JP2005042074A - 多孔質膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 疎水性ポリマーと親水性ポリマーとからなる多孔質膜に酸化剤を保持させる工程(A)と、気相中で加熱する工程(B)とを含む多孔質膜の製造方法は、短時間で効率的に親水性ポリマーを除去し、高い透過性能を達成することを可能にする。したがって、紡糸等の工程と、洗浄工程を連続的に行うことが可能で、工業的に優れていると共に、廃液処理への負荷も小さく、環境への影響が小さい製造方法である。
【選択図】 なし
Description
親水性ポリマーを除去する方法としては、酸化剤又は加水分解剤を用いて親水性ポリマーを除去する方法がある(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、オートクレーブ加圧をバッチ工程で行うと生産性が悪い。また連続工程で加圧しながら洗浄を行う場合、加圧洗浄装置の出入り口にはシール部が必要となる。こうしたシール部では多孔質膜が擦れる原因となり、多孔質膜がダメージを受けるという問題点があった。
また、本発明は、連続処理としての使用に適した製造方法を提供できる。さらに、廃液量も軽減できることから、廃液処理への負荷も小さく、環境への影響が小さい方法である。
なお、本発明により製造される多孔質膜は、中空糸膜の形態に限定されるものではなく、平膜、管状膜等であってもよい。
また、中空部に溶剤を送り、内部の凝固状態を制御し、孔径の調整を行ってもよい。
1.分子鎖の全てが多孔質膜基材中に埋没している。
2.分子鎖の全てが細孔部等の表面に存在している。
3.分子鎖の一部は細孔部等の表面に存在し、他は多孔質膜基材中に埋没している。
使用する水としては、水道水、工業用水、河川水、井戸水等が挙げられ、これらにアルコール、無機塩類、酸化剤、界面活性剤等を混ぜても構わない。
なお、分子鎖の全てが多孔質膜基材中に埋没している親水性ポリマー(前記1の状態)は、このような酸化剤による処理を行っても除去できないが、多孔質膜基材中に分子鎖の全てが埋没しているため、膜の透過性能に影響を及ぼすことはない。
浸漬させる方法のほかには、ローラー表面に酸化剤をつけ、多孔質膜をローラーに巻きつけながら酸化剤と接触させ、保持させる方法を用いることもできる。
また、酸化剤として次亜塩素酸塩を用いる場合、分解を極力抑えるためには、酸化剤水溶液のpHを11以上とすることが好ましい。
工程(B)での加熱は、大気圧下で加熱流体を用いて行うことが好ましい。大気圧下での加熱は、連続処理を行う場合、中空糸膜の出入り口に特殊なシール装置が不要で、装置本体も耐圧構造を必要としないため、装置メリットが大きく、操作性も非常に優れている。
処理時間の下限は、短すぎると親水性ポリマーの分解が不十分となる傾向にあるため、1分以上が好ましい。
また、工程(A)、工程(B)、工程(D)の順に、これら3つの工程を複数回繰り返すことによって、工程(A)と工程(B)を複数回繰り返してもよい。
なお、多孔質膜が例えば組紐のような支持体と複合化されているような場合は、以下の1〜3のような手順にて多孔質膜のみを抽出し、多孔質膜中に占める親水性ポリマーの割合を求めればよい。ここでは、疎水性ポリマーがポリフッ化ビニリデン、親水性ポリマーがポリビニルピロリドンの場合を例としている。
1.多孔質膜を溶剤(N,N−ジメチルアセトアミド)に溶解したのち、得られた溶液をガラス板上で蒸発乾固させ、厚さおよそ20μm程度のフィルムを作製する。
2.赤外分光光度計を用い、得られたフィルムの吸光度スペクトルを測定する。
3.吸光度スペクトルからポリビニルピロリドンのカルボニル基伸縮振動(1700cm−1)による吸収強度と、ポリフッ化ビニリデンのC−F伸縮振動(1400cm−1)による吸収強度とを求め、両者の比からポリビニルピロリドンの割合を求める。
ポリフッ化ビニリデンA(アトフィナジャパン製、商品名カイナー301F)、ポリフッ化ビニリデンB(アトフィナジャパン製、商品名カイナー9000LD)、ポリビニルピロリドン(ISP社製、商品名K−90)、N,N−ジメチルアセトアミドをそれぞれ、表1に示す質量比となるように製膜原液(1)及び製膜原液(2)を調整した。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、130m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、126m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、72m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、118m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、116m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、134m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、76m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、94m3/(m2・hr・MPa)であった。
実施例1と同様にして、第一の多孔質層を形成させた後、二重環状ノズルを30℃に保温し、導糸部1から第一の多孔質層を形成させた組紐を導入し、第一吐出口2から内部凝固液としてグリセリン(和光純薬工業製 一級)を吐出させ、製膜原液(1)を前記ノズルの鞘部にある第二吐出口3から吐出することによって、第一の多孔質層の上に製膜原液(1)を塗布した後、80℃に保温した、N,N−ジメチルアセトアミド5質量%及び水95質量%からなる凝固浴中に導き、第一の多孔質層の上に第二の多孔質層を有する、すなわち緻密層を二層有する複合多孔質中空糸膜を得た。
なお、第二の多孔質層の形成に用いたノズルは、外径3.7mm、内径2.9mmである以外は第一の多孔質層の形成に用いたものと相似構造のものを用いた。
この複合多孔質中空糸膜を、工程(C)、工程(A)1回目、工程(B)1回目、工程(D)1回目、工程(A)2回目、工程(B)2回目、工程(D)2回目の順に処理を行った。各工程の条件は、表2〜5に示した。
得られた多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、102m3/(m2・hr・MPa)であった。
得られた多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、17m3/(m2・hr・MPa)であった。
この後、この複合多孔質中空糸膜を85℃で5.25分間乾燥させた。
乾燥後の複合多孔質中空糸膜の水フラックスを測定した結果、127m3/(m2・hr・MPa)であり、組紐を除いた多孔質膜中に占めるポリビニルピロリドンは1.7質量%であり、複合多孔質中空糸膜の含水率は0.3質量%であった。また、膜外表面に破壊された部位は存在しなかった。
乾燥後の複合多孔質中空糸膜の水フラックスを測定した結果、132m3/(m2・hr・MPa)であり、組紐を除いた多孔質膜中に占めるポリビニルピロリドンは1.7質量%であり、複合多孔質中空糸膜の含水率は17.5質量%であった。また、膜外表面に破壊された部位は存在しなかった。
乾燥後の複合多孔質中空糸膜の水フラックスを測定した結果、127m3/(m2・hr・MPa)であり、組紐を除いた多孔質膜中に占めるポリビニルピロリドンは2.6質量%であり、複合多孔質中空糸膜の含水率は0.2質量%であった。また、膜外表面に破壊された部位は存在しなかった。
乾燥後の複合多孔質中空糸膜の水フラックスを測定した結果、112m3/(m2・hr・MPa)であり、組紐を除いた多孔質膜中に占めるポリビニルピロリドンは1.0質量%であり、複合多孔質中空糸膜の含水率は0.9質量%であった。また、膜外表面に破壊された部位は存在しなかった。
実施例1と同様の条件で乾湿式紡糸法にて紡出、凝固させて、緻密層を一層有する複合多孔質中空糸膜を作成した後、100℃の水に7分間浸漬させた。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、22m3/(m2・hr・MPa)であった。
実施例1と同様の条件で乾湿式紡糸法にて紡出、凝固させて、緻密層を一層有する複合多孔質中空糸膜を作成した。
得られた複合多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、10m3/(m2・hr・MPa)であった。
実施例1と同様の条件で乾湿式紡糸法にて紡出、凝固させて多孔質中空糸膜を作成した後、80℃、有効塩素濃度1000mg/Lの次亜塩素酸塩水溶液を50L入れた槽の中を、多孔質中空糸膜が4m/minの速度で通過するようにして連続的に洗浄を行い、2時間後に槽中の有効塩素濃度を測定したところ、5ppm以下に低下していた。
実施例10と同様の条件で乾湿式紡糸法にて紡出、凝固させて、緻密層を二層有する複合多孔質中空糸膜を作成した後、100℃の水に1分間浸漬させる工程を2回行い、さらに100℃の水に8分間浸漬させる工程を行った。
得られた多孔質中空糸膜の乾燥前の水フラックスを測定した結果、2m3/(m2・hr・MPa)であった。
2 第一の吐出口
3 第二の吐出口
Claims (17)
- 疎水性ポリマーと親水性ポリマーとからなる多孔質膜に酸化剤を保持させる工程(A)と、気相中で加熱する工程(B)とを含む多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(A)の前に、多孔質膜を洗浄液で洗浄する工程(C)を有する請求項1に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(B)の後に、多孔質膜を洗浄液で洗浄する工程(D)を有する請求項1又は2に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(D)を経た後の多孔質膜中に占める前記親水性ポリマーの割合が5質量%以下である請求項3に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(C)及び/又は前記工程(D)における洗浄液が、水又は前記疎水性ポリマーの溶媒と水との混合物である請求項2〜4のいずれか一項に記載の多孔質膜の洗浄方法。
- 前記工程(A)において、多孔質膜と前記酸化剤との接触時間を2分以下とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(B)において、多孔質膜の加熱時間を5分以下とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(C)及び/又は前記工程(D)において、前記洗浄液による多孔質膜の洗浄時間を10分以下とする請求項2〜7のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(A)、前記工程(B)の順に、両工程を複数回繰り返して行う請求項1〜8のいずれか一項に記載の多孔質膜の洗浄方法。
- 前記酸化剤が次亜塩素酸塩水溶液である請求項1〜9のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記次亜塩素酸塩水溶液の有効塩素濃度が2000mg/L以上である請求項10に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記次亜塩素酸塩水溶液の温度が50℃以下である請求項10又は11に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(B)の気相中の雰囲気が、大気圧状態で、温度が50℃以上である請求項1〜12のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記工程(B)の気相中の相対湿度が80%以上である請求項13に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記疎水性ポリマーが、フッ素系樹脂である請求項1〜14のいずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記疎水性ポリマーが、ポリフッ化ビニリデンである請求項15に記載の多孔質膜の製造方法。
- 前記親水性ポリマーが、ポリビニルピロリドンである請求項1〜16いずれか一項に記載の多孔質膜の製造方法。
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