JP2005068499A - 密着性に優れた硬質膜を備えている金属製品、同金属製品の製造方法及び同硬質膜を施した切削工具及び金型 - Google Patents
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Abstract
【課題】 金属母材との密着性を向上させた硬質膜を形成する。
【解決手段】 金属母材と窒化層間に窒素との化合物層が存在せず、該窒化層はAr、He、Ne等の不活性ガス雰囲気下でイオンボンバードメント処理され、周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を備える。
Description
これらの方法で得られる硬質膜は窒化チタン(TiN)、炭窒化チタン(TiCN)、炭化チタン(TiC)、窒化クロム(CrN)、窒化チタンアルミニウム(TiAlN)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)である。
しかし、窒化処理で生じる金属元素と窒素との化合物(ε相:Fe2〜3N)が金属母材表面に層状に形成され、または金属母材中に窒素が拡散した最表面部に波状に化合物(γ相:Fe4N)が形成され、そのまま硬質膜を被覆すると使用中に硬質膜が剥離してしまうという問題を生じた。
このようなことから、使用条件が厳しい環境では金属母材と硬質膜との密着性が十分に満足させるものとは言えなかった。
しかし、機械的に除去する方法では、多くの作業時間を費やし、物理的に除去する方法では金属表面粗さを悪化させてしまい、金属元素を含む拡散層形成する方法では、処理温度の影響等で金属母材が熱変形してしまうが問題であった。
また、金属イオンボンバードメント処理では金属イオンのイオンエッチングにより表面粗さを悪化させてしまう問題があった。
1)硬質膜を有する金属製品であって、金属製品母材に窒素が拡散浸透した窒化層を備え、該金属母材と窒化層間に窒素との化合物層が存在せず、拡散浸透した該窒化層はAr、He、Ne等の不活性ガス雰囲気下でイオンボンバードメント処理された面を備え、さらに該イオンボンバードメント処理された面に形成された、周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を備えている金属製品
2)硬質膜を有する金属製品の製造方法において、金属元素と窒素との化合物層を該母材表面に形成させずに表面から窒素を金属製品母材中に拡散浸透させて窒化層を形成し、次にこの拡散浸透した窒化層上に、Ar、He、Ne等の不活性ガスを使用したイオンボンバードメント処理を施し、さらに周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を有する金属製品の製造方法
3)硬質膜を有する金属製品の製造方法において、金属元素と窒素との化合物層を該母材表面に形成させずに表面から窒素を金属製品母材中に拡散浸透させて窒化層を形成し、次にこの拡散浸透した窒化層上に、Ar、He、Ne等の不活性ガスを使用したイオンボンバードメント処理を施し、さらに周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を施した切削工具及び金型
を、提供するものである。
NHラジカル窒化法は、NH3とH2の混合ガス雰囲気の炉内で、炉壁と処理物の間にグロー放電を発生させ、この放電により、処理ガスをプラズマ化し、活性なNH基(ラジカル)を発生させ、窒化処理を行う方法である。反応性に優れたラジカルを制御することにより効率良く窒化処理ができるとともに、低エネルギーのプラズマのため被処理物表面を荒らさない利点がある。
NHラジカル窒化の場合、NH3とH2の混合ガスを使用する。その場合、ガス比率はNH3/H2=1/4〜4/1の範囲がよいが、最適は1/4〜1/2の範囲である。また、窒化温度は300〜600°Cであるが、400〜600°Cがより適している。窒化時間は必要とされる窒化層厚さにより変えることが可能である。
一般に、イオンボンバードメントはAr、He、Ne等の不活性ガスイオンを使用する場合と、硬質膜の金属イオンを使用する場合がある。
しかし、硬質膜の金属イオンによるイオンボンバードメント処理は金属イオンの質量が不活性ガスに比べて大きく、そのため被処理物表面へのアタックが激しくなり、非常に強力で表面洗浄には効果があるが、その反面被処理物の表面粗度は著しく損傷される。
また金属イオンによるイオンボンバードメント処理時に発生する未溶解物の付着等が主原因と言われるマクロパーティクル(スプラッシュ)等の付着が表面粗さを阻害するため硬質膜は不均一となり、結果として摩耗の異常や、高精度金型等には適さない。
硬質層被膜の処理温度は200〜600°Cであるが、200〜550°Cが適している。また、イオンボンバードメント時のバイアス電圧は50〜1000Vであるが、50〜500Vが適している。
このようにして得た硬質被膜は金属イオンによるイオンボンバードメント処理時に発生する未溶解物の付着等が主原因と言われるマクロパーティクル(スプラッシュ)等の付着が無く、表面粗さを阻害することなく、母材との密着性が良好で、金型、工具等の寿命が大きく向上するという著しい特徴を有している。
イオンプレーティング法は、金属を蒸発させる手段、蒸発した金属をイオン化する手段、イオン化した金属を電界により加速する手段、および反応性ガスを導入する手段よりなり、金属の蒸発、イオン化、加速を行ない、高エネルギーをもった金属イオンを衝突させ、反応性ガスとの反応により硬質被膜を形成させる方法である。
マイクロビッカース硬度Hv800、表面粗さRa0.03μmのSKH51高速度鋼製冷間鍛造ダイスに、アンモニアガスと水素ガスの比率をNH3/H2=1/4、窒化温度500℃、窒化時間6時間としたNHラジカル窒化を施した後、Arイオンによりイオンボンバードメント処理を施し、さらにTiN(実施例1)とTiCN(実施例2)コーティングを施した。
この時のTiN、TiCN各々の膜厚さを3〜4μmであった。また、TiN膜とSKH51との密着強度はスクラッチテスターにより150N、TiCN膜とSKH51との密着強度は120Nであった。
TiNコーティング後の表面粗さはRa0.05μm、Rmax0.4μm、TiCNコーティング後の表面粗さはRa0.07μm、Rmax0.5μmであった。このようにして作製した冷間鍛造ダイスを用いて、材質SPHCφ31mmで8mm厚みの黒皮材を、外径φ31mm、内径φ26mm、長さ21mmの形状に後方押出しによる冷間鍛造を実施した。
一方、本実施例1のTiN膜では220,000個加工でTiN膜の剥離が観察された。また、本実施例2のTiCN膜では250,000個加工でTiCN膜の剥離が観察された。
本実施例1、2のTiN膜、TiCN膜ともでは27〜28倍の寿命向上となった。この実施例と比較例の結果を表1に示す。このように、本実施例1、2に示す硬質膜は、著しい寿命の向上があることが確認できた。
マイクロビッカース硬度Hv720、表面粗さRa0.02μmの冷間ダイス鋼の絞りダイスにアンモニアガスと水素ガスの比率をNH3/H2=1/4、窒化温度500°C、窒化時間6時間としてNHラジカル窒化を施した後、Arイオンによるイオンボンバードメント処理を施し、さらに膜厚4〜5μmTiN膜をコーティングした(実施例3)。
この時の表面粗さはRa0.03μm、Rmax0.4μm、TiN膜と冷間ダイス鋼とのスクラッチテスターによる密着強度は150Nであった。
この時の表面粗さはRa0.20μm、Rmax0.90μm、TiN膜と冷間ダイス鋼とのスクラッチテスターによる密着強度は50Nであった。これらの絞りダイスをSUS304の板厚2.0mmを絞り加工した。
TiN膜のままで(比較例4)は1000個加工でTiN膜の剥離が発生し、イオン窒化処理後TiNコーティングしたダイス(比較例5)は400個加工でTiN膜の剥離が発生した。しかし、本実施例3では5000個加工でTiN膜の剥離が発生した。この結果を表2に示す。
本実施例3では比較例4に比べ、5倍の寿命向上となった。
マイクロビッカース硬度Hv840のCoを添加した高速度鋼製φ5mmのドリルにアンモニアガスと水素ガスとの比率をNH3/H2=1/4、窒化温度500℃、窒化時間1時間としてNHラジカル窒化を施した後、Arイオンによるイオンボンバードメント処理を施し、さらに膜厚2〜3μmのTiN膜をコーティングした(実施例4)。
この時のスクラッチテスターによる密着強度は130Nであった。このドリルをS50C HRC24〜25に15mm袋穴加工を切削液使用して行った。この時のドリルの切削速度は40m/min、送り量は0.15mm/revとし、寿命判定はトルクセンサにより、寿命直前に一定トルクに達した時点を寿命とした。
Claims (3)
- 硬質膜を有する金属製品であって、金属製品母材に窒素が拡散浸透した窒化層を備え、該金属母材と窒化層間に窒素との化合物層が存在せず、拡散浸透した該窒化層はAr、He、Ne等の不活性ガス雰囲気下でイオンボンバードメント処理された面を備え、さらに該イオンボンバードメント処理された面に形成された、周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を備えている金属製品。
- 硬質膜を有する金属製品の製造方法において、金属元素と窒素との化合物層を該母材表面に形成させずに表面から窒素を金属製品母材中に拡散浸透させて窒化層を形成し、次にこの拡散浸透した窒化層上に、Ar、He、Ne等の不活性ガスを使用したイオンボンバードメント処理を施し、さらに周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を有する金属製品の製造方法。
- 硬質膜を有する金属製品の製造方法において、金属元素と窒素との化合物層を該母材表面に形成させずに表面から窒素を金属製品母材中に拡散浸透させて窒化層を形成し、次にこの拡散浸透した窒化層上に、Ar、He、Ne等の不活性ガスを使用したイオンボンバードメント処理を施し、さらに周期律表IVa、Va、VIa族から選ばれた少なくとも1種以上の元素の炭化物、窒化物又は炭窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜、AlXTi1−X−Y−ZMYRZ(但し、MはW若しくはMoから選択した元素の1種以上、又はW若しくはMoから選択した元素の1種以上及びSi若しくはCrから選択した元素の1種以上の元素、RはY、Ce、La、ミッシュメタル等の希土類元素から選ばれた元素から選択した1種以上の元素、0.05≦X≦0.7、0.02≦Y≦0.25、0.0005≦Z≦0.05)の窒化物の単層膜、複合膜、傾斜膜又はダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜からなることを特徴とする密着性に優れた硬質膜を施した切削工具及び金型。
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