JP2005037622A - カラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カラーフィルタ基板20´は、基板21と、基板21上に設けられた樹脂層22と、樹脂層22上に設けられた反射部26b及び透過部26aを有する反射層23と、反射層23上に設けられた着色層25とを具備し、樹脂層22の少なくとも一部の透過部26aに対応する領域は、この透過部26aに対応して設けられた着色層25と同じ色に着色されている。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば電気光学装置としての半透過反射型液晶装置に組み込まれるカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器に構成に関する。
【0002】
【従来の技術】
電気光学装置としての半透過反射型の液晶装置は、複数の画素を有する液晶パネルと、該液晶パネルに対して光を照射する照明手段を有する。液晶パネルにおいては、例えば樹脂層上に、外光を反射するための反射部と反射膜の開口などにより形成された透過部とを有する反射層が画素毎に設けられている。この液晶装置の場合において、照明手段を点灯したときには照明光が反射層の透過部を通して透過型表示が実現され、照明手段を消灯したときには外光が反射層の反射部によって反射されて反射型表示が実現される(例えば、特許文献1参照)。このような半透過反射型の液晶表示装置においてカラー表示を実現するためには、反射層の観察側(外光入射側)に着色層を配置する。
【0003】
【特許文献1】
特開2003−121830号公報(第3頁、図11)
【発明が解決しようとする課題】
着色層を備えた半透過反射型の液晶装置においては、透過型表示では各画素の透過部を透過する照明光が着色層を1回だけ通過するのに対して、反射型表示では外光が往復で計2回着色層を通過することになる。このため、透過型表示と反射型表示とで色再現性が大きく異なってしまうという問題点がある。
【0004】
本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、半透過反射型の電気光学装置において、透過型表示及び反射型表示の色度調整を容易とし、表示特性の良いカラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板上に設けられた樹脂層と、前記樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層上に設けられた着色層と、を具備するカラーフィルタ基板であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部が着色されていることを特徴とする。
【0006】
本発明のこのようなカラーフィルタ基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する着色層の状態によって樹脂層の色度を自由に決定することができるので、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の良いカラーフィルタ基板を得ることができる。
【0007】
また、前記透過部上には前記着色層が設けられ、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられている前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【0008】
このように、樹脂層の透過部に対応する領域を、これに対応して設けられる着色層と同じ色相にすることができる。
【0009】
また、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域は、前記樹脂層と前記着色層とを合わせた色が、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色になるように着色されていることを特徴とする。
【0010】
このような構成によれば、樹脂層と着色層とをあわせた色が、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色されることにより、電気光学装置に組み込んだ際に透過型表示時における色表示特性が優れた電気光学装置を得ることができる。透過型表示では着色層と樹脂層とにより色表示特性が決定される。従って、着色層を反射型表示に適した色度とし、透過型表示において着色層と樹脂層とを通過する光が所望の色表示特性となるように樹脂層の色度を決定すればよく、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性をほぼ別々に調整することができる。これにより、色表示の設計範囲が広くなり、色表示特性が優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【0011】
また、前記透過部に対応する領域には着色層が設けられておらず、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、XYZ表色系においてx<0.17、y<0.22、5<Y<40の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする。
【0012】
このような構成によれば、樹脂層の透過部に対応する領域を、XYZ表色系においてx<0.17、y<0.22、5<Y<40の変数で表される青色に着色することにより、電気光学装置に組み込んだ際に透過型表示における色表示特性に優れた電気光学装置を得ることができる。透過部に対応する領域に着色層を設けないことにより、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層によって色表示特性が決定する。従って、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性を全く別々に調整することができ、色表示の設計範囲が広くなり、所望の色表示特性のカラーフィルタ基板を得ることができる
また、前記着色層はXYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする。
【0013】
このような構成によれば、着色層がXYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色されることにより、反射型表示における色表示特性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【0014】
また、前記着色層は複数色を有し、前記樹脂層は前記複数色のうちの少なくとも1色と同じ色に着色され、前記樹脂層は、前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする。
【0015】
このような構成によれば、樹脂層の色と異なる色に着色された着色層の透過部に対応して樹脂層に開口部を設けることにより、透過型表示においてその着色層における色表示特性は、樹脂層の色に影響されることなく、その着色層の色により決定される。例えば、着色層を赤色、緑色、青色の3色とし、樹脂層を青色とする場合、赤色及び緑色の着色層に対応する樹脂層の透過部に対応する領域に開口部を設ければよい。これにより、透過型表示において、赤色及び緑色は樹脂層の色に影響されることなく、着色層の色によりその色表示特性が決定される。この場合、樹脂層に開口を設けることにより、樹脂層を1色で形成できるので、樹脂層の製造工程を増やす必要がない。
【0016】
また、前記複数色のうちの少なくとも1色に、青色が含まれることを特徴とする。
【0017】
このような構成によれば、樹脂層を少なくとも青色に着色し、青色画素における透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うことができ、色表示特性の良いカラーフィルタ基板を得ることができる。ここで、半透過反射型電気光学装置においては、透過型表示に用いる着色層と反射型表示に用いる着色層とを共通のものとする場合、青色の画素においては、赤色の画素及び緑色の画素と比較して、反射型表示における色度が黒っぽくなりやすく、透過型表示における色度と反射型表示における色度との差異を調整するのが非常に困難であった。従って、最も色度調整が困難な青色を、上述のような構成とすることにより、透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うことができ、容易に色表示特性の調整を行うことができる。
【0018】
また、前記着色層は複数色を有し、前記樹脂層の少なくとも前記透過部に対応する領域は、前記透過部に対応して設けられた各着色層とそれぞれ同じ色に着色されていることを特徴とする。
【0019】
このような構成によれば、色表示の設計範囲が更に広くなり、色表示特性が優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。すなわち、全ての色において透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うので、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性をほぼ別々に調整することができる。この際、透過部に対応する領域に着色層を設けない場合、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層により色表示特性が決定される。また、透過部に対応する領域に着色層を設ける色場合、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層と着色層により色表示特性が決定される。
【0020】
本発明の半透過反射基板は、樹脂層と該樹脂層上に設けられた反射層と前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部とが配置された半透過反射基板と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層が配置されたカラーフィルタ基板とを具備する電気光学装置の半透過反射基板であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【0021】
本発明のこのような半透過反射基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができる。これにより、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【0022】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に着色樹脂層を形成する工程と、前記着色樹脂層上に、反射層が設けられた反射部と前記反射層が設けられていない透過部とからなる反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記着色樹脂層と同色の色相を有する着色層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【0023】
本発明のこのような製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができる。これにより、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に容易に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【0024】
また、前記着色層は複数色を有し、前記着色樹脂層は前記複数色のうちの1色と同じ色に着色され、前記着色樹脂層は前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする。
【0025】
このような構成によれば、従来の透明な樹脂層を形成するカラーフィルタ基板の製造工程と比較して、製造工程数を増やすことなく、カラーフィルタ基板を製造することができる。すなわち、樹脂層の色と異なる色に着色された着色層の透過部に対応して樹脂層に開口部を設けることにより、透過型表示においてその着色層における色表示特性は樹脂層の色には影響されることがない。従って、開口部を設けることにより樹脂層を1色で形成することができるので、従来と比較して製造工程数を増やす必要がない。
【0026】
本発明の電気光学装置は、樹脂層と、該樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層とを具備する電気光学装置であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【0027】
本発明のこのような構成の電気光学装置によれば、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行なわれ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができるので、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に容易に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【0028】
本発明の他の電気光学装置は、上述に記載のカラーフィルタ基板または上述に記載の半透過反射基板を有することを特徴とする。
【0029】
本発明のこのような構成によれば、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【0030】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【0031】
電子機器としては、携帯電話、携帯型情報端末、電子腕時計などが挙げられ、カラー表示に優れた画面が得られる。
【0032】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係るカラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器の実施例について説明する。本実施例では、電気光学装置として液晶装置を構成する場合を例にとり以下に説明する。
<カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置>
(実施例1)
図1は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例1の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図2はこの電気光学装置の一部を構成する対向基板上に形成されるTFD素子、走査線及び画素電極の概略斜視図である。図3(a)は図1に示す液晶装置の反射層と走査線との位置関係を示す概略部分平面図である。図3(b)は図3(a)に対応する着色層の平面形状を説明するための平面図であり、本実施例に係るカラーフィルタ基板の一部を拡大した概略部分平面図である。図4は図3(b)の線A−A´で切断した断面図である。
【0033】
図1に示された液晶装置100は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置100は、液晶パネル60と、これに隣接して設けられたバックライト40を有する。液晶パネル60は、対向基板10と、カラーフィルタ電極基板20と、これら2枚の基板を貼りあわすシール材53と、2枚の基板10及び20間に挟持された液晶層55と、2枚の基板10及び20を挟み込むように設けられた一対の偏光板51及び52を有する。
【0034】
バックライト40は、光源43と、導光板44と、拡散板41と、反射板42とを有する。導光板44は、光源43から発せられた光を液晶パネル60の全面に導くものであり、拡散板41は導光板44に導かれた光を液晶パネル60に対して一様に拡散させるものである。反射板42は、導光板44から液晶パネル60とは反対側に出射される光を液晶パネル60側へ反射させるものである。ここで光源43は、常に点灯しているのではなく、外光がほとんどないような環境において使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯し、これにより透過表示が行われるようになっている。
【0035】
図1及び図2に示すように、対向基板10は、ガラス基板1と、該ガラス基板1上に配置されたストライプ状の走査線3と、該走査線3に電気的に接続するTFD素子5と、該TFD素子5を介して走査線3と電気的に接続する画素電極2と、これらを覆う配向膜4とを有する。TFD素子5は非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子である。各TFD素子5は、走査線3から分岐した部分である第1金属膜5aと、この第1金属膜5aの表面に陽極酸化によって形成された絶縁体である酸化膜5bと、この酸化膜5bの上面に例えばクロムなどによって形成された第2金属膜5cとからなる。TFD素子5の第2金属膜5cが画素電極2に接続された構成となっている。配向膜4は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【0036】
一方、図1に示すように、カラーフィルタ電極基板20は、図4に示すカラーフィルタ基板20´の着色層25上にオーバーコート層27、対向電極28、配向膜29が順次積層されて構成される。対向電極28は走査線3と直交するストライプ状に配置され、画素電極2と対向するように配置される。配向膜29は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【0037】
本実施例における液晶装置100では、対向電極28と画素電極2とその交差部に対応する液晶層55により画素が構成され、各画素の液晶層55を光学変化させることにより表示が行われる。また、液晶装置100では、外光の光量が十分であるときは反射型表示が行われ、外光の光量が不十分であるときは光源からの光を用いる透過型表示が行われる。
【0038】
次に、上述のカラーフィルタ基板20´の構造について詳細に説明する。カラーフィルタ基板20´では、赤、青、緑の3色の着色層が設けられている。図1及び図4に示すように、カラーフィルタ基板20´では、ガラス基板21上に、3色の着色層のうちの1色である青色と同じ色相に着色された青色樹脂層22が配置され、該樹脂層22上には開口23aを有する反射層23が配置される。この青色樹脂層は後述する青色着色層25Bと同じ色相に着色されている。更に、反射層23上には、各画素を区画するように格子状の遮光層24が設けられ、遮光層24により区画された領域を埋めるように対向電極28と直交したストライプ状に、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色層25が配置されている。液晶装置100を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層25は反射層23に平面的に重なるように配置される。
【0039】
図3(a)に示すように、反射層23(図面、右上がり斜線で埋めた領域)には、各画素100P(一点鎖線で囲まれた領域)毎に1つづつ透過部26bとなる開口23aが配置される。画素100Pは、反射層23が設けられている反射部26bと、反射層23が設けられていない開口23aに対応する透過部26aとを有する。尚、画素100Pは、実際に表示に寄与する領域である。
【0040】
図1、図3(b)及び図4に示すように、樹脂層22の赤色着色層25Rに対応した反射層23の透過部26aに対応する領域、及び緑色着色層25Gに対応した反射層23の透過部26aに対応する領域には、第1開口部22aが設けられている。この第1開口部22aには樹脂層22は存在せず、赤色着色層25Rまたは緑色着色層25Gが設けられている。一方、樹脂層22の青色着色層25Bに対応した反射層23の透過部26aに対応する領域は、樹脂層22が存在している状態となっている。更に、各着色層25R,25G、25Bは、各画素100Pの反射部26bに対応する領域の一部に着色層25R,25G,25Bが配置されていない、すなわち反射層23が着色層25により覆われていない無着色領域層25Ra、25Ga、25Baを有している。着色層25の無着色領域層25aとなる開口部分には、透明なオーバーコート層27が存在する状態となっている。本実施例においては、無着色領域層25aは、矩形状の画素100Pを横切るほぼ矩形状の平面形状を有しているが、これに限定されるものではない。本実施例において、無着色領域層25aを設けているのは、反射型表示時における明るさ不足を補うためである。更に、ここでは、無着色領域層25aの平面面積を、25Ga、25Ra、25Baの順に小さくなるようにしている。これは、各色によって最適な色度が異なるためである。
【0041】
図1に示すように、液晶装置100では、反射型表示が行われる場合、液晶装置100に向かって入ってきた自然光や室内照明などの一部の外光155は、対向基板10、液晶層55、着色層25を通って、反射層23の反射部26bにて反射し、この反射光156が再び着色層25、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は2回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置100に向かって入ってきた自然光や室内照明などの他の外光は、対向基板10、液晶層55、無着色領域層25aを通って、反射層23の反射部26bにて反射し、この反射光が再び無着色層25、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。
【0042】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト40から出射された光154が液晶パネル60を通って外部に出射され、表示に用いられる光は1回着色層を通過することとなる。
【0043】
ここで、赤色着色層25Rに対応する画素100P及び緑色着色層25Gに対応する画素100Pにおいては、前述のように樹脂層22の透過部26aに対応する領域は、樹脂層22が存在しない第1開口部22aとなっている。従って、透過型表示においては、赤色の画素100P及び緑色の画素100Pでは、それぞれ着色層25R、着色層25Gにより表示色が決定される。これに対し、青色着色層25Bに対応する画素100Pにおいては、前述のように樹脂層22の透過部26aに対応する領域には、青色に着色された樹脂層22が存在している。従って、青色の画素100Pでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層22と着色層25Bとによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層25Bによって決定される。
【0044】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層22と着色層25を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層25のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色度の調整が容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。すなわち、着色層25の着色の色度を、反射型表示に適した、言い換えると2回着色層を通過した光が所望の色表示特性となるように先に決定する。その後、この着色層25と樹脂層22とを通過した光が透過型表示で所望の色表示特性となるように、樹脂層22の着色の色度を決定する。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の調整をほぼ別々に行うことができ、調整が容易である。本実施例においては、青色着色層25Bの色度は、青色樹脂層22の色度よりも低くなっており、青色着色層25Bと青色樹脂層22とを合わせた色が、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色になるように着色されている。色はXYZ表色系において、(x,y,Y)の3つの変数で次式にように表すことができる。
(式1)
x=X/(X+Y+Z)、y=Y/(X+Y+Z)
このとき、上記x,yは、色相と彩度を表す変数であり、X、Y、Zは色刺激値である。
【0045】
ここで、従来、半透過反射型液晶装置では、透過型表示に用いる着色層と反射型表示に用いる着色層とを共通のものとする場合、青色の画素においては、赤色の画素及び緑色の画素と比較して、反射型表示における色度が黒っぽくなりやすく、透過型表示における色度と反射型表示における色度との差異を調整するのが非常に困難であった。そこで、本実施例においては、色度調整が困難な青色の画素でのみ、透過型表示における色の表示を樹脂層22と着色層25を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層25のみを用いて行う構造とした。
【0046】
また、本実施例においては、樹脂層22を基板全面において青色に着色したが、青色着色層25Bの透過部に対応する領域のみを青色に着色すればよい。この場合、例えば、樹脂層の青色着色層の透過部に対応する領域のみを青色とし、他の領域に対応する樹脂層を透明にすることによって、緑色及び赤色の着色層の透過部に対応する領域の樹脂層に開口を設ける必要がない。このように、樹脂層の透過部に対応する領域全てを着色しなくとも良い。
【0047】
次に上述のカラーフィルタ基板20´の製造方法について図5を用いて説明する。
【0048】
図5は、図4に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板20´に対応したカラーフィルタ基板20´の製造工程図である。
【0049】
まず、ガラス基板21上に青色に着色された樹脂散乱膜材料をスピンコート法により例えば厚み1.5μmに成膜し,樹脂散乱膜22´を形成する(樹脂散乱膜形成工程)。樹脂散乱膜材料は、アクリル樹脂に青色顔料を分散させたネガレジストである。その後、フォトリソグラフィ技術を用い樹脂散乱膜22´の表面に凹凸を形成するとともに、第1開口部22aを形成して、樹脂層22を形成する(樹脂散乱膜の開口部形成工程)。第1開口部22aは、後工程で形成する赤色着色層及び緑色着色層に対応する透過部に対応している。
【0050】
次に、樹脂層22上にスパッタリングなどによってアルミニウムからなる反射膜23´を形成する(反射膜形成工程)。その後、反射膜23´をフォトリソグラフィ技術、エッチング技術を用いて部分的に除去し、透過部となる開口23aを有する反射層23を形成する(反射膜の開口部形成工程)。
【0051】
次に、樹脂層22及び反射層23を含むガラス基板21上全面にスピンコート法により黒色樹脂膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去して、1.0μm遮光層24を形成する(遮光層形成工程)。黒色樹脂膜は、アクリル樹脂に黒色顔料を分散させたネガレジストである。
【0052】
次に、樹脂層22、反射層23及び遮光層24を含むガラス基板21上全面にスピンコート法により赤色樹脂膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去して、無着色領域層25aRを有する1.0μmの赤色着色層25Rを形成する。同様に緑色着色層25G、青色着色層25Bも形成する(着色層形成工程)。緑色着色層25G、青色着色層25Bにはいずれも無着色領域層25aとなる開口が設けられている。ここで、赤色樹脂膜、緑色樹脂膜、青色樹脂膜は、いずれもアクリル樹脂に、赤色顔料または緑色顔料または青色顔料を分散させたネガレジストである。以上の工程により、カラーフィルタ基板20´が製造される。
【0053】
ここで、従来のカラーフィルタ基板の樹脂層は透明で、赤、緑、青の全ての着色層に対応する樹脂層の透過部に対応した領域に開口が設けられていた。これに対し、本実施例においては、樹脂層22を青色の単色で形成し、樹脂層22の赤色及び緑色の画素の透過部26aに対応する領域に第1開口部22aを設ける構造としているので、従来のカラーフィルタ基板の製造工程と比較して工程数を増やすことなく、本実施例のカラーフィルタ基板を形成することができる。
【0054】
(実施例2)
以下、実施例2について説明するが、実施例1と比較してカラーフィルタ基板の構造のみが異なり、他の構造については実施例1と同様であるので、実施例1と同様の構造については説明を省略する。
【0055】
図6は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例2の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図7は着色層の平面形状を示すものであり、本実施例に係るカラーフィルタ基板の一部を拡大した概略部分平面図である。図8は図7(b)の線B−B´で切断した断面図である。
【0056】
図6に示された液晶装置200は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置200は、液晶パネル260と、これに隣接して設けられたバックライト40を有する。液晶パネル260は、対向基板10と、カラーフィルタ電極基板220と、これら2枚の基板を貼りあわすシール材53と、2枚の基板10及び220間に挟持された液晶層55と、2枚の基板10及び220を挟み込むように設けられた一対の偏光板51及び52を有する。カラーフィルタ電極基板220は、図8に示すカラーフィルタ基板220´の着色層225上にオーバーコート層27、対向電極28、配向膜29が順次積層されて構成される。
【0057】
図6及び図8に示すように、カラーフィルタ基板220´は、ガラス基板221上に青色に着色された青色樹脂層222が配置され、樹脂層222上には透過部となる開口223aを有する反射層223が配置される。更に、反射層223上には、各画素を区画するように格子状の遮光層224が設けられ、遮光層224により区画された領域を埋めるようにストライプ状に、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色層225が配置されている。液晶装置200を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層225は反射層223に平面的に重なるように配置される。
【0058】
図7に示すように、本実施例においても、実施例1の図3(a)に示す反射層23と同様に、反射層223は、各画素200P毎に1つづつ透過部226bとなる開口223aを有する。画素200Pは、反射層223が存在する反射部226bと、反射層223が存在しない開口223aに相当する透過部226aを有する。図6及び図8に示すように、樹脂層222のうち、赤色着色層225Rに対応した透過部226aに対応する領域、及び緑色着色層225Gに対応した透過部226aに対応する領域には、第1開口部222aが設けられている。この第1開口部222aには樹脂層222は存在せず、赤色着色層225Rまたは緑色着色層225Gが設けられている。一方、樹脂層222のうち、青色着色層225Bに対応した反射層223の透過部226aに対応する領域は、樹脂層222が存在している状態となっている。更に、各着色層225R,225G、225Bは、各画素200Pの反射部226bに対応する領域に着色層225R,225G,225Bが配置されていない、すなわち反射層223が着色層225により覆われていない無着色領域層225Ra、225Ga、225Baを有している。更に、着色層225Bは、各画素200Pの透過部226aに対応する領域に着色層225Bが配置されない第2開口部225Bbを有している。
【0059】
図6に示すように、液晶装置200では、反射型表示が行われる場合、液晶装置200に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光255は、対向基板10、液晶層55、着色層225を通って、反射層223の反射部226bにて反射し、この反射光256が再び着色層225、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は2回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置200に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光は、対向基板10、液晶層55、無着色領域層225aを通って、反射層223の反射部226bにて反射し、この反射光が再び無着色領域層225、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。
【0060】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト40から出射された光254が液晶パネル260を通って外部に出射され、表示に用いられる光は1回着色層を通過することとなる。
【0061】
ここで、赤色着色層225Rに対応する画素200P及び緑色着色層225Gに対応する画素200Pにおいては、前述のように樹脂層222の透過部226aに対応する領域は、樹脂層222が存在しない第1開口部222aとなっている。従って、透過型表示においては、赤色の画素200P及び緑色の画素200Pでは、それぞれ着色層225R、着色層225Gにより表示色が決定される。これに対し、青色の画素200Pでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層222Bのみによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層225Bのみによって決定される。
【0062】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層222を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層225のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色度の調整が更に容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。すなわち、着色層225の着色の色度を、反射型表示に適した色表示特性となるように調整し、散乱樹脂層222の着色の色度を、透過型表示に適した、言い換えると2回着色層を通過した光が所望の色表示特性なるように調整すればよい。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の調整を別々に行うことができ、調整が容易である。本実施例においては、青色着色層225Bの色度は、青色樹脂層222の色度よりも低い。例えば樹脂層222Bは、XYZ表色系においてx<0.17、y<0.22、5<Y<40の変数で表される青色に着色され、着色層225BはXYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色されている。
【0063】
次に上述のカラーフィルタ基板220´の製造方法について図9を用いて説明する。
【0064】
図9は、図8に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板220´に対応したカラーフィルタ基板220´の製造工程図である。本実施例のカラーフィルタ基板の製造方法は、実施例1のカラーフィルタ基板の製造方法と比較して、青色着色層225B形成時のパターニング形状及び樹脂層の色度が異なり、実施例1と同様の箇所は説明を簡略化する。
【0065】
まず、ガラス基板221上に樹脂散乱膜222´を形成する(樹脂散乱膜形成工程)。その後、フォトリソグラフィ技術を用い樹脂散乱膜222´の表面に凹凸を形成するとともに、第1開口部222aを形成して、樹脂層222を形成する(樹脂散乱膜の開口部形成工程)。
【0066】
次に、樹脂層222上にアルミニウムからなる反射膜223´を形成する(反射膜形成工程)。その後、反射膜223´を部分的に除去し、透過部となる開口223aを有する反射層223を形成する(反射膜の開口部形成工程)。
【0067】
次に、遮光層224を形成する(遮光層形成工程)。次に、赤色着色層225R、緑色着色層225G、青色着色層225Bを形成する(着色層形成工程)。赤色着色層225R及び緑色着色層225Gには、それぞれ無着色領域層225aとなる開口が設けられている。青色着色層225Bには、無着色領域層225Ba及び透過部226aに対応した第2開口部225Bbが設けられている。以上の工程により、カラーフィルタ基板220´が製造される。
【0068】
(実施例3)
以下、実施例3について説明するが、実施例1と比較してカラーフィルタ基板の構造のみが異なり、他の構造については実施例1と同様であるので、実施例1と同様の構造については説明を省略する。
【0069】
上述の実施例においては、樹脂層は青色の単色で形成していたが、2色以上で着色してもよい。以下に3色に着色された樹脂層を有するカラーフィルタ基板について説明する。
【0070】
図10は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例3の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図11はカラーフィルタ基板の部分断面図である。
【0071】
図10に示された液晶装置300は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置300は、液晶パネル360と、これに隣接して設けられたバックライト40を有する。液晶パネル360は、対向基板10と、カラーフィルタ電極基板320と、これら2枚の基板を貼りあわすシール材53と、2枚の基板10及び20間に挟持された液晶層55と、2枚の基板10及び20は挟み込むように設けられた一対の偏光板51及び52を有する。カラーフィルタ電極基板220は、図8に示すカラーフィルタ基板320´の着色層325上にオーバーコート層27、対向電極28、配向膜29が順次積層されて構成される。
【0072】
図10及び図11に示すように、カラーフィルタ基板320´は、ガラス基板321上にストライプ状に赤色、緑色、青色に着色された樹脂層322が配置され、樹脂層322上には透過部326aとなる開口323aを有する反射層323が配置される。更に、反射層323上には、各画素を区画するように格子状の遮光層324が設けられ、遮光層324により区画された領域を埋めるようにR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色層325が配置されている。液晶装置300を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層325は反射層323に平面的に重なるように配置される。
【0073】
赤色樹脂層322Rは赤色着色層325Rに対応してストライプ状に配置され、緑色樹脂層322Gは緑色着色層325Rに対応してストライプ状に配置され、青色樹脂層322Bは青色着色層325Bに対応してストライプ状に配置される。すなわち、赤色着色層325Rに対応する樹脂層322の少なくとも透過部326aに対応する領域が赤色に着色され、緑色着色層325Gに対応する樹脂層322の少なくとも透過部326aに対応する領域が緑色に着色され、青色着色層325Bに対応する樹脂層322の少なくとも透過部326aに対応する領域が青色に着色されている。
【0074】
液晶装置300では、いずれの色の画素においても、反射型表示が行われる場合、液晶装置300に向かって入ってきた自然光や室内照明などの一部の外光355は、対向基板10、液晶層55、着色層325を通って、反射層323の反射部326bにて反射し、この反射光356が再び着色層325、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は2回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置300に向かって入ってきた自然光や室内照明などの他の外光は、対向基板10、液晶層55、各画素毎に設けられた無着色領域層(図示せず)を通って、反射層323の反射部326bにて反射し、この反射光が再び無着色領域層、液晶層55、対向基板10を通って外部に出射される。
【0075】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト40から出射された光354が反射層323の透過部326aを通って外部に出射され、表示に用いられる光は1回着色層を通過することとなる。
【0076】
従って、本実施例においては、実施例1のように青色の画素だけでなく、赤色の画素及び緑色の画素においても、反射型表示における表示色は樹脂層322によって決定され、透過型表示における表示色は、樹脂層322と着色層325によって決定される。このように、少なくとも表示に関与する表示領域における全ての画素において、透過型表示における色の表示を樹脂層222と着色層325を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層325のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示それぞれの色度の調整が容易となり、いずれの色表示においても所望の色度を得ることができ、赤、緑、緑色の色バランスの良い表示特性に優れた液晶装置が得られる。すなわち、着色層325の着色の色度を、反射型表示に適した、具体的には2回着色層を通過した光が所望の色となるように先に決定する。その後、この着色層325と樹脂層322とを通過した光が透過型表示で所望の色度となるように、樹脂層322の着色の色度を決定する。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の調整が容易である。
【0077】
本実施例においては、青色着色層325Bの色度は、青色樹脂層322Bの色度よりも低くなっており、青色着色層325Bと青色樹脂層322Bとを合わせた色が、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色になるように着色されている。赤色着色層325Rと赤色樹脂層322Bとを合わせた色が、XYZ表色系において0.35<x<0.50、yの値は任意の値、30<Y<70の変数で表される赤色になるように着色されている。緑色着色層325Gと緑色樹脂層322Gとを合わせた色が、XYZ表色系においてxは任意の値、0.30<y<0.45、70<Y<7570の変数で表される緑色になるように着色されている。
【0078】
尚、本実施例においては、透過部に対応する領域の着色層は存在しているが、実施例2の青色着色層のように、透過部に対応する領域の着色層に第2開口部を設けてもよい。この場合、透過型表示は樹脂層、反射型表示は着色層によって、それぞれ色表示特性が決定される。この際、青色着色層は、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色され、樹脂層はXYZ表色系においてx<0.17、y<0.22、5<Y<40の変数で表される青色に着色される。赤色着色層は、XYZ表色系において0.35<x<0.50、yの値は任意の値、30<Y<70の変数で表される赤色に着色され、樹脂層はXYZ表色系においてx>0.45、yの値は任意の値、15<Y<60の変数で表される赤色に着色される。緑色着色層は、XYZ表色系においてxは任意の値、0.30<y<0.45、70<Y<95の変数で表される緑色に着色され、樹脂層はXYZ表色系においてxは任意の値、y>0.4、30<Y<90の変数で表される緑色に着色される。
【0079】
次に上述のカラーフィルタ基板320´の製造方法について図12を用いて説明する。
【0080】
図12は、図11に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板320´に対応したカラーフィルタ基板320´の製造工程図である。本実施例のカラーフィルタ基板の製造方法は、実施例1のカラーフィルタ基板の製造方法と比較して、3色の樹脂層を形成する点、樹脂層に第1開口部を設けない点、樹脂層及び着色層の色度の点で異なり、実施例1と同様の箇所は説明を簡略化する。
【0081】
まず、ガラス基板321上に赤色樹脂散乱膜材料をスピンコート法により成膜し,赤色樹脂散乱膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術を用い赤色樹脂散乱膜の表面に凹凸を形成するとともにパターニングをして赤色樹脂層322Rを形成する。同様に、緑色樹脂層322G及び青色樹脂層322Bも順次形成する(樹脂層形成工程)。各色の樹脂散乱膜材料は、アクリル樹脂に各色顔料を分散させたネガレジストである。
【0082】
次に、樹脂層322上にアルミニウムからなる反射膜323´を形成する(反射膜形成工程)。その後、反射膜323´を部分的に除去し、透過部となる開口323aを有する反射層323を形成する(反射膜の開口部形成工程)。
【0083】
次に、遮光層324を形成する(遮光層形成工程)。次に、赤色着色層325R、緑色着色層325G、青色着色層325Bを形成する(着色層形成工程)。以上の工程により、カラーフィルタ基板320´が製造される。
【0084】
<半透過反射基板及びそれを用いた電気光学装置>
上述の第1〜実施例3においては、TFD素子を用いた液晶装置を例にあげて説明したが、TFD素子以外の2端子素子を用いた液晶装置や単純マトリクス型の液晶装置やTFT素子を用いた液晶装置に適用することが可能である。以下に、実施例4としてTFT素子を用いた液晶装置について説明する。
【0085】
(実施例4)
図13は、本実施例に係る電気光学装置としての液晶装置の一部を構成する半透過反射基板の拡大概略平面図であり、各種素子の位置関係を示すものである。図14は、本実施例に係る液晶装置の概略断面図であり、図13の線D−D´に沿った断面図を含む図である。図15は図13の線C−C´の切断面に相当する。
【0086】
上述の第1〜実施例3においては、着色層と、樹脂層及び反射層とが同一の基板上に形成されているが、本実施例においては、着色層と、樹脂層及び反射層とが異なる基板上に配置されている点で大きく異なる。以下、実施例1と同様の構成には同一の符号を付し,説明を省略する。
【0087】
図14に示された液晶装置400は、半透過反射方式のTFT素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置400は、液晶パネル460と、これに隣接して設けられたバックライト40を有する。液晶パネル460は、半透過反射基板410と、カラーフィルタ電極基板420と、これら2枚の基板を貼りあわすシール材53と、2枚の基板410及び420間に挟持された液晶層455と、2枚の基板410及び420は挟み込むように設けられた一対の偏光板451及び452を有する。
【0088】
図13及び図14に示すように、液晶装置400では、画素電極416を制御するためのTFT430がマトリクス状に複数形成されており、画像信号が供給されるデータ線413がTFT430のソースに電気的に接続されている。また、TFT430のゲートに走査線431が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線431にパルス的に走査信号を印加するように構成されている。画素電極416は、TFT430のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT430を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線413から供給される画像信号を所定のタイミングで書き込む。画素電極416を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号は、対向電極428との間で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極416と対向電極428との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量435を付加する。
【0089】
図13において、半透過反射基板410上には、マトリクス状の画素電極416(その輪郭416aが図中点線で示されている)が設けられており、画素電極416の縦横の境界に各々沿ってデータ線413、走査線431及び容量線432が設けられている。データ線413は、コンタクトホール436を介してポリシリコン膜などからなる半導体層434aのうちソース領域に電気的に接続されている。画素電極416は、コンタクトホール437を介して半導体層434aのうちドレイン領域に電気的接続されている。容量線432は、絶縁膜を介して半導体層434aのうちのドレイン領域から延設された第1蓄積容量用電極に対向配置しており、蓄積容量435を構成する。また、半導体層434aのうち図中右上がり斜線で示したチャネル領域434a´に対向するように走査線431が配置されており、走査線431はゲート電極として機能する。このように、走査線431とデータ線413との交差する箇所には夫々、チャネル領域434a´に走査線431がゲート電極として対向配置されたTFT430が設けられている。
【0090】
図14に示すように、カラーフィルタ基板420は、ガラス基板421上に、格子状の遮光層423、遮光層423により区画された領域を埋める赤色着色層425R,緑色着色層4215G及び青色着色層425B、オーバーコート層427、対向電極428、配向膜429が順次積層されて構成される。対向電極428はほぼ基板全面にベタ膜で形成されている。配向膜429は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。液晶装置400を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層425は反射層415に平面的に重なるように配置される。
【0091】
図13〜図15に示すように、半透過反射基板410では、ガラス基板401上にTFT430のための下地層としての第1絶縁膜411が配置され、第1絶縁膜411上には半導体層431が配置されている。半導体層431上には第2絶縁膜433が配置され、第2絶縁膜433及び第1絶縁膜411上には走査線431及び容量線432が配置されている。更に、走査線431及び容量線432上には第3絶縁膜412が配置され、第3絶縁膜上にはAlなどからなるデータ線413が配置されている。データ線413は、第2絶縁膜433及び第3絶縁膜412に設けられコンタクトホール436を介して半導体層434のソース領域に接続されている。
【0092】
データ線413上には第4絶縁膜414が配置され、第4絶縁膜414上には青色に着色された樹脂層422、Alからなる反射層415が順次配置されている。反射層415及び樹脂層422は画素毎にそれぞれ島状に形成され、各画素において反射層415が形成されない領域が光透過領域となって透過部426bとして機能し、反射層415が形成されている領域が反射部426aとして機能する。本実施例においては、赤色着色層425R及び緑色着色層425Gに対応する画素においては、樹脂層422と反射層415とは同じ平面形状で面一に形成されている。一方、青色着色層425Bに対応する画素においては、樹脂層422は画素電極416と同じ平面形状で形成され、反射層415は樹脂層422よりも小さい平面形状を有している。
【0093】
反射層415上には第5絶縁膜419が配置され、第5絶縁膜419上にはITOからなる画素電極416が配置されている。画素電極416は、第2絶縁膜433、第3絶縁膜412、第4絶縁膜414及び第5絶縁膜419に形成されたコンタクトホール437を介して半導体層434のドレイン領域と電気的に接続されている。画素電極416はその平面形状が反射層415よりも大きくなるよう形成され、その一部が容量線432と平面的に重なるように形成される。画素電極416上には、第6絶縁膜417、配向膜418が順次配置されている。
【0094】
本実施例における液晶装置400では、画素電極416と対向電極428との交差部に対応する液晶層455に電界を順次印加し、各画素の液晶層455を光学変化させることにより表示が行われる。
【0095】
図13及び図14に示すように、反射層415は各画素400P毎に島状に配置される。言い換えると、各画素400P毎に額縁状の透過部426aとなる開口415aが位置するように反射層415が配置される。すなわち、画素400Pは、反射層415が存在する反射部426bと、反射層415が存在しない透過部426aを有する。樹脂層422のうち赤色着色層425Rに対応した透過部426aに対応する領域、及び緑色着色層425Gに対応した透過部426aに対応する領域には、樹脂層422が存在しない第1開口部422aが設けられている。一方、樹脂層422の青色着色層425Bに対応した反射層415の透過部426aに対応する領域は、樹脂層422が存在している状態となっている。
【0096】
図14に示すように、液晶装置400では、反射型表示が行われる場合、液晶装置400に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光455は、カラーフィルタ基板420、液晶層455を通って、反射層415の反射部426bにて反射し、この反射光456が再び液晶層455、カラーフィルタ基板410を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は2回着色層を通過することとなる。一方、透過型表示が行われる場合、バックライト40から出射された光454が液晶パネル460を通って外部に出射され、表示に用いられる光は1回着色層を通過することとなる。
【0097】
ここで、赤色着色層425Rに対応する画素400P及び緑色着色層425Gに対応する画素400Pにおいては、前述のように樹脂層422の透過部426aに対応する領域は、樹脂層422が存在していない。従って、透過型表示及び反射型表示において、赤色の画素400P及び緑色の画素400Pでは、それぞれ着色層425R、着色層425Gにより表示色が決定される。これに対し、青色の画素400Pでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層422と着色層425Bとによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層425Bによって決定される。
【0098】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層422と着色層425を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層425のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色表示特性の調整が容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。
【0099】
<電子機器>
図16を参照して、本発明に係る電子機器の実施例について説明する。この実施例では、上記液晶装置の液晶パネル60(260、360、460)を電子機器の表示手段として用いる場合の実施例について説明する。図16は、本実施例の電子機器700における液晶パネル60(260、360、460)に対する制御手段としての制御系(表示制御系)の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源291と、表示情報処理回路292と、電源回路293と、タイミングジェネレータ294とを含む表示制御回路290を有する。
【0100】
また、上記と同様の液晶パネル60(260、360、460)には、表示領域Aを駆動する駆動回路261を有する。
【0101】
表示情報出力源291は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ294によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路292に供給するように構成されている。
【0102】
表示情報処理回路292は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路261へ供給する。駆動回路261は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路293は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【0103】
具体的な電子機器としては携帯電話機やパーソナルコンピュータなどがあげられる。
【0104】
尚、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施例に示す電気光学装置はいずれも液晶パネルを有する液晶表示装置であるが、この液晶パネルの代わりに、無機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、FED(フィールドエミッションディスプレイ)およびSED(Surface−Conduction Electron−Emitter Display)等の装置などの各種電気光学パネルを有するものも用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図2】TFD素子付近の構造を示す概略斜視図である。
【図3】図1の液晶装置の遮光層及び着色層の平面形状を示す概略平面図である。
【図4】図1の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図5】図4のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図6】実施例2の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図7】図6の液晶装置の遮光層及び着色層の平面形状を示す概略平面図である。
【図8】図6の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図9】図8のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図10】実施例3の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図11】図10の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図12】図11のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図13】実施例4の半透過反射基板の部分平面図である。
【図14】図13に示す半透過反射基板を有する液晶装置の概略断面図である。
【図15】図13の線C−C´で切断した半透過反射基板の概略断面図である。
【図16】本発明に係る電子機器の構成を示す構成ブロック図である。
【符号の説明】
20´,220´,320´・・・カラーフィルタ基板、22,222,322B、422・・・青色樹脂層、21,221,321,421・・・基板、22a、222a、422a・・・第1開口部、23、223,323,415・・・反射層、25R,225R,325R,425R・・・赤色着色層、25G,225G,325G,425G・・・緑色着色層、25B,225B,325B,425B・・青色着色層、26a、226a、326a、426a・・・透過部、26b、226b、326b、426b・・・反射部、100,200,300,400・・・液晶装置、225b・・・第2開口部、290・・・表示制御回路、322R・・・赤色樹脂層、322G・・・緑色樹脂層
Claims (13)
- 基板と、
前記基板上に設けられた樹脂層と、
前記樹脂層上に設けられた反射層と、
前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、
少なくとも前記反射層上に設けられた着色層と、
を具備するカラーフィルタ基板であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部が着色されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 前記透過部上には前記着色層が設けられ、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられている前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。 - 前記樹脂層の前記透過部に対応する領域は、前記樹脂層と前記着色層とを合わせた色が、XYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色になるように着色されていることを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタ基板。
- 前記透過部に対応する領域には着色層が設けられておらず、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、XYZ表色系においてx<0.17、y<0.22、5<Y<40の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。 - 前記着色層はXYZ表色系において0.15<x<0.26、0.17<y<0.28、25<Y<70の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタ基板。
- 前記着色層は複数色を有し、
前記樹脂層は前記複数色のうちの少なくとも1色と同じ色に着色され、前記樹脂層は、前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする請求項1から請求項5いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。 - 前記複数色のうちの少なくとも1色に、青色が含まれることを特徴とする請求項6記載のカラーフィルタ基板。
- 前記着色層は複数色を有し、
前記樹脂層の少なくとも前記透過部に対応する領域は、前記透過部に対応して設けられた各着色層とそれぞれ同じ色相に着色されていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。 - 樹脂層と該樹脂層上に設けられた反射層と前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部とが配置された半透過反射基板と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層が配置されたカラーフィルタ基板とを具備する電気光学装置の半透過反射基板であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする半透過反射基板。 - 基板上に着色樹脂層を形成する工程と、
前記着色樹脂層上に、反射層が設けられた反射部と前記反射層が設けられていない透過部とからなる反射層を形成する工程と、
前記反射層上に前記着色樹脂層と同色の色相を有する着色層を形成する工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 樹脂層と、該樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層とを具備する電気光学装置であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1から請求項8いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板または請求項9記載の半透過反射基板を有することを特徴とする電気光学装置。
- 請求項11または請求項12記載の電気光学装置と、
前記該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
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