JP2005050897A - フロントエンドモジュール - Google Patents
フロントエンドモジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005050897A JP2005050897A JP2003203597A JP2003203597A JP2005050897A JP 2005050897 A JP2005050897 A JP 2005050897A JP 2003203597 A JP2003203597 A JP 2003203597A JP 2003203597 A JP2003203597 A JP 2003203597A JP 2005050897 A JP2005050897 A JP 2005050897A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- end module
- module
- internal space
- external device
- load lock
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】フロントエンドモジュール10は、壁部12と、内部空間14と、第1乃至第4の接続用開口部1602、1604、1606、1608と、搬送手段18とを備えている。壁部12には、外部装置としての2つのロードポートモジュール20および1つのロードロックモジュール22が取り付けられ、ロードロックモジュール22には処理装置24が接続されている。第1乃至第4の接続用開口部1602、1604、1606、1608は同形同大の矩形状をなすように構成されているので、外部装置の数やこれら外部装置のレイアウトに応じて個別に設計や製造を行なう必要が無く、外部装置のレイアウトを変更する際にフロントエンドモジュールを改造したり、新たに製作し直す必要が無い。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フロントエンドモジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造工程においては、半導体ウェハ(基板)は塵埃の付着を防ぐためにFOUPと呼ばれる気密容器であるウェハカセットに収容された状態で搬送される。このようなFOUPと、半導体ウェハに所定の処理を行なう処理装置との間で半導体ウェハを双方向に移送する装置としてフロントエンドモジュールが提供されている(例えば特許文献1参照)。
フロントエンドモジュールには、前記FOUPが載置され該FOUP内のウェハをフロントエンドモジュール内部に取り込むように構成されたロードポートモジュールが取り付けられている。
また、フロントエンドモジュールには、前記処理装置とフロントエンドモジュールの間で半導体ウェハを移送するロードロックモジュールが取り付けられている。
【0003】
【特許文献1】
特開2001−23872号公報(図1)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来のフロントエンドモジュールは、それに取り付けられるロードポートモジュールやロードロックモジュールなどの外部装置の数やこれら外部装置のレイアウトに応じて個別に設計や製造を行なわなくてならず、コストダウンを図る上で不利であった。
また、いったん完成したフロントエンドモジュールにおいて前記外部装置のレイアウトを変更する際には、フロントエンドモジュールを改造したり、新たに製作し直したりしなくてはならず、レイアウト変更が困難であった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされ、その目的とするところは、コストダウンを図りつつ外部装置のレイアウト変更が容易なフロントエンドモジュールを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の布団とエンドモジュールは前記目的を達成するために、壁部によって区画された内部空間と、前記壁部に設けられ外部装置が接続される複数の接続用開口部と、前記内部空間に配設され前記接続用開口部に接続された外部装置との間で部材の搬送を行なう搬送手段とを備えたフロントエンドモジュールにおいて、前記複数の接続用開口部の寸法および形状が全て同一となるように構成されていることを特徴とする。
そのため、複数の接続用開口部の寸法および形状が全て同一となるように構成されているので、外部装置の数やこれら外部装置のレイアウトに応じて個別に設計や製造を行なう必要が無く、外部装置のレイアウトを変更する際にフロントエンドモジュールを改造したり、新たに製作し直す必要が無い。
【0006】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1は本発明の実施の形態の第1のレイアウト例におけるフロントエンドモジュールを斜め前方から見た斜視図、図2は図1のフロントエンドモジュールを斜め後方から見た斜視図、図3は図1の平面図、図4は図1のフロントエンドモジュール単体を斜め後方から見た斜視図である。
【0007】
図1乃至図4に示すように、フロントエンドモジュール10は、壁部12と、内部空間14と、第1乃至第4の接続用開口部1602、1604、1606、1608と、搬送手段18とを備えている。
壁部12には、外部装置としての2つのロードポートモジュール20および1つのロードロックモジュール22が取り付けられ、ロードロックモジュール22には処理装置24が接続されている。
壁部12は、直方体状に形成され、上下方向の下方に位置した矩形状の底壁1202と、底壁1202の前辺から起立された矩形状の前壁1204と、底壁1202の後辺から起立された矩形状の後壁1206と、底壁1202の左辺から起立された矩形状の左側壁1208と、底壁1202の右辺から起立された矩形状の右側壁壁1210と、これら底壁1202、前壁1204、後壁1206、左側壁1208、右側壁壁1210の上部を接続する上壁1212とから構成されている。左側壁1208にはフロントエンドモジュール10の内部空間14に人が入るためのメンテナンス用扉1201が設けられている。
内部空間14は、壁部12によって区画され、壁部12の外部に対して密閉された状態で内部空間14に清浄な空気が供給されることにより、内部空間14がほぼ大気圧状態となった状態で局所的清浄環境(ミニエンバイロメント)となるように構成されている。
搬送手段18は、内部空間14に配設され、部材としての半導体ウェハ(半導体基盤)を搬送する搬送ロボットで構成されている。
図4に示すように、第1、第2の接続用開口部1602、1604は前壁1204の左右の半部のそれぞれに設けられ、第3、第4の接続用開口部1606、1608は後壁1206の左右の半部のそれぞれに設けられ、これら第1乃至第4の接続用開口部1602、1604、1606、1608は、上下方向に長手方向を有する同形同大の矩形状をなすように構成されている。
【0008】
2つのロードポートモジュール20は、それぞれ閉塞板1702を介して第1、第2の接続用開口部1602、1604に接続されている。
閉塞板1702は、第1乃至第4の接続用開口部1602、1604、1606、1608の輪郭よりも大きな外形を有する板部材によって構成され、第1、第2の接続用開口部1602、1604を閉塞するように前壁1204に取着されている。
各閉塞板1702の上寄りの箇所には矩形状の搬送用開口部1704が形成されており、該搬送用開口部1704を介して、ロードポートモジュール20に載置された収容装置としてのFOUP26と搬送手段18との間で半導体ウェハの搬送ができるように構成されている。
FOUP26は、その内部空間に半導体ウェハを収容した状態で該内部空間を外部に対して密閉するように構成された容器であり、前記半導体ウェハWを出し入れするための不図示の開口部と該開口部を開閉する不図示の扉が設けられている。また、FOUP26は、一般的に口径300mmの半導体ウェハを収容するように構成されている。
ロードポートモジュール20には、FOUP26が載置されるプラットホーム2002と、搬送用開口部1704を開閉する不図示の搬送用開閉扉が設けられている。
プラットホーム2002上にFOUP26が載置されると、FOUP26の開口部と搬送用開口部1704が連結されるとともに、FOUP26の扉に前記搬送用開閉扉が連結されるように構成されている。
そして、前記開閉扉がFOUP26の扉とともに開放されることにより、FOUP26の内部空間とフロントエンドモジュール10の内部空間14が外部空間2に対して密閉された状態で連通されるようになっている。
【0009】
ロードロックモジュール22は、閉塞板1702を介して第3の接続用開口部1606に接続されている。
閉塞板1702は、第3の接続用開口部1606を閉塞するように後壁1206に取着されている。
各閉塞板1702の上下方向の中間箇所には左右方向に延在する矩形状の搬送用開口部1706が形成されており、該搬送用開口部1706を介して、ロードロックモジュール22と搬送手段18との間で半導体ウェハの搬送ができるように構成されている。
ロードロックモジュール22は、本例では、その内部空間2202に半導体ウェハを処理装置24と搬送手段18との間で搬送するウェハ搬送機構2204が配設されている。
また、ロードロックモジュール22は、搬送用開口部1706を開閉する不図示の第1の扉と、処理装置24と連通する不図示の処理装置用開口部を開閉する第2の扉とを有している。そして、第1、第2の扉を閉塞することにより内部空間2202を外部に対して密閉した状態で、内部空間2202を真空状態あるいは大気圧状態の双方に切り換えることができるように構成されている。なお、ロードロックモジュール22における内部空間2202の気圧を切り換える構成は周知なものであるため詳細な説明は省略する。
【0010】
処理装置24は、前記処理装置用開口部を介してロードロックモジュール22と連通する内部空間2402を有し、該内部空間2402には、半導体ウェハに対する種々の処理、例えば微細加工、膜付けなどを行なうための手段が設けられている。処理装置24は、ロードロックモジュール22の前記ウェハ搬送機構から受け取った半導体ウェハに前記処理を行ない、該処理が終了した半導体ウェハを前記ウェハ搬送機構に渡すように構成されている。
また、処理装置24は、その内部空間を外部に対して密閉した状態で常時真空状態を保つように構成されている。
【0011】
第4の接続用開口部1606は、後壁1206に取着された閉塞板1702によって閉塞されており、本例では、第4の接続用開口部1606を閉塞する閉塞板1702に外部装置は設けられていない。
【0012】
次に上述のように構成されたフロントエンドモジュール10の動作について説明する。
まず、2つのFOUP26が用意される。一方のFOUP26は処理前の半導体ウェハが収容された状態となっており、他方のFOUP26は処理後の半導体ウェハを収容するため空の状態となっている。
これら2つのFOUP26が2つのロードポートモジュール20のプラットホーム2002上にそれぞれ載置されると、各FOUP26の開口部と搬送用開口部1704が連結されるとともに、FOUP26の扉に前記搬送用開閉扉が連結され、前記搬送用開閉扉がFOUP26の扉とともに開放されることにより、FOUP26の内部空間とフロントエンドモジュール10の内部空間14が連通される。
ここで、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が開放され、かつ、第2の扉が閉塞された状態となっている。
したがって、FOUP26の内部空間と、フロントエンドモジュール14の内部空間14と、ロードロックモジュール22の内部空間2202とは、互いに連通した状態で外部とは密閉されており、かつ、ほぼ大気圧状態となっている。
【0013】
そして、搬送手段18によって一方のFOUP26内の半導体ウェハWが搬送用開口部1704を介して取出され、フロントエンドモジュール10の内部空間14を通り、搬送用開口部1706を介してロードロックモジュール22の搬送機構2204に受け渡される。
次いで、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が閉塞され、かつ、第2の扉が閉塞された状態となり、ここで、ロードロックモジュール22の内部空間2202が大気圧状態から真空状態に切り換えられる。
そして、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が閉塞され、かつ、第2の扉が開放された状態となり、これにより、ロードロックモジュール22の内部空間2202と処理装置24の内部空間2402とは、互いに連通した状態で外部とは密閉されており、かつ、真空状態となっている。
この状態で、半導体ウェハWは搬送機構2202により、ロードロックモジュール22の内部空間2202から処理装置24に搬送される。
【0014】
次いで、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が閉塞され、かつ、第2の扉が閉塞された状態となり、処理装置24によって半導体ウェハWに対して所定の処理が行なわれる。
前記所定の処理が終了すると、ロードロックモジュール22の前記第2の扉が開放され、半導体ウェハWは搬送機構2202により、処理装置24からロードロックモジュール22の内部空間2202に搬送される。
次いで、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が閉塞され、かつ、第2の扉が閉塞された状態となり、ここで、ロードロックモジュール22の内部空間2202が真空状態から大気圧状態に切り換えられる。
そして、ロードロックモジュール22の前記第1の扉が開放され、かつ、第2の扉が閉塞された状態となり、ロードロックモジュール22の内部空間2202とフロントエンドモジュール12の内部空間14とは、互いに連通した状態で外部とは密閉されており、かつ、ほぼ大気圧状態となっている。
次に、半導体ウェハWは、搬送機構2202により搬送用開口部1706を介して搬送手段18に受け渡され、さらに搬送手段18によって搬送用開口部1704を介して他方のFOUP26内に再び収容される。
以上のように一方のFOUP26内の半導体ウェハWが順次取出されて搬送され処理装置24によって処理され、他方のFOUP26内に収容される。このような動作が一方のFOUP26内の半導体ウェハWの全てに対してなされ1つの工程が終了する。
【0015】
次に、フロントエンドモジュール10に対して取り付けられる外部装置のレイアウトを変更する場合について説明する。
図5(A)は第2のレイアウト例を示すフロントエンドモジュール10の平面図である。
第2のレイアウト例が第1のレイアウト例と異なるのは、ロードロックモジュール22および処理装置24がそれぞれ2つ設けられている点である。
図4における後壁1206の第4の接続用開口部1608側の閉塞板1702にもロードロックモジュール22用の搬送用開口部1706を形成し、該ロードロックモジュール22は、閉塞板1702を介して第4の接続用開口部1608に接続されている。
これにより、第3、第4の接続用開口部1606、1608の各閉塞板1702の搬送用開口部1706を介して、2つのロードロックモジュール22と搬送手段18との間で半導体ウェハの搬送ができるように構成されている。
このような第2のレイアウト例においては、2つの処理装置24によって半導体ウェハWの処理を並行して行なうことができる。
【0016】
図5(B)は第3のレイアウト例を示すフロントエンドモジュール10の平面図、図6は第3のレイアウト例のフロントエンドモジュール10を後方から見た斜視図である。
第3のレイアウト例が第1のレイアウト例と異なるのは、ロードポートモジュール20が3つ設けられている点である。
この場合は、図4における後壁1206の第4の接続用開口部1608側の閉塞板1702にもロードポートモジュール20用の搬送用開口部1702を形成し、該ロードポートモジュール20は、閉塞板1702を介して第4の接続用開口部1608に接続されている。
これにより、3つの搬送用開口部1702を介して、3つのロードポートモジュール20と搬送手段18との間で半導体ウェハの搬送ができるように構成されている。
このような第3のレイアウト例においては、3つのFOUP26を1つのフロントエンドモジュール10で用いて処理を行なうことができる。
【0017】
図5(C)は第4のレイアウト例を示すフロントエンドモジュール10の平面図、図7は第3のレイアウト例のフロントエンドモジュール10を後方から見た斜視図である。
第4のレイアウト例が第1のレイアウト例と異なるのは、新たにダミーウェハカセットモジュール28が設けられている点である。
ダミーウェハカセットモジュール28には、ダミーウェハカセット30が載置されるダミーウェハステーション2802が設けられている。
ダミーウェハWDは、処理装置24単体での性能確認を行なうために使用される部材であり、上述した半導体ウェハWと同一形状および同一寸法で形成され、例えば口径300mm、200mmあるいはそれ以下の口径を有し、ダミーウェハカセット30に収容されている。
ダミーウェハカセット30は、その内部空間にダミーウェハWDを収容した状態で該内部空間を外部に対して密閉するように構成された容器であり、ダミーウェハWDを出し入れするための不図示の開口部が設けられている。
そして、図4における後壁1206の第4の接続用開口部1608側の閉塞板1702にダミーウェハWDを搬送するための搬送用開口部1702を形成し、該ダミーウェハカセットモジュール28は、閉塞板1702を介して第4の接続用開口部1608に接続されている。
これにより、搬送用開口部1702を介して、ダミーウェハカセット30と搬送手段18との間で半導体ウェハの搬送ができるように構成されている。
このような第4のレイアウト例においては、1つのダミーウェハカセット30を用いて処理装置24の機能確認を行なうことができる。
【0018】
以上説明したように本実施の形態のフロントエンドモジュール10によれば、複数の接続用開口部1602、1604、1606、1608の寸法および形状が全て同一となるように構成されているので、ロードポートモジュール20、ロードロックモジュール22、ダミーウェハステーション28などの外部装置を複数の接続用開口部1602、1604、1606、1608に任意に取り付けることができる。
したがって、フロントエンドモジュールに取り付けられる外部装置の数やこれら外部装置のレイアウトに応じて個別に設計や製造を行なう必要が無く、コストダウンを図る上で有利となる。
また、外部装置のレイアウトを変更する際にフロントエンドモジュール10を改造したり、新たに製作し直す必要が無く、レイアウト変更を容易に行なう上で有利となる。
【0019】
なお、本実施の形態では、半導体ウェハWを収容する容器としてFOUP26を用いた例を示したが、この他に口径200mmあるいは150mmの半導体ウェハWを収容するSMIFポッドなどを用いることもできる。
また、フロントエンドモジュール10の外部環境がクリーン環境下(たとえばクリーン度クラス1レベル)にある場合には、内部空間14と外部環境とを区別して内部環境14をミニエンバイロメント(局所クリーン環境)とする必要が無いため、半導体ウェハWを収容する密閉容器の代りに半導体ウェハWが外部に露出する形態のオープンカセットモジュールなどを用いてもよい。
また、本実施の形態では、ロードロックモジュール22は、真空と大気圧の状態を繰り返すロードロックチャンバーの機能と、半導体ウェハWを搬送する真空トランスファーチャンバーの機能とを有した構成としたが、大気圧の状態で半導体ウェハWを搬送する大気圧トランスファーチャンバーの機能を有した構成としてもよい。また、ロードロックモジュール22は、真空と大気圧の状態を繰り返すロードロックチャンバーの機能のみを有し、半導体ウェハWを搬送する手段が付加された構成であってもよい。
また、本実施の形態では、壁部12の前壁1204に2つの接続用開口部を設け、後壁1206に2つの接続用開口部を設けたが、接続用開口部の数と配置が任意であることは無論である。
【0020】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、コストダウンを図りつつ外部装置のレイアウト変更が容易なフロントエンドモジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の第1のレイアウト例におけるフロントエンドモジュールを斜め前方から見た斜視図である。
【図2】図1のフロントエンドモジュールを斜め後方から見た斜視図である。
【図3】図1の平面図である。
【図4】図1のフロントエンドモジュール単体を斜め後方から見た斜視図である。
【図5】(A)は第2のレイアウト例を示すフロントエンドモジュールの平面図、(B)は第3のレイアウト例を示すフロントエンドモジュールの平面図、(C)は第4のレイアウト例を示すフロントエンドモジュールの平面図である。
【図6】第3のレイアウト例のフロントエンドモジュールを後方から見た斜視図である。
【図7】第4のレイアウト例のフロントエンドモジュールを後方から見た斜視図である。
【符号の説明】
10……フロントエンドモジュール、12……壁部、14……内部空間、18……搬送手段、20……ロードポートモジュール、22……ロードロックモジュール、24……処理装置、26……FOUP、28……ダミーウェハカセットモジュール、30……ダミーカセット、W……半導体ウェハ、WD……ダミーウェハ。
Claims (7)
- 壁部によって区画された内部空間と、
前記壁部に設けられ外部装置が接続される複数の接続用開口部と、
前記内部空間に配設され前記接続用開口部に接続された外部装置との間で部材の搬送を行なう搬送手段とを備えたフロントエンドモジュールにおいて、
前記複数の接続用開口部の寸法および形状が全て同一となるように構成されている、ことを特徴とするフロントエンドモジュール。 - 前記外部装置は前記部材としての半導体ウェハを収容する収容装置に接続されるロードポートモジュールであることを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
- 前記外部装置はロードロックモジュールであり、前記ロードロックモジュールには前記部材としての半導体ウェハに対して所定の処理を行なう処理装置が接続され、前記ロードロックモジュールは前記処理装置と前記内部空間との間を連通するように構成されていることを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
- 前記外部装置はダミーウェハモジュールであり、前記ダミーウェハモジュールは、前記部材としてのダミーウェハを収容することを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
- 前記外部装置は、内部空間を有し、前記外部装置と前記接続用開口部の接続は、前記外部装置の内部空間と前記フロントエンドモジュールの内部空間が連通するとともに、これら内部空間が前記外部に対して密閉状態となるようになされることを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
- 前記複数の接続用開口部は閉塞板によって閉塞され、前記外部装置の各接続用開口部への接続は前記閉塞板を介してなされ、前記搬送手段と前記外部装置との間で部材の搬送は、前記閉塞板に設けられた搬送用開口部を介して行なわれることを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
- 前記壁部はほぼ直方体状をなすように構成され、上下方向の下方に位置した底壁と、該底壁の4辺から起立された4つの側壁と、これら4つの側壁の上部を接続する上壁とから構成され、前記複数の接続用開口部は前記4つの側壁の少なくとも1つに設けられていることを特徴とする請求項1記載のフロントエンドモジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003203597A JP2005050897A (ja) | 2003-07-30 | 2003-07-30 | フロントエンドモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003203597A JP2005050897A (ja) | 2003-07-30 | 2003-07-30 | フロントエンドモジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005050897A true JP2005050897A (ja) | 2005-02-24 |
Family
ID=34262893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003203597A Pending JP2005050897A (ja) | 2003-07-30 | 2003-07-30 | フロントエンドモジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005050897A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019533313A (ja) * | 2016-10-27 | 2019-11-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 可撓性機器フロントエンドモジュールインターフェース、環境制御された機器フロントエンドモジュール、及び組み付け方法 |
WO2022239538A1 (ja) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム |
-
2003
- 2003-07-30 JP JP2003203597A patent/JP2005050897A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019533313A (ja) * | 2016-10-27 | 2019-11-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 可撓性機器フロントエンドモジュールインターフェース、環境制御された機器フロントエンドモジュール、及び組み付け方法 |
WO2022239538A1 (ja) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7263639B2 (ja) | 基板搬送部 | |
TWI779998B (zh) | 用於處理基板的設備及方法 | |
US9666454B2 (en) | Wafer storage apparatus having gas charging portions and semiconductor manufacturing apparatus using the same | |
TWI408766B (zh) | Vacuum processing device | |
TWI787327B (zh) | 設備前端模組 | |
TW201027659A (en) | Load port | |
JP5610009B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TW201123340A (en) | Vacuum processing system and vacuum processing method of semiconductor processing substrate | |
JP7445138B2 (ja) | ウェーハストッカ | |
EP1774574A1 (en) | System for handling of wafers within a process tool | |
US10229847B2 (en) | Substrate transfer chamber and container connecting mechanism with lid opening mechanisms | |
JP2017108050A (ja) | ロードポート装置及びロードポート装置における容器内への清浄化ガス導入方法 | |
JP2006135016A (ja) | ロードポート | |
JP2005050897A (ja) | フロントエンドモジュール | |
JP2018098387A (ja) | 基板処理装置 | |
JP7458212B2 (ja) | 基板搬送システムおよび基板搬送方法 | |
JP4563219B2 (ja) | 中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システム | |
JP6972110B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4359109B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
TW200428561A (en) | A substrate treatment apparatus | |
JP4227137B2 (ja) | 基板収納容器 | |
KR100849943B1 (ko) | 로드락 챔버와 프로세스 챔버 간의 기압 완충을 위한 버퍼챔버 | |
JP2022009019A (ja) | 搬送システム及び容器開閉装置 | |
JP2022109860A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2020174171A (ja) | 基板処理システム、基板搬送装置及び方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060530 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090319 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090415 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090722 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090729 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090805 |