JP2005068495A - 無電解めっき用被処理材の前処理方法及びその装置 - Google Patents

無電解めっき用被処理材の前処理方法及びその装置 Download PDF

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Abstract

【課題】樹脂よりなる被処理材に対して無電解めっきする場合において、めっき被膜の付着性を十分に向上させる。
【解決手段】樹脂よりなる被処理材4の被処理面に無電解めっき処理を施す前に被処理面を前処理する。この前処理では、オゾン水及びこのオゾン水中に分散された光触媒を含む処理水2に被処理材4を浸漬した状態で、被処理面に紫外線ランプ6から紫外線を照射する。オゾン水、光触媒及び紫外線照射の作用により、被処理材4の被処理面をきわめて効果的に化学的に活性化させることができ、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を大幅に向上させることが可能となる。紫外線を照射する際に、撹拌手段(超音波振動器1)で処理水を撹拌して処理水2中で光触媒を均一に分散させれば、光触媒の光酸化力により樹脂表面を活性化させる効果を高めることができる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前にこの被処理面を前処理する無電解めっき用被処理材の前処理方法及びその装置に関する。
熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂よりなる樹脂素材の表面を金属化処理すれば、軽量で安価な樹脂に対して、高導電性や金属光沢等の金属特性を付与することができる。このため、自動車部品、家電製品や半導体装置の回路基板などの材料として、樹脂素材の表面を金属化処理したものが広く用いられている。
樹脂素材の表面を金属化処理する方法の一つとして、生産性やコスト面で有利な無電解めっき(化学めっき)処理がある。この無電解めっき処理では、溶液中の金属イオンを化学的に還元析出させることにより、素材表面に金属被膜を形成する。このため、電力によって電解析出させる電解めっきと異なり、樹脂などの電気絶縁体にも金属被膜を形成することができる。また、こうして無電解めっきにより金属被膜が形成された樹脂素材に対してさらに電解めっきを施すこともできる。ところが、無電機めっき処理によって形成されためっき被膜は、樹脂素材に対する付着性が十分でないという問題がある。また、無電解めっきをする場合、その前処理として、主にクロム酸や過マンガン酸、硫酸等の薬品が用いられており、これらの薬品は環境汚染の原因となるため、廃液処理に膨大な処理費がかかるといった問題もある。
そこで、樹脂素材の表面に紫外線を照射した後に無電解めっきを行う方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、無電解めっきによりめっき被膜を形成する被処理面に対して、無電解めっきを行う前に、低圧水銀ランプ等を用いて50mJ/cm2 の照射量で紫外線を照射する。このような紫外線照射による前処理により、樹脂表面が活性化され、活性化された樹脂表面の極性基とめっき材料である金属粒子とが化学的に結合するので、めっき被膜の付着性が向上する。
特開平8−253869号公報
しかしながら、被処理面に紫外線を照射する従来の前処理によっても、めっき被膜の付着性を十分に向上させうるとは必ずしも言えなかった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、樹脂よりなる被処理材に対して無電解めっきする場合において、めっき被膜の付着性を十分に向上させることを解決すべき技術課題とするものである。
上記課題を解決する本発明の無電解めっき用被処理材の前処理方法は、樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前に該被処理面を前処理する無電解めっき用被処理材の前処理方法であって、オゾン水及び該オゾン水中に分散された光触媒を含む処理水を前記被処理面に接触させた状態で、該被処理面に紫外線を照射することを特徴とするものである。
この無電解めっき用被処理材の前処理方法では、オゾン水及び光触媒を含む処理水を被処理材の被処理面に接触させた状態で、この被処理面に紫外線を照射する。こうすることで、以下に示すように、オゾン水、光触媒及び紫外線照射の三者それぞれの作用や相互作用により、樹脂よりなる被処理材の被処理面をきわめて効果的に化学的に活性化させることができる。
すなわち、樹脂よりなる被処理材の被処理面に紫外線を照射すると、樹脂表面の二重結合が一重結合に変化して金属元素と結合しうる手の数が増加することにより、樹脂表面が化学的に活性化される。
また、オゾンは元々強い酸化力をもつ気体であり、水中に溶解したオゾンは反応により分解して酸化力の強い活性酸素を生成する。そして、オゾン水に紫外線が照射されることによっても、オゾン水から脱離するオゾンガス、オゾンから分解して生成する酸素や水中に存在する水酸基等がそれぞれ酸化力の強いラジカルとなる。このため、これら各種の活性酸素やラジカルにより、樹脂表面が酸化されて活性化される。
さらに、光触媒に紫外線を照射すると、光触媒反応が起こる。すなわち、紫外線が照射されてその紫外線を吸収した光触媒は励起状態となり、この光励起状態となった光触媒の上に分子が吸着すれば、その分子が活性化状態となる。例えば、光励起状態となった光触媒に水が吸着すれば酸化力の強い水酸基ラジカルが生成され、また、光励起状態となった光触媒に酸素が吸着すれば酸化力の強い酸素ラジカルが生成される。このため、オゾン水中に分散された光触媒に紫外線が照射されると、光励起状態となった光触媒に水が吸着することにより水酸基ラジカルが生成され、光励起状態となった光触媒にオゾン水中に存在する酸素が吸着することにより酸素ラジカルが生成される。このため、これら酸化力の強い水酸基ラジカルや酸素ラジカルにより、樹脂表面が酸化されて活性化される。なお、光励起状態となった光触媒の内部には電子及び正孔対が生成しており、この正孔も強い酸化力をもっているので、光励起された光触媒が樹脂表面に接すると、この光触媒中の正孔により樹脂表面が酸化される。
一方、光触媒における光触媒反応はその光触媒に接触して吸着する酸素量や水酸基量に依存すると考えられる。すなわち、酸素による光触媒反応は光触媒に接触して吸着する酸素量が多いほど高活性になり、水による光触媒反応は光触媒に接触して吸着する水酸基量が多いほど高活性になると考えられる。また、光触媒に接触する酸素や水酸基が反応性に富むラジカルであれば、光触媒反応も高活性になると考えられる。この点、本発明の前処理方法では、オゾン水中に光触媒が分散しているので、水に溶解したオゾンから分解して生成する酸素や水中の水酸基等により吸着酸素量や吸着水酸基量を十分に確保することができ、しかもオゾン水に紫外線を照射するので、これら酸素や水酸基等がラジカルとなる。したがって、光触媒における光触媒反応が高活性となり、光酸化力により樹脂表面を十分に酸化して活性化させることができる。
こうして本発明の前処理方法によれば、オゾン水、光触媒及び紫外線照射の作用により、樹脂よりなる被処理材の被処理面をきわめて効果的に化学的に活性化させることができる。したがって、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を大幅に向上させることが可能となる。
好適な態様において、前記処理水中に前記被処理材を浸漬することにより該処理水を前記被処理面に接触させ、該被処理面に前記紫外線を照射する際に、該処理水を撹拌することにより該処理水中で前記光触媒を均一に分散させる。
この態様によれば、処理水中に被処理材を浸漬することにより該処理水を被処理面に接触させるので、被処理面に接触しうるオゾン水及び光触媒の量を確保するのに有利となる。しかも、被処理面に紫外線を照射する際に、処理水を撹拌することにより処理水中で光触媒を均一に分散させるので、光触媒の光酸化力により樹脂表面を活性化させる効果を高めることができる。すなわち、処理水の撹拌により光触媒を均一に分散させれば、処理水中の光触媒、酸素や水酸基等に紫外線が均等に照射され易くなり、また紫外線が照射されて光励起状態となった光触媒に酸素や水酸基等が吸着し易くなり、しかも酸素等の吸着により高活性となった光触媒が被処理面に接触し易くなるので、光触媒による効果を高めることができる。したがって、樹脂よりなる被処理材の被処理面をより効果的に化学的に活性化させることができ、無電解めっきによるめっき被膜の付着性をより向上させることが可能となる。
好適な態様において、前記被処理材の周囲に紫外線照射手段を配設し、該被処理材と該紫外線照射手段とを相対回転させながら前記被処理面に前記紫外線を照射する。なお、被処理材と該紫外線照射手段とを相対回転させるとは、被処理材及び紫外線照射手段のうちの少なくとも一方を回転させることにより、固定された(又は回転する)一方に対して他方を回転させることを意味する。
この態様によれば、被処理材と紫外線照射手段とを相対回転させながら被処理面に紫外線を照射するので、被処理面の全てに対して均等に紫外線を照射する上で有利となる。したがって、複雑な形状の被処理材、例えば被処理面に凹凸部をもつような被処理材の場合などにおいて、被処理面の全てに均等に紫外線を照射させる上で有利となり、被処理面の全てにおいてめっき被膜の付着性を均等に向上させる上で有利となる。
上記課題を解決する本発明の無電解めっき用被処理材の前処理装置は、樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前に該被処理面を前処理するための無電解めっき用被処理材の前処理装置であって、処理水が供給される処理槽と、該処理槽内に配設され、前記被処理材を回転可能に保持する回転保持手段と、該回転保持手段に保持された該被処理材の周囲に配設され、該回転保持手段で回転された該被処理材の前記被処理面に紫外線を照射する紫外線照射手段と、該処理水を撹拌する撹拌手段とを備えていることを特徴とするものである。
この無電解めっき用被処理材の前処理装置では、処理槽内に所定の処理水を供給するとともに、この処理槽内に配設された回転保持手段に被処理材を保持させることにより、被処理材を処理水内に浸漬することができる。例えば、オゾン水及び該オゾン水中に分散された光触媒を含む処理水を処理槽内に供給するとともに回転保持手段に被処理材を保持させれば、オゾン水及び光触媒を含む処理水に被処理材を浸漬することができる。そして、回転保持手段により被処理材を回転させるとともに、撹拌手段により処理水を撹拌しながら、回転する被処理材の被処理面に紫外線照射手段から紫外線を照射することにより、処理水中で例えば光触媒を均一に分散させながら被処理材の被処理面に対して均等に紫外線を照射することができる。したがって、樹脂よりなる被処理材の被処理面を効果的にかつ均等に活性化させることができ、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を効果的にかつ均等に向上させることが可能となる。
好適な態様において、前記回転保持手段は、前記処理槽内で略垂直方向に延設され、自己の軸心回りに回転可能となるように支持された支持棒と、該支持棒から略水平方向に延設されるとともに自己の軸心回りに回転可能となるように該支持棒に支持され、前記被処理材を保持可能な保持具を有する保持部材と、該支持棒を回転駆動させる第1駆動手段と、該保持部材を回転駆動させる第2駆動手段とを備えている。
この態様によれば、第1駆動手段を作動させて支持棒を回転させるとともに、第2駆動手段を作動させて保持部材と共にこの保持部材に保持された被処理材を回転させることにより、被処理材は支持棒回りに回転するとともに、この支持棒から略水平方向に延びる保持部材回りにも回転するので、被処理材は略直交する2つの回転軸回りに回転することになる。このため、被処理面の全てに対してより均等に紫外線を照射する上で有利となる。したがって、複雑な形状の被処理材の場合などにおいて、被処理面の全てにより均等に紫外線を照射させる上で有利となり、被処理面の全てにおいてめっき被膜の付着性をより均等に向上させる上で有利となる。
すなわち、本発明の無電解めっき用被処理材の前処理方法によれば、オゾン水、光触媒及び紫外線照射の作用により、樹脂よりなる被処理材の被処理面をきわめて効果的に化学的に活性化させることができ、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を大幅に向上させることが可能となる。
また、紫外線を照射する際に、被処理材を浸漬した処理水を撹拌することにより光触媒を均一に分散させれば、光触媒による効果を高めることができるので、めっき被膜の付着性をより向上させることが可能となる。
さらに、被処理材とこの被処理材の周囲に配設された紫外線照射手段とを相対回転させながら紫外線を照射すれば、被処理面の全てに対して均等に紫外線を照射する上で有利となるので、複雑な形状の被処理材であってもめっき被膜の付着性を均等に向上させることができる。
一方、本発明の無電解めっき用被処理材の前処理装置によれば、撹拌手段により処理水を撹拌して光触媒を均一に分散させながら、回転保持手段により回転する被処理材の被処理面に紫外線照射手段から紫外線を均等に照射することができるので、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を効果的にかつ均等に向上させることが可能となる。
本発明の無電解めっき用被処理材の前処理方法は、樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前に該被処理面を前処理するもので、オゾン水及び該オゾン水中に分散された光触媒を含む処理水を被処理面に接触させた状態で、該被処理面に紫外線を照射する。
上記被処理材の樹脂の種類としては特に限定されず、PE(ポリエチレン)、PP(ポリプロピレン)、PS(ポリスチレン)、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレンポリマー)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、PA(ポリアミド)、POM(ポリオキシメチレン(ポリアセタール))、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、LCP(液晶ポリマー)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、PI(ポリイミド)、PEI(ポリエーテルイミド)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、さらに熱硬化性のエポキシ樹脂やフェノール樹脂等を、単独で又は二種以上の混合物として使用することができる。
この被処理材の形状も特に限定されず、板状やフィルム状としたり、製品形状に応じた種々の形状としたりすることができる。
上記処理水はオゾン水及び該オゾン水中に分散された光触媒を含むものである。
上記オゾン水におけるオゾン濃度は、特に限定されるものではなく、適宜設定可能である。オゾンやオゾンから分解して生成する活性酸素等による酸化力を十分に発揮させる観点より、オゾン濃度の下限は100ppmとすることが好ましく、120ppmとすることがより好ましい。一方、オゾン濃度の上限は、樹脂の劣化状態の観点より、150ppmとすることが好ましい。 オゾン水及び光触媒を含む処理水を被処理材の被処理面に接触させるには、該被処理面を該処理水で濡らした状態とすればよいのだが、被処理面に対する光触媒及びオゾン水の接触量を十分に確保すべく、該処理水の中に被処理材を浸漬することが望ましい。
上記光触媒は、紫外線を受けることで触媒機能を発揮することにより、樹脂表面を酸化して活性化させる。この光触媒としては、例えば、アナターゼ型酸化チタン。酸化ルテニウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の単独及び混合物が挙げられる。中でも、アナターゼ型酸化チタンは、光酸化力が強いので、好ましい。また、光触媒は、金属を担持した状態で存在してもよく、この金属としては白金、銀や金等の白金族金属が望ましい。例えば、白金を担持した二酸化チタン(Pt/TiO2 )は酸化力が非常に強く、好適に用いることができる。光触媒の形状や大きさは特に限定されるものではないが、処理水中での光触媒の分散性や酸素等の吸着のし易さ等を向上させる観点より、所定粒径の粉末状のものを用いることが望ましい。取扱い容易性や処理水中での光触媒の分散性を向上させる観点より、光触媒粉末の粒径の下限は0.01μmとすることが好ましく、0.1μmとすることがより好ましい。一方、光励起状態となった光触媒に対する酸素等の吸着のし易さを向上させて光触媒反応の効率を高める観点より、光触媒粉末の粒径の上限は1000μmとすることが好ましく、5μmとすることがより好ましい。
上記処理水中における光触媒の濃度は、特に限定されるものではなく、適宜設定可能である。光触媒による触媒機能を十分に発揮させる観点より、処理水中における光触媒濃度の下限は0.001g/Lとすることが好ましく、0.01g/Lとすることがより好ましく、0.1g/Lとすることがさらに好ましい。一方、処理水中における光触媒濃度の上限は、費用と分散性の観点より、5g/Lとすることが好ましく、1g/Lとすることがより好ましく、0.5g/L(特に0.3g/L)とすることがさらに好ましい。
被処理材の被処理面に対する紫外線の照射は、上記光触媒を励起するのに適する波長領域(4〜400nm程度、好ましくは340〜380nm程度)の紫外線を含むような光を発する光源を用いて行うことができる。このような光源としては、紫外線ランプ、キセノンランプや水銀灯等を好適に用いることができる。なお、紫外線の照射強度は50W/cm2 以上とすることが好ましく、100W/cm2 以上とすることがより好ましい。また、100W/cm2 の照射強度なら、2分以上照射することが好ましい。
ここに、オゾン水及び光触媒を含む処理水の中に被処理材を浸漬することにより、該被処理材の被処理面に処理水を接触させる場合、被処理面に紫外線を照射する際に、処理水を撹拌することにより該処理水中で光触媒を均一に分散させることが望ましい。このとき処理水を撹拌する手段としては特に限定されないが、撹拌棒や超音波振動器などを用いることができる。
また、被処理材の被処理面に紫外線を照射する際、被処理材の周囲に紫外線照射手段を配設し、被処理材及び紫外線照射手段のうちのどちらか一方を回転させることにより、該被処理材と該紫外線照射手段とを相対回転させながら被処理面に紫外線を照射することが望ましい。なお、被処理材及び紫外線照射手段の双方を回転させてもよい。このような紫外線の照射は後述する前処理装置を用いて好適に行うことができる。
本発明の無電解めっき用被処理材の前処理装置は、処理水が供給される処理槽と、該処理槽内に配設され、前記被処理材を回転可能に保持する回転保持手段と、該回転保持手段に保持された該被処理材の周囲に配設され、該回転保持手段で回転された該被処理材の前記被処理面に紫外線を照射する紫外線照射手段と、該処理水を撹拌する撹拌手段とを備えている。
上記回転保持手段としては、被処理材を回転可能に保持することができるものであれば特に限定されないが、好適には以下の態様とすることができる。すなわち、回転保持手段は、処理槽内で略垂直方向に延設され、自己の軸心回りに回転可能となるように支持された支持棒と、該支持棒から略水平方向に延設されるとともに自己の軸心回りに回転可能となるように該支持棒に支持され、被処理材を保持可能な保持具を有する保持部材と、該支持棒を回転駆動させる第1駆動手段と、該保持部材を回転駆動させる第2駆動手段とを備えたものとすることが好ましい。
上記紫外線照射手段としては、前述のとおり紫外線ランプ、キセノンランプや水銀灯等を好適に用いることができる。
こうして樹脂よりなる被処理材の被処理面を前処理した後は、従来と同様の無電解めっき処理を施すことにより、該被処理面に対して強固に付着した無電解めっき被膜を形成することができる。また、この無電解めっき被膜の上にさらに電解めっき処理を施して電解めっき被膜を形成すれば、被処理面に対して強固に付着した電解めっき被膜を形成することができる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ具体的に説明する。
本実施例に係る無電解めっき用被処理材の前処理装置は、図1に示されるように、撹拌手段としての超音波振動器1と、この超音波振動器1の上に設置され、処理水2が供給される処理槽3と、この処理槽3内に配設され、被処理材4を回転可能に保持する回転保持手段5と、処理槽3内であって、回転保持手段5に保持された被処理材4の周囲に配設され、回転保持手段5で回転される被処理材4の被処理面に紫外線を照射する紫外線照射手段としての4個の紫外線ランプ6とから構成されている。なお、回転保持手段5は処理槽3の略中央に配設されており、この回転保持手段5の周りを囲むように4個の紫外線ランプ6が周方向に等間隔で処理槽3内に配設されている。
上記回転保持手段5は、図2に示されるように、処理槽3内で略垂直方向に延設され、自己の軸心回りに回転可能となるように支持された支持棒7と、この支持棒7から略水平方向に延設されるとともに自己の軸心回りに回転可能となるように支持棒7に支持された挟み柄8、及び挟み柄8の先端に固定され、被処理材を上下に挟むようにして保持可能な挟み保持具9を有する保持部材10と、支持棒7を回転駆動させる第1駆動手段としての第1モータ11と、保持部材10を回転駆動させる第2駆動手段としての第2モータ12とを備えている。
上記支持棒7は、中心孔7aをもつ樹脂製の管状部材で、処理槽3に対して所定位置に固定保持される基板13の中心穴13a内にベアリング14を介して回動可能に支承されている。この支持棒7の中心孔7aの上端には、第1モータ11の駆動軸11aが相対回転不能に嵌挿、固定されている。なお、駆動軸11aの先端付近には遠心方向に突出する係合突部11bが突設されており、この係合突部11bが支持棒7の側壁に設けられた係合孔に嵌合することにより、駆動軸11aと支持棒7との相対回転が規制されている。こうして、支持棒7は、処理槽3内で略垂直方向に延設されるとともに、第1モータ11により自己の軸心回りに回転可能となされている。
上記支持棒7の上方部の外周面には樹脂製のリング部材15が固定されており、このリング部材15及び支持棒7の側壁には貫孔16が貫設されている。そして、リング部材15の外周面には、摺動接点を構成する円筒状金属板17が固定されており、この円筒状金属板17の内面には、貫孔16内を貫通して支持棒7の中心孔7a内に先端が達する金属棒17aが一体的に設けられている。円筒状金属板17の外周面には、第2モータ12に電流を供給するための第1電線18の先端が常時摺接可能となるように配設されており、また、金属棒17aの先端には、第2モータ12に一端が接続された第2電線19の他端が接続されている。
上記支持棒7の下方部の側壁には、第1取り付け穴7b及び第2取り付け穴7cが貫設されている。そして、第1取り付け穴7b内に上記第2モータ12が配設、固定されている。また、第2取り付け穴7c内にはベアリング20を介して上記挟み柄8が回動可能に支承されている。この挟み柄8は、中心孔8aをもつ金属製の管状部材で、この中心孔8aの基端には第2モータ12の駆動軸12aが相対回転不能に嵌挿、固定されている。なお、駆動軸12aの先端付近には遠心方向に突出する係合突部12bが突設されており、この係合突部12bが挟み柄8の側壁に設けられた係合孔に嵌合することにより、駆動軸12aと挟み柄8との相対回転が規制されている。また、第1取り付け穴7b及びこの第1取り付け穴7b内に配設、固定された第2モータ12並びに第2取り付け穴7c及びこの第2取り付け穴7c内に配設されたベアリング20等は、樹脂製のカバー部材21及びゴム製のシール部材22により液密的に覆われている。また、挟み柄8の外周面はゴム製の絶縁材23により覆われている。なお、挟み柄8の外周面を絶縁材23で覆うのはモータ駆動用の電気が誤って挟み柄8からもれたり、処理槽3中で挟み柄8が腐食しないようにするためである。そして、挟み柄8の先端には、被処理材4を上下から挟むようにして保持可能なステンレス製の挟み保持具9が図示しない固定手段(ボルト等)により固定されている。こうして、挟み柄8及び挟み保持具9よりなる保持部材10は、挟み保持具9に被処理材4を保持した状態で、第2モータ12により、支持棒7から略水平方向に延設された挟み柄8の軸心回りに回転可能となされている。
したがって、挟み保持具9に保持された被処理材4は、支持棒7の軸心回りに回転可能となされるとともに、支持棒7から略水平方向に延設された挟み柄8の軸心回りにも回転可能となされている。
上記構成を有する本実施例に係る無電解めっき用被処理材の前処理装置では、処理槽3内に所定の処理水2を供給するとともに、この処理槽3内に配設された回転保持手段5に被処理材4を保持させることにより、被処理材4を処理水2内に浸漬することができる。したがって、処理水2として、オゾン水及びこのオゾン水中に分散された光触媒よりなるものを採用すれば、このような処理水2に被処理材4を浸漬することができる。そして、回転保持手段5により被処理材4を回転させるとともに、超音波振動器1により処理水2を撹拌しながら、回転する被処理材4の被処理面に各紫外線ランプ6から紫外線を照射することにより、処理水2中で光触媒を均一に分散させながら被処理材4の被処理面に対して均等に紫外線を照射することができる。したがって、樹脂よりなる被処理材4の被処理面を効果的にかつ均等に活性化させることができ、無電解めっきによるめっき被膜の付着性を効果的にかつ均等に向上させることが可能となる。
また、上記回転保持手段5は、処理槽3内で略垂直方向に延設され、自己の軸心回りに回転可能となるように支持された支持棒7と、この支持棒7から略水平方向に延設されるとともに自己の軸心回りに回転可能となるように支持棒7に支持された挟み柄8、及びこの挟み柄8の先端に固定され被処理材4を上下に挟むようにして保持可能な挟み保持具9を有する保持部材10と、支持棒7を回転駆動させる第1モータ11と、保持部材10の挟み柄8を回転駆動させる第2モータ12とを有している。このため、第1モータ11を作動させて支持棒7を回転させるとともに、第2モータ12を作動させて保持部材10の挟み柄8と共にこの保持部材10の挟み保持具9に保持された被処理材4を回転させることにより、被処理材4は支持棒7回りに回転するとともに、この支持棒7から略水平方向に延びる保持部材10の挟み柄8回りにも回転するので、被処理材4は略直交する2つの回転軸回りに回転することになる。このため、被処理材4の被処理面の全てに対してより均等に紫外線を照射する上で有利となる。したがって、被処理材4の形状が複雑な場合などにおいて、被処理面の全てにより均等に紫外線を照射させる上で有利となり、被処理面の全てにおいてめっき被膜の付着性をより均等に向上させる上で有利となる。
なお、上述の実施例では、紫外線ランプ6を処理槽3内に配設した例について説明したが、紫外線ランプ6を処理槽3の周りに配設して、処理槽3の外部から紫外線を照射してもよい。この場合、処理槽3を紫外線が透過しうるように、処理槽3として、紫外線が透過しやすい透明容器を採用することが望ましい。
(実施例1)
上記構成の本実施例に係る無電解めっき用被処理材の前処理装置を用いて、以下に示す無電解めっき用被処理材の前処理方法を実施した。
<浸漬工程(接触工程)>
まず、処理水2として、オゾン濃度が100ppmのオゾン水と、このオゾン水中に0.05g/Lの濃度で分散された光触媒とからなるものを準備した。そして、この処理水2を上記処理槽3内に供給した。なお、光触媒としては、アナターゼ型の二酸化チタン粉末(平均粒径:1.0μm)を用いた。一方、被処理材4として、ABSよりなる樹脂板を準備した。
そして、被処理材4を上記挟み保持具9に保持させた状態で、上記回転保持手段5を処理槽3内に挿入し、被処理材4を処理水2中に浸漬した。
<紫外線照射工程>
次に、上記超音波振動器1を作動させて処理水2を撹拌することにより、処理水2中で光触媒を均一に分散させた。また、上記第1及び第2モータ11及び12を作動させ、挟み保持具9に保持された被処理材4を支持棒7の軸心回りの回転させるとともに挟み柄8の軸心回りにも回転させた。
そして、超音波振動器1により処理水2を撹拌するとともに、第1及び第2モータ11及び12により被処理材4を回転させながら、各紫外線照射ランプ6から被処理材4に紫外線を照射した。このときの紫外線照射条件は、波長365nm、照射強度100W/cm2 、照射時間5分とした。
こうして被処理材4の被処理面に無電解めっきの前処理を施した。
<無電解めっき処理>
その後、上記前処理が施された被処理材4の被処理面に対して、無電解めっき処理を施し、0.5μm厚さの無電解めっき被膜を形成した。
さらに、硫酸銅系Cu電気メッキ浴にて無電解めっき被膜の表面に銅めっきを100μm析出させた。
(比較例1)
処理槽3内に供給する処理水として、オゾン濃度が100ppmのオゾン水のみからなるものを用いること以外は、上記実施例と同様の前処理(浸漬工程及び紫外線照射工程)並び無電解めっき処理及び銅めっき処理を実施して、被処理材4の被処理面に無電解めっき被膜及び銅めっき被膜を形成した。
(評価1)
上記実施例及び比較例で形成された無電解めっき被膜について、引張り試験機を用いてピール剥離試験をすることにより、被処理面に対する付着強度を測定した。
その結果、比較例に係る無電解めっき被膜の付着強度が12N/cmであったのに対し、本実施例に係る無電解めっき被膜の付着強度は15N/cmに向上していた。
したがって、オゾン水に浸漬された被処理材4に紫外線を照射する前処理において、該オゾン水に光触媒を分散させることにより、無電解めっき被膜の付着強度を格段と向上させうることが確認できた。
(実施例2)
被処理材4としてABS樹脂から成形された自動車用エンブレムを採用し、このエンブレムの表側(凹凸意匠面)が外周を向くように挟み保持具9に保持させたこと以外は、前記実施例1と同様である。
(比較例2)
被処理材4としてABS樹脂から成形された自動車用エンブレムを採用し、このエンブレムの表側(凹凸意匠面)が外周を向くように挟み保持具9に保持させるとともに、前記紫外線照射工程で、前記第1及び第2モータ11及び12を作動させることなく、被処理材4を回転させないで紫外線を照射すること以外は、前記実施例1と同様である。
(評価2)
比較例2では、エンブレムの凹凸意匠面に無電解めっき被膜が形成されていない部分があったのに対し、実施例2では、凹凸意匠面の全面に確実に無電解めっき被膜が高い付着強度で形成されていた。
本実施例に係る無電解めっき用被処理材の前処理装置の全体構成を一部省略して示す斜視図である。 本実施例に係る無電解めっき用被処理材の前処理装置の回転保持手段を示す断面図である。
符号の説明
1…超音波振動器(撹拌手段)
2…処理水
3…処理槽
4…被処理材
5…回転保持手段
6…紫外線ランプ(紫外線照射手段)
7…支持棒
8…挟み柄
9…挟み保持具
10…保持部材
11…第1モータ(第1駆動手段)
12…第2モータ(第2駆動手段)

Claims (5)

  1. 樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前に該被処理面を前処理する無電解めっき用被処理材の前処理方法であって、
    オゾン水及び該オゾン水中に分散された光触媒を含む処理水を前記被処理面に接触させた状態で、該被処理面に紫外線を照射することを特徴とする無電解めっき用被処理材の前処理方法。
  2. 前記処理水中に前記被処理材を浸漬することにより該処理水を前記被処理面に接触させ、該被処理面に前記紫外線を照射する際に、該処理水を撹拌することにより該処理水中で前記光触媒を均一に分散させることを特徴とする請求項1記載の無電解めっき用被処理材の前処理方法。
  3. 前記被処理材の周囲に紫外線照射手段を配設し、該被処理材と該紫外線照射手段とを相対回転させながら前記被処理面に前記紫外線を照射することを特徴とする請求項1又は2記載の無電解めっき用被処理材の前処理方法。
  4. 樹脂よりなる被処理材の被処理面に無電解めっき処理を施す前に該被処理面を前処理するための無電解めっき用被処理材の前処理装置であって、
    処理水が供給される処理槽と、該処理槽内に配設され、前記被処理材を回転可能に保持する回転保持手段と、該回転保持手段に保持された該被処理材の周囲に配設され、該回転保持手段で回転された該被処理材の前記被処理面に紫外線を照射する紫外線照射手段と、該処理水を撹拌する撹拌手段とを備えていることを特徴とする無電解めっき用被処理材の前処理装置。
  5. 前記回転保持手段は、前記処理槽内で略垂直方向に延設され、自己の軸心回りに回転可能となるように支持された支持棒と、該支持棒から略水平方向に延設されるとともに自己の軸心回りに回転可能となるように該支持棒に支持され、前記被処理材を保持可能な保持具を有する保持部材と、該支持棒を回転駆動させる第1駆動手段と、該保持部材を回転駆動させる第2駆動手段とを備えていることを特徴とする請求項4記載の無電解めっき用被処理材の前処理装置。
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JP2010095736A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Kurita Water Ind Ltd 固体有機物表面の酸化装置
JP2010095737A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Kurita Water Ind Ltd 固体有機物表面の酸化装置
JP2012162765A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Kanto Gakuin 無電解めっき方法及び金属張積層板の製造方法
JP2018101798A (ja) * 2018-02-13 2018-06-28 株式会社ニコン 湿式処理方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100770048B1 (ko) 2006-02-20 2007-10-26 세종대학교산학협력단 무전해 도금을 위한 에칭 방법
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JP2010095737A (ja) * 2008-10-14 2010-04-30 Kurita Water Ind Ltd 固体有機物表面の酸化装置
JP2012162765A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Kanto Gakuin 無電解めっき方法及び金属張積層板の製造方法
JP2018101798A (ja) * 2018-02-13 2018-06-28 株式会社ニコン 湿式処理方法

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