JP2005057147A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコン基板11上にシリコン酸化膜12,13を形成する工程と、このシリコン酸化膜12,13をシリコン基板11が露出するまで選択エッチングする工程と、露出したシリコン基板11上にシリコンゲルマニウム膜15,16をエピタキシャル成長する工程を有する。そして、選択エッチングで残ったシリコン酸化膜12,13を素子分離領域とし、シリコンゲルマニウム膜15,16をアクティブ領域とする。
【選択図】 図1
Description
図1は本発明の実施の形態1における半導体装置の製造方法を示す断面図である。まず、図1(a)に示すように、熱酸化法によりシリコン基板11上にシリコン酸化膜12を形成し、その上にCVD法を用いてシリコン酸化膜13を形成する。シリコン酸化膜12,13の膜厚の合計は、所望の素子分離領域の深さにし、ここでは200〜400nm程度とする。具体的には、130nmプロセスの場合は280nm、65nmプロセスの場合は250nmとする。なお、シリコン酸化膜13を形成せず、シリコン酸化膜12だけでもよい。
図2は本発明の実施の形態2における半導体装置の製造方法を示す断面図である。図1と同様の構成要素には同じ番号を付し、説明を省略する。まず、図1(a)と同様に、熱酸化法によりシリコン基板11の上にシリコン酸化膜12を形成し、その上にCVD法を用いてシリコン酸化膜13を形成する。さらに、図3(a)に示すように、シリコン酸化膜13上にCVD法によりシリコン窒化膜31を形成する。なお、シリコン酸化膜13を形成せず、シリコン酸化膜12上に直接シリコン窒化膜31を形成してもよい。
12 シリコン酸化膜
13 シリコン酸化膜
15 シリコンゲルマニウム膜
16 シリコンゲルマニウム膜
Claims (3)
- シリコン基板上にシリコン酸化膜を形成する工程と、
このシリコン酸化膜を前記シリコン基板が露出するまで選択エッチングする工程と、
前記露出したシリコン基板上にシリコンゲルマニウム膜をエピタキシャル成長する工程とを有し、
前記選択エッチングで残ったシリコン酸化膜を素子分離領域とし、
前記シリコンゲルマニウム膜をアクティブ領域とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記シリコンゲルマニウム膜をエピタキシャル成長する工程において、前記シリコンゲルマニウム膜中のゲルマニウムのコンセントレーションを段階的に変えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シリコンゲルマニウム膜をエピタキシャル成長する工程において、前記シリコンゲルマニウム膜を膜厚230〜270nm成長することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007227421A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US7470603B2 (en) | 2006-07-12 | 2008-12-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of fabricating semiconductor devices having laser-formed single crystalline active structures |
US7851327B2 (en) | 2007-12-18 | 2010-12-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device including forming a single-crystalline semiconductor material in a first area and forming a second device isolation pattern on a second area |
-
2003
- 2003-08-07 JP JP2003288375A patent/JP2005057147A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007227421A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US7470603B2 (en) | 2006-07-12 | 2008-12-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of fabricating semiconductor devices having laser-formed single crystalline active structures |
US7851327B2 (en) | 2007-12-18 | 2010-12-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device including forming a single-crystalline semiconductor material in a first area and forming a second device isolation pattern on a second area |
US8350336B2 (en) | 2007-12-18 | 2013-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
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