JP2005100894A - 電気光学装置の製造方法、電気光学装置の製造方法で製造された電気光学装置、電気光学装置を搭載した電子機器、および液滴吐出装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インクジェット法により、基板上に高分子系材料の膜を形成する膜形成工程を有する電気光学装置の製造方法において、基板100上に、高分子系材料の原料であるモノマー15aと、その重合開始剤15bとを印字し、当該基板100上で重合反応を行わせて高分子系材料の膜を形成する。
【選択図】 図4−3
Description
吐出安定性を確保するのが難しいものもある。また、高粘度の高分子材料を溶媒で希釈して、粘度を低下させて使用する方法も考えられるが、その場合、高分子材料の濃度が薄くなってしまうため、インクジェット法で高分子材料を製膜する場合に製造効率が低下してしまう。また、この場合、使用する溶媒の消費量が増大するという問題もある。
有機TFT表示装置の有機TFT電極を形成する場合に、その吐出安定性を確保でき、かつ、使用する溶剤量を削減することができる。
図1は、本発明に係る液滴吐出装置であるインクジェット装置10の全体構成を示す概略斜視図である。インクジェット装置10は、図1に示すように、基板100の表面に例えば、有機EL材料等の塗布液(インク組成物)11を吐出する液滴吐出ヘッド12を有する液滴吐出手段13と、液滴吐出ヘッド12と基板100との位置を相対的に移動させる移動手段14と、液滴吐出手段13および移動手段14を制御する制御手段15とを具備してなるものである。
次に、本実施例の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を図4を参照して説明する。本実施例の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、(1)隔壁形成工程と、(2)プラズマ処理工程と、(3)正孔注入/輸送層形成工程と、(4)表面改質工程と、(5)発光層形成工程と、(6)陰極形成工程と、(7)封止工程とから構成される。
図4−1に示すように、隔壁形成工程では、必要に応じてTFT等(図示せず)が予め設けられている基板100に形成されたITO等からなる透明電極11上に、無機物バンク層12aと有機物バンク層12bを順次積層することにより、各画素領域を隔てるバンク層(隔壁)12を形成する。
次にプラズマ処理工程では、バンク部102の表面に、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、全面を親インク性にする親インク化工程と、有機物バンク層102bを撥インク性にする撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
次に、正孔注入/輸送層形成工程では、正孔注入/輸送層材料として高分子系材料を使用し、その原料であるモノマーと、その重合触媒(重合開始剤)とを基板100上に印字し、当該基板100上で重合反応を行わせて、正孔注入/輸送層を形成する。正孔注入/輸送層材料としては、PEDT(poly(3,4-ethylendioxy-thiophene[化1])を使用し、そのモノマーとしてEDT(3,4-ethylendioxy-thiophene[化2])を使用する。EDTに対して、重合触媒は6〜20wt%であることが好ましい。EDTは低粘度であるので、液滴吐出ヘッド12での印字が容易であり、また、溶媒で希釈しなくても良いため、溶媒使用量を低減することができる。
次に、発光層形成工程に先立ち表面改質工程を行う。すなわち、発光層形成工程では、正孔注入/輸送層106の再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いるインク組成物の溶媒として、正孔注入/輸送層106に対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしその一方で正孔注入/輸送層106は、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む発光層のインク組成物を正孔注入/輸送層106上に吐出しても、正孔注入/輸送層106によりインク組成物がはじかれ、正孔注入/輸送層106と発光層とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層を均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒に対する正孔注入/輸送層16の表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面改質工程を行うことが好ましい。
次に発光層形成工程では、インクジェット法により、有機エレクトロルミネッセンス材料等の溶質成分と溶媒とからなるインク組成物107a、107b、107c(107cは図示を省略)を、後述する順番に従って、表面改質後の正孔注入/輸送層106上に吐出した後に乾燥処理および熱処理して、発光層108a、108b、108cを順次形成する。
次に陰極形成工程では、発光層108a、108b、108cおよび有機物バンク層102bの全面に、陰極109を形成する。陰極109は、複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料で形成することが好ましく、例えばCa、Ba等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にLiFを薄く形成した方がよい場合もある。また、上部側(封止側)には下部側(発光層側)の陰極層よりも仕事関数が高いものが好ましく、例えばAl膜、Ag膜、Mg/Ag積層膜等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば100〜1000nmの範囲が好ましく、特に200〜500nm程度がよい。これらの陰極(陰極層)は、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層108a、108b、108cの熱による損傷を防止できる点で好ましい。また、フッ化リチウムは、発光層108a、108b、108c上のみに形成しても良く、特定の何れかの発光層上のみに形成しても良い。この場合、他の発光層には、カルシウムからなる陰極が接することとなる。また反射層上に、酸化防止のためにSiO、SiO2、SiN等の保護層を設けても良い。
最後に封止工程では、陰極109上の全面に熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止材を塗布し、封止層200を形成する。さらに、封止層200上に封止用基板(図示せず)を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、反射層にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極109に侵入して陰極109が酸化されるおそれがあるので好ましくない。このようにして、図4−10に示すような有機エレクトロルミネッセンス装置が得られる。
次に、有機TFT表示装置の有機TET電極を本発明の製造方法で形成する場合を説明する。図5は、実施例にかかる有機TFT表示装置の断面構造を示す図である。同図において、100は基板、201は基板100上に形成されたITO等による画素電極、202はソースライン、203は絶縁膜、204aはソース電極、204bはドレイン電極、205はゲート電極、206はゲート電極205等のTFT部分を保護するために保護フィルム、207は孔、208は半導体層、209は絶縁膜、210は電気泳動インクが封入されたマイクロカプセルである。
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記有機ELエレクトロルミネッセンス装置や有機TFT表示装置の他、各種の電気光学装置の製造に用いることができ、例えば、液晶表示装置、有機TFT表示装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電子放出表示装置(Field Emission DisplayおよびSurface-Conduction Electoron-Emitter Display等)、LED(ライトエミッティングダイオード)表示装置、エレクトロミック調光ガラス装置、電子ペーパー装置等に広く適用することができる。
次に、本発明に係る電気光学装置を適用可能な電子機器の具体例について図6を参照して説明する。図6−1は、本発明に係る電気光学装置を可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)300の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ300は、キーボード301を備えた本体部302と、本発明に係る電気光学装置を適用した表示部303とを備えている。図6−2は、本発明に係る電気光学装置を携帯電話機400の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機400は、複数の操作ボタン401のほか、受話口402、送話口403とともに、本発明に係る電気光学装置を適用した表示部404を備えている。
Claims (7)
- インクジェット法により、基板上に高分子系材料の膜を形成する膜形成工程を有する電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に、前記高分子系材料の原料であるモノマーと、その重合開始剤もしくは重合触媒とを印字し、当該基板上で重合反応を行わせて前記高分子系材料の膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記基板上に、前記重合開始剤もしくは重合触媒を印字した後、当該印字された重合開始剤上に前記モノマーを印字することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記電気光学装置は、有機エレクトロルミネッセンス装置であり、
前記膜形成工程は、正孔注入/輸送層を形成する工程であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電気光学装置の製造方法。 - 前記電気光学装置は、有機TFT表示装置であり、
前記膜形成工程は、有機TFT電極を形成する工程であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電気光学装置の製造方法。 - 請求項1〜請求項4のいずれか1つに記載の電気光学装置の製造方法を使用して製造されたことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項5に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
- 液滴吐出ヘッドから液滴を吐出させて基板上に膜形成を行う液滴吐出装置において、
基板上に、高分子系材料の原料であるモノマーと、その重合開始剤もしくは重合触媒とを印字し、当該基板上で重合反応を行わせて前記高分子系材料の膜を形成することを特徴とする液滴吐出装置。
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