分)
X5,X6,X7,X8,X9 不要領域
Y レーザービームの経路
1 Mother board (board)
20
L2 a , L2 b Vertical division lines L (L1, L2) on both left and right side division lines D Interval between adjacent electrodes R Region on the outermost side of the substrate (endmost outermost region)
X1, X2, X3, X4 Near edge area (margin)
X5, X6, X7, X8, X9 Unnecessary area Y Laser beam path
Claims (4)
基板を分割すべき分割ラインに沿って、レーザービームを基板の一方端部の外側から基板上を通って他方端部の外側まで照射することにより、基板に分割用前処理加工を施す工程と、
基板を前記分割ラインに沿って分割する工程と
を具備することを特徴とする基板の分割方法。 Forming a film for laser reflection along the side at least in a region through which a dividing line to divide the substrate passes, in a region near the end of at least one side of the substrate surface;
A step of performing pre-processing for division on the substrate by irradiating a laser beam from the outside of one end portion of the substrate to the outside of the other end portion along the dividing line where the substrate is to be divided;
And a step of dividing the substrate along the dividing line.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007081340A (en) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacturing method of ceramic electronic component and already baked ceramic mother board |
JP2009004644A (en) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Fujitsu Ltd | Method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor device |
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-
2003
- 2003-10-01 JP JP2003342949A patent/JP2005109301A/en active Pending
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