JP2005084511A - カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることにより、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことのできるカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】 光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板４ａである。このカラーフィルタ基板４ａは、透明な基材９ａと、基材９ａ上に形成された下地層１１と、下地層１１上に形成された反射膜１２と、反射膜１２上に形成されたバンク１５と、バンク１５によって囲まれた領域内に設けられた着色要素１６とを有する。下地層１１は透過部に対応して低い段差部３８を有し、さらに着色要素１６は透過部で厚く（Ｔｔ０）、反射部で薄い（Ｔｒ０）。反射部と透過部で光の明るさ及び色の濃さが均一になる。下地層１１に段差部３８を設けたので、着色要素１６の膜厚を反射部と透過部とで正確に設定できる。
【選択図】 図２
【解決手段】 光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板４ａである。このカラーフィルタ基板４ａは、透明な基材９ａと、基材９ａ上に形成された下地層１１と、下地層１１上に形成された反射膜１２と、反射膜１２上に形成されたバンク１５と、バンク１５によって囲まれた領域内に設けられた着色要素１６とを有する。下地層１１は透過部に対応して低い段差部３８を有し、さらに着色要素１６は透過部で厚く（Ｔｔ０）、反射部で薄い（Ｔｒ０）。反射部と透過部で光の明るさ及び色の濃さが均一になる。下地層１１に段差部３８を設けたので、着色要素１６の膜厚を反射部と透過部とで正確に設定できる。
【選択図】 図２
Description
本発明は、液晶装置等といった電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタ基板を用いて構成される電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成される携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に関する。
液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置によってカラー表示を行うことは従来から知られている。このような電気光学装置では、その内部にカラーフィルタ基板が組み込まれる。このカラーフィルタ基板は、例えば、透明ガラスから成る基材上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色要素を所定の配列となるように形成することによって形成される。
ところで、液晶装置として次の３種類が知られている。第１は、太陽光、室内光等といった外部光を装置内部で反射させ、その反射光を用いて表示を行う、いわゆる反射型の液晶装置である。第２は、冷陰極管、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった光源から放出されて液晶装置の内部を透過する光を用いて表示を行う、いわゆる透過型の液晶装置である。第３は、反射型及び透過型の２つの機能を併せて持つ半透過反射型の液晶装置である。
上記の反射型液晶装置及び半透過反射型液晶装置においては、反射光を用いて表示を行う際に、外部光がカラーフィルタの着色要素を２回通過するので光の吸収が多くなって表示の明るさが低下するという問題があった。この問題を解消するため、画素領域の中に着色要素を形成しない領域、すなわち反射膜が剥き出しの領域を形成するようにした反射型液晶装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この液晶装置では、反射膜が剥き出しの部分を通して明るい光を通過させることにより、カラー表示の明るさが低下することを防止している。
また、従来、半透過反射型の液晶装置において、光反射膜の光透過用開口を着色要素の最大膜厚部分に合わせるという技術、すなわち、透過部に相当する着色要素の膜厚を厚くするという技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。この技術によれば、反射部における光の光路長と透過部における光の光路長とを近づけることにより、反射表示時と透過表示時との間で均一な色表示が可能となっている。
しかしながら、特許文献１に開示された液晶装置では、反射膜剥き出し部分がブラックマスクの内側領域、すなわち、ブラックマスクとは別の領域に設けられるので、着色要素の面積が狭くなって彩度が低下するという問題があった。また、特許文献２に開示された液晶装置では、透過部と反射部との間で着色要素の膜厚差を希望通りに大きくとることが難しく、それ故、反射部で十分に明るい表示を得るために着色要素の膜厚を薄くすると、彩度が不十分であった。また、彩度を得るために着色要素の膜厚を厚くすると、明るさが不十分であった。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることにより、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことのできるカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、及び電子機器を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタ基板は、光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板において、透明な基材と、該基材上に形成された下地層と、該下地層上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成されたバンクと、該バンクによって囲まれた領域内に設けられた着色要素とを有し、前記下地層は前記透過部に対応して低い段差部を有し、さらに前記着色要素は前記透過部で厚く前記反射部で薄いことを特徴とする。
このカラーフィルタ基板によれば、着色要素の下地層について透過部に対応して低い段差部を形成したので、透過部に対応して着色要素の膜厚を十分に厚くすることができ、それ故、反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることができる。それ故、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことができる。
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記着色要素は前記反射部と前記透過部とで同じ材質であることが望ましい。一般に、フォトリソグラフィ処理を用いれば、反射部と透過部との間で着色要素の膜厚を独自に決めることができる。しかしながら、この場合には、反射部と透過部のそれぞれに対してフォトリソグラフィ処理を繰り返さなければならず、コストも時間もかかり過ぎる。これに対し、反射部と透過部との間で着色要素の材質を同じにすれば、作業が簡単でコストも低く抑えることができる。
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記バンクの表面には撥インク処理が施されるか、あるいは、前記バンクは撥インク性の樹脂によって形成されることが望ましい。ここでいう撥インク性の対象となるインクは、着色要素の材料のことである。上記のようにバンクに撥インク性を持たせれば、インクジェット技術、すなわち液滴吐出技術を用いて着色要素を液滴吐出によって成膜するとき、バンクへの着色要素の付着を防止できるので非常に有利である。
ここで、インクジェット技術とは、着色要素の材料をインク滴としてノズルから吐出して希望の個所に吐着させる技術である。インクの吐出方法としては、通電に応じて振動する圧電素子を用いてノズルの内部容積を変化させてインクを吐出する方法や、ノズル内部のインクを熱膨張させて吐出する方法や、その他任意の液滴吐出技術を採用できる。
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記透過部における前記着色要素の厚さをＴｔとし、前記反射部における前記着色要素の厚さをＴｒとするとき、それらの厚さの関係は
Ｔｔ：Ｔｒ＝（１．３〜５）：１
であることが望ましい。これにより、反射部における明るい表示と、透過部における濃くて鮮明な表示の両方を実現できる。
Ｔｔ：Ｔｒ＝（１．３〜５）：１
であることが望ましい。これにより、反射部における明るい表示と、透過部における濃くて鮮明な表示の両方を実現できる。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、基材上に下地層を形成する工程と、前記下地層上に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上にバンクを形成する工程と、前記バンクによって囲まれた領域内に液滴吐出によって着色要素を形成する工程とを有し、前記下地層を形成する工程では前記透過部に対応して低い段差部が形成され、前記反射膜を形成する工程では前記透過部に対応して開口が形成されることを特徴とする。
このカラーフィルタ基板の製造方法によれば、着色要素の下地層について透過部に対応して低い段差部が形成され、さらに反射膜について透過部に対応して開口が形成されるので、透過部に対応して着色要素の膜厚を十分に厚くすることができ、それ故、反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることができる。それ故、本製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板を用いたカラー表示において、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことができる。
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記着色要素を形成する工程では前記透過部に対応して液滴の吐出量が多いことが望ましい。これにより、透過部に多量の着色要素材料を供給できるので、透過部における着色要素の膜厚を確実に厚くできる。なお、液滴の吐出量を多くするための具体的な手法としては、例えば、インクジェットヘッドのノズルから吐出される１滴当りの液滴量を多くしたり、透過部における液滴の吐出回数を多くしたりすることが考えられる。
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記バンクを形成する工程では、当該バンクの表面に撥インク処理が施されるか、あるいは、当該バンクは撥インク性の樹脂によって形成されることが望ましい。こうすれば、液滴吐出技術、すなわちインクジェット技術を用いて基材上に着色要素を形成する際に、バンクへの着色要素材料の付着を防止でき、それ故、着色要素を常に安定して一定形状に形成でき、しかも着色要素間での混色を防止できる。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、以上に記載したカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されることを特徴とする。このカラーフィルタ基板によれば、着色要素の下地層について透過部に対応して低い段差部が形成されるので、透過部に対応して着色要素の膜厚を十分に厚くすることができ、それ故、反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることができる。それ故、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことができる。
次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする。ここで、電気光学物質としては、液晶装置で用いられる液晶や、有機ＥＬ装置で用いられる有機ＥＬや、プラズマディスプレイ装置で用いられる放電用ガス等がある。これらの電気光学物質は、カラーフィルタ基板に直接に接触するように設けられたり、カラーフィルタ基板と対向基板との間に挟持されたり、その他、電気光学装置の構造に適合した種々の方法で設けられる。このような電気光学装置としては、例えば、液晶装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、その他各種の装置が考えられる。
この電気光学装置においては、内蔵するカラーフィルタ基板において着色要素の下地層について透過部に対応して低い段差部を形成したので、透過部に対応して着色要素の膜厚を十分に厚くすることができ、それ故、反射部と透過部との双方で着色要素の膜厚をそれぞれの適正値に正確に合わせることができる。それ故、反射部で明るく、透過部で濃い表示を行うことができる。これにより、電気光学装置に関する各種の表示を鮮やかな色彩で表示することができる。
次に、本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、その他各種の機器が考えられる。
（カラーフィルタ基板及び電気光学装置の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板をそれが用いられる電気光学装置と共に一例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置であって、半透過反射型の液晶装置を例に挙げるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板をそれが用いられる電気光学装置と共に一例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置であって、半透過反射型の液晶装置を例に挙げるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
図４において、電気光学装置としての液晶装置１は、液晶パネル２と、それに組みつけられる照明装置３とを有する。液晶パネル２は、第１基板４ａと第２基板４ｂとを矢印Ａ方向から見て環状のシール材６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板４ａはカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板であり、第２基板４ｂはＴＦＤ素子が形成される素子基板である。図５は図４の液晶パネル２における１つの表示用ドット領域Ｄの部分を拡大して示している。図５に示すように、第１基板４ａと第２基板４ｂとの間には、スペーサ７によって維持される隙間、いわゆるセルギャップＧが形成され、このセルギャップＧ内に液晶が封入されて液晶層８が形成されている。
図１は、図４の第１基板４ａの１画素領域を矢印Ａ方向、すなわち観察側方向から見た場合の平面的な構成を示している。また、図２（ａ）は図１のＡ−Ａ線に従った第１基板４ａの断面構造を示している。図２（ａ）において、第１基板４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材９ａを有する。その第１基材９ａの液晶側表面には下地層としての樹脂層１１が形成され、その上に反射膜１２が形成される。
また、反射膜１２の上には遮光部材１３が形成され、その遮光部材１３の上に撥インク層１４が形成される。これら遮光部材１３及び撥インク層１４によってバンク１５が形成される。撥インク層１４は、後述するインクジェット技術によって吐出される着色要素材料を撥ねることができる材料の層である。遮光部材１３を撥インク性の樹脂によって形成するのであれば、この撥インク層１４は不要である。なお、バンク１５は後述するインクジェット処理の際に着色要素材料の吐出領域を区画するように機能する。
バンク１５は、１本ずつが図２（ａ）の紙面垂直方向及び紙面左右方向に延びるように形成され、全体としては図１に示すように格子状に形成される。バンク１５によって囲まれる方形状の領域内には着色要素１６が形成される。この着色要素１６にはＲ，Ｇ，Ｂの３色があり、それらが、バンク１５によって囲まれる１つの領域に１色ずつ形成される。なお、図１に示すように、Ｒ色の着色要素を１６ｒ、Ｇ色の着色要素を１６ｇ、Ｂ色の着色要素１６ｂを１６ｂと呼ぶことにする。本実施形態では、これらのＲ，Ｇ，Ｂ各色の着色要素１６を図７（ａ）のストライプ配列で並べるものとし、これらの着色要素１６によってカラーフィルタが構成される。
なお、着色要素１６の配列としては、ストライプ配列以外に種々採用でき、例えば、図７（ｂ）に示すモザイク配列や、図７（ｃ）に示すデルタ配列等が考えられる。モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。また、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
図２（ａ）において、着色要素１６の上にはオーバーコート層１７が形成され、その上に帯状の透明電極１８ａが形成され、その上に配向膜１９ａが形成される。配向膜１９ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材９ａの外側表面には、図４に示すように偏光板２１ａが貼着等によって装着されている。
図２（ａ）において、樹脂層１１の表面には凹凸が形成され、その樹脂層１１に積層された反射膜１２の表面にも凹凸が形成される。この凹凸パターンは、矢印Ａ方向から見て平面内でランダムに形成されている。この凹凸の存在により、反射膜１２に入射した光は散乱光となって反射する。１本の帯状の透明電極１８ａは、図２（ａ）の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極１８ａの間にはバンク１５の幅にほぼ一致する間隔が設けられている。これにより、複数の電極１８ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
図５において、液晶層８を挟んで第１基板４ａに第２基板４ｂが対向する。図３（ａ）は、その第２基板４ｂの１画素領域の平面構造を図４の矢印Ａ方向から見た状態を示している。また、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＢ−Ｂ線に従った第２基板４ｂの断面構造を示している。図３（ｂ）において、第２基板４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材９ｂを有する。その第２基材９ｂの液晶側表面には、線状のライン配線２２、アクティブ素子としてのＴＦＤ素子２３及び透明なドット電極１８ｂが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜１９ｂが形成され、その配向膜１９ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。図５の第１基板４ａ側の配向膜１９ａのラビング方向と第２基板４ｂ側の配向膜１９ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材９ｂの外側表面には、図４において偏光板２１ｂが貼着等によって装着されている。
図３（ａ）において、ドット電極１８ｂは正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子２３を介してライン配線２２に接続されている。なお、参考のために、第１基板４ａ側に形成される帯状電極１８ａを鎖線で示している。ドット電極１８ｂと帯状電極１８ａとが平面的に重なる領域が１つの表示用ドット領域Ｄを構成する。この１つの表示用ドット領域ＤがＲ，Ｇ，Ｂの１つの色に対応する領域である。カラー表示を行う本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの表示用ドット領域Ｄによって１つの画素が構成される。図５において、反射膜１２には、個々の表示用ドットＤに対応して光通過用の開口２４が設けられている。これらの開口２４は、反射膜１２に光を透過させる機能を持たせるための構成であり、これにより、透過部が構成される。透過部以外の反射膜１２が存在する部分が反射部である。
図３（ａ）のＴＦＤ素子２３は、図６に示すように、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子２３は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線２２の第１層２２ａ及びＴＦＤ素子２３の第１金属２６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線２２の第２層２２ｂ及びＴＦＤ素子２３の絶縁膜２７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線２２の第３層２２ｃ及びＴＦＤ素子２３の第２金属２８を形成する。
第１ＴＦＤ要素２３ａの第２金属２８はライン配線２２の第３層２２ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂの第２金属２８の先端に重なるように、ドット電極１８ｂが形成される。ライン配線２２からドット電極１８ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素２３ａでは第２電極２８→絶縁膜２７→第１金属２６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素２３ｂでは第１金属２６→絶縁膜２７→第２金属２８の順に電気信号が流れる。
つまり、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
図４において、第２基板４ｂは第１基板４ａの外側に張り出す張出し部２９を有し、その張出し部２９の第１基板４ａ側の表面には配線３１及び端子３２が形成されている。これらの配線３１及び端子３２が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ３３ａ及び２つの駆動用ＩＣ３３ｂが図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）によって実装されている。
配線３１及び端子３２は第２基板４ｂ上にライン配線２２やドット電極１８ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線２２は張出し部２９の上にそのまま延び出て配線３１となって、駆動用ＩＣ３３ａに接続されている。また、第１基板４ａと第２基板４ｂとを接着するシール材６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板４ａ上に形成された帯状電極１８ａは第１基板４ａの上でシール材６の所まで引き回された後、シール材６中の導通材を介して第２基板４ｂ上の配線３１に接続されている。これにより、第１基板４ａ上の帯状電極１８ａは第２基板４ｂ上の駆動用ＩＣ３３ｂに接続されている。
図４において、液晶パネル２を構成する第１基板４ａの外側表面に対向して配設された照明装置３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体３６と、点状光源としてのＬＥＤ３７とを有する。導光体３６のうち液晶パネル２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体３６のうち液晶パネル２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。ＬＥＤ３７は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ３７は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図５に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板４ｂを通して液晶パネル２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層８を通過した後に反射膜１２で反射して液晶層８へ供給される。他方、外部光が不十分である場合には、図４の照明装置３を構成するＬＥＤ３７を点灯する。このとき、ＬＥＤ３７から点状に出た光は導光体３６の入光面３６ａから該導光体３６の内部へ導入され、その後、液晶パネル２に対向する面、すなわち光出射面３６ｂから面状に出射する。このようにして光出射面３６ｂの各所から出射する光が、図５において矢印Ｇで示すように反射膜１２に形成した開口２４を通って面状の光として液晶層８へ供給される。
以上のようにして液晶層８へ光が供給される間、液晶パネル２に関しては、図４の駆動用ＩＣ３３ａ及び３３ｂによって制御されて、ライン配線２２に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極１８ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定の表示用ドットに付属するＴＦＤ素子２３（図３（ａ）参照）が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示用ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子２３が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
こうして、液晶層８内の液晶分子が表示用ドットＤごとに制御され、それ故、液晶層８を通過する光が表示用ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が図４の第２基板４ｂ側の偏光板２１ｂを通過することにより、液晶パネル２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。図５の反射膜１２で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
図５において、１つの表示用ドットＤに対応して透過部及び反射部が形成されることは記述の通りである。また、透過部は反射膜１２に開口２４を設けることによって形成されることも記述の通りである。本実施形態では、図２に示すように、この透過部に対応して樹脂層、すなわち下地層１１に低い段差部、すなわち窪み３８が形成される。この窪み３８の平面形状は反射膜１２の開口２４と同じ又は略同じである。低い段差部３８は、窪みに代えて、基材９ａに達する貫通穴としても良い。
透過部に窪み３８を設けたことにより、透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０は反射部における着色要素１６の膜厚Ｔｒ０よりも厚くなっている。このように透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０を反射部における膜厚Ｔｒ０よりも厚くすれば、図５において反射表示時の反射光Ｆが着色要素１６を通過する光路長は短くなるので、明るい反射表示を行うことができる。また、透過表示時の透過光Ｇが着色要素１６を通過する光路長は長くなるので色の濃い透過表示を行うことができる。
なお、透過部と反射部との間で着色要素１６の材料を異ならせれば、透過部と反射部との間で着色要素１６の膜厚を異ならせなくとも、上記のような明るい反射表示と色の濃い透過表示を行うことができるかもしれない。しかしながらその場合には、着色要素１６を形成するための工程が非常に複雑になる。これに対し，本実施形態のように透過部と反射部との間で着色要素１６の材料を同じにすれば、着色要素の形成工程が非常に簡単になる。
（変形例）
以上の実施形態では２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置等にも適用できる。
以上の実施形態では２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置等にも適用できる。
（カラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を図１及び図２（ａ）に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を図１及び図２（ａ）に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
図８は、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示している。まず、工程Ｐ１において、図２（ａ）の樹脂層１１の材料、本実施形態では感光性樹脂を基材９ａ上に一様にコート、すなわち塗布する。次に、工程Ｐ２において、その樹脂層の材料層を露光及び現像して樹脂層１１を形成する。このとき、その樹脂層１１の表面にランダムな凹凸パターンを形成する。また、このとき、透過部に対応させて窪み３８を形成する。以上により、個々の表示用ドットＤの中に窪み３８を備え、表面にランダムな凹凸パターンを備えた樹脂層１１が基材９ａ上に形成される。
次に、工程Ｐ３において、図２（ａ）の反射膜１２の材料、例えばＣｒをスパッタによって樹脂層１１の上に一様に塗布する。次に、工程Ｐ４において、レジスト材料をその反射膜材料層の上に一様に塗布し、さらに露光現像して所望のパターンのレジスト膜を形成する。次に、工程Ｐ５において、そのレジスト膜をマスクとして上記の反射膜材料層を露光及び現像し、さらに工程Ｐ６でエッチング処理を行うことにより、樹脂層１１上に反射膜１２を形成する。このとき、個々の表示用ドットＤの透過部に対応して反射膜１２に光透過用の開口２４を形成する。以上により、個々の表示用ドットＤに対して開口２４を備えた反射膜１２が形成される。
次に、工程Ｐ７において、反射膜１２の上に遮光部材１３の材料、例えば黒色等で熱硬化タイプの樹脂を一様にコートする。さらに、工程Ｐ８において、遮光部材１３の材料層の上に感光性撥インク材料を一様にコートする。これにより、遮光部材１３の材料と撥インク材料とが重ね塗りされる。次に、工程Ｐ９において、上記の２層の材料層を露光及び現像して、図１に示すような格子状のバンク１５を形成する。なお、本実施形態で用いる遮光部材１３はそれ自体は撥インク性を持たない材料であり、それ故、その表面に撥インク層１４を形成することにしている。仮に、遮光部材１３それ自体を感光性撥インク性の材料によって形成するならば、撥インク層１４は不要であり、その場合には、遮光部材１３だけによってバンク１５が形成される。
なお、このバンク１５は、後述のインクジェット技術による液滴吐出工程における区画部材として機能すると共に、カラー表示の際のブラックマスクとして機能する。撥インク層１４は、液滴吐出される着色要素を撥ねるための要素であり、この撥インク層は、例えばフッ素系の材料によって形成されるのが望ましい。以上により、基材９ａ上には、図１に示すように、バンク１５によって囲まれる方形状の領域が複数個、ドットマトリクス状に形成されることになる。
次に、図８の工程Ｐ１０において、バンク１５によって囲まれるドット領域内にインクジェット技術を用いて、着色要素１６の材料を液滴として吐出する。ここで、インクジェットヘッド方式による膜形成は、例えば、図９に示すインクジェットヘッド４１を矢印Ｘ及び矢印Ｙで示すように平面的に走査移動させることにより行われる。このインクジェットヘッド４１は、ほぼ長方形状のケーシング４２を有し、そのケーシング４２の底面には複数のノズル４３が設けられている。これらのノズル４３は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。
本実施形態では、複数のノズル４３は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列４４，４４が形成されている。個々のノズル列４４において、ノズル４３は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列４４には、矢印Ｈで示す方向から液状材料が供給される。供給された液状材料は圧電素子の振動に従って各ノズル４３から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列４４の個数は、１本又は３本以上であっても良い。３本以上とすれば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素材料を１つのインクジェットヘッド４１の各ノズル列４４から別々に吐出することも可能である。
インクジェットヘッド４１は、図１０に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート４６と、それに対向して配置された振動板４７と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材４８とを有する。また、ノズルプレート４６と振動板４７との間には、液状材料を貯留するための複数の貯留室４９と、液状材料が一時的に溜る個所である液溜り５１とが、各仕切り部材４８によって形成されている。さらに、複数の貯留室４９と液溜り５１とが通路５２を介して互いに連通している。また、振動板４７の適所に液状材料の供給孔５３が形成されており、この供給孔５３にパイプ５４を介して材料容器５６が接続されている。容器５６内には着色要素の材料が収容されており、この容器５６から供給された液状材料Ｍ０は、液溜り５１に充填され、さらに、通路５２を通って貯留室４９に充填される。
インクジェットヘッド４１の一部を構成するノズルプレート４６には、液状材料を貯留室４９からジェット状に噴射するためのノズル４３が設けられている。このノズル４３が複数個並べられてノズル列４４を構成することは図９に関連して既述した通りである。また、振動板４７において貯留室４９に対応する面には液状材料を加圧するための加圧体５７が取り付けられている。この加圧体５７は、図１１に示すように、圧電素子５８及びこれを挟持する一対の電極５９ａ及び５９ｂを有している。
圧電素子５８は、電極５９ａ及び５９ｂへの通電によって矢印Ｊで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室４９の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室４９の容積が増大すると、その増大した容積分に相当する液状材料Ｍ０が液溜り５１から通路５２を通って貯留室４９内へ流入する。
一方、圧電素子５８への通電を解除すると、圧電素子５８と振動板４７とが共に元の形状に戻り、貯留室４９も元の容積に戻る。そのため、貯留室４９の内部にある液状材料の圧力が上昇し、ノズル４３から液状材料が液滴６１となって吐出される。なお、液滴６１は、液状材料に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル４３から安定して吐出される。
なお、インクジェットヘッド４１はＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１６に対して専用のものが用意され、製造ライン上の異なるステージに設置される。そして、これら３色用のインクジェットヘッド４１によって別々に各色の着色要素１６が形成される。なお、場合によっては、１つのインクジェットヘッド４１に３色の着色要素材料の供給系を組み込み、その１つのインクジェットヘッド４１だけによって３色の着色要素を吐出することも可能である。以上のようなインクジェットヘッド方式のインク吐出技術を用いて着色要素１６を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、着色要素材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。
なお、本実施形態のインクジェット工程では、着色要素１６の材料１６’は図２（ｂ）に示すように、透過部の膜厚がＴｔ１で、反射部の膜厚がＴｒ１となるように液滴吐出される。つまり、反射部に比べて透過部に多量の材料が吐出される。このように透過部に多量の材料を吐出するためには、図９のインクジェットヘッド４１によって液滴吐出を行う際に、透過部に対応して１滴の量を多くしたり、透過部に対応して液滴の吐出回数を増加したりすることが望ましい。
図２（ｂ）のように着色要素材料１６’を基材９ａ上に供給した後、ベーク処理、すなわち乾燥処理を行うことにより、図２（ａ）に示すように、透過部における着色要素１６の膜厚をＴｔ０に成形し、反射部における膜厚をＴｒ０に成形する。最終的には、Ｔｔ０＞Ｔｒ０に設定する。このようなベーク処理は、例えば所定の温度に発熱するホットプレート上に基板４ａを載せることによって行われる。
インクジェット方式によって着色要素１６が形成された後、図８の工程Ｐ１１において、図２（ａ）のオーバーコート層１７が形成される。さらに、工程Ｐ１２において、図２（ａ）の帯状電極１８ａがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明導電材料を材料としてフォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。さらに、工程Ｐ１３において、配向膜１９ａがポリイミド等によって形成される。以上により、カラーフィルタ基板４ａが製造される。
本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、図１及び図２（ａ）に示したカラーフィルタ基板をインクジェット技術を用いることにより、非常に簡単に且つ経済的に製造できる。また、本実施形態の製造方法を用いれば、図２（ａ）のように、透過部に窪み３８が形成されるので、透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０は反射部における着色要素１６の膜厚Ｔｒ０よりも厚くなる。このように透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０を反射部における膜厚Ｔｒ０よりも厚くすれば、図５において反射表示時の反射光Ｆが着色要素１６を通過する光路長は短くなるので、明るい反射表示を行うことができる。また、透過表示時の透過光Ｇが着色要素１６を通過する光路長は長くなるので色の濃い透過表示を行うことができる。
（変形例）
以上の実施形態では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置を製造する場合に本発明を適用したが、本発明の方法は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置を製造する場合にも適用できる。さらに、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、電子放出素子（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）等を製造する場合にも適用できる。
以上の実施形態では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置を製造する場合に本発明を適用したが、本発明の方法は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置を製造する場合にも適用できる。さらに、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、電子放出素子（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）等を製造する場合にも適用できる。
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図１２は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。
表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。
次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図４に示した液晶装置１と同様に構成できる。
図１３は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１２２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる。
表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納される。
図１４は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１３０におけるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニット１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２は、例えば図４に示した液晶装置１を用いて構成できる。
ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。
ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。
以上の各電子機器に用いられる液晶装置では、図２（ａ）に示したように、透過部に対応して樹脂層、すなわち下地層１１に低い段差部、すなわち窪み３８が形成される。透過部にこのような窪み３８を設けたことにより、透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０は反射部における着色要素１６の膜厚Ｔｒ０よりも厚くなっている。このように透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０を反射部における膜厚Ｔｒ０よりも厚くすれば、図５において反射表示時の反射光Ｆが着色要素１６を通過する光路長は短くなるので、明るい反射表示を行うことができる。また、透過表示時の透過光Ｇが着色要素１６を通過する光路長は長くなるので色の濃い透過表示を行うことができる。このように本実施形態の電子機器によれば、電子機器に関連する情報を液晶装置によって非常に見易く表示できる。
（変形例）
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナルコンピュータ、腕時計型電子機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナルコンピュータ、腕時計型電子機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
本発明者は、図２（ａ）の透過部膜厚Ｔｔ０と反射部膜厚Ｔｒ０とを種々に変えて複数種類の液晶装置を製造し、それらの液晶装置によるカラー表示を観察した。その結果、
Ｔｔ０：Ｔｒ０＝１．３：１〜Ｔｔ０：Ｔｒ０＝５：１
の条件となるようにＴｔ０とＴｒ０の寸法を設定した場合に、反射部を使った反射表示と透過部を使った透過表示とが均一になること、すなわち反射部で明るく透過部で濃い表示を行うことができることを知見した。すなわち、透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０は、反射部における着色要素１６の膜厚Ｔｒ０の１．３倍〜５倍の範囲内に設定することが望ましい。
Ｔｔ０：Ｔｒ０＝１．３：１〜Ｔｔ０：Ｔｒ０＝５：１
の条件となるようにＴｔ０とＴｒ０の寸法を設定した場合に、反射部を使った反射表示と透過部を使った透過表示とが均一になること、すなわち反射部で明るく透過部で濃い表示を行うことができることを知見した。すなわち、透過部における着色要素１６の膜厚Ｔｔ０は、反射部における着色要素１６の膜厚Ｔｒ０の１．３倍〜５倍の範囲内に設定することが望ましい。
さらに本発明者は、着色要素１６の膜厚が異なる複数種類の液晶装置を製造し、反射表示と透過表示とが均一であるもの、すなわち反射表示が明るく、透過表示が濃い表示を行えるものを選別した。そして、その選別されたものの構造を調べたところ、透過部における着色要素１６の膜厚はＴｔ０＝１．２μｍで、反射部における着色要素１６の膜厚はＴｒ０＝０．６２μｍであることを知見した。従って、図２（ａ）の構造のカラーフィルタ基板４ａを製造する際には、着色要素１６の膜厚をそれらの値又はそれらの近傍の値に設定することが望ましい。
なお、Ｔｔ０＝１．２μｍ，Ｔｒ０＝０．６２μｍの寸法を実現するためには、図２（ｂ）において、インクジェット技術による液滴吐出およびホットプレート乾燥により、透過部における材料膜厚をＴｔ１＝３．９０μｍ、反射部における材料膜厚をＴｒ１＝２．０μｍに設定した状態を経過するように４０°Ｃ〜１２０°Ｃで５分間程度加熱してベーク処理を行うことが良い。
本発明に係るカラーフィルタ基板は、液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置にカラー表示機能を持たせるために用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器の表示部として好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器であって、特に、種々の情報を視覚的に表示できる機能を備えた電子機器として構成される。
１．液晶装置（電気光学装置）、 ２．液晶パネル、 ３．照明装置、
４ａ，４ｂ．基板、 ６．シール材、 ７．スペーサ、 ８．液晶層、
９ａ，９ｂ．基材、 １１．樹脂層（下地層）、 １２．反射膜、 １３．遮光部材、
１４．撥インク層、 １５．バンク、 １６，１６ｒ，１６ｇ，１６ｂ．着色要素、
１６’．着色要素の材料、 １７．オーバーコート層、 １８ａ．透明電極、
１８ｂ．ドット電極、 １９ａ，１９ｂ．配向膜、 ２１ａ，２１ｂ．偏光板、
２２．ライン配線、 ２３．ＴＦＤ素子、 ２４．開口、 ２６．第１金属、
２７．絶縁膜、 ２８．第２金属、 ２９．張出し部、 ３１．配線、 ３２．端子、
３３．駆動用ＩＣ、 ３６．導光体、 ３７．ＬＥＤ、 ３８．窪み（低い段差部）、
４１．インクジェットヘッド、 ４２．ケーシング、 ４３．ノズル、
４４．ノズル列、 ４６．ノズルプレート、 ４７．振動板、 ４８．仕切り部材、
４９．貯留室、 ５１．液溜り、 ５２．通路、 ５３．液状材料の供給孔、
５４．パイプ、 ５６．材料容器、 ５７．加圧体、 ５８．圧電素子、
５９ａ，５９ｂ．電極、 ６１．液滴、 １２０．携帯電話機（電子機器）、
１３０．デジタルカメラ（電子機器）、 Ｄ．表示用ドット領域、 Ｇ．セルギャップ、
Ｍ０．液状材料
４ａ，４ｂ．基板、 ６．シール材、 ７．スペーサ、 ８．液晶層、
９ａ，９ｂ．基材、 １１．樹脂層（下地層）、 １２．反射膜、 １３．遮光部材、
１４．撥インク層、 １５．バンク、 １６，１６ｒ，１６ｇ，１６ｂ．着色要素、
１６’．着色要素の材料、 １７．オーバーコート層、 １８ａ．透明電極、
１８ｂ．ドット電極、 １９ａ，１９ｂ．配向膜、 ２１ａ，２１ｂ．偏光板、
２２．ライン配線、 ２３．ＴＦＤ素子、 ２４．開口、 ２６．第１金属、
２７．絶縁膜、 ２８．第２金属、 ２９．張出し部、 ３１．配線、 ３２．端子、
３３．駆動用ＩＣ、 ３６．導光体、 ３７．ＬＥＤ、 ３８．窪み（低い段差部）、
４１．インクジェットヘッド、 ４２．ケーシング、 ４３．ノズル、
４４．ノズル列、 ４６．ノズルプレート、 ４７．振動板、 ４８．仕切り部材、
４９．貯留室、 ５１．液溜り、 ５２．通路、 ５３．液状材料の供給孔、
５４．パイプ、 ５６．材料容器、 ５７．加圧体、 ５８．圧電素子、
５９ａ，５９ｂ．電極、 ６１．液滴、 １２０．携帯電話機（電子機器）、
１３０．デジタルカメラ（電子機器）、 Ｄ．表示用ドット領域、 Ｇ．セルギャップ、
Ｍ０．液状材料
Claims (11)
- 光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板において、
透明な基材と、該基材上に形成された下地層と、該下地層上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成されたバンクと、該バンクによって囲まれた領域内に設けられた着色要素とを有し、
前記下地層は前記透過部に対応して低い段差部を有し、さらに
前記着色要素は前記透過部で厚く前記反射部で薄い
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 請求項１において、前記着色要素は前記反射部と前記透過部とで同じ材質であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項１又は請求項２において、前記バンクの表面には撥インク処理が施されるか、あるいは、前記バンクは撥インク性の樹脂によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記着色要素は液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項１から請求項４の少なくともいずれか１つにおいて、前記透過部における前記着色要素の厚さをＴｔとし、前記反射部における前記着色要素の厚さをＴｒとするとき、
Ｔｔ：Ｔｒ＝（１．３〜５）：１
であることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 光を反射する反射部と光を透過する透過部とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、
基材上に下地層を形成する工程と、
前記下地層上に反射膜を形成する工程と、
前記反射膜上にバンクを形成する工程と、
前記バンクによって囲まれた領域内に液滴吐出によって着色要素を形成する工程とを有し、
前記下地層を形成する工程では前記透過部に対応して低い段差部が形成され、前記反射膜を形成する工程では前記透過部に対応して開口が形成される
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 請求項６において、前記着色要素を形成する工程では前記透過部に対応して液滴の吐出量が多いことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
- 請求項６又は請求項７において、前記バンクを形成する工程では、当該バンクの表面に撥インク処理が施されるか、あるいは、当該バンクは撥インク性の樹脂によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
- 請求項６から請求項８の少なくともいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されたことを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項１から請求項５のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする電気光学装置。
- 請求項１０記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
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