JP2005037969A - 偏光変換素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ランダムの偏光を偏光方向の揃った偏光に変換する偏光分離素子において、位相差板が透光性部材の光出射面に貼り付けられているため、その耐熱性や耐候性、耐久性などの面で改善が望まれていた。また偏光分離素子の製造においては、透光性部材の光入射面と光出射面を研磨仕上げした後に、光出射面に部分的に位相差板を1本ずつ貼り付ける工程を有するため、その生産性の点でも問題があった。
【解決手段】偏光変換素子の位相差板を、複数の透光性部材の接合部に偏光分離膜に隣接させ、あるいは反射膜に隣接させて挟み込んで接着配置する。また偏光分離膜と反射膜が形成された第１と第２の透光性板を交互に積層し接着する際に、第１と第２の透光性板の間に１／４波長位相差板を挟み込んで積層し接着した積層体を形成する。この積層体を積層面に対し斜めに切断して偏光変換素子ブロックを切り出し、研磨加工することによって偏光変換素子を製造する。
【選択図】図１

Description

この発明は、偏光変換素子およびその製造方法に関する。

ランダムな偏光の光を、偏光方向の揃った１種類の直線偏光に変換して出射する偏光変換素子としては、特許文献１：特開平７−２９４９０６号公報に記載されたものが知られている。図１１（Ａ）には、このような偏光変換素子の斜視図、図１０（Ｂ）にはその平面図およびこの偏光変換素子における偏光変換を例示した。この偏光変換素子は、偏光分離膜１１を有する線状の偏光ビームスプリッタ１１０と、反射膜１２を有するプリズム１２０とを交互に貼り合わせたものである。また偏光分離素子の出射面の一部に選択位相差板として、λ／２位相差板（１／２波長位相差板）１３０を備えている。

この構成の偏光変換素子において、光入射面に入射したＳ偏光成分（偏光ベクトルが入射面に垂直な偏光、Ｓ波）とＰ偏光成分（偏光ベクトルが入射面内にある偏光、Ｐ波）とを含む入射光は、まず、偏光分離膜１１によりＳ波とＰ波とに分離される。Ｐ波は、偏光分離膜１１をそのまま透過し、λ／２位相差板１３０によってＳ波に変換されて出射する。またＳ波は偏光分離膜１１によってほぼ直角に反射し、反射膜１２によりさらに直角に反射し、出射する。従って、この偏光変換素子に入射したランダムな偏光方向を有する光は、すべてＳ波の光となって出射する。

また、このような構造の偏光分離素子の製造方法については、特許文献２：特開平２−２２７９０１号、特許文献３：特開平１０−３９１３６号、および特許文献４：特開平１０−９０５２０号に記載されている。これらは偏光分離膜と反射膜の形成された透光性板材を積層接着した後、積層面に対し例えば４５°の角度で切断してブロックを切り出し、光学研磨加工を行った後に、光出射面に部分的に位相差板を１本ずつ貼りつけるものである。
特開平７−２９４９０６号公報 特開平２−２２７９０１号公報 特開平１０−３９１３６号公報 特開平１０−９０５２０号公報

しかしながら、図１０のような偏光分離素子においては、λ／２位相差板がむき出しになって光出射面に貼り付けられていることから、耐熱性、耐候性や耐久性などの面で改善すべき点があった。また素子本体には通常ガラスが用いられ、その出射面には反射防止膜が施され、この面に貼り付けられるポリカーボネートなどのプラスチックのλ／２位相差板は素子本体のガラス出射面との密着性がよくないという問題点があった。また液晶プロジェクタなどの投射型表示装置においては、高出力の光源の近くに偏光変換装置を配置して用いることから、耐熱性や耐久性のより優れた素子が強く望まれてきた。

また偏光分離素子の製造において、光入射面と光出射面を研磨仕上げした後に偏光ビームスプリッタなどの光出射面にλ／２位相差板を1本ずつ貼り付ける工程を有するため、その生産性の点でも問題があった。

本発明は、従来技術における上述の課題を解決した偏光分離素子およびその製造方法を提供することを目的とするものである。

上記の課題を解決するため、本発明の偏光変換素子は、第１の主面を光入斜面、第２の主面を光出射面とす原出願に従ってる平板状の透光性基材中に、第１および第２の主面に対し傾斜して間隔をおいて交互に平行配置された第１の機能性光学膜と第２の機能性光学膜とを備え、第１の機能性光学膜は偏光分離膜であり、第２の機能性光学膜は第１の主面側から順に配置された反射膜と位相差板からなることを特徴とする。

本発明においては、偏光変換素子を構成する上で、平板状の透光性基材が光入射面を形成する第１の主面と光出射面を形成する第２の主面とは互いにほぼ平行であることが好ましく、また第１の機能性光学膜および第２の機能性光学膜はほぼ等間隔に配置されていることが好ましく、さらに第１の機能性光学膜および第２の機能性光学膜が主面とのなす角はほぼ４５°であることが好ましい。

本発明において、例えば位相差板として１／４波長（λ／４）位相差板を反射膜に隣接させて用いることにより、偏光変換素子の光入射面にランダム偏光を入射し、偏光分離膜を透過したＰ波を出射させ、また他方で偏光分離膜を反射したＳ波は、反射膜に隣接した位相差板を透過させた後に反射膜で反射させ再び位相差板を透過させることにより、Ｐ波に変換して出射させることができる。

本発明に用いるこのような位相差板として、ポリカーボネート系フィルムやポリアクリレート系フィルムなどを２軸延伸したプラスチックフィルムを用いることができる。

本発明の偏光変換素子によれば、位相差板がむき出しではなく、複数の透光性部材の接合部に偏光分離膜に隣接して挟み込まれて接着され配置されているので、位相差板として２軸延伸プラスチックフィルムが用いられた場合でも、ブラスチックフィルムの位相差板が熱によって変形したりはがれたりするのを避けることができる。このため耐熱性や耐候性などについて、従来に比べ大幅な向上が得られる。なお、本発明に用いる耐熱性の２軸延伸プラスチックフィルムとしては、ポリアクリレート系フィルムが特に優れていることがわかった。また本発明の偏光分離素子における接着面には、各種光学接着剤を用いることができる。

本発明の偏光変換素子においては、光の反射損失を低減するために、光入射面や光出射面に反射防止膜を設けることができる。ここで用いる反射防止膜としては、例えばＴｉＯ_２とＳｉＯ_２とを５層程度交互に蒸着し積層した積層膜を用いることができる。本発明の偏光変換素子においては、従来の偏光変換素子が光出射面に配置していた位相差板を素子の内部に設けるようにしたので、光出射面には位相差板を設ける必要がない。このため本発明の偏光変換素子においては、位相差板に煩わされることなく、密着性の良好な反射防止膜を光入射面や光出射面に設けることができる。

このようにして、本発明により耐熱性の優れた偏光変換素子が得られ、例えば１００℃程度の高温度で長時間使用する液晶プロジェクタに用いた場合にも、劣化が少ないという利点を有する偏光変換素子が製造可能となった。

本発明の偏光変換素子の製造方法は、平行な２面を有する第１の透光性板材の一方の面に偏光分離膜を形成する偏光分離膜形成工程と、平行な２面を有する第２の透光性板材の一方の面に反射膜を形成する反射膜形成工程と、偏光分離膜の形成された前記第１の透光性板材と、位相差板と、反射膜の形成された前記第２の透光性板材とを、前記位相差板が前記反射膜に隣接するように順次積層し接着して積層体を形成する積層接着工程と、この積層体を積層面に対し所定の角度で切断加工し、互いに平行な光入射面と光出射面とを有する偏光変換素子ブロックを形成する偏光変換素子ブロック形成工程と、偏光変換素子ブロックの前記光入射面と前記光出射面とを光学的に研磨する光学研磨工程とを備えたことを特徴とする。

また本発明の偏光変換素子の製造方法は、平行な２面を有する第１の透光性板材の一方の面に偏光分離膜を形成する工程と、この平行な２面を有する前記透光性部材のもう一方の面に反射膜を形成する工程と、偏光分離膜および反射膜の形成された前記第１の透光性板材と、位相差板と、偏光分離膜も反射膜も形成していない第２の透光性板材とを、この位相差板の板面が前記反射膜に隣接するように順次積層し接着して積層体を形成する積層接着工程と、この積層体を積層面に対し所定の角度で切断加工し、互いに平行な光入射面と光出射面とを有する偏光変換素子ブロックを形成する偏光変換素子ブロック形成工程と、この偏光変換素子ブロックの前記光入射面と前記光出射面とを光学的に研磨する光学研磨工程とを備えたものであってもよい。

上記本発明の偏光変換素子の製造方法においては、偏光分離膜と反射膜が形成された第１と第２の透光性板を交互に積層する際に、偏光分離膜と反射膜が形成された第１と第２の透光性板を交互に積層する際に、反射膜にλ／４位相差板を接着し、これを第１と第２の透光性板の間に挟み込むようにすればよい。このため、従来のように偏光変換素子ブロックを形成し光出射面を研磨加工した後にλ／２位相差板を１枚ずつ貼り付けるという手間のかかる工程が不要となり、従来に比べて大幅な生産性向上が得られる。

本発明の偏光変換素子の製造方法においては、上記積層接着工程が、複数の第１の透光性板材と複数の第２の透光性板材と位相差板とを光硬化性接着層を介して積層し、光照射により接着する光照射接着工程を備えているものであってもよい。このように、光硬化性接着材を用い、光照射によって接着する工程を用いることにより、偏光変換素子の製造の生産性及び信頼性を高めることができる。

この光照射接着工程は、光照射接着工程が、第１の透光性板材、位相差板および第２の透光性板材を光硬化性接着層を介して積層する工程と、光を照射して光硬化性接着層を硬化させる工程とを順次繰り返すものであってもよい。

また、この光照射接着工程は、光照射接着工程が、第１の透光性板材、位相差板および第２の透光性板材を光硬化性接着層を介して順次積層して積層体を形成する工程と、積層体を形成した後に光を照射して光硬化性接着層を硬化させる工程を備えたものであってもよい。

この光照射接着工程は、第１および第２の透光性板材の互いに平行な面に対し、角度をなす方向から光の照射を行って光硬化を行うことが好ましい。こうすることによって光が接着層に効率よく照射され、短い照射時間で確実な接着を行なうことができる。

本発明の偏光変換素子は、位相差板が素子表面に露出していないため、従来の偏光変換素子に比べ、耐熱性、耐候性、耐久性の著しく優れたものが得られる。このため、本発明によれば、偏光変換素子に光源からの強い光線にさらされるなどして温度上昇があっても、安定してその機能を保つことが可能である。

また本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、位相差板は透光性板材を積層する工程で透光性部材の層の間に挟み込めばよく、偏光変換素子ブロックの光出射面の研磨後に各出射面に位相差板を貼るという従来の工程を必要としないので、従来に比べて製造工程が大幅に短縮できる。

以下に本発明の実施の形態を図面に従い詳細に説明する。

（実施の形態１）偏光変換素子１
図１（Ａ）は本発明の一実施形態の偏光変換素子の模式的斜視図、また図１（Ｂ）はその平面図である。

図１（Ａ）および（Ｂ）において、偏光変換素子１００はランダムな偏光光束を偏光方向が一方向に揃った光束に変換して出射する作用を持つ直方体形状の素子であり、断面がほぼ平行四辺形の柱状の第1の透光性部材１０１と第２の透光性部材１０２が交互に接合されて形成されている。この偏光変換素子１００の一方の面を光入射面１００ａとし、これとほぼ平行な他方の面を光出射面１００ｂとしている。

光入射面１００ａおよび光出射面１００ｂに対して所定の角度をなす第1の透光性部材１０１と第２の透光性部材１０２の接着面には、反射膜１２とこの反射膜に隣接してλ／４位相差板１３１が配置された接着面と、偏光分離膜１１が形成された接着面とが、図１（Ａ）に示されたように交互に配列されている。

第1の透光性部材１０１および第２の透光性部材１０２には、磨きガラスやフロートガラスなどの板ガラスを用いることができる。これらの透光性部材はガラス以外の透光性材料、例えばアクリル樹脂やポリカーボネ−ト樹脂などの透光性樹脂を用いることもできる。

偏光分離膜１１は、Ｓ波とＰ波のうちＰ波を選択的に透過し他方が選択的に反射する性質を有する膜であって、例えば誘電体多層膜を積層することによって形成される。

反射膜１２としては、例えばアルミニウム膜のような反射膜を用いることができるが、誘電体多層膜を積層し、偏光分離膜１１で反射された直線偏光成分のみを選択的に反射し、他の直線偏光成分は反射しないように構成することによって、反射による損失のより少ない反射膜が形成できる。

図２は本実施形態の偏光変換素子１００の一部を模式的平面図で示し、この偏光変換素子１００に入射したランダムな偏光の光が一方向の偏光に変換されて出射する様子を模式的に示したものである。ランダム偏光（Ｓ＋Ｐ）の入射光は、偏光変換素子１００の光入射面１００ａから偏光分離膜１１に向けて入射し、透光性部材１０１内を通過して偏光分離膜１１にてランダム偏光の成分中のＰ波が透過しＳ波が反射する。偏光分離膜１１を透過したＰ波は、透光性部材１０２内を進んで光出射面１００ｂから出射する。他方で偏光分離膜１１を反射したＳ波は、透光性部材１０１内を進み、λ／４位相差板１３１を経て反射膜１２にて反射され、再びλ／４位相差板１３１を経てＰ波に変換され光出射面１００ｂから出射する。こうして偏光変換素子に入射した光は、いずれもＰ波となって偏光変換素子の光出射面から出射する。

本実施形態の偏光変換素子の構成において、接着のための接着剤層２０を適宜設けることができる。

（実施の形態２）偏光変換素子の製造方法１
図３は、本発明の偏光変換素子の製造方法の一実施形態における工程の流れ図である。図３において、第１の透光性板材１０１ａに対し、工程６０３にて偏光分離膜を形成し、また第２の透光性板材１０２ａに対し、工程６０４にて反射膜を形成する。これらの工程を経た第１の透光性板材と第２の透光性板材の間に、λ／４位相差板１３１を挟んで工程６０５にて積層・接着し、工程６０６にて硬化して積層体６０７を形成する。なお工程６０５と工程６０６とは一体化されていてもよい。次にこの積層体６０７を、工程６０８にてその積層面に対し所定の角度で切断し、偏光変換素子ブロック６０９を得る。続いてこの偏光変換素子ブロック６０９の光入射面および光出射面となる部分を工程６１０にて光学研磨して偏光分離素子１００を得る。

光学研磨を終えた偏光分離素子１００の光入射面や光出射面には、光の反射損失を低減するための反射防止膜として、ＴｉＯ_２とＳｉＯ_２とを交互に蒸着し積層した５層の積層膜を設ける。

本発明の偏光変換素子においては、位相差板は素子の内部に設けられており、光出射面にはポリマーフィルムなどの位相差板を設けていない。このため位相差板の部分での反射防止膜の剥離の問題に煩わされることがない。また反射防止膜の形成時の偏光分離素子１００の温度として、従来は光出射面に貼り付けられた位相差板を保護するために、７０〜８０℃程度に留めておかなけれはならなかったのに対し、本発明では１００℃程度まで昇温が可能となり、密着性の良好な反射防止膜を形成することができる。

図４は図３に示した本実施形態の工程の一部である板材の準備、積層・接着および硬化の様子を模式的に示した図である。図４には、図３で示された工程流れ図の一部である板材の準備、積層・接着および硬化の様子を模式的に示した。図４（Ａ）に示したように、反射膜１２を形成した第２の透光性板材１０２ａ、λ／４位相差板１３１、および偏光分離膜１１を形成した第１の透光性板材１０１ａを、それぞれ複数枚準備し、同図（Ｂ）に示したようにこの順序に積層し、反射膜１２とλ／４位相差板１３１とが隣接するようにして接着し、続いて同図（Ｃ）に示したように、紫外（ＵＶ）光を照射して硬化させる。こうして位相差板を反射膜に隣接させて設けた偏光変換素子が製造できる。

図５は上記本発明の偏光変換素子の製造方法における積層体の切断工程を模式的に示したものである。積層体は図５（Ａ）に示すように積層面に対し所定の角度、例えば４５°で切断し、図５（Ｂ）に示すようにさらに端部を揃えるなどして偏光変換素子ブロック８０９を得る。

（実施の形態３）偏光変換素子の製造方法２
図６は、本発明の偏光変換素子の製造方法の他の実施形態における工程の流れ図である。図６において、第１の透光性板材１０１ａの一方の面に工程９０３にて偏光分離膜を形成し、工程９０４にて第１の透光性板材１０１ａのもう一方の面に反射膜を形成する。この工程を経た第１の透光性板材１０１ａとこれらの膜のいずれをも形成していない第２の透光性板材１０２ａとの間に、λ／４位相差板１３１を挟んで工程９０５にて積層・接着し、工程９０６にて硬化して積層体９０７を形成する。なお工程９０５と工程９０６とは一体化されていてもよい。

この積層体９０７を、工程９０８にてその積層面に対し所定の角度で切断し、偏光変換素子ブロック９０９を得る。続いて工程９１０にて、この偏光変換素子ブロック９０９の光入射面および光出射面となる部分を光学研磨して偏光変換素子１００を得る。

光学研磨を終えた偏光変換素子１００の光入射面や光出射面には、光の反射損失を低減するための反射防止膜として、ＴｉＯ_２とＳｉＯ_２とを交互に蒸着し積層した５層の積層膜を設ける。

図７には、図６で示された工程流れ図の一部である板材の準備、積層・接着および硬化の様子を模式的に示した。図７（Ａ）に示したように、偏光分離膜および反射膜のいずれをも形成していない第２の透光性板材１０２ａ、偏光分離膜１１および反射膜１２を形成した第１の透光性板材１０１ａ、λ／４位相差板１３１を、それぞれ複数枚準備し、同図（Ｂ）に示したように積層し接着し、続いて同図（Ｃ）に示したように、紫外光を照射して硬化させる。

（実施の形態４）偏光変換素子の製造における光硬化方法
図８は本実施の形態の偏光変換素子の製造方法における紫外光を用いた光硬化工程の上記とは別の実施形態を示したものである。図８（Ａ）〜（Ｃ）において、まず第２の透光性板材１０２ａと第１の透光性板材１０１ａとを接着し、紫外光を照射して硬化、次にこれに位相差板１３１と第２の透光性板材１０２ａとを接着し再び紫外光を照射して硬化、これにさらに第１の透光性板材１０１ａを接着し紫外光を照射して硬化する、というように、接着と硬化を順次繰り返して積層体を形成する。

こうすることによって効率よくしかも確実に接着層を硬化することができる。ＵＶ光は透光性板材に対し垂直な方向から照射し、光硬化を行なう。このとき、透光性板材の板面に平行な方向から照射すると硬化する時間が短縮できて効率よく接着層の硬化を行なうことができる。

（実施の形態５）偏光変換素子の評価
まず、上記実施の形態２によって作製された偏光変換素子の反射防止膜の密着性を評価した。評価方法は、反射防止膜の形成された上記偏光変換素子の出射面に事務用セロハン粘着テープを貼り付け、その一端から引き剥がしたときの状態を調べるものである。その結果、反射防止膜の剥がれは全くなかった。比較のために、従来型の光出射面にポリマーフィルムの位相差板を設けた偏光変換素子の場合について同様の評価を行った結果、位相差板上の反射防止膜が剥がれて粘着テープ側に転写することが確認された。

次に上記実施の形態２によって作製された反射防止膜つきの偏光変換素子を１２０℃の恒温槽で１０００時間保持した後、および１５０℃の環境で２００時間保持した後、目視によって評価を行った。その結果、どちらの場合にも偏光変換素子には変化が認められなかった。従来型の光出射面にポリマーフィルムの位相差板を設けた偏光変換素子の場合について同様の評価を行ったところ、どちらの場合も位相差板に変色とうねりが生じていることが見出された。

このことから、本発明の偏光変換素子は、従来のものに比べ、反射防止膜の剥離などによる劣化が小さいこと、そして耐熱性に優れることがわかった。

（実施の形態６）表示装置への適用
図９は本発明の偏光変換素子を投射型表示装置に適用した場合の一実施形態を示したものである。図９において、光源６０から発した光は、第１および第２のレンズ系３１、３２を経て、偏光変換素子１にて一方向の偏光に効率よく変換され、全反射ミラー４１で反射されて色分解フィルタ４２、４３、４４に導かれてＲ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３色の光に分解される。色分解フィルタ４２を透過したＲ光は、全反射ミラー４６を経て液晶装置５１で変調されてダイクロイックプリズム３６のＲ部に入射する。また色分解フィルタ４２で反射したＧ、Ｂ光は、色分解フィルタ４３でさらにＧ光とＢ光とに分けられる。このうちＧ光は液晶装置５２で変調されてダイクロイックプリズム３６のＧ部に入射する。またＢ光は全反射ミラー４４、４５を経て液晶装置５３で変調されてダイクロイックプリズム３６のＢ部に入射する。液晶装置でそれぞれに変調されたＲ、ＧおよびＢ光は、ダイクロックプリズム３６で合成されてカラー映像が形成され、この映像が投射光学系３７により、投射面７０に投射される。

このようにして本発明の偏光変換素子を投射型表示装置に適用すれば、むだなく光の変換が行えるので光の利用効率を高めることができ、スクリーン上に投射される映像を明るくすることができる。しかも本発明の偏光変換素子は位相差板が透光性部材に貼りつけられているのではなく、透光性部材の間に挟まれた構成であり、素子表面に露出したものではないため、強い光源にさらされて温度上昇がある場合でも、耐熱性を具備し安定してその機能を保つことができる。より具体的には、従来の素子表面に位相差板を貼り付けたものでは、長時間の使用により、位相差板の変色・うねりを生じ、着色による透過率低下、正確な位相変換ができなくなることによる有効光線の減少によって投射像が暗くなる問題があったが、本発明の偏光変換素子を使用した場合には、位相差板の劣化に起因するこれらの問題を生じないため、初期の投射照度を長時間維持できる。

本発明の偏光変換素子は上記実施形態のほか、例えば上述のように前面型ではなく背面投射型の投射表示装置、カラーではなくモノクロ画像を投射するモノクロ投射型表示装置など、さまざまな投射表示装置に適用することができる。

本発明の偏光変換素子は、位相差板が素子表面に露出していないため、従来の偏光変換素子に比べ、耐熱性、耐候性、耐久性の著しく優れたものが得られる。このため、本発明によれば、偏光変換素子に光源からの強い光線にさらされるなどして温度上昇があっても、安定してその機能を保つことが可能である。また本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、位相差板は透光性板材を積層する工程で透光性部材の層の間に挟み込めばよく、偏光変換素子ブロックの光出射面の研磨後に各出射面に位相差板を貼るという従来の工程を必要としないので、従来に比べて製造工程が大幅に短縮できる。

（Ａ）は本発明の一実施形態の偏光変換素子の模式的斜視図、（Ｂ）はその平面図である。 本発明の一実施形態の偏光変換素子の一部を模式的平面図で示し、この偏光変換素子に入射したランダムな偏光の光が一方向の偏光に変換されて出射する様子を模式的に示したものである。 本発明の偏光変換素子の製造方法の一実施形態における工程の流れ図である。 本発明の偏光変換素子の製造方法の一実施形態における工程の一部である板材の準備、積層・接着および硬化を模式的に示した図である。 （Ａ）は上記本発明の偏光変換素子の製造方法における積層体の切断工程の一実施形態を模式的に示したものであり、（Ｂ）は切断された偏光変換素子ブロックを模式的に示したものである。 本発明の偏光変換素子の製造方法の他の一実施形態における工程の流れ図である。 本発明の偏光変換素子の製造方法の他の一実施形態における板材の準備、積層・接着および硬化の状況を模式的に示した図である。 本発明の偏光変換素子の製造方法における紫外光を用いた光硬化工程の一実施形態を示したものである。 本発明の偏光変換素子を投射型表示装置に適用した場合の一実施形態を模式的に示した図である。 （Ａ）は従来技術による偏光変換素子の斜視図であり、（Ｂ）はその平面図およびこの偏光変換素子における光の偏光変換の様子を示す図である。

符号の説明

１１……偏光分離膜、１２……反射膜、２０……接着層、３１……第１のレンズ系、３２……第２のレンズ系、３６……ダイクロックプリズム、３７……投射光学系、４１，４５，４６……全反射ミラー、４２，４３，４４……色分解フィルタ、５１，５２，５３……液晶表示装置、６０……光源、７０……投射面、１００……偏光変換素子、１００ａ……光入射面、１００ｂ……光出射面、１０１ａ……第１の透光性板材、１０１……第1の透光性部材、１０２……第２の透光性部材、１０２ａ……第２の透光性板材、１３１……λ／４位相差板、６０３，９０３……偏光分離膜形成工程、６０４．９０４……反射膜形成工程、６０５，９０５……積層・接着工程、６０６，９０６……硬化工程、６０７，９０７……積層体、６０８，９０８……切断工程、６０９，９０９……偏光変換素子ブロック、６１０，９１０……光学研磨工程。

Claims (13)

1. 第１の主面を光入斜面、第２の主面を光出射面とする平板状の透光性基材中に、前記第１および第２の主面に対し傾斜して間隔をおいて交互に平行配置された第１の機能性光学膜と第２の機能性光学膜とを備え、前記第１の機能性光学膜は偏光分離膜であり、前記第２の機能性光学膜は前記第１の主面側から順に配置された反射膜と位相差板からなることを特徴とする偏光変換素子。
2. 前記位相差板が、１／４波長位相差板であることを特徴とする請求項１記載の偏光変換素子。
3. 前記位相差板が、２軸延伸プラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１または２記載の偏光変換素子。
4. 前記２軸延伸プラスチックフィルムが、ポリアクリレートフィルムであることを特徴とする請求項３記載の偏光変換素子。
5. 光出射面に反射防止膜が被着されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の偏光変換素子。
6. 映像プロジェクタに組込んで用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の偏光変換素子。
7. 平行な２面を有する第１の透光性板材の一方の面に偏光分離膜を形成する偏光分離膜形成工程と、平行な２面を有する第２の透光性板材の一方の面に反射膜を形成する反射膜形成工程と、偏光分離膜の形成された前記第１の透光性板材と、位相差板と、反射膜の形成された前記第２の透光性板材とを、前記位相差板が前記反射膜に隣接するように順次積層し接着して積層体を形成するする積層接着工程と、前記積層体を積層面に対し所定の角度で切断加工し、互いに平行な光入射面と光出射面とを有する偏光変換素子ブロックを形成する偏光変換素子ブロック形成工程と、前記偏光変換素子ブロックの前記光入射面と前記光出射面とを光学的に研磨する光学研磨工程とを備えたことを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
8. 平行な２面を有する第１の透光性板材の一方の面に偏光分離膜を形成する工程と、前記平行な２面を有する前記透光性部材のもう一方の面に反射膜を形成する工程と、偏光分離膜および反射膜の形成された前記第１の透光性板材と、位相差板と、偏光分離膜および反射膜のいずれをも形成していない第２の透光性板材とを、前記位相差板の板面が前記反射膜に隣接するように順次積層し接着して積層体を形成する積層接着工程と、前記積層体を積層面に対し所定の角度で切断加工し、互いに平行な光入射面と光出射面とを有する偏光変換素子ブロックを形成する偏光変換素子ブロック形成工程と、前記偏光変換素子ブロックの前記光入射面と前記光出射面とを光学的に研磨する光学研磨工程とを備えたことを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
9. 前記位相差板が１／４波長位相差板であることを特徴とする請求項７または８記載の特徴とする偏光変換素子の製造方法。
10. 前記積層接着工程が、複数の第１の透光性板材と複数の第２の透光性板材と複数の位相差板とを、光硬化性接着層を介して積層し、光照射により硬化する光照射接着工程を備えていることを特徴とする請求項７または８記載の偏光変換素子の製造方法。
11. 前記光照射接着工程が、前記第１の透光性板材、前記位相差板および第２の透光性板材を光硬化性接着層を介して積層する工程と、光を照射して前記光硬化性接着層を硬化させる工程とを順次繰り返すものであることを特徴とする請求項７または８記載の偏光変換素子の製造方法。
12. 前記光照射接着工程が、前記第１の透光性板材、前記位相差板および前記第２の透光性板材を光硬化性接着層を介して順次積層して積層体を形成する工程と、前記積層体を形成した後に光を照射して前記光硬化性接着層を硬化させ工程を備えたものであることを特徴とする請求項７または８記載の偏光変換素子の製造方法。
13. 前記積層接着工程が、前記第１および第２の透光性板材の互いに平行な面に対し、角度をなす方向から光の照射を行って光硬化を行うことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１項記載の偏光変換素子の製造方法。

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