JP2005039065A - パルス光源 - Google Patents
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Abstract
【課題】 種光源からのパルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力するパルス光源を提供する。
【解決手段】 パルス光源100は、一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光を発するパルス種光源110と光ファイバ増幅器120とを有する。光ファイバ増幅器120は、励起光を発する励起光源123と、励起光源123からの励起光及びパルス種光源110からのパルス種光が入力される希土類元素ドープファイバ121とを有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出によりパルス種光を増幅する。パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。
【選択図】図1
【解決手段】 パルス光源100は、一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光を発するパルス種光源110と光ファイバ増幅器120とを有する。光ファイバ増幅器120は、励起光を発する励起光源123と、励起光源123からの励起光及びパルス種光源110からのパルス種光が入力される希土類元素ドープファイバ121とを有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出によりパルス種光を増幅する。パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、パルス光源に関する。
パルスファイバレーザーの高出力化を図るには、その後段に光ファイバ増幅器を接続するのが最も一般的である。
非特許文献1には、そのようなパルス光源が開示されている。
1993年電子情報通信学会春季大会予稿集 340頁「C−304 モードロックErファイバーレーザー」吉田 他
1993年電子情報通信学会春季大会予稿集 340頁「C−304 モードロックErファイバーレーザー」吉田 他
しかしながら、パルスファイバレーザーからのパルス種光のパルス幅が広い場合やパルス繰返し周波数が小さい場合、これを光ファイバ増幅器であるエルビウムドープファイバ増幅器(以下「EDFA」という。)で増幅すると、例えば、図17(a)に示すような台形パルスのパルス種光に対し、図17(b)に示すようなパルス形状が歪んだ出力光が出力されてしまうという問題がある。なお、図17(a)及び(b)は、パルス繰返し周波数が10kHzのパルス光のパルス波形を示し、図17(a)が減衰値11.5dBで及び図17(b)が減衰値38.0dBでそれぞれ減衰させたものである。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、種光源からのパルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力するパルス光源を提供することにある。
増幅能の高い状態のエルビウムドープファイバ(以下「EDF」という。)にパルス種光を入力した場合、パルス幅の初期部分の増幅に光増幅エネルギーが集中して消費され、図17(b)に示すように、パルス立ち上がり時に利得が最大となり、大きなパルス歪みを生じる。特に、パルス種光のパルス幅が広い場合には、パルス全幅における光増幅エネルギーの配分の不均一さが顕著となり、また、パルス繰返し周波数が小さい場合には、消費されたEDFの光増幅エネルギーの回復に十分な時間が確保され、常に増幅能の高い状態のEDFにパルス種光が入力される。これに対し、増幅能の低い状態のEDFにパルス種光を入力した場合、パルス幅の全体にわたって光増幅エネルギーが概ね均一に分配される。本発明者らは、これらの点に着目して本発明に想到したものである。
上記目的を達する本発明は、
一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光を発するパルス種光源と、
励起光を発する励起光源と、該励起光源からの励起光及び上記パルス種光源からのパルス種光が入力される希土類元素ドープファイバと、を有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出によりパルス種光を増幅する光ファイバ増幅器と、
を備えたパルス光源であって、
上記パルス種光源からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されていることを特徴とする。
一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光を発するパルス種光源と、
励起光を発する励起光源と、該励起光源からの励起光及び上記パルス種光源からのパルス種光が入力される希土類元素ドープファイバと、を有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出によりパルス種光を増幅する光ファイバ増幅器と、
を備えたパルス光源であって、
上記パルス種光源からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されていることを特徴とする。
上記の構成によれば、希土類元素ドープファイバの増幅能を規制することで、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、分配パルス種光源からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるので、パルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力することができる。
本発明は、励起光を発する第2励起光源と、該第2励起光源からの励起光及び上記光ファイバ増幅器からの出力光が入力される第2希土類元素ドープファイバと、を有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出により出力光を増幅する第2光ファイバ増幅器をさらに備え、
上記光ファイバ増幅器からの出力光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記第2希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されているものであってもよい。
上記光ファイバ増幅器からの出力光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記第2希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されているものであってもよい。
上記の構成によれば、光ファイバ増幅器が直列に多段に設けられることとなるので、より高い出力を得ることができる。
本発明の具体的実施態様としては、上記光ファイバ増幅器が、上記励起光源から発せられる励起光のパワーの設定によりその増幅能が規制されているものを挙げることができる。
また、本発明の具体的実施態様としては、上記光ファイバ増幅器に入力される増幅能規制光を発する増幅能規制光源をさらに備え、
上記希土類元素ドープファイバは、上記増幅能規制光源からの増幅能規制光によりその増幅能が規制されているものを挙げることができる。
上記希土類元素ドープファイバは、上記増幅能規制光源からの増幅能規制光によりその増幅能が規制されているものを挙げることができる。
これは、例えば、増幅能規制光源からの光が光ファイバ増幅器により増幅可能な波長域のものである場合に、増幅能規制光源からの光が光ファイバ増幅器に入力されると、それが希土類元素ドープファイバにより増幅され、それによって希土類元素ドープファイバの光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制されること、或いは、増幅能規制光源からの光が励起状態吸収(Excited State Absorption ESA)を促進する波長域のものである場合に、増幅能規制光源からの光が光ファイバ増幅器に入力されると、それによって希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されることを利用するものである。
この場合、本発明は、上記増幅能規制光源が、上記光ファイバ増幅器への上記パルス種光源からのパルス種光の入力オフ時に該光ファイバ増幅器に増幅能規制光を入力するものであってもよい。
また、本発明は、上記増幅能規制光源が発する増幅能規制光が連続光であり、上記パルス種光源からのパルス種光と上記増幅能規制光源からの増幅能規制光とを分離可能に合波して上記光ファイバ増幅器に入力する光合波器と、上記光ファイバ増幅器からの出力光をパルス種光を増幅したものと増幅能規制光を増幅したものとに分離する光分離器と、をさらに備えたものであってもよい。
さらに、本発明は、上記励起光源或いは上記パルス種光源が上記増幅能規制光源を兼ねているものであってもよい。これによれば励起光源又はパルス種光源が増幅能規制光源を兼ねているので、構成の簡略化を図ることができる。
以上説明したように、本発明によれば、希土類元素ドープファイバの増幅能を規制することで、パルス種光源からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるので、パルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るパルス光源100を示す。
図1は、本発明の実施形態1に係るパルス光源100を示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と光ファイバ増幅器120とで構成されていると共に、それらが光信号パス(光ファイバ)により直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を光ファイバ増幅器120で増幅して出力する。
パルス種光源110は、種光源111と変調器112とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続されている。
パルス種光源110では、希土類元素ドープファイバレーザー(例えば、エルビウムドープファイバレーザー(EDFL))等からなる種光源111は連続レーザー光を発する。変調器112は、種光源111からの連続レーザー光が入力され、それを一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数の矩形パルス或いは台形パルスのパルス種光に変調して出力する。
光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121と、一対のWDMカプラ122及び励起光源123と、で構成され、第1入力ポートI1に励起光源123が接続されたWDMカプラ122の出力ポートOが希土類元素ドープファイバ121の両側に接続されている。また、前側のWDMカプラ122の第2入力ポートI2にはパルス種光源110が接続されている。なお、各部は光信号パスで接続されている。
光ファイバ増幅器120では、両WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123から励起光が入力され、それを出力ポートOから出力する。また、このとき、前側のWDMカプラ122は、第2入力ポートI2に接続されたパルス種光源110からパルス種光が入力され、それを励起光と合波する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光及びパルス種光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光を増幅して出力する。具体的には、例えば、希土類元素ドープファイバ121としてEDFを用いたEDFAの場合、励起光源123として波長0.98μm或いは1.48μmのレーザー光を発する励起LDを好適に用いることができる。もちろん、希土類元素ドープファイバ121としてイッテルビウムドープファイバ(YDF)やネオジムドープファイバ(NDF)を用いてもよく、その場合には、それぞれのファイバ種に応じた波長のレーザー光を発する励起LDを選択すればよい。
希土類元素ドープファイバ121は、励起光源123から発せられる励起光のパワーによってその増幅能が変化する。つまり、励起光のパワーが大きいほどその増幅能が高くなる。このパルス光源100では、励起光源123から発せられる励起光のパワーの設定によって、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。以下に具体的な内容について、EDFLを種光源111とすると共にEDFAを光ファイバ増幅器120としたパルス光源100の試験評価に基づいて説明する。
図2に示すように、パルス光源100の光ファイバ増幅器120の後段にアテネータ200、光電変換器300及びオシロスコープ400を直列に接続した。なお、光ファイバ増幅器120とアテネータ200、アテネータ200と光電変換器300との間は光信号パスで接続し、光電変換器300とオシロスコープ400との間は電気信号パス(電線)で接続した。
そして、パルス種光源110からのパルス種光のパルス繰返し周波数が100kHzの場合及び10kHzの場合のそれぞれについて、EDFAの励起光源123からの励起光のパワーを変量することによりパルスピークの利得、つまり、EDFの増幅能を変化させた。
図3は、光ファイバ増幅器120をオフとしたときのパルス波形、つまり、パルス種光源110からのパルス種光のパルス波形を示す。なお、図示したパルス波形はアテネータ200により減衰値11.5dBで減衰させたものである。
図4(a)〜(d)は、パルス繰返し周波数が100kHzの場合において、パルスピークの利得を(a)23.5dB、(b)22.1dB、(c)20.5dB及び(d)18.1dBとしたときのそれぞれの光ファイバ増幅器120からの出力光のパルス波形を示す。なお、図示したパルス波形はアテネータ200により減衰値30dBで減衰させたものである。
図5(a)〜(e)は、パルス繰返し周波数が10kHzの場合において、パルスピークの利得を(a)31.0dB、(b)29.8dB、(c)28.3dB、(d)25.3dB及び(e)19.4dBとしたときのそれぞれの光ファイバ増幅器120からの出力光のパルス波形を示す。なお、図示したパルス波形は、図5(a)〜(d)についてはアテネータ200により減衰値38dBで減衰させたものであり、図5(e)は減衰値30dBで減衰させたものである。
以上の結果によれば、パルス繰返し周波数を100kHzとした場合、パルスピークの利得が23.5dB及び22.1dB(図4(a)及び(b))のときでは、増幅能が相対的に高いもののパルス波形がパルス立ち上がり時にピークを有しており、もとのパルス種光のパルス波形とは形状が異なるものとなっている、従って、パルス種光が全パルス幅において不均一な利得で増幅されているのが分かる。これに対し、パルスピークの利得が20.5dB及び18.1dB(図4(c)及び(d))のときでは、増幅能が相対的に低いもののパルス波形が図3に示すパルス種光のパルス波形を縦方向に伸長したものとなっている、つまり、パルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されているのが分かる。
また、パルス繰返し周波数を10kHzとした場合、パルスピークの利得が31.0dB、29.8dB、28.3dB及び25.3dB(図5(a)〜(d))のときでは、増幅能が相対的に高いもののパルス波形がパルス立ち上がり時にピークを有しており、もとのパルス種光のパルス波形とは形状が異なるものとなっている、つまり、パルス種光が全パルス幅において不均一な利得で増幅されているのが分かる。これに対し、パルスピークの利得が19.4dB(図5(e))のときでは、増幅能が相対的に低いもののパルス波形が図3に示すパルス種光のパルス波形を縦方向に伸長したものとなっている、つまり、パルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されているのが分かる。
これらのことは、励起光源123からの励起光のパワーを設定によりEDFの増幅能を規制することで、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光を全パルス幅にわたって均一な利得で増幅させることができ、それによってパルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力することができるということを示すものである。具体的には、例えば、パルス繰返し周波数が100kHzの場合には、パルスピークの利得が20.5dB以下となるようにEDFAの励起光源123からの励起光のパワーを設定すればよく、パルス繰返し周波数が10kHzの場合には、パルスピークの利得が19.4dB以下となるようにEDFAの励起光源123からの励起光のパワーを設定すればよい。
従って、以上に説明した実施形態1に係るパルス光源100によれば、希土類元素ドープファイバ121の増幅能を規制することで、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるので、パルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力することができる。
(実施形態2)
図6は、本発明の実施形態2に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
図6は、本発明の実施形態2に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と第1光ファイバ増幅器120と第2光ファイバ増幅器130とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を第1及び第2光ファイバ増幅器120,130で増幅して出力する。つまり、実施形態1のものの後段にさらに第2光ファイバ増幅器130を設けたものである。
第2光ファイバ増幅器130は、第1光ファイバ増幅器120と同様、第2希土類元素ドープファイバ、第2WDMカプラ及び第2励起光源で構成されている。そして、第2励起光源から発せられる励起光のパワーの設定によって、第1光ファイバ増幅器120からの出力光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように第2希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されている。このように、第2希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、第1光ファイバ増幅器120からの出力光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
図7(a)〜(c)は、本実施形態2の具体的な態様として、EDFLを種光源111とすると共にEDFAを第1及び第2光ファイバ増幅器120,130とし、第1光ファイバ増幅器120によるパルスピークの利得が18.1dB及び第2光ファイバ増幅器130によるパルスピークの利得が19.4dBとなるように第1及び第2励起光源からの各励起光のパワーを設定したパルス光源100について、(a)パルス種光のパルス波形、(b)第1光ファイバ増幅器120の出力光のパルス波形及び(c)第2光ファイバ増幅器130の出力光のパルス波形の観測を実施形態1と同様にして行った結果を示す。なお、パルス種光のパルス波形は第1及び第2光ファイバ増幅器120,130をオフにして観測し、第1光ファイバ増幅器120の出力光のパルス波形は第2光ファイバ増幅器130をオフにして観測した。なお、図7(a)〜(c)は、パルス繰返し周波数が10kHzのパルス光のパルス波形を示し、図7(a)が減衰値11.5dBで、図7(b)が減衰値29.6dB及び図7(c)が減衰値47.4dBでそれぞれアテネータで減衰させたものである。
以上の結果によれば、第1及び第2光ファイバ増幅器120,130のいずれの出力光のパルス波形も図7(a)に示すパルス種光のパルス波形を縦方向に伸長したものとなっている、つまり、パルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されているのが分かる。
従って、光ファイバ増幅器120を多段に設けることにより、パルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを所望の大きさまで増幅して出力することができる。
その他の作用効果は実施形態1と同一である。
(実施形態3)
図8は、本発明の実施形態3に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
図8は、本発明の実施形態3に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と、増幅能規制光源190と、それらに接続された制御器160と、パルス種光源110が第1入力ポートI1に及び増幅能規制光源190が第2入力ポートI2にそれぞれ接続された入力用WDMカプラ(光合成器)140と、入力用WDMカプラ140の出力ポートOに接続された光ファイバ増幅器120と、光ファイバ増幅器120の出力端に入力ポートIが接続された出力用WDMカプラ(光分離器)150と、で構成されている。なお、電気信号パスで接続されたパルス種光源110・制御器160間、増幅能規制光源190・制御器160間を除いて、各部は光信号パスで接続されている。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。また、光ファイバ増幅器120は、実施形態1のものと同様、希土類元素ドープファイバ121、WDMカプラ122及び励起光源123で構成されているが、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。
増幅能規制光源190は、パルス種光源110から光ファイバ増幅器120へのパルス種光の入力オフ時に光ファイバ増幅器120に入力される断続レーザー光を増幅能規制光として発するように制御器160によって発光制御がなされている。
入力用WDMカプラ140は、パルス種光源110が接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、増幅能規制光源190が接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、それぞれを出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、両WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123から励起光が入力され、それを出力ポートOから出力する。また、このとき、前側のWDMカプラ122は、第2入力ポートI2に接続された入力用WDMカプラ140からパルス種光又は増幅能規制光もが入力され、それを励起光と合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光、及び、パルス種光又は増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光を増幅して出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光源190からの増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光源190からの増幅能規制光を光ファイバ増幅器120により増幅可能な波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それが希土類元素ドープファイバ121により増幅され、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。また、増幅能規制光源190からの増幅能規制光を励起状態吸収を促進する波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制される。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長1550nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができ、後者の増幅能規制光源190の例として波長1680nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができ、全体として波長1520〜1720nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長965〜990nm帯や波長1020〜1150nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができるが、励起状態吸収が生じないYDFでは後者の増幅能規制光源190の例はない。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
出力用WDMカプラ150は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、パルス種光が増幅されたもの、又は、増幅能規制光或いはその増幅光が入力され、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
図9(a)〜(c)は、本実施形態3の具体的な態様として、EDFLを種光源111とすると共にEDFAを光ファイバ増幅器120とし、且つ、波長1550nmの増幅能規制光を発する励起LDを増幅能規制光源190としたパルス光源100について、(a)パルス種光のパルス波形、(b)増幅能規制光源190をオフにした場合の第1出力ポートO1からの出力光のパルス波形及び(c)増幅能規制光源190をオンにした場合の第1出力ポートO1からの出力光のパルス波形の観測を実施形態1と同様にして行った結果を示す。なお、パルス種光のパルス波形は光ファイバ増幅器120及び増幅能規制光源190をオフにして観測した。また、励起光源123からの励起光のパワーを設定は、前者の場合、光ファイバ増幅器120によるパルスピークの利得が30.1dBとなるようにし、後者の場合、パルスピークの利得が31.3dBとなるようにした。さらに、図9(a)〜(c)は、パルス繰返し周波数が10kHzのパルス光のパルス波形を示し、図9(a)が減衰値11.5dBで、図9(b)が減衰値40dBで及び図9(c)が減衰値40dBでそれぞれアテネータで減衰させたものである。
以上の結果によれば、従来のEDFA等の従来の光ファイバ増幅器120であれば、パルス種光が全パルス幅において不均一な利得で増幅されるような励起光源123の励起光のパワーの設定がなされているにも関わらず、増幅能規制光源190をオンとすることにより、第1出力ポートO1からの出力光のパルス波形がパルス種光のパルス波形を縦方向に伸長したものとなっている、つまり、パルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されているのが分かる。これは、増幅能規制光源190からの光が光ファイバ増幅器120により増幅可能な波長1550nmのものであったため、増幅能規制光源190からの光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それがEDFにより増幅され、それによってEDFの光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制されたためである。
従って、以上に説明した実施形態3に係るパルス光源100によれば、希土類元素ドープファイバ121の増幅能を規制することで、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるので、パルス種光のパルス形状に歪みを生じさせることなくそれを増幅して出力することができる。
(実施形態4)
図10は、本発明の実施形態4に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び3と同一名称の部分は同一符号で示す。
図10は、本発明の実施形態4に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び3と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と、増幅能規制光源190と、それらに接続された制御器160と、パルス種光源110が第1入力ポートI1に及び増幅能規制光源190が第2入力ポートI2にそれぞれ接続された偏波合成器(光合成器)170と、偏波合成器170の出力ポートOに接続された光ファイバ増幅器120と、光ファイバ増幅器120の出力端に入力ポートIが接続された偏波分離器(光分離器)180と、で構成されている。なお、電気信号パスで接続されたパルス種光源110・制御器160間、増幅能規制光源190・制御器160間を除いて、各部は光信号パスで接続されている。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。また、光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121が偏波保持ファイバで構成されていることを除いては実施形態3のものと構成が同一であり、つまり、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。さらに、増幅能規制光源190も、実施形態3のものと同一構成であり、パルス種光源110から光ファイバ増幅器120へのパルス種光の入力オフ時に光ファイバ増幅器120に入力される増幅能規制光を発するように制御器160によって発光制御がなされている。
偏波合成器170は、パルス種光源110が接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、増幅能規制光源190が接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、例えば、パルス種光及び増幅能規制光のいずれか一方をp偏光、他方をs偏光としてそれぞれを出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、両WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123から励起光が入力され、それを出力ポートOから出力する。また、このとき、前側のWDMカプラ122は、第2入力ポートI2に接続された偏波合成器170からパルス種光又は増幅能規制光が入力され、それを励起光と合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光、及び、パルス種光又は増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光を増幅して出力する。また、希土類元素ドープファイバ121は、偏波保持ファイバからなるので、偏波状態を維持した状態で出力光を出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光源190からの増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光源190からの光を光ファイバ増幅器120により増幅可能な波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それが希土類元素ドープファイバ121により増幅され、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。また、増幅能規制光源190からの光を励起状態吸収を促進する波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制される。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長1550nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができ、後者の増幅能規制光源190の例として波長1680nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができ、全体として波長1520〜1720nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長965〜990nm帯や波長1020〜1150nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができるが、励起状態吸収が生じないYDFでは後者の増幅能規制光源190の例はない。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
偏波分離器180は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、p偏光及びs偏光の一方であるパルス種光が増幅されたもの、又は、他方である増幅能規制光或いはその増幅光が入力され、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は、実施形態3と同一である。
(実施形態5)
図11は、本発明の実施形態5に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び3と同一名称の部分は同一符号で示す。
図11は、本発明の実施形態5に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び3と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と、増幅能規制光源190と、パルス種光源110が第1入力ポートI1に及び増幅能規制光源190が第2入力ポートI2にそれぞれ接続された入力用WDMカプラ(光合成器)140と、入力用WDMカプラ140の出力ポートOに接続された光ファイバ増幅器120と、光ファイバ増幅器120の出力端に入力ポートIが接続された出力用WDMカプラ(光分離器)150と、で構成されている。なお、各部は光信号パスで接続されている。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。また、光ファイバ増幅器120は、実施形態1のものと同様、希土類元素ドープファイバ121、WDMカプラ122及び励起光源123で構成されているが、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。
増幅能規制光源190は、連続レーザー光を増幅能規制光として発する。
入力用WDMカプラ140は、パルス種光源110が接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、増幅能規制光源190が接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、それらを合波して出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、両WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123から励起光が入力され、それを出力ポートOから出力する。また、このとき、前側のWDMカプラ122は、第2入力ポートI2に接続された入力用WDMカプラ140からパルス種光及び増幅能規制光もが入力され、それらを励起光と合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光、パルス種光及び増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光を増幅して出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光源190からの増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光源190からの増幅能規制光を光ファイバ増幅器120により増幅可能な波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それが希土類元素ドープファイバ121により増幅され、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。また、増幅能規制光源190からの増幅能規制光を励起状態吸収を促進する波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制される。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFであり、パルス種光源110からのパルス種光の波長が1550nmの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長1510〜1550nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができ、後者の増幅能規制光源190の例として波長1680nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFであり、パルス種光源110からのパルス種光の波長が1000nmの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長965〜990nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができるが、励起状態吸収が生じないYDFでは後者の増幅能規制光源190の例はない。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。本実施形態5では、パルス種光と増幅能規制光とが一旦合波され、後述のように、その合波が増幅後にそれぞれ分離されるため、パルス種光及び増幅能規制光が相互に波長が異なっている。
出力用WDMカプラ150は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、パルス種光及び増幅能規制光の合波が増幅されたものが入力され、波長分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は実施形態3と同一である。
(実施形態6)
図12は、本発明の実施形態6に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び4と同一名称の部分は同一符号で示す。
図12は、本発明の実施形態6に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び4と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と、増幅能規制光源190と、パルス種光源110が第1入力ポートI1に及び増幅能規制光源190が第2入力ポートI2にそれぞれ接続された偏波合成器(光合成器)170と、偏波合成器170の出力ポートOに接続された光ファイバ増幅器120と、光ファイバ増幅器120の出力端に入力ポートIが接続された偏波分離器(光分離器)180と、で構成されている。なお、各部は光信号パスで接続されている。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。また、光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121が偏波保持ファイバで構成されていることを除いては実施形態5のものと構成が同一であり、つまり、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。
増幅能規制光源190は、連続レーザー光を増幅能規制光として発する。
偏波合成器170は、パルス種光源110が接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、増幅能規制光源190が接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、パルス種光及び増幅能規制光のいずれか一方をp偏光、他方をs偏光としてそれらを合波して出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、両WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123から励起光が入力され、それを出力ポートOから出力する。また、このとき、前側のWDMカプラ122は、第2入力ポートI2に接続された偏波合成器170からパルス種光及び増幅能規制光もが入力され、それらを励起光と合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光、パルス種光及び増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光を増幅して出力する。また、希土類元素ドープファイバ121は、偏波保持ファイバからなるので、偏波状態を維持した状態で出力光を出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光源190からの増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光源190からの増幅能規制光が光ファイバ増幅器120により増幅可能な波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それが希土類元素ドープファイバ121により増幅され、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。また、増幅能規制光源190からの増幅能規制光を励起状態吸収を促進する波長域のものとした場合、増幅能規制光が光ファイバ増幅器120に入力されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制される。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長1550nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができ、後者の増幅能規制光源190の例として波長1680nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができ、全体として波長1520〜1720nm帯のレーザー光を発するものを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFの場合、前者の増幅能規制光源190の例として波長965〜990nm帯や波長1020〜1150nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができるが、励起状態吸収が生じないYDFでは後者の増幅能規制光源190の例はない。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
偏波分離器180は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、p偏光及びs偏光の一方であるパルス種光、及び、他方である増幅能規制光の合波が増幅されたものが入力され、偏波分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は、実施形態3と同一である。
(実施形態7)
図13は、本発明の実施形態7に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
図13は、本発明の実施形態7に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と光ファイバ増幅器120と出力用WDMカプラ(光分離器)150とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を光ファイバ増幅器120で増幅して出力する。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。
光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121と、WDMカプラ122及び励起光源123と、で構成され、第1入力ポートI1に励起光源123が接続されたWDMカプラ122の出力ポートOが希土類元素ドープファイバ121の前側に接続されている。また、WDMカプラ122の第2入力ポートI2にはパルス種光源110が接続されている。そして、この励起光源123は、希土類元素ドープファイバ121により増幅可能な波長域の励起光を発する。なお、各部は光信号パスで接続されている。
この光ファイバ増幅器120では、WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123からの励起光が入力されると共に、第2入力ポートI2に接続されたパルス種光源110からのパルス種光が入力され、それらを合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、WDMカプラ122から励起光及びパルス種光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光及び励起光自体をも増幅して出力する。
ここで、このパルス光源100では、励起光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、励起光源123からの励起光もが希土類元素ドープファイバ121により増幅されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。つまり、本実施形態7では、励起光源123は増幅能規制光源を兼ねている。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFであり、パルス種光源110からのパルス種光の波長が1550nmの場合、励起光源123の例として波長1510〜1550nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFであり、パルス種光源110からのパルス種光の波長が1000nmの場合、励起光源123の例として波長965〜990nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができる。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。本実施形態7では、パルス種光と励起光とが一旦合波され、後述のように、その合波が増幅後にそれぞれ分離されるため、パルス種光及び励起光が相互に波長が異なっている。
出力用WDMカプラ150は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、パルス種光及び励起光の合波が増幅されたものが入力され、波長分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に励起光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は実施形態3と同一である。
(実施形態8)
図14は、本発明の実施形態8に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び4と同一名称の部分は同一符号で示す。
図14は、本発明の実施形態8に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1及び4と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と光ファイバ増幅器120と偏波分離器(光分離器)180とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を光ファイバ増幅器120で増幅して出力する。
パルス種光源110は、実施形態1のものと構成が同一である。
光ファイバ増幅器120は、偏波保持ファイバからなる希土類元素ドープファイバ121と、偏波合成器(光合成器)170及び励起光源123と、で構成され、第1入力ポートI1に励起光源123が接続された偏波合成器170の出力ポートOが希土類元素ドープファイバ121の前側に接続されている。また、偏波合成器170の第2入力ポートI2にはパルス種光源110が接続されている。そして、この励起光源123は、希土類元素ドープファイバ121により増幅可能な波長域の励起光を発する。なお、各部は光信号パスで接続されている。
光ファイバ増幅器120では、偏波合成器170は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123からの励起光が入力されると共に、第2入力ポートI2に接続されたパルス種光源110からのパルス種光が入力され、パルス種光及び増幅能規制光のいずれか一方をp偏光、他方をs偏光としてそれらを合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、偏波合成器170から励起光及びパルス種光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光及び励起光自体をも増幅して出力する。また、希土類元素ドープファイバ121は、偏波保持ファイバからなるので、偏波状態を維持した状態で出力光を出力する。
ここで、このパルス光源100では、励起光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、励起光源123からの励起光が希土類元素ドープファイバ121により増幅されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。つまり、本実施形態8では、励起光源123は増幅能規制光源を兼ねている。例えば、希土類元素ドープファイバ121がEDFの場合、励起光源123の例として波長1520〜1720nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(EDFL)や半導体LDを挙げることができる。また、希土類元素ドープファイバ121がYDFの場合、励起光源123の例として波長965〜990nm帯や波長1020〜1150nm帯のレーザー光を発するファイバレーザー(YDFL)や半導体LDを挙げることができる。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
偏波分離器180は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、p偏光及びs偏光の一方であるパルス種光、及び、他方である増幅能規制光の合波が増幅されたものが入力され、偏波分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は、実施形態3と同一である。
(実施形態9)
図15は、本発明の実施形態9に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
図15は、本発明の実施形態9に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と偏波合成器(光合成器)170と光ファイバ増幅器120と偏波分離器(光分離器)180とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を光ファイバ増幅器120で増幅して出力する。
光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121が偏波保持ファイバで構成されていることを除いては実施形態3のものと構成が同一であり、つまり、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。
パルス種光源110は、種光源111と分波器113と変調器112とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続されている。
パルス種光源110では、希土類元素ドープファイバレーザー(例えば、エルビウムドープファイバレーザー(EDFL))等からなる種光源111は連続レーザー光を発する。分波器113は、種光源111からの連続レーザー光が入力ポートIから入力され、それを二分して一対の出力ポートOのそれぞれから出力する。変調器112は、分波器113の一方の出力ポートOからの連続レーザー光が入力され、それを一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数の矩形パルス或いは台形パルスのパルス種光に変調して出力する。また、分波器113は、他方の出力ポートOから種光源111からの連続レーザー光を増幅能規制光としてそのまま出力する。
偏波合成器170は、パルス種光源110が接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、パルス種光源110の分波器113の他の出力ポートOに接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、パルス種光及び連続レーザー光のいずれか一方をp偏光、他方をs偏光としてそれらを合波して出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123からの励起光が入力されると共に、第2入力ポートI2に接続された偏波合成器170からのパルス種光及び増幅能規制光が入力され、それらを合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、偏波合成器170から励起光、並びに、パルス種光及び増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光及び増幅能規制光を増幅して出力する。また、希土類元素ドープファイバ121は、偏波保持ファイバからなるので、偏波状態を維持した状態で出力光を出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光が希土類元素ドープファイバ121により増幅されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。つまり、本実施形態9では、パルス種光源110は増幅能規制光源を兼ねている。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
偏波分離器180は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、p偏光及びs偏光の一方であるパルス種光、及び、他方である増幅能規制光の合波が増幅されたものが入力され、偏波分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は、実施形態3と同一である。
なお、本実施形態9では、パルス種光及び連続レーザー光が同一の種光源111からのものであり、同一波長の光であるので、波長分離による分波を行うことはできない。
(実施形態10)
図16は、本発明の実施形態10に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
図16は、本発明の実施形態10に係るパルス光源100を示す。なお、実施形態1と同一名称の部分は同一符号で示す。
このパルス光源100は、パルス種光源110と偏波合成器(光合成器)170と光ファイバ増幅器120と偏波分離器(光分離器)180とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続され、パルス種光源110からのパルス種光を光ファイバ増幅器120で増幅して出力する。
光ファイバ増幅器120は、希土類元素ドープファイバ121が偏波保持ファイバで構成されていることを除いては実施形態3のものと構成が同一であり、つまり、実施形態1のもののような励起光源123からの励起光のパワーの設定はなされていない。
パルス種光源110は、種光源111と変調器112とで構成されていると共に、それらが光信号パスにより直列に接続されている。
パルス種光源110では、種光源111は、希土類元素ドープファイバレーザー(例えば、エルビウムドープファイバレーザー(EDFL))等からなり、連続レーザー光を発する。変調器112は、入力ポートIに接続された種光源111から連続レーザー光が入力され、2つの出力ポートOのうち一方からその連続レーザー光を一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光に変調したパルス種光を出力し、他方から連続レーザー光をパルス種光とは反対のパターンに変調した断続レーザー光からなる増幅能規制光を出力する。
偏波合成器170は、パルス種光源110の変調器112の一方の出力ポートOが接続された第1入力ポートI1からパルス種光が入力されると共に、変調器112の他方の出力端が接続された第2入力ポートI2から増幅能規制光が入力され、パルス種光及び増幅能規制光のいずれか一方をp偏光、他方をs偏光としてそれらを合波して出力ポートOから出力する。
光ファイバ増幅器120では、WDMカプラ122は、第1入力ポートI1に接続された励起光源123からの励起光が入力されると共に、第2入力ポートI2に接続された偏波合成器170からのパルス種光又は増幅能規制光が入力され、それらを合波して出力ポートOから出力する。希土類元素ドープファイバ121は、偏波合成器170から励起光、及び、パルス種光又は増幅能規制光が入力されるが、励起光により希土類元素の最外殻電子が励起されて反転分布状態となり、その誘導放出によりパルス種光又は増幅能規制光を増幅して出力する。また、希土類元素ドープファイバ121は、偏波保持ファイバからなるので、偏波状態を維持した状態で出力光を出力する。
ここで、このパルス光源100では、増幅能規制光により、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されている。具体的には、増幅能規制光が希土類元素ドープファイバ121により増幅されると、それによって希土類元素ドープファイバ121の光増幅エネルギーが消費され、その増幅能が規制される。つまり、本実施形態10では、パルス種光源110は増幅能規制光源を兼ねている。このように、希土類元素ドープファイバ121の増幅能が規制されることにより、光増幅エネルギーの分配がパルス幅の全体にわたって概ね均一となり、パルス種光源110からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅される。
偏波分離器180は、入力ポートIから光ファイバ増幅器120の出力光、つまり、p偏光及びs偏光の一方であるパルス種光、及び、他方である増幅能規制光の合波が増幅されたものが入力され、偏波分離により、第1出力ポートO1から前者を出力する一方、第2出力ポートO2から後者を出力する。そのため、第1出力ポートO1の出力光に増幅能規制光の成分が含まれるのが防がれる。
作用効果は、実施形態3と同一である。
なお、本実施形態10では、パルス種光及び連続レーザー光が同一の種光源111からのものであり、同一波長の光であるので、波長分離による分波を行うことはできない。
(その他の実施形態)
上記実施形態1〜10では、変調器112によりパルス種光を生じさせる構成としたが、特にこれに限定されるものではなく、半導体LDを駆動電流制御してパルス種光源110とした構成であってもよい。その場合、変調器112を省略することができる。
上記実施形態1〜10では、変調器112によりパルス種光を生じさせる構成としたが、特にこれに限定されるものではなく、半導体LDを駆動電流制御してパルス種光源110とした構成であってもよい。その場合、変調器112を省略することができる。
また、上記実施形態3、5及び7では、出力用WDMカプラ150により出力光の波長分離を行う構成としたが、特にこれに限定されるものではなく、帯域通過フィルタを用いて波長分離を行う構成であってもよい。
また、上記実施形態7及び8を除いては、希土類元素ドープファイバ121の両側から励起光を入力する双方励起の光ファイバ増幅器120としたが、特にこれに限定されるものではなく、前方励起のものであっても後方励起のものであってもよい。後方励起は、希土類元素ドープファイバ121の出力側よりも入力側の増幅能が低くなるので、希土類元素ドープファイバ121の増幅能の規制という観点からは好ましい態様である。
また、パルス立ち上がりが急峻なほどパルス歪みが生じやすく、希土類元素ドープファイバの増幅能をより低く規制する必要がある。従って、希土類元素ドープファイバの増幅能を高い状態で規制するためには、パルス立ち上がり時間を10ns以上、好ましくは40ns以上、さらに好ましくは100ns以上とするのがよい。
また、上記実施形態4、6、8、9及び10では、偏波分離器180を用いたが、偏光子を用いることもできる。
以上説明したように、本発明は、パルス光源について有用である。
100 パルス光源
110 パルス種光源
111 種光源
112 変調器
113 分波器
120 (第1)光ファイバ増幅器
121 希土類元素ドープファイバ
122 WDMカプラ
123 励起光源
130 第2光ファイバ増幅器
140 入力用WDMカプラ(光合成器)
150 出力用WDMカプラ(光分離器)
160 制御器
170 偏波合成器(光合成器)
180 偏波分離器(光分離器)
190 増幅能規制光源
200 アテネータ
300 光電変換器
400 オシロスコープ
i 入力ポート
o 出力ポート
110 パルス種光源
111 種光源
112 変調器
113 分波器
120 (第1)光ファイバ増幅器
121 希土類元素ドープファイバ
122 WDMカプラ
123 励起光源
130 第2光ファイバ増幅器
140 入力用WDMカプラ(光合成器)
150 出力用WDMカプラ(光分離器)
160 制御器
170 偏波合成器(光合成器)
180 偏波分離器(光分離器)
190 増幅能規制光源
200 アテネータ
300 光電変換器
400 オシロスコープ
i 入力ポート
o 出力ポート
Claims (8)
- 一定のパルス幅及びパルス繰返し周波数のパルス種光を発するパルス種光源と、
励起光を発する励起光源と、該励起光源からの励起光及び上記パルス種光源からのパルス種光が入力される希土類元素ドープファイバと、を有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出によりパルス種光を増幅する光ファイバ増幅器と、
を備えたパルス光源であって、
上記パルス種光源からのパルス種光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されていることを特徴とするパルス光源。 - 請求項1に記載されたパルス光源において、
励起光を発する第2励起光源と、該第2励起光源からの励起光及び上記光ファイバ増幅器からの出力光が入力される第2希土類元素ドープファイバと、を有し、励起光により希土類元素の最外殻電子を励起させて反転分布状態とし、その誘導放出により出力光を増幅する第2光ファイバ増幅器をさらに備え、
上記光ファイバ増幅器からの出力光が全パルス幅にわたって均一な利得で増幅されるように上記第2希土類元素ドープファイバの増幅能が規制されていることを特徴とするパルス光源。 - 請求項1に記載されたパルス光源において、
上記希土類元素ドープファイバは、上記励起光源から発せられる励起光のパワーの設定によりその増幅能が規制されていることを特徴とするパルス光源。 - 請求項1に記載されたパルス光源において、
上記光ファイバ増幅器に入力される増幅能規制光を発する増幅能規制光源をさらに備え、
上記希土類元素ドープファイバは、上記増幅能規制光源からの増幅能規制光によりその増幅能が規制されていることを特徴とするパルス光源。 - 請求項4に記載されたパルス光源において、
上記増幅能規制光源は、上記光ファイバ増幅器への上記パルス種光源からのパルス種光の入力オフ時に該光ファイバ増幅器に増幅能規制光を入力することを特徴とするパルス光源。 - 請求項4に記載されたパルス光源において、
上記増幅能規制光源が発する増幅能規制光が連続光であり、
上記パルス種光源からのパルス種光と上記増幅能規制光源からの増幅能規制光とを分離可能に合波して上記光ファイバ増幅器に入力する光合波器と、
上記光ファイバ増幅器からの出力光をパルス種光を増幅したものと増幅能規制光を増幅したものとに分離する光分離器と、をさらに備えたことを特徴とするパルス光源。 - 請求項4に記載されたパルス光源において、
上記励起光源が上記増幅能規制光源を兼ねていることを特徴とするパルス光源。 - 請求項4に記載されたパルス光源において、
上記パルス種光源が上記増幅能規制光源を兼ねていることを特徴とするパルス光源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274719A JP2005039065A (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | パルス光源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274719A JP2005039065A (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | パルス光源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005039065A true JP2005039065A (ja) | 2005-02-10 |
Family
ID=34211601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003274719A Pending JP2005039065A (ja) | 2003-07-15 | 2003-07-15 | パルス光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005039065A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1837962A1 (en) * | 2006-03-23 | 2007-09-26 | Miyachi Technos Corporation | Laser beam processing apparatus |
-
2003
- 2003-07-15 JP JP2003274719A patent/JP2005039065A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1837962A1 (en) * | 2006-03-23 | 2007-09-26 | Miyachi Technos Corporation | Laser beam processing apparatus |
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