JP2005038586A - 光ピックアップ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 部品点数を少なくして、小型化を可能とする光ピックアップ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、電流が注入されたときにレーザー光を放射する有機化合物を包含する発光素子を備えた光ピックアップ装置であり、該素子は一対の電極間に有機化合物層を介在させたものである。その主要な構成要素となる有機化合物層は、レーザー光の放射を可能とするために、そのレーザー発振する波長を考慮して積層構造と各層の膜厚が決定されるものである。有機化合物層はキャリア輸送特性、発光波長の異なる複数の層を用いて形成される。また、反射層を介して形成された所謂共振器構造とすることは望ましい形態となる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光ディスクなど光学式記録媒体に記録されている情報の入出力に用いる光ピックアップ装置およびそれを用いた電子機器に関する。

音楽や映画などの情報を記録した光記録媒体の情報を読み出す光ピックアップ装置は、コンピュータをはじめ各種電子機器の用途に用いられている。

光ピックアップ装置は、光記録媒体の記録面にレーザービームを照射する。そのレーザービームを記録面上に走査しながら、その反射光を逐次検出器で受光することによって情報を読み取っている。光ピックアップ装置は、半導体レーザー、プリズム、ミラー、対物レンズ、光電変換素子などの個別部品を基体（ベース）に組み込んだものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特開平１１−１６１９７号公報

しかしながら、従来の光ピックアップ装置は、数十から数百点の部品を組み立てて完成させる精密加工製品である。光ピックアップ装置は、上記のように複数の部品が組みこまれるので、軽量化や小型化には限界があった。それによって、従来の光ピックアップ装置を組み込んだ電子機器は、小型化や薄型化に制限を受けていた。例えば、軽量薄型化をセールスポイントとするノート型のコンピュータでは、光記録媒体の再生装置を本体と別体化した商品が、しばしば販売されていた。

本発明はこのような問題点に鑑み、部品点数を少なくして、小型化を可能とする光ピックアップ装置を提供することを目的とする。

本発明は、電流が注入されたときにレーザービームを放射する発光素子を備えた光ピックアップ装置である。この光ピックアップ装置において用いる発光素子は、一対の電極間に有機化合物層を介在させたものである。その主要な構成要素となる有機化合物層は、レーザービームの放射を可能とするための層構造を備えている。その層構造は、レーザー発振の波長を考慮して、各層の膜厚が決定されている。

なお、本発明において、一対の電極間に形成される有機化合物を主成分とする薄膜を総称して有機化合物層と呼ぶ。有機化合物層は、一対の電極間に挟まれるように形成される。有機化合物層は、キャリア輸送特性や発光特性の異なる複数の層を用いて形成される。有機化合物層は、反射層を介して形成された、所謂共振器構造とすることは望ましい形態となる。

光ピックアップ装置は、レーザービームの放射が可能な発光素子と、該発光素子からのレーザービームを光記録媒体に照射する光学系と、該光記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とを備えている。光ピックアップ装置の好ましい一態様は、発光素子、光学系、受光素子及び信号処理回路部は同一基板上に一体形成されたものである。

本発明に係る光ピックアップ装置の一態様は、レーザービームの放射が可能な発光素子と、該発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し該記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と、該記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とを有している。ここで、発光素子と受光素子とトランジスタとは、同一基板上に一体形成されていることが好ましい態様となる。

本発明に係る光ピックアップ装置の一態様は、レーザービームを放射可能な発光素子と、発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し該記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とが一体形成されるものである。この光ピックアップ装置には、発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、該記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系が組み合わされている。

上記した発光素子は、一対の基板間に、有機化合物層が形成されている。有機化合物層から放射される光のスペクトルは、複数のピークを有したものである。有機化合物層の膜厚は、特定波長の光に対して定在波が立つように、制御されていることが好ましい。その膜厚は、特定波長の半波長、またはその整数倍の厚さで形成されていることが好ましい。

上記した発光素子は、有機化合物層から放射される光のスペクトルに複数のピークを含んでいても良い。そのピークの中で少なくとも一つは、半値幅が１０ｎｍ以下であるものが含まれている。

本発明の光ピックアップ装置で用いる発光素子は、レーザービームの放射を可能としたものである。しかし、当該レーザービーム以外に、ルミネセンス光を放射することを許容することができる。特定波長のレーザービームのみを取り出して利用可能とするためには、特定波長の光を透過する光学フィルターを組み合わせても良い。

有機化合物材料で形成したレーザービームを放射可能な発光素子と、受光素子と、ＴＦＴなど薄膜素子で形成した制御回路を基板上に一体形成して集積化すれば、光ピックアップ装置の部品点数を少なくすることができる。その結果、軽量化や小型化を実現することができる。

本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細をさまざまに変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に示す図面において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。

本実施の形態は、基体上に、レーザービームの放射が可能な発光素子、レーザービームを受光して光信号を電気信号に変換する受光素子、それらの素子に対する各種の信号制御するスイッチング素子、及び電力を供給する電源回路などを一体形成する。これらの複数の素子及び電源回路などを基板上に一体形成することで、部品点数が少なくて済む。その結果、光ピックアップ装置の小型化を可能にしている。

レーザービームを放射可能な発光素子は、以下に示すように有機化合物材料を用いる。有機化合物材料を用いることで、発光素子の薄膜化を図ることができる。さらに、薄膜トランジスタなどで形成する制御回路と一体形成することが可能となる。

図４はエレクトロルミネセンスによる発光とレーザービームを放射することができる発光素子１０の一態様を示す断面図である。この発光素子の構成は、基板１００上に第１の電極１０１、有機化合物層１０２、第２の電極１０７を積層したものとなっている。有機化合物層１０２は、ホール輸送層１０３、発光層１０４、電子輸送層１０５から成っている。なお、第１の電極とホール輸送層との間には、ホール注入層を設けても良い。また、電子輸送層と第２の電極との間には、電子注入層を設けても良い。図４では、電子輸送層１０５と第２の電極１０７との間に電子注入層１０６が設けられた形態を示している。

第１の電極１０１は、正の電圧を印加するものとして、これを陽極と規定する。陽極は有機化合物層へホールを注入するための電極としての機能を有する。そのためには、仕事関数の大きい（仕事関数４．０ｅＶ以上）材料が適当である。この条件を満たす材料としては、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)やＺｎＯ(Zinc Oxide)、ＴｉＮ(Titanium Nitride)などの透光性導電性酸化物、または窒化物を用いることができる。また、第１の電極１０１には、発光層で生じる光を閉じ込めて定常波を形成するための反射鏡としての機能も要求される。第１の電極１０１は、陽極としての機能と反射鏡としての機能とを分離して、複数の層を積層しても良い。例えば、ＩＴＯに代表されるなどの透光性導電性酸化物と、可視光の吸収が少なく、反射率が高く、かつ導電性を有する物質を薄膜化して積層しても良い。この導電性の光反射体としては、Ａｌなどを用いることができる。第１の電極１０１において、陽極としての機能と反射鏡としての機能とを一体化する場合には、ＡｇやＰｔなどを用いることができる。ＡｇやＰｔは、仕事関数が４．０ｅＶ以上であり、有機化合物層にホールを注入することができる。いずれにしても、第１の電極１０１を通してレーザービームを放射するために、ここで形成する反射鏡の反射率は５０％から９５％程度にするのが好ましい。

ホール注入材料としては、イオン化ポテンシャルの小さな材料を用いる。例えば、金属酸化物、低分子有機化合物、および高分子系化合物の中から選択することができる。金属酸化物としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウムなどを用いることができる。低分子有機化合物としては、ｍ−ＭＴＤＡＴＡに代表されるスターバースト型アミン、ＣｕＰｃに代表される金属フタロシアニンなどを用いることができる。高分子系化合物材料としては、ポリアニリンやポリチオフェン誘導体などの共役高分子を用いることができる。これらの材料をホール注入層として用いることにより、ホール注入障壁が低減し、発光層側に形成される有機化合物の層に効率よくホールが注入することができる。

ホール輸送層としては、代表的には芳香族アミンを用いることができる。例えば、４，４'−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］−ビフェニル（以下、α−ＮＰＤと示す）や、４，４'，４''−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニル−アミノ）−トリフェニルアミン（以下、ＴＤＡＴＡと示す）などを用いることができる。一方、高分子材料としては良好なホール輸送性を示すポリ（ビニルカルバゾール）などを用いてもよい。

発光層としては、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（以下、Ａｌｑ₃と示す）、トリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（以下、Ａｌｍｑ₃と示す）、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［η］−キノリナト）ベリリウム（以下、ＢｅＢｑ₂と示す）、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）−（４−ヒドロキシ−ビフェニリル）−アルミニウム（以下、ＢＡｌｑと示す）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾオキサゾラト］亜鉛（以下、Ｚｎ（ＢＯＸ）₂と示す）、ビス［２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾチアゾラト］亜鉛（以下、Ｚｎ（ＢＴＺ）₂と示す）などの金属錯体の他、各種蛍光色素をゲスト材料として用いることができる。また、白金オクタエチルポルフィリン錯体やトリス（フェニルピリジン）イリジウム錯体、トリス（ベンジリデンアセトナート）フェナントレンユーロピウム錯体などのりん光材料を用いることもできる。りん光材料は蛍光材料と比較して励起寿命が長いという特徴がある。そのため、レーザー発振に不可欠な、反転分布、すなわち、基底状態にある分子数よりも励起状態にある分子数が多い状態を作り出すことが容易になる。

なお、上述した発光層では、発光材料をゲスト材料として添加しても良い。すなわち、発光材料よりもイオン化ポテンシャルが大きく、かつバンドギャップの大きな材料をホストとし、これに上述した発光材料を少量（０．００１％から３０％程度）混合しても構わない。

電子輸送層としては、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体（以下、Ａｌｑ₃と記す）に代表されるような、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体やその混合配位子錯体などが好ましい。さらに、金属錯体以外にも、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（以下、ＰＢＤと示す）、１，３−ビス［５−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（以下、ＯＸＤ−７と示す）などのオキサジアゾール誘導体、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（以下、ＴＡＺと示す）、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−（４−エチルフェニル）−５−（４−ビフェニリル）−１，２，４−トリアゾール（以下、ｐ−ＥｔＴＡＺと示す）などのトリアゾール誘導体、バソフェナントロリン（以下、ＢＰｈｅｎと示す）、バソキュプロイン（以下、ＢＣＰと示す）などのフェナントロリン誘導体を用いることができる。

電子注入層は、フッ化カルシウムやフッ化リチウム、臭化セシウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩を使用すればよい。また、これらの金属元素をその他の金属に含ませた構成、電子輸送材料に含ませた構成としても良い。

第１の電極を陽極とした場合、それに対して第２の電極は陰極として機能する。陰極は有機化合物材料と比較して相対的に仕事関数の小さい（仕事関数４．０ｅＶ以下）金属材料で形成する。または、該金属材料を含む合金材料、或いは化合物材料を用いることもできる。具体的には、１族または２族の典型元素、すなわちＬｉやＣｓ等のアルカリ金属、およびＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（Ｍｇ/Ａｇ、Ａｌ/Ｌｉ）を適用することができる。その他、希土類金属を含む遷移金属を用いて形成することもできる。これに、Ａｌ、Ａｇ、ＩＴＯ等の金属（合金を含む）とを積層して形成しても良い。この発光素子は共振器構造を有している。共振器構造は、陽極と陰極によって形成されている。したがって、陰極材料としては可視光の吸収が小さく、反射率の大きな金属が好ましい。具体的にはＡｌやＭｇ、あるいはこれらの合金が好ましい。また、この陰極では反射率が限りなく１００％に近いことが好ましいので、可視光が透過しない程度の膜厚は必要である。

上述した有機化合物は、湿式、乾式、いずれの方法を適用して形成しても構わない。高分子材料の場合では、スピンコート法やインクジェット法、ディップコート法、印刷法などが適している。一方低分子材料であれば、ディップコート法やスピンコート法だけでなく、真空蒸着などによっても成膜される。陽極材料及び陰極材料は、蒸着法、スパッタリング法等によって形成する。

この発光素子において考慮すべき重要な要素は、陽極と陰極、または陽極上の反射鏡と陰極の間隔である。すなわち、有機化合物層の厚さが重要な要素となる。レーザービームを出すために定常波を形成して光を増幅させるには、半波長の整数倍の間隔が必要である。例えば４００ｎｍの光を増幅させるためには、少なくとも２００ｎｍの間隔が必要である。同様に、８００ｎｍの光を増幅させるためには、４００ｎｍの間隔が必要である。上述した有機発光材料の発光波長は、主として可視光領域に存在する。したがって、４００ｎｍから８００ｎｍと定義される可視光を増幅させるためには、反射鏡と陰極の間隔、すなわち機能層の膜厚を２００ｎｍ以上にする必要がある。なお、光速は材料の屈折率分小さくなることを考慮する必要があるため、実際には膜厚を屈折率で割った値が２００ｎｍよりも大きいことが必要である。

上記した各層は、ガラス、石英、或いは、アクリル、ポリカーボネートなどのプラスチックを基材とした基板１００上に形成する。さらに保護膜などで被覆することで、レーザービームの放射が可能な、固体化された発光素子を形成することができる。

次に、本実施の形態に適用可能な光源の一例を詳細に説明する。なお、以下の説明においては同様に図４を参照して行う。

電極や発光層などの被膜を形成するための基板１００として、ガラス基板（例えば、市販はされているアルミノシリケートガラスやバリウムホウケイ酸ガラスなどが好ましい）を用いる。その上に、第１の電極（陽極）１０１として、ＩＴＯ膜をスパッタリング法で３０〜１００ｎｍの厚さで形成する。

その上にホール輸送層１０３として、真空蒸着により４，４'−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］−ビフェニル(ＮＰＢ)を成膜する。発光層１０４は、ホスト材料である４，４'−ビス（Ｎ−カルバゾリル）−ビフェニル(ＣＢＰ)と三重項発光材料であるイリジウム錯体、Ｉｒ(tpy)₂(acac)を共蒸着する。ＣＢＰとイリジウム錯体は重量比で１０：１である。この上に電子輸送層１０５をバソキュプロイン(ＢＣＰ)で形成する。電子注入層１０６はフッ化カルシウム（ＣａＦ₂）を用い、第２の電極１０７としてＡｌを蒸着によって形成する。

有機材料で形成する各層の膜厚は、発生した光を有機化合物層中で増幅する事を目的として設定している。すなわち、発光層１０４中に添加されたＩｒ錯体またはホール輸送層１０３からの発光が、第１の電極１０１と有機化合物層１０２が接する界面と、電子輸送層１０５と電子注入層１０６が接する界面とで反射を繰り返しながら定常波を形成するようにすることが好ましい。あるいは、電子注入層１０６と第２の電極１０７とが接する界面で反射を繰り返しながら定常波を形成するようにすることが好ましい。

ここで用いた有機化合物材料のなかで、発光可能なものはＩｒ錯体とＮＰＢである。これらは可視光領域（４００〜８００ｎｍ）に発光を示す材料として知られている。定常波を形成するためには、反射面の間隔が半波長の整数倍であることが必要条件である。例えば、４００ｎｍの光の定常波を形成するためには２００ｎｍおよびこれの整数倍の長さが必要である。つまり、２００、４００、６００ｎｍというように、２００の整数倍の膜厚が必要とされる。同様に、８００ｎｍの光の定常波を形成させるためには、反射面間隔、すなわち膜厚は４００、８００、１２００ｎｍというように、４００ｎｍの整数倍であることが必須条件である。

例えば、一例として、ホール輸送層１０３を１３５ｎｍ、発光層１０４を３０ｎｍ、電子輸送層１０５を１０５ｎｍの厚さで形成する。有機化合物層の膜厚は合計で２７０ｎｍとなる。この場合、有機化合物の屈折率を１．７と仮定すると、定常波を形成できる光の波長は９２０ｎｍを整数で割った波長であり、可視光領域では４６０ｎｍとなる。

図５にはこのように形成した光源の発光スペクトルを示している。第１の電極を陽極とし、第２の電極を陰極となるようにして直流電圧を印加して電流を流すことにより発光を得ている。発光は６Ｖ付近から観測可能であり、２４Ｖ印加することによって数万カンデラ（Ｃｄ）の発光が得られている。

図５（Ａ）（Ｂ）の両スペクトルにおいて、縦軸の発光強度は規格化した値を示している。図５（Ａ）は、第１の電極側から観測した面発光である。一方、図５（Ｂ）は有機化合物層が積層形成された基板の横方向から観測した発光のスペクトルである。図５（Ａ）では、４７５〜６５０ｎｍの波長帯域に強い発光が観測される。この発光はＩｒ錯体からの発光に基づくものである。

この結果は、キャリア（ホールと電子）は主として発光層１０４中で再結合してＩｒからの発光に寄与していることを示している。しかし、一部のキャリアはホール輸送層１０３の中でも再結合していることを示唆している。この面発光では、発光強度は電流密度の変化に比例して変化する。したがって、いずれの電流密度においても、スペクトルは全く同一の形状となる。そして、発光強度だけが電流密度の増大に比例して直線的に増大する。

図５（Ａ）のスペクトルに対し、図５（Ｂ）で示す側面から得られる発光スペクトルは二つの特徴を有している。まず一つは、４７５〜６５０ｎｍの波長帯域における発光スペクトルの波形が異なる点である。もう一点は４６０ｎｍ付近に鋭い発光スペクトルが観測されることである。前者の原因は必ずしも明らかでないが、後者の発光スペクトルは有機化合物層１０２で定在波が形成され、この波長の光のみが増幅されているためと考えられる。実際、上述したように、有機化合物層１０２の膜厚で定常波が許容される波長は４６０ｎｍである。最も特徴的なことは、４７５〜６５０ｎｍの波長帯域における発光は、電流密度の増大に比例して強度が変化するのに対し、４６０ｎｍ付近にピークのある別の発光スペクトルは電流密度の増大よりもさらに大きく発光強度が増大する事である。したがって、図５（Ｂ）の規格化された発光強度では、４６０ｎｍの発光のみが相対的に増大することになる。

以上のことから、この発光素子の構造が４６０ｎｍの光の共振器として働き、光を増幅させていることを示している。

このようなレーザービームを放射可能な発光素子を用いた光ピックアップ装置の構成を以下に説明する。

図１は本発明における光ピックアップ装置の構成を説明する図である。基体２００には薄膜を積層して形成されるレーザービームの放射が可能な発光素子１０、発光素子を制御する第１の制御回路１２と、受光素子１３とその信号を読み取る第２の制御回路１４、電源回路１５が基板上に一体形成されている。第１及び第２の制御回路は、ＭＯＳトランジスタや、非晶質または結晶性の半導体膜を使った薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）で集積回路化して形成されるものである。勿論、一部の回路は、半導体チップ上に集積化したものを基体２００上に実装しても良い。

コリメータレンズ１５０、ミラー１５１、対物レンズ１５２などの光学系２０１は、発光素子１０から放射されるレーザービームを集光し、光ディスクなどの光記録媒体１５３に照射して、反射光を受光素子１３に受光させる構成のものであれば良く、図示しているものに限定されない。光学系２０１は基体２００とは別体で形成するものであるが、筐体などに組み入れて一体化することが望ましい。

図２（Ａ）は基体２００上の基板２０上に発光素子１０、第１の制御回路１２、受光素子１３、第２の制御回路１４、電源回路１５を一体化した光ピックアップ装置を示している。ミラー１５１ａ、１５１ｂ、対物レンズ１５２などの光学系２０１は、光記録媒体１５３との間に配置されている。

図２（Ｂ）は電源回路１５を別の集積回路部品として基体２００上に実装したものである。また、同図に示すように、発光素子１０と第１の制御回路１２、および受光素子１３と第２の制御回路１４を複数個設けても良い。これにより３ビーム方式など複数のビームを用いた読み取り方式に対応することができる。具体的には、コンパクトディスクなどの光ディスクを再生する時の３ビーム方式（１つのメインビームと２つのサブビーム）と、ＤＶＤ(Digital Versatile Disc)を再生する時の１ビーム方式に対応することが可能となり、光記録媒体に対する互換性を持たせることができる。

発光素子１０、受光素子１３、および第１の制御回路１２と第２の制御回路１４は、導電性、半導電性、絶縁性の薄膜を適宜積層して基板上に形成することが可能である。発光素子１０はレーザービームの放射を可能とする有機化合物層を用いる。上記した構成の発光素子を適用することができる。

受光素子１３は、非晶質半導体膜（例えば、非晶質シリコン膜）や結晶質半導体膜（例えば、多結晶シリコン膜）を用いてｐｉｎ接合型、ｎｉｎ接合型、ｐｉｐ接合型、ショットキーバリア型などの構成で、光電変換機能を持たせた素子である。接合を形成する半導体層の厚さは１μｍ程度あれば良く、光入射側にＩＴＯなどの透光性導電膜を形成し、他方の電極をＡｌなどの金属材料で形成すれば良い。

第１の制御回路１２および第２の制御回路１４を形成する素子としては、抵抗素子、容量素子の他にスイッチング素子をトランジスタを用いて形成する。トランジスタの典型的な形態は、非晶質半導体膜または結晶性半導体膜を用いた薄膜トランジスタである。薄膜トランジスタは、ガラスやプラスチックを基材とする基板２０上に形成することができる。また、基板２０にシリコンウエハーなどの単結晶基板やＳＯＩ(Silicon On Insulator)基板を用いた場合には、ＭＯＳトランジスタで制御回路を形成しても良い。

上記した各素子を同一の基板上に積層させて一体形成することが可能である。図３は基板２０上にこれらの素子を一体形成した一態様を示す図である。

図３（Ａ）において、基板２０は、アルミノシリケートガラスやバリウムホウケイ酸ガラスなどを基材としたガラス基板、石英基板、アクリル、ポリカーボネートなどを基材としたプラスチック基板など絶縁表面を有する基板を使用することができる。或いはＳＯＩ基板の他、シリコンウエハーなどの単結晶半導体基板を用いることができる。

基板２０上には発光素子１０と受光素子１３を一体形成することが可能である。また、これらの素子を制御する薄膜トランジスタ３０１、３０２は結晶性半導体膜または非晶質半導体膜を用いて形成される。図３（Ａ）ではトップゲート型の薄膜トランジスタを例示している。この薄膜トランジスタ３０１、３０２上には層間絶縁膜３０３を介して発光素子１０が形成され、層間絶縁膜３０４を介して受光素子１３が形成されている。発光素子１０および受光素子１３は各薄膜トランジスタと接続している。

発光素子１０は第１の電極１０１、有機化合物層１０２、第２の電極１０７を積層形成して形成する。第１の電極１０１は薄膜トランジスタ３０２と接続するために、複数の導電膜を積層することで形成することが好ましい。好適な構成の一形態としては、薄膜トランジスタの半導体膜とコンタクトを形成するチタン（Ｔｉ）からなる第１の導電膜、アルミニウム（Ａｌ）からなる第２の導電膜、窒化チタン（ＴｉＮ）からなる第３の導電膜から成っている。第１の電極１０１を形成する材料はこれに限定されないが、最上層に形成する導電膜は発光素子１０の一方の電極とするために、後述するように適宜選択することが好ましい。

その上にＡｌ膜３０と無機材料または有機材料から成る絶縁膜３１を形成する。
Ａｌ膜３０と絶縁膜３１とを選択的にエッチングすることで開口部を有する隔壁を形成する。この開口部の側壁を、好ましくは４５度程度の傾斜角を持つようにエッチング加工する。そして、Ａｌ膜３０の表面を露出させることにより鏡面体を形成する。

有機化合物層１０２、第２の電極１０７は、こうして形成された隔壁の開口部を覆うように第１の電極１０１上に成膜する。さらに図３（Ａ）で示すように有機化合物層１０２と第２の電極の一端部をエッチングして有機化合物層１０２の側面を露出させる。

上記構成により、有機化合物層１０２の厚さを特定波長の１／２倍（半波長倍）にする。それにより、発光した光が第１の電極１０１と第２の電極１０７との間で反射して、この波長の光の定在波を形成することが可能である。すなわち、共振器構造を形成することでこの波長の光の定在波が形成され、レーザービームを放射することが可能となる。

このとき、有機化合物から放射される光には、特定波長の半値幅の狭いレーザービームの他に、他の波長帯域において発光したルミネセンス光も同時に放射される場合がある。ルミネセンス光を除去するには、特定波長を選択的に透過可能な光学フィルター３２をレーザービームの光路上に設けておく。

受光素子１３は発光素子１０と同じ絶縁表面上に形成しても良い。また、受光素子１３を層間絶縁膜を介してその上層または下層側に配置しても良い。発光素子１０と受光素子１３との位置関係は光学系２０１との相対的な位置関係で決めれば良い。

図３（Ａ）は第２の層間絶縁膜３０４上に受光素子１３を設けた一例を示している。例えば、薄膜トランジスタ３０１に接続する配線３１０を一方の電極として、その上に、ｎ型半導体層３１１、光電変換可能な半導体層３１２、ｐ型半導体層３１３を順次積層（ｎ型半導体層とｐ型半導体層の積層順はこの逆としても良い）させる。すなわち、ｐｉｎ接合型の光電変換層を形成する。上部電極３１４は、ＩＴＯで形成すれば良い。

図３（Ｂ）は受光素子１３をＴＦＴ３０２を形成する半導体膜と同じ層で形成する一例を示している。受光素子１３はレーザーアニール法などで結晶化した多結晶シリコンに代表される結晶性半導体膜を用いて形成することが可能である。この受光素子１３は、光電変換可能な半導体領域１１６をｐ型半導体領域１１５およびｎ型半導体領域１１７が挟んで形成するものである。

図３（Ｃ）は、非晶質半導体膜を用いたＴＦＴ３０４と、電極３０９上にｎ型半導体層３１１、光電変換可能な半導体層３１２、ｐ型半導体層３１３を順次積層（ｎ型半導体層とｐ型半導体層の積層順はこの逆としても良い）させた光電変換層３１５を形成し、上部電極３１４としてＩＴＯを形成したフォトダイオードで受光素子１３を形成する一態様を示している。

本実施の形態のように、ＴＦＴを用いた制御回路、発光素子１０、受光素子１３を基板２０上に一体形成することができる。この基板２０と光学系とを組み合わせることにより、光ピックアップ装置を完成させることができる。

このような構成により作製される光ピックアップ装置を、図６で例示するコンピュータや映像再生装置をはじめ、その他の電子装置を完成させることができる。

図６(Ａ)は本発明を適用してコンピュータを完成させた一例である。コンピュータは、本体２２０１、筐体２２０２、表示部２２０３、キーボード２２０４、外部接続ポート２２０５、ポインティングマウス２２０６、ＣＤ−Ｒ／ＲＷドライブ２２０７を包含している。本発明の光ピックアップ装置は、ＣＤ−Ｒ／ＲＷドライブ２２０７に用いることができる。この光ピックアップ装置は、上記の発光素子及び薄膜トランジスタを基板上に構成したものであり、薄型で軽量化された携帯性の優れたコンピュータを完成させることができる。

図６(Ｂ)は本発明を適用して映像再生装置（ＤＶＤプレーヤー）を完成させた一例であり、本体２４０１、筐体２４０２、表示部Ａ２４０３、表示部Ｂ２４０４、記録媒体読込部２４０５、操作キー２４０６、スピーカー部２４０７などにより構成されている。本発明の光ピックアップ装置を記録媒体読込部２４０５に用いることにより、薄型で軽量化された携帯性の優れた映像再生装置を完成させることができる。

本発明の光ピックアップ装置の構成を説明する図である。 本発明の光ピックアップ装置であって、基体上に発光素子と受光素子と制御回路とを基板上に一体形成する状態を示す斜視図である。 基板上に発光素子と受光素子と制御回路のＴＦＴとを基板上に一体形成する状態を示す断面図である。 本発明の光ピックアップ装置に用いる発光素子の構成を説明する図である。 図４の構成の発光素子から放射される発光スペクトルの電流密度依存性を示し、発光強度の最大値で規格化したグラフである。 本発明の光ピックアップ装置により完成する電子機器の一例を説明する図である。

Claims (6)

1. レーザービームを放射可能な発光素子と、前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とが同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
2. レーザービームを放射可能な発光素子と、前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と、前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とを有し、
   前記発光素子と、前記受光素子と、トランジスタとが同一基板上に形成されていることを特徴とする光ピックアップ装置。
3. レーザービームを放射可能な発光素子と、前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光して電気信号に変換する受光素子と、トランジスタで形成された信号処理回路部とが一体形成され、
   前記発光素子からのレーザービームを集光して記録媒体に照射し、前記記録媒体からの反射光を受光素子に導く光学系と組み合わされていることを特徴とする光ピックアップ装置。
4. 前記発光素子は、一対の基板間に、有機化合物層が形成され、前記有機化合物層から放射される光の発光スペクトルは複数のピークを有し、前記発光スペクトルの内、特定波長の光に対して定在波が立つように、前記有機化合物層の膜厚が、前記波長の半波長またはその整数倍の厚さで形成されていることを特徴とする請求項１乃至３に記載の光ピックアップ装置。
5. 前記発光素子は、複数の発光ピークを有し、少なくとも一つの発光ピークの半値幅が、１０ｎｍ以下であるピーク波長の光を放射する有機化合物層が一対の電極間に備えられていることを特徴とする請求項１乃至３に記載の光ピックアップ装置。
6. 前記発光素子の光出力側に、前記特定波長の光を透過する光学フィルターが備えられていることを特徴とする請求項１乃至３に記載の光ピックアップ装置。
   

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