JP2005099464A - 電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 半透過反射型の電気光学装置において、透過表示領域において散乱形状により生じるコントラスト低下などの悪影響を防止する。
【解決手段】 電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。ここで、基板に設けられた層構造は、反射表示領域内においてのみ散乱形状を有する。よって、太陽光などの外光は反射表示領域内に設けられた散乱形状により散乱反射され、明るく均一な反射表示が可能となる。一方、透過表示領域には散乱形状は設けられていないので、散乱形状により透過光に光リークが生じるなどの不具合が生じることが防止でき、コントラストの高い透過表示が可能となる。
【選択図】 図1
【解決手段】 電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。ここで、基板に設けられた層構造は、反射表示領域内においてのみ散乱形状を有する。よって、太陽光などの外光は反射表示領域内に設けられた散乱形状により散乱反射され、明るく均一な反射表示が可能となる。一方、透過表示領域には散乱形状は設けられていないので、散乱形状により透過光に光リークが生じるなどの不具合が生じることが防止でき、コントラストの高い透過表示が可能となる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、液晶表示装置などの電気光学装置に関し、特に半透過反射型の電気光学装置に関する。また、本発明はその電気光学装置の製造方法、及びその電気光学装置を備える電子機器に関する。
近年、反射型液晶表示装置は携帯機器等といった電子機器の表示部に多用されている。この反射型液晶表示装置は、バックライト等といった光源を必要としないため消費電力を削減することができるという利点があるものの、光源として外光を利用しているため、暗い場所では表示を認識することができないという問題があった。このような背景のもとに、明るい場所では反射型液晶表示装置と同様に外光を利用し、暗い場所ではバックライト等といった光源から出射する光により表示を認識できるようにした半透過反射型液晶表示装置が提供されている。
液晶表示パネルは、ガラス基板などの一対の透明基板間にシール材などを介して液晶を封入して構成される。反射型の液晶表示装置では、液晶表示パネルを構成する透明基板のいずれか一方に金属反射膜を設けて、液晶表示パネルに入射した外光を反射することにより、反射型表示を行う。
これに対し、半透過反射型の液晶表示装置では、反射型と同様に透明基板の一方に金属反射膜を設けるとともに、その金属反射膜に部分的に透過表示用の開口を設ける。また、金属反射膜が設けられた透明基板の背面側には光源としてのバックライトユニットが配置される。反射表示の際には、周囲の太陽光や照明光などの外光が液晶表示パネルに入射し、液晶層を通過して金属反射膜で反射され、再度液晶層を通過して観察者の目に至る。一方、透過表示の際には、バックライトユニットから出射された照明光が金属反射膜に形成された開口を通過し、液晶層を通過して観察者の目に至る。
上述のような反射型又は半透過反射型の液晶表示装置では、外光を反射するための金属反射膜の下方に微少な凹凸などの散乱形状を設けて、金属反射膜による外光の反射散乱特性を向上させることが行われている。例えば、ガラスなどの透明基板の内面形状を加工して凹凸などの散乱形状を形成し、その上に金属反射膜を形成する方法や、透明基板上に樹脂層を形成し、その樹脂層の表面に散乱形状を形成し、その上に金属反射膜を形成する方法などが知られている(例えば、特許文献1乃至3を参照)。
しかし、そのような散乱形状を必要とするのは反射表示領域のみであり、透過表示領域においては、散乱形状はその機能上不要である。また、実際には、透過表示領域にそのような散乱形状が存在すると、その凹凸により、黒表示を行う際に光リーク(光漏れ)が発生し、コントラストを低下させてしまうといった悪影響が生じる場合がある。
本発明は上記のような点に鑑みてなされたものであり、半透過反射型の電気光学装置において、透過表示領域内で散乱形状により生じるコントラスト低下などの悪影響を防止することを課題とする。
本発明の1つの観点では、電気光学物質を有する電気光学装置において、基板は透過表示領域及び反射表示領域にわたって層構造を有し、前記層構造は前記反射表示領域内においてのみ散乱形状を有する。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。電気光学装置の基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。ここで、基板に設けられた層構造は、反射表示領域内においてのみ散乱形状を有する。よって、太陽光などの外光は反射表示領域内に設けられた散乱形状により散乱反射され、明るく均一な反射表示が可能となる。一方、透過表示領域には散乱形状は設けられていないので、散乱形状により透過光に光リークが生じるなどの不具合が生じることが防止でき、コントラストの高い透過表示が可能となる。
上記の電気光学装置の一態様では、前記透過表示領域内における前記層構造を平坦とすることができる。これにより、透過表示における光リークなどをより効果的に抑制することができる。
上記の電気光学装置の他の一態様では、前記層構造は、前記反射表示領域内のみに設けられ、表面に散乱形状が形成された樹脂層を含む。この態様では、反射表示領域内の散乱形状は、樹脂層上に形成される。この樹脂層は、例えばアクリルなどの透明な樹脂とすることができる。
上記の電気光学装置の他の一態様では、前記層構造が、前記透過表示領域内には樹脂層を含まないようにするか、又は、前記透過表示領域内に表面が平坦な樹脂層を有するようにすることができる。これにより、透過表示領域を平坦にすることができる。なお、前記透過表示領域内の樹脂層は、前記反射表示領域内の樹脂層と略同一の厚さを有するようにしてもよく、前記反射表示領域内の樹脂層と異なる厚さを有するようにしてもよい。
上記の電気光学装置の他の一態様では、前記樹脂層が設けられた基板には着色層が設けられる。即ち、カラーフィルタなどの着色層が形成された基板側に樹脂層を設け、反射表示領域に散乱形状を形成することができる。また、前記樹脂層の上には、前記反射表示領域内においてのみ金属反射膜を設けることができる。これにより、金属反射膜には樹脂層の散乱形状が反映され、金属反射膜の表面に散乱形状が形成されるので、外光を均一に散乱反射させることができる。
本発明の他の観点では、電気光学物質を有する電気光学装置において、基板に形成された画素部に透過表示領域及び反射表示領域を備え、前記反射表示領域内に散乱層を形成し、前記透過表示領域には前記散乱層が形成されていない。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。電気光学装置の基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。ここで、基板に形成された画素部は、反射表示領域内に散乱層を有し、透過表示領域には散乱層が形成されていない。よって、太陽光などの外光は反射表示領域内に設けられた散乱層により散乱反射され、明るく均一な反射表示が可能となる。一方、透過表示領域には散乱層は設けられていないので、散乱層により透過光に光リークが生じるなどの不具合が生じることが防止でき、コントラストの高い透過表示が可能となる。
なお、上記の電気光学装置を表示部として使用した電子機器を構成することができる。
本発明の他の観点では、電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、基板に対し、反射表示領域においては散乱形状を有する反射膜を含む層構造を形成し、透過表示領域においては平坦な層構造を形成する。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。ここで、反射表示領域においては散乱形状を有する反射膜を含む層構造を形成し、透過表示領域においては平坦な層構造を形成する。これにより、反射表示領域においては散乱形状により明るく均一な反射表示が可能になると同時に、透過表示領域においては散乱形状に起因する光リークなどを防止してコントラストの低下を防止することが可能となる。
本発明の他の観点では、電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、基板上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、透過表示領域において前記樹脂層を除去する工程と、反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有する。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。この方法では、一方の基板上に樹脂層を形成し、その表面に散乱形状を形成した後、透過表示領域における樹脂層が除去される。よって、透過表示領域には散乱形状は形成されない。そして、反射表示領域において樹脂層上に金属反射膜が形成され、さらに全表示領域上に着色層が形成される。これにより、反射表示領域においては散乱形状により明るく均一な反射表示が可能になると同時に、透過表示領域においては散乱形状に起因する光リークなどを防止してコントラストの低下を防止することが可能となる。
本発明の他の観点では、電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、基板上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、透過表示領域において前記樹脂層を除去する工程と、前記樹脂層を除去した透過表示領域において、表面が平坦な樹脂層を形成する工程と、反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有する。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。この方法では、一方の基板上に樹脂層を形成し、その表面に散乱形状を形成した後、透過表示領域における樹脂層が除去され、さらにその領域に表面が平坦な樹脂層が形成される。そして、反射表示領域において樹脂層上に金属反射膜が形成され、さらに全表示領域上に着色層が形成される。これにより、反射表示領域においては散乱形状により明るく均一な反射表示が可能になると同時に、透過表示領域においては散乱形状に起因する光リークなどを防止してコントラストの低下を防止することが可能となる。
本発明の他の観点では、電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、基板上に、表面が平坦な樹脂層を形成する工程と、反射表示領域のみにおいて、前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、前記反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有する。
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を利用した液晶表示パネルとすることができる。基板上には、必要に応じて、電極や着色層その他の層構造が形成される。この電気光学装置はいわゆる半透過反射型であり、太陽光や室内照明光などの外光を反射して画像を表示するための反射表示領域と、例えばバックライトユニットなどの光源からの照明光を透過させて画像を表示する透過表示領域とを備える。この方法では、一方の基板上に樹脂層を形成した後、反射表示領域のみにおいて樹脂層の表面に散乱形状が形成される。よって、透過表示領域では樹脂層には散乱形状は形成されない。そして、反射表示領域において樹脂層上に金属反射膜が形成され、さらに全表示領域上に着色層が形成される。これにより、反射表示領域においては散乱形状により明るく均一な反射表示が可能になると同時に、透過表示領域においては散乱形状に起因する光リークなどを防止してコントラストの低下を防止することが可能となる。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について説明する。なお、以下の実施形態では、本発明を、電気光学装置の一例である液晶表示装置に適用した例を示す。
[第1実施形態]
第1実施形態は、本発明の半透過反射型液晶表示装置を、スイッチング素子としてTFD(Thin Film Diode)素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
第1実施形態は、本発明の半透過反射型液晶表示装置を、スイッチング素子としてTFD(Thin Film Diode)素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
図1に、第1実施形態に係る液晶表示装置100の部分断面を示す。液晶表示装置100は大別して、液晶表示パネル1と、バックライトユニット12とにより構成される。
まず、液晶表示パネル1の構成について説明する。液晶表示パネル1は、TFD素子が設けられた側の透明基板(以下、「第1基板」とも呼ぶ。)2aと、それと対向する側の透明基板(以下、「第2基板」とも呼ぶ。)2bとの間に、図示しないシール材を介して液晶層3を形成して構成される。
第1基板2aの液晶側表面には、複数のTFD素子32と、それらのTFD素子32の一方の端子に接続する複数の金属配線33と、複数のTFD素子32の他方の端子に接続する複数の第1電極としての画素電極5とが形成される。また、これらの各要素の上に配向膜10aが形成され、この配向膜10aに対してラビング処理等といった配向処理が施される。また、第1基板2aの外側(すなわち、図1の上側)表面には、位相差板8aが形成され、さらにその上に偏光板7aが形成される。
複数の金属配線33は、図2及び図3に示すように、第1基板2aの表面に互いに平行に、すなわちストライプ状に形成され、それらの金属配線33に沿って等間隔にTFD素子32が形成され、さらに個々のTFD素子32に画素電極5が形成される。この結果、複数の画素電極5は第1基板2aの表面にドットマトリクス状に配列されている。
一般に、カラーフィルタ、すなわち着色層を用いることなく行われる白黒表示においては1つの画素電極5によって1画素が形成される。また、R(赤),G(緑),B(青)やC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)等といった3原色の各色を含む着色層を用いてカラー表示が行われる場合には、1つの画素電極5によって1ドットが形成され、R,G,Bの3色ドットによって1つの画素が形成される。
TFD素子32の近傍の構造を示すと、例えば図2に示す通りである。図2に示すのは、いわゆるBack-to-Back(バック・ツー・バック)構造のTFD素子を用いたものである。図3において、金属配線33は、例えば、TaW(タンタル・タングステン)によって形成された第1層33aと、例えば陽極酸化膜であるTa2O5(酸化タンタル)によって形成された第2層33bと、例えばCrによって形成された第3層33cとから成る3層構造に形成されている。
また、TFD素子32を構成する第1TFD要素32a及び第2TFD要素32bは、それぞれ、TaWによって形成された第1金属層36と、陽極酸化によって形成されたTa2O5の絶縁層37と、金属配線33の第3層33cと同一層であるCrの第2金属層38との3層積層構造によって構成されている。
第1TFD要素32aを金属配線33側から見ると、第2金属層38/絶縁層37/第1金属層36の積層構造が構成され、他方、第2TFD要素32bを金属配線33側から見ると、第1金属層36/絶縁層37/第2金属層38の積層構造が構成される。このように一対のTFD部32a及び32bを電気的に逆向きに直列接続してバック・ツー・バック構造のTFD素子を構成することにより、TFD素子のスイッチング特性の安定化が達成されている。画素電極5は、第2TFD要素32bの第2金属層38に導通するように、例えばITOによって形成される。
図1において、第2基板2bの液晶側表面上には樹脂層29が形成され、その上には金属反射膜21が形成され、その上にブラックマスク又はブラックマトリクスが遮光膜22として形成され、その上にカラーフィルタ膜すなわち着色層23が形成され、その上にオーバーコート膜38が形成され、その上に対向電極24が形成され、さらにその上に配向膜10bが形成される。金属反射膜21のうち画素電極5に対向する交差領域81内に開口部21aが形成される。また、第2基板2bの外側表面には位相差板8bが形成され、さらにその上に偏光板7bが形成される。
図1において、複数の金属配線33はそれぞれが図の紙面垂直方向へ延びており、他方、複数の対向電極24は、それぞれが金属配線33と交差する図1の左右方向へ延びると共に隣り合うもの同士が互いに平行に並ぶことにより全体としてストライプ状に形成されている。
画素電極5が存在する領域、すなわち電極存在領域は対向電極24と交差する交差領域を構成する。これらの交差領域の個々がそれぞれ1つのドットを構成し、着色層23の個々の色パターンがその1ドットに対応する。着色層23は、例えば、R(赤)、G(緑)、B(青)の3原色が1つのユニットとなって1画素を構成する。つまり、3ドットが1つのユニットになって1つの画素を構成している。
第1基板2a及び第2基板2bは、例えば、ガラス、プラスチック等によって形成される。樹脂層29はアクリルなどの透明樹脂により形成され、その液晶側表面に散乱形状として機能する凹凸形状が形成される。金属反射膜21は光反射性の材料、例えば、Al(アルミニウム)によって形成される。なお、金属反射膜21によって光透過性及び光反射性の両機能を達成するためには、例えば、金属反射膜21の膜厚を薄くしたり、金属反射膜21の適所に光透過用の開口部を開ける等といった処理が施される。本実施形態では、複数の開口部21aを設けてある。
着色層23は、周知の画素形成手法、例えば、インクジェット法、顔料分散法等を用いて顔料を、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列等といった適宜のパターンに塗布することによって形成される。また、オーバーコート膜38は、適宜の透光性樹脂材料を、例えばスピンコート法、ロールコート法等によって均一に塗布することによって形成される。
画素電極5及び対向電極24は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を周知の膜付け法、例えば、スパッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、さらにフォトエッチング法によって希望のパターンに形成される。配向膜10a,10bは、例えば、ポリイミド溶液を塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法等によって形成される。
遮光膜22は、クロム、酸化クロム、又は遮光性の樹脂等といった遮光性材料からなり、光を遮蔽することによりコントラストの低下を防止する役割を担っている。
一方、バックライトユニット12は、光源としての蛍光管13と、該蛍光管13から出射された光を受け取り、平面光として出射する導光体14とを備える。
次に、液晶表示装置100による表示について説明する。図1において、交差領域81のうち、開口部21aが形成された領域が透過表示領域となり、それ以外の領域が反射表示領域となる。
反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が経路L1に従って第1基板2a側から液晶表示パネル1に入射する。外光は、液晶層3及び着色層23などを通過して金属反射膜21に至り、そこで反射されて再度着色層23や液晶層3を通過して、液晶表示パネル1から外部へ出て観察者72に至る。こうして反射表示が行われる。なお、反射表示の際には、バックライトユニット12は消灯される。
一方、透過表示の際にはバックライトユニット12が点灯される。バックライトユニット12から出射された光は、経路L2に従って金属反射膜21に設けられた開口部21aを通過して液晶表示パネル1の内部へ入り、着色層23、液晶層3などを通過して液晶表示パネル1の外部へ出て観察者73に至る。こうして、透過表示が行われる。
次に、本実施形態における表示領域の実施例について説明する。本発明では、半透過反射型の液晶表示装置において、透過表示領域には散乱形状を設けないこととして、光リークなどを防止する点に1つの特徴を有する。以下に、そのための具体的な実施例を示す。
(第1実施例)
図1において破線で示す表示領域50の部分の第1実施例を図4に示す。図示のように、液晶表示パネル1の表示領域50の部分は、透過表示領域25と反射表示領域27とで異なる層構造を有する。なお、透過表示領域25は金属反射膜21の開口部21aの領域に対応する。反射表示領域27では、第2基板2b側から、樹脂層29、金属反射膜21、着色層23及びオーバーコート膜38が順に形成されている。図示のように、樹脂層29の上面側には凹凸などの散乱形状が形成されており、その上に形成される金属反射膜21の表面も同様の散乱形状を備えている。なお、図4においては、オーバーコート膜38上の対向電極24及び配向膜10bなどは図示を省略している。
図1において破線で示す表示領域50の部分の第1実施例を図4に示す。図示のように、液晶表示パネル1の表示領域50の部分は、透過表示領域25と反射表示領域27とで異なる層構造を有する。なお、透過表示領域25は金属反射膜21の開口部21aの領域に対応する。反射表示領域27では、第2基板2b側から、樹脂層29、金属反射膜21、着色層23及びオーバーコート膜38が順に形成されている。図示のように、樹脂層29の上面側には凹凸などの散乱形状が形成されており、その上に形成される金属反射膜21の表面も同様の散乱形状を備えている。なお、図4においては、オーバーコート膜38上の対向電極24及び配向膜10bなどは図示を省略している。
一方、透過表示領域25では、第2基板2b上に着色層23が形成されているのみであり、樹脂層29、金属反射膜21及びオーバーコート膜38は形成されていない。このように、本実施例では、透過表示領域25内では、樹脂層29自体を設けず、第2基板2bの上に着色層23を設けている。ガラスなどの第2基板2bの上面は平坦であるので、バックライトユニット12から出射される透過光L2が散乱形状を通過することはなく、光リークなどの影響を除去することができる。
次に、図5を参照して表示領域50の製造方法を説明する。図5において、まず、第2基板2b上にアクリル樹脂などの透明樹脂を塗布して樹脂層29を形成し、樹脂層29の上面に小さな凹凸などの散乱形状を形成する(工程S1)。なお、散乱形状の作製方法としては、例えば、格子状のマスクを利用したフォトリソグラフィーにより透明樹脂層を部分的に除去してマスクの格子に対応した透明樹脂層の凹凸を形成し、それを加熱して凹凸の角を緩やかに成形する方法がある。但し、本発明では、散乱形状の作製方法はこれに限定されるものではなく、一般的に反射型又は半透過反射型の液晶表示装置において散乱形状を形成する各種の方法を採用することができる。
こうして、表示領域全体に散乱形状を有する樹脂層29が形成されると、次に、透過表示領域25に対応する大きさの格子状マスクを利用したフォトリソグラフィーなどにより透過表示領域25における樹脂層29を除去する(工程S2)。次に、反射表示領域27のみにおいて、樹脂層29上にアルミニウムなどの金属反射膜21を形成する。形成された金属反射膜21の表面は、樹脂層29の凹凸を反映した凹凸形状を有するようになる。
次に、透過表示領域25及び反射表示領域27の全体に対して着色層23を形成し(工程S4)、さらに反射表示領域27に対応する領域にアクリル樹脂その他の透明樹脂からなるオーバーコート膜38を形成する(工程S5)。こうして、図4に示すような、第1実施例による表示領域50が作製される。
なお、上記の例では、オーバーコート膜38を反射表示領域27のみに設け、透過表示領域25には設けないようにしている。これは、反射表示領域と透過表示領域のセルギャップを異ならせて反射表示と透過表示の表示特性を調整した、いわゆるマルチギャップ構造を採用しているからであるが、本発明の適用はこれには限られない。即ち、透過表示領域25にもオーバーコート膜38を設ける構造としても構わない。
このように、第1実施例によれば、透過表示領域25内には散乱形状を有する樹脂層29を設けないこととしたので、透過表示領域25において散乱形状により光リークなどの悪影響が生じることを防止することができる。
(第2実施例)
次に、第2実施例による表示領域50aの構造について説明する。図6に、第2実施例による表示領域50aの断面構造を示す。第1実施例の表示領域50では、透過表示領域25内では散乱形状を有する樹脂層29を除去して第2基板2b上に直接着色層23を形成した。これに対し、第2実施例では図6に示すように、透過表示領域25内に樹脂層29aを形成するが、その樹脂層29aが凹凸などの散乱形状を有しないようにした。
次に、第2実施例による表示領域50aの構造について説明する。図6に、第2実施例による表示領域50aの断面構造を示す。第1実施例の表示領域50では、透過表示領域25内では散乱形状を有する樹脂層29を除去して第2基板2b上に直接着色層23を形成した。これに対し、第2実施例では図6に示すように、透過表示領域25内に樹脂層29aを形成するが、その樹脂層29aが凹凸などの散乱形状を有しないようにした。
具体的には、図6に示すように、反射表示領域27では、第2基板2b上に、散乱形状を有する樹脂層29、金属反射膜21、着色層23及びオーバーコート膜38がその順序で形成される。一方、透過表示領域25では、第2基板2b上には散乱形状を有しない樹脂層29aが形成され、その上に着色層23が形成される。これにより、バックライトユニット12から出射され、透過表示領域25を通過する透過光は散乱形状を通過することがないので、散乱形状による光リークなどの悪影響を防止することができる。
また、第2実施例の表示領域50aの構造は、第1実施例の表示領域50の構造と比較して、透過表示領域25と反射表示領域27との境界付近における光リークを効果的に防止できるという利点がある。即ち、第1実施例の構造では、図4における透過表示領域25と反射表示領域27の境界領域48において、着色層23に傾斜部分が生じる。これは、実際には境界領域48において樹脂層29や金属反射膜21の端部を図4に示すように急峻に形成することが難しく、ある程度の傾斜が生じるからである。よって、その上に形成される着色層23にもある程度の傾斜が生じ、その部分で光漏れなどが発生する可能性が生じる。この点、図6に示す第2実施例の表示領域50aの構造では、透過表示領域25にも散乱形状を有しない樹脂層29aが形成されるため、着色層23の土台はほぼ平坦になり、第1実施例のように段差が生じることはない。このため、透過表示領域25と反射表示領域27との境界領域において着色層に段差や傾斜が生じることはなく、その部分において光リークが発生することを防止することができる。
次に、第2実施例に係る表示領域50aの製造方法について説明する。図7は、第2実施例に係る表示領域50aの製造方法を示す工程図である。図7において、まず、第1実施例と同様に第2基板2b上に透明樹脂の樹脂層29を形成し、その表面にフォトリソグラフィーなどにより散乱形状を形成し(工程S11)、さらに、透過表示領域25の樹脂層29を除去する(工程S12)。
次に、樹脂層29を除去した透過表示領域25に、再度同じ透明樹脂を塗布などして樹脂層29aを形成する(工程S13)。但し、この樹脂層29aの部分は凹凸などの散乱形状を形成しないので、樹脂層29aの上面はほぼ平坦となっている。
次に、反射表示領域27における樹脂層29上に金属反射膜21を形成し(工程S14)、反射表示領域27及び透過表示領域25の全体に着色層23を形成する(工程S15)。そして、第1実施例と同様に、反射表示領域27にオーバーコート膜38を選択的に形成する(工程S16)。こうして、図6に示す表示領域50aの構造が作製される。
以上のように、第2実施例では、透過表示領域25に形成する樹脂層29aの上面に散乱形状を形成しないので、光リークなどの散乱形状による悪影響を除去することができる。また、第1実施例と比較すると、反射表示領域27と透過表示領域25の境界領域に段差や傾斜が生じないので、それにより光リークなども防止することができる。
(第3実施例)
次に、第3実施例による表示領域50bの構造について説明する。図8に、第3実施例による表示領域50bの断面構造を示す。第3実施例においても、第2実施例と同様に、透過表示領域25に散乱形状を有しない樹脂層29bが設けられる。よって、第1実施例と比較すると、透過表示領域25と反射表示領域27との境界領域48において、層構造に段差や傾斜が生じることにより光リークなどが生じることを防止することができる。但し、第3実施例は、その樹脂層29bの製造方法が第2実施例と異なる。
次に、第3実施例による表示領域50bの構造について説明する。図8に、第3実施例による表示領域50bの断面構造を示す。第3実施例においても、第2実施例と同様に、透過表示領域25に散乱形状を有しない樹脂層29bが設けられる。よって、第1実施例と比較すると、透過表示領域25と反射表示領域27との境界領域48において、層構造に段差や傾斜が生じることにより光リークなどが生じることを防止することができる。但し、第3実施例は、その樹脂層29bの製造方法が第2実施例と異なる。
具体的には、図8に示すように、反射表示領域27では、第2基板2b上に、散乱形状を有する樹脂層29、金属反射膜21、着色層23及びオーバーコート膜38がその順序で形成される。一方、透過表示領域25でも第2基板2b上に樹脂層29bが形成されているが、透過表示領域25では樹脂層29には散乱形状は形成されない。そして、樹脂層29の上に着色層23が形成される。これにより、バックライトユニット12から出射され、透過表示領域25を通過する透過光は散乱形状を通過することがないので、散乱形状による光リークなどの悪影響を防止することができる。
次に、第3実施例に係る表示領域50bの製造方法について説明する。図9は、第3実施例に係る表示領域50bの作製方法を示す工程図である。図9において、まず、第1実施例と同様に第2基板2b上に透明樹脂の樹脂層29を形成する(工程S21)。次に、その表面にフォトリソグラフィーなどにより散乱形状を形成するが、その際、透過表示領域25はマスクなどにより保護して散乱形状が形成されないようにする(工程S22)。その結果、図9に示すように、透過表示領域25の樹脂層29bはその上面が略平坦となる。なお、散乱形状の形成方法として、前述のように格子状のマスクを利用してフォトリソグラフィーにより凹凸形状を形成し、それを加熱して端部を滑らかにして散乱形状を形成する場合、図9に示すように、散乱形状を形成した領域の樹脂層29は、散乱形状を形成しない領域の樹脂層29bと比較して厚さが幾分減少することとなる。
次に、反射表示領域27における樹脂層29上に金属反射膜21を形成し(工程S23)、反射表示領域27及び透過表示領域25の全体に着色層23を形成する(工程S24)。そして、第1実施例と同様に、反射表示領域27にオーバーコート膜38を選択的に形成する(工程S25)。こうして、図8に示す表示領域50bの構造が作製される。
以上のように、第3実施例では、透過表示領域25に形成する樹脂層29aの上面に散乱形状を形成しないので、光リークなどの散乱形状による悪影響を除去することができる。また、第1実施例と比較すると、反射表示領域27と透過表示領域25の境界領域に段差や傾斜が生じないので、それにより光リークなどが発生することも防止することができる。また、第2実施例と比較すると、散乱形状を有しない樹脂層を、散乱形状を有する樹脂層と別個に作る必要がないので、製造工程を単純化することができる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態は、本発明の半透過反射型液晶表示装置を、スイッチング素子として3端子型の能動素子であるTFT(Thin Film Transistor)素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態は、本発明の半透過反射型液晶表示装置を、スイッチング素子として3端子型の能動素子であるTFT(Thin Film Transistor)素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
図10に第2実施形態に係る液晶表示装置200の構造を断面図により示す。図10に示すように、液晶表示装置200は、第1基板2aと第2基板2bとをそれらの周辺部において図示しないシール材によって貼り合わせ、さらに、第1基板2a、第2基板2b及びシール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内に液晶を封入して液晶層3を設けることによって形成される。
第1基板2aはガラス、プラスチック等によって形成され、その第1基板2a上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのTFT素子42と、透明な絶縁膜48を挟んでTFT素子42の上層に形成された第1電極としての画素電極5とを有する。交差領域81は、透過表示を行うための透過表示領域25と、反射表示を行うための反射表示領域27とを備える。画素電極5はITOなどにより透明電極として形成される。画素電極5の上には、反射表示領域27においては反射表示を行うための金属反射膜21cが形成されるが、透過表示領域25においては金属反射膜21cに開口部21dが形成されている。金属反射膜21cは、例えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)等といった光反射性材料によって形成される。そして、金属反射膜21cの上には配向膜10aが形成され、この配向膜10aに対して配向処理としてのラビング処理が施される。
また、第1基板2aの外側(すなわち、図10の下側)表面には、位相差板8bが形成され、さらにその下に偏光板7bが形成される。同様に、第2基板2bの外側(すなわち、図10の上側)表面には、位相差板8aが形成され、さらにその上に偏光板7aが形成される。また、第1基板2aの下方には第1実施形態と同様のバックライトユニット12(図示を省略)が配置される。
第1基板2aに対向する第2基板2bは、ガラス、プラスチック等によって形成され、その第2基板2b上には、カラーフィルタすなわち着色層23と、その着色層23の上に形成された第2電極としての対向電極24と、その対向電極24の上に形成された配向膜10bとを有する。対向電極24は、ITO等によって第2基板2bの表面全域に形成された面状電極である。着色層23は、第1基板2a側の画素電極5に対向する位置にR(赤),G(緑),B(青)又はC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを有する。そして、着色層23の隣りであって、画素電極5に対向しない位置にブラックマスク又はブラックマトリクスすなわち遮光膜22が設けられる。
TFT素子42は、第1基板2a上に形成されたゲート電極46と、このゲート電極46の上で第1基板2aの全域に形成されたゲート絶縁膜47と、このゲート絶縁膜47と、このゲート絶縁膜47を挟んでゲート電極46の上方位置に形成された半導体層49と、その半導体層49の一方の側にコンタクト電極45を介して形成されたソース電極44と、さらに半導体層49の他方の側にコンタクト電極44を介して形成されたドレイン電極43とを有する。
図11に示すように、ゲート電極46はゲートバス配線29から延びている。また、ソース電極44はソースバス配線28から延びている。ゲートバス配線29は第1基板2aの横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成される。また、ソースバス配線28はゲート絶縁膜47(図11参照)を挟んでゲートバス配線29と交差するように縦方向へ延びていて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
ゲートバス配線29は液晶駆動用IC(図示せず)に接続されて例えば走査線として作用し、他方、ソースバス配線28は他の液晶駆動用IC(図示せず)に接続されて例えば信号線として作用する。また、画素電極5は、図11に示すように、互いに交差するゲートバス配線29とソースバス配線28とによって区画される方形領域のうちTFT素子42に対応する部分を除いた領域に形成される。
ゲートバス配線29及びゲート電極46は、例えばクロム、タンタル等によって形成される。ゲート絶縁膜47は、例えば窒化シリコン(SiNX)、酸化シリコン(SiOX)等によって形成される。半導体層49は、例えばドープトa−Si、多結晶シリコン、CdSe等によって形成される。コンタクト電極45は、例えばa−Si等によって形成される。ソース電極44及びそれと一体なソースバス配線28並びにドレイン電極43は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等によって形成される。
図10に示す有機絶縁膜48は、ゲートバス配線29、ソースバス配線28及びTFT素子42を覆って第1基板2a上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜48のドレイン電極43に対応する部分にはコンタクトホール26が形成され、このコンタクトホール26の所で画素電極5とTFT素子42のドレイン電極43との導通がなされている。
有機絶縁膜48のうち、反射表示領域27に対応する領域には、散乱形状として、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンが形成されている。この結果、有機絶縁膜48の上に積層される画素電極5も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる。但し、この凹凸パターンは、金属反射膜21cの開口部21dに相当する透過表示領域25には形成されていない。
上記の構造を有する液晶表示装置200において、反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が経路L3に従って第2基板2b側から液晶表示パネル1aに入射する。外光は、着色層23や液晶層3などを通過して金属反射膜21cに至り、そこで反射されて再度液晶層3や着色層23などを通過して、液晶表示パネル1aから外部へ出て観察者72に至る。こうして反射表示が行われる。なお、反射表示の際には、バックライトユニット12は消灯される。
一方、透過表示の際にはバックライトユニット12が点灯される。バックライトユニット12から出射された光は、経路L4に従って金属反射膜21cに設けられた開口部21dを通過し、着色層23、液晶層3などを通過して液晶表示パネル1aの外部へ出て観察者73に至る。こうして、透過表示が行われる。
第2実施形態の液晶表示装置200においては、前述のように、透過表示領域25においては絶縁層48に凹凸パターンなどの散乱形状が形成されておらず、略平坦となっている。よって、透過表示の際の透過光が散乱形状によりリークするなどの不具合を排除することができる。
第2実施形態における表示領域は基本的に第1実施形態と同様に作製することができる。即ち、第1基板2a上にTFT素子42などを形成した後、アクリルなどの透明樹脂により絶縁層48を形成することができる。このとき、第1実施形態の第2実施例のように、TFT素子部分を除いて平坦な絶縁層48を形成し、反射表示領域27及び透過表示領域25の全体に散乱形状を形成した後、透過表示領域25の絶縁層を一旦除去し、そこに平坦な樹脂層を形成することとしてもよい。また、第1実施形態の第3実施形態のように、TFT素子部分を除いて平坦な絶縁層48を形成した後、反射表示領域27のみに選択的に凹凸パターンの散乱形状を形成することとしてもよい。
[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100又は200を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
次に、本発明による液晶表示装置100又は200を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
図12は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100又は200を構成する液晶表示パネル400と、これを制御する制御手段410を有する。ここでは、液晶表示パネル400を、パネル構造体400Aと、半導体ICなどで構成される駆動回路400Bとに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。
表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。
表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路400Bへ供給する。駆動回路400Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図13を参照して説明する。
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図13(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図13(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部724を備える。
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図13(a)に示したパーソナルコンピュータや図13(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
なお、本発明の電気光学装置は、上述のTFD素子やTFT素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示パネルのみならず、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルにおいても同様に適用することが可能である。
また、本発明は、液晶表示装置のみでなく、無機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ(電界放出表示装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等))などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
1 液晶表示パネル、 2 基板、 3 液晶層、 5 画素電極、 7 偏光板、
10 配向膜、 21 金属反射膜、 22 遮光膜、 23 着色層、
32 TFD素子、 42 TFT素子、 100、200 液晶表示装置
10 配向膜、 21 金属反射膜、 22 遮光膜、 23 着色層、
32 TFD素子、 42 TFT素子、 100、200 液晶表示装置
Claims (15)
- 電気光学物質を有する電気光学装置において、基板は透過表示領域及び反射表示領域にわたって層構造を有し、前記層構造は前記反射表示領域内においてのみ散乱形状を有することを特徴とする電気光学装置。
- 前記透過表示領域内における前記層構造は平坦であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記層構造は、前記反射表示領域内のみに設けられ、かつ、表面に散乱形状が形成された樹脂層を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
- 前記層構造は、前記透過表示領域内には樹脂層を含まないことを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
- 前記層構造は、前記透過表示領域内に表面が平坦な樹脂層を有することを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
- 前記透過表示領域内の樹脂層は、前記反射表示領域内の樹脂層と略同一の厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 前記透過表示領域内の樹脂層は、前記反射表示領域内の樹脂層と異なる厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 前記樹脂層が設けられた基板には着色層が設けられていることを特徴とする請求項3乃至7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記樹脂層の上には、前記反射表示領域内においてのみ金属反射膜が設けられていることを特徴とする請求項3乃至8のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 電気光学物質を有する電気光学装置において、基板に形成された画素部に透過表示領域及び反射表示領域を備え、前記反射表示領域内に散乱層を形成し、前記透過表示領域には前記散乱層が形成されていないことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備える電子機器。
- 電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、
基板に対し、反射表示領域においては散乱形状を有する反射膜を含む層構造を形成し、透過表示領域においては平坦な層構造を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、
基板上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、
透過表示領域において前記樹脂層を除去する工程と、
反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、
前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、
基板上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、
透過表示領域において前記樹脂層を除去する工程と、
前記樹脂層を除去した透過表示領域において、表面が平坦な樹脂層を形成する工程と、
反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、
前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 電気光学物質を有する電気光学装置の製造方法において、
基板上に、表面が平坦な樹脂層を形成する工程と、
反射表示領域のみにおいて、前記樹脂層の表面に散乱形状を形成する工程と、
前記反射表示領域において前記樹脂層上に金属反射膜を形成する工程と、
前記透過表示領域及び前記反射表示領域にわたって、着色層を形成する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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JP2003333540A JP2005099464A (ja) | 2003-09-25 | 2003-09-25 | 電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008281772A (ja) * | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型横型電界駆動方式液晶表示装置用カラーフィルタ |
JP2012247804A (ja) * | 2012-09-05 | 2012-12-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型横型電界駆動方式液晶表示装置用カラーフィルタ |
-
2003
- 2003-09-25 JP JP2003333540A patent/JP2005099464A/ja not_active Withdrawn
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