JP2005033205A - レンズ収差用の光学モデルの生成 - Google Patents

Abstract

【課題】光学モデルを生成する先行技術の欠点および問題点を減少または除去すること。
【解決手段】本発明によれば、光学モデルの生成が、レンズ収差に対するウェハ応答に関連するレンズ収差データの受け取り（２１２）を含む。収差関数が選択され、レンズ収差データに適合される。光学モデルが収差関数に従って生成され（２１８）、この場合、光学モデルはレンズ収差に対するウェハの応答を指示している。
【選択図】図３

Description

本発明は、広くは集積回路分野に係わり、より具体的には、レンズ収差用の光学モデルの生成に関するものである。

フォトリソグラフィでは、半導体ウェハ等の対象物上にパターンを形成するために、露光器具が使用される。しかし、露光器具は誤差を発生し、その誤差のために、結果として対象物上に形成されるパターンが目標パターンと相違することになる。公知技術では、光学モデルを生成して、露光器具により生じる誤差の補償に使用している。しかし、公知技術により生成される光学モデルは、特定の誤差については情報を提供することができない。この結果、光学モデルを生成する公知技術は、特定の状況では不満足なものとなっている。

本発明は、光学モデルを生成する先行技術に関係する欠点および問題点を減少させるか、または除去するものである。

本発明の１実施例によれば、光学モデルの生成が、レンズ収差に対するウェハの応答（反応）に関連付けられたレンズ収差データを受け取ることを含む。また収差関数が選択されて、レンズ収差データに適合する。光学モデルが収差関数に従って生成され、その場合、光学モデルはレンズ収差に対するウェハの応答を表している。

本発明の或る実施例には、１以上の技術的な利点がある。１つの実施例の技術的な利点は、露光器具のレンズ収差がウェハに形成されるパターンにどのように影響するかが、光学モデルで記述される点である。別の実施例では、光学モデルが、マルチ露光器具のレンズ収差に対するパターンデザインの感度の決定に使用される。さらに別の実施例では、光学モデルが、パターンデザインを調整して、レンズ収差の結果生じる誤差を補正するために使用される。

本発明の或る実施例は、前記技術的な利点を１つも含まないか、幾つか含むか、すべてを含むかである。そのほかの１以上の利点は、図面、説明、特許請求の範囲から当業者には容易に明らかになろう。

以下で、本発明およびその特徴や利点を、より完全に理解されるように、添付図面と関連して説明する。

図１〜図３を参照することで、本発明の実施例およびこれらの実施例の利点が最もよく理解されよう。異なる図面の類似部分および対応部分には、類似符号が付されている。

図１には、本発明の１つの実施例による光学モデルによって説明される露光器具１０の一例が略示されている。概して、露光器具１０は、マスクを通過する光を方向づけ、ウェハ上にパターンを形成する。しかし、露光器具１０の投影レンズはレンズ収差を有するため、誤差を生じ、この誤差のため、目標パターンとは異なるパターンがウェハ上に形成される。

この実施例では、光学モデルを使用して、レンズ収差が、ウェハに結像されるパターンにどのように影響するかが説明される。１つの実施例では、光学モデルを使用して、マルチ露光器具１０のレンズ収差に対するパターンデザインの感度を決定する。別の実施例では、光学モデルを使用して、パターンデザインが調整され、レンズ収差による誤差が補正される。

図示の実施例では、露光器具１０が、マスク２６を通過する光をウェハ２８へ向けることでウェハ２８上にパターンを転写する。ウェハ２８は、適当な半導体材料、例えばシリコンを含んでいる。ウェハ２８はまた、パターンが転写される材料、例えば半導体材料より外方に被着された結像材料またはフォトレジストを含んでいる。データ分析の目的の場合、ウェハ２８は、極めて平らな２重研摩ウェハ２８を含み、このウェハの厚さは、ほぼ６２０マイクロメートルであり、局所的な厚さ変動は０．２マイクロメートル未満である。

露光器具１０は、照明源２０と投影レンズ２２とを含み、投影レンズ２２は、マスク２６と共に、ウェハ２８上にパターンを転写するのに使用される。１つの実施例によれば、照明源２０と投影レンズ２２とはスキャナとして具体化されることができ、このスキャナは、Ｘ方向と平行の長く細い、ウェハ２８のスリット部分を照明し、かつＹ方向に移動し、ウェハ２８の次のスリット部分を照明し、ウェハ２８の複数箇所（Ｘ，Ｙ）にパターンを転写する。

照明源２０はマスク２６を照明し、またマスク２６の照明に適した装置、例えばレーザまたは集光レンズを含んでいる。照明源２０によって得られる照明は、エネルギー線量Ｅ（Ｘ）で記述される。照明源２０の特性、例えば放射束分布等は、放射束関数Ｊ（Ｘ；ρ，θ）で記述され、この関数において、ρは半径方向、θは投影レンズ２２の射出瞳のところで定められた角方向を表す。マスク２６は、ウェハ２８に形成されるパターンを含み、線と空所の格子パターン等のパターンを形成するための適当な型板を含んでいる。マスク特性、例えばパターンの２次元デザイン等は、マスク関数Ｍ（Ｘ，Ｙ）で表される。

投影レンズ２２は、マスクからの回折光を集光し、その光をウェハ２８と平行に方向づけ、かつ回折光を集光するのに適したデバイス、例えば４×縮小レンズを含んでいる。投影レンズ２２等のレンズは、レンズの１以上の収差、例えば曲率または非点収差等を記述する収差内容と関連している。収差は、例えば

および

の形式を有する１以上の適当な収差関数を使用することで記述できる。一例として、これらの収差関数は、ゼルニケ関数を含むことができ、ゼルニケ関数は、次式（１）で表すことができる。

この式において、

は正規化因子であり、

は次式（２）によって与えられる。

ウェハ２８の位置（Ｘ，Ｙ）に結果として形成されるパターンは、エネルギー線量Ｅ（Ｘ）を用いて定義されるイメージ関数Ｉ（Ｘ，Ｙ）、放射束関数Ｊ（Ｘ；ρ，θ）、マスク関数Ｍ（Ｘ，Ｙ）、収差関数で記述される。パターニング時には、異なるマスクを用いた複数の露光サイクルが行われる。１つの実施例では、ゲート等のクリティカル層のパターニングには、例えば２マスク２重露光工程が行われる。

結果として得られるパターンは、マスク２６によって形成されるようにデザインされた目標パターンとは異なる。例えば、結果として得られるパターンは、クリティカル寸法誤差を有している。クリティカル寸法とは、高精度で定める必要のある寸法である。例えば、トランジスタゲートの幅はクリティカル寸法である。この幅は、例えば５〜７ｎｍの精度で定める必要がある。

クリティカル寸法の誤差は、いくつかの要因のいずれかの、例えば投影レンズ２２のレンズ収差の結果である。本発明の１つの実施例によれば、レンズ収差に対するウェハ２８の応答を記述する光学モデルが生成される。この光学モデルは、レンズ収差に対するデザインの感度を検出し、レンズ収差による誤差を補正するのに使用される。

本発明の範囲を逸脱することなしに、露光器具１０に変更、付加、省略を加えることができる。加えて、露光器具１０を特徴づける一定の機能が、ソフトウエア、ハードウエア、その他の論理を含む適当な論理またはそれらの適当な組み合わせによって実施できる。

図２は、光学モデルを生成するシステム１１０の１つの実施例を示すブロック図である。この実施例によれば、システム１１０が生成する光学モデルは、レンズ収差に対するウェハ結像材料の応答またはウェハの応答を記述している。システム１１０は、レンズ収差を記述したレンズ収差データを収集し、このデータにレンズ収差関数を適合させ、収差関数に従って光学モデルを生成する。

図示の実施例によれば、システム１１０は、図１に示すように接続されたクライアント１２０と、サーバー１２４と、データベース１２８とを含んでいる。１つの実施例によれば、クライアント１２０は、光学モデルを生成するために使用者をサーバー１２４と連絡させることができ、データベース１２８は、サーバー１２４が使用する情報を記憶する。サーバー１２４は、光学モデル生成のためのアプリケーション、例えばデータコレクタ１３０、補正モジュール１３４、光学モデルジェネレータ１３２、感度チェッカー１３４、補正モジュール１３４等を管理する。

データコレクタ１３０は、露光器具１０からデータを収集して、投影レンズ２２のレンズ収差の変化にウェハ２８がどのように応答するかを決定するのに使用される。一例として、データコレクタ１３０は、投影レンズ２２のレンズ素子を移動させて、レンズ収差を変化させることによってデータを収集する。レンジ素子は、例えば圧電アクチュエータを用いて移動させる。ウェハ２８は、投影レンズ２２を用いて露光され、かつ投影レンズ２２のレンズ収差に対するウェハ２８の応答を決定するために分析される。この応答は、走査電子顕微鏡を用いて測定されるが、例えばクリティカル寸法応答、ライン端切捨て、パターン配置誤差、その他の種類の応答、これらの組み合わせを含んでいる。この応答を記述するレンズ収差データが生成されてもよい。

光学モデルジェネレータ１３２は、レンズ収差に対するウェハ２８の応答を記述した光学モデルを生成する。一例として、光学モデルは、投影レンズの特定箇所（Ｘ′，Ｙ′）に収差を生じさせるウェハ２８の特定箇所（Ｘ，Ｙ）での応答を決定するのに使用されるが、その場合、収差自体は、投影レンズ２２の一部または全体にわたって拡散する。ゼルニケ係数等の値は、ウェハ２８の前記箇所での結像を記述する。この係数およびパターンデータが与えられれば、光学モデルを使用して、クリティカル寸法変化等の予測変化が出力として生成される。

１つの実施例によれば、光学モデルジェネレータ１３２は、データコレクタ１３０から受け取るレンズ収差データを使用して光学モデルを生成する。光学モデルジェネレータ１３２は、１つ以上のゼルニケ関数等のレンズ収差関数を選択することでレンズ収差を記述し、かつ選択した収差関数の係数を調整して、収差関数をレンズ収差データに適合させる。

光学モデルジェネレータ１３２は、次いでレンズ収差関数を使用して光学モデルを生成する。この光学モデルは、レンズ収差関数を含み、かつ露光器具１０の他のフィーチャがウェハ２８の応答にどのように影響するかを記述する関数を含んでいる。一例として、前記他のフィーチャは、露光波長、スキャナ開口数、スキャナ照明源の幅、スキャナの縮小率、スキャナの焦点ずれ、ガウス拡散核の標準偏差、バイナリマスクの種類の定義、全エネルギーとバイナリ露光との割合、その他の適当なフィーチャ、それらの何らかの組み合わせを含んでいる。

感度チェッカー１３４は、幾つかの露光器具１０に対するパターンデザインの感度を決定するのに使用される。例えば、感度チェッカー１３４は、クリティカル寸法が１つの露光器具１０と他の露光器具１０とで過大に相違していないかどうかを検出する。感度チェッカー１３４は、光学モデルジェネレータ１３２により生成される光学モデルを使用して、ウェハの応答をシミュレートすることで感度を検出する。

一例として、感度チェッカー１３４が複数組の収差内容を受取り、その場合、各組が、特定露光器具１０の投影レンズ２２のレンズ収差を記述している。あるいはまた各組が、投影レンズ２２のレンズ面を横切る方向での収差を記述している。１組の収差内容は、投影レンズ２２の複数箇所での収差を記述するゼルニケ係数等の複数の値を含んでいる。ゼルニケ係数は、波長単位で報告され、例えば１５〜２０「ミリ−ラムダ」、すなわち露光波長の０．０１５〜０．０２倍である。

光学モデルは、複数組の収差内容の各々に対するウェハ２８の複数箇所（Ｘ，Ｙ）での応答を決定するのに使用される。レンズ収差に対するウェハ２８の応答は、収差に感応するパターン箇所の決定に使用される。例えば、与えられた複数組の収差内容間の変量は、異なる投影レンズ２２間の収差の変量、または投影レンズ２２のレンズ面（レンズフィールド）を横切る方向でのレンズ収差の変量を検出するのに使用される。この情報は、ゼルニケ係数の値の範囲を選択して、目標パターンに影響するレンズ収差の変量を記述するのに使用される。等しい範囲を有するゼルニケ係数のランダムに生成された収集に対するパターンのクリティカル寸法の予測変化が、対応するクリティカル寸法の制御要求と比較され、収差感度が計測される。

補正モジュール１３６は、レンズの収差補正のため、マスク２６のパターンデザインの近接補正を行うのに使用される。補正モジュール１３６は、露光器具１０のレンズ収差を記述した収差内容を受取る。光学モデルは、収差の結果生じる誤差の決定に使用される。補正モジュール１３６は、マスクデザインを補正することで、適当な光学的な近接補正ソフトウエアを使用して光学的な近接補正手続きを行うことにより誤差を補償する。

例えば、光学モデルが、レンズ収差のため、５ｎｍだけフィーチャのクリティカル寸法が小さくなると予測した場合は、補正モジュール１２６の補正ソフトウエアにより、ターゲット層が変更され、光学的な近接補正がなされ、フィーチャが５ｎｍだけ大きくされる。従来式の補正ソフトウエアでは、その場合、マスクデータベースが変更され、ウェハレベルのクリティカル寸法がレンズ収差に応じて補正される。１つの実施例によれば、光学モデルが、従来式の光学的近接補正モデルに組み込まれることで、マスクの近接補正が、レンズ収差に応じて行われる。

クライアント１２０およびサーバー１２４は、各々、１つ以上のコンピュータで作業し、かつ適当な入力装置、出力装置、大容量記憶媒体、プロセッサ、メモリ、その他システム１１０の操作に従って受信、処理、記憶、情報通信を行うための構成要素を含んでいる。本明細書で使用されているように、「コンピュータ」という用語は、入力を受取り、予め定義した規則に従ってこの入力を処理し、出力を行うように操作可能な何らかの適当な装置、例えばパーソナルコンピュータ、ワークステーション、ネットワークコンピュータ、無線電話、パーソナルデジィタルアシスタント、これらまたは他の装置の内部の１以上のマイクロプロセッサ、その他何らかの適当な処理装置をいう。

クライアント１２０およびサーバー１２４は、特定の必要に応じて、組み込まれていても別個であってもよい。例えば本発明では、クライアント１２０およびサーバー１２４双方の機能が単一のコンピュータシステム、例えば単一のパーソナルコンピュータを使用することで達せられるように構想されている。クライアント１２０およびサーバー１２４が別個の場合には、クライアント１２０は、１以上のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、メトロポリタンエリアネットワーク（ＭＡＮ）、広域ネットワーク（ＷＡＮ）、インターネット等のグローバルコンピュータネットワーク、他の何らかの適当な有線、無線その他のリンクを使用してサーバー１２４に接続される。

データベース１２８は、サーバー１２４が使用するデータを記憶する。データベース１２８は、サーバー１２４にはローカルでも、遠隔でもよく、１以上のローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、メトロポリタンエリアネットワーク（ＭＡＮ）、広域ネットワーク（ＷＡＮ）、インターナット等のグローバルコンピュータネットワーク、他の何らかの適当な有線、無線その他のリンクを使用してサーバー２４に接続できる。

データベース１２８は、例えば収集データ１４０と結果１４２とを含んでいる。収集されたデータには、例えばレンズ収差データ、収差内容、パターンデザイン、その他適当なデータ、これらの組み合わせのいずれかを含んでいる。レンズ収差データは、レンズ収差に対するウェハの応答を表す。収差内容は１レンズの収差を記述する。パターンデザインは、パターンを形成するためのマスク２６のデザインを記述する。

本発明の範囲を逸脱することなく、システム１１０に対し変更、付加、省略のいずれかを実施可能である。加えて、システム１１０の操作は、より多くの、またはより少ないモジュールで行ってもよい。例えば、データコレクタ１３０および光学モデルジェネレータ１３２の操作は、１つのモジュールで実施してもよく、また光学モデルジェネレータ１３２の操作は、２以上のモジュールで実施してもよい。加えて、ソフトウエアを含む何らかの適当な論理、ハードウエア、その他の論理、それらの適当な組み合わせを使用して、複数機能を実施することができる。

別の技法では、レンズ収差に起因する誤差のためのパターンデザインの補正は、犠牲マスク（ｓａｃｒｉｆｉｃｉａｌ ｍａｓｋ）を実際に作ることを必要とするかもしれない。犠牲マスクは、ウェハの露光に使用され、結果として得られたパターンは、誤差確認のために検査される。犠牲マスクのデザインは補正されて、ウェハのパターニングに使用する新たなマスクが生成される。システム１１０は、犠牲マスクを作ることなくレンズ収差に起因する誤差を補償するようにデザインの補正に使用される光学モデルを生成してもよい。

図３は、光学モデルを生成する方法の１つの実施例を示している。この方法はステップ２００で始まり、ステップ２００では、投影レンズ２２のレンズ収差を調整して、レンズ収差データを収集する。レンズ収差は、投影レンズ２２の１以上のレンズ素子を移動させることで調整される。次いでウェハ２８を露光する。前記調整に対するウェハ２８の応答がステップ２１０で検出される。ステップ２１２では、ウェハ２８の応答を記述するレンズ収差データが収集される。

光学モデルジェネレータ１３２は、レンズ収差データを記述するのに使用する収差関数を選択する。これらの収差関数はゼルニケ関数を含み、かつどの収差関数が最もよくレンズ収差データを記述するかを検証して選択される。選択された収差関数は、ステップ２１６でデータに適合させられる。通常、収差関数は、収差関数の係数を調整することでデータに適合させられ、最終的にこの関数がデータを記述するようになされる。ステップ２１８では、収差関数を使用して光学モデルが生成される。光学モデルは、ウェハ２８が投影レンズ２２のレンズ収差にどのように応答するかを記述するのに使用される。光学モデルはまた、露光器具１０の他のフィーチャに対するウェハ２８の応答をも記述する。

ステップ２１８で生成された光学モデルは、１以上の処置手続きを行うのに使用される。一例として、光学モデルは、ステップ２２０で感度処置手続きまたは補正処置手続きを行なうのに使用される。感度処置手続きを行なわれる場合、本方法では、ステップ２２４へ進む。ステップ２２４では、感度チェッカー１３４が、幾つかの露光器具１０の収差内容を記述する複数組の収差内容を受け取る。

ステップ２２６では、露光器具１０の収差に対するウェハの応答が検出される。ウェハの応答は、光学モデルを使用して応答をシミュレートすることで検出される。ステップ２２８では、収差に対するデザインの感度が検出される。この感度は、異なる複数露光器具１０に対するウェハの複数応答を比較することで検出される。感度検出後、本方法はステップ２７０へ進む。

ステップ２２０で補正処置手続きを行われる場合は、本方法によりステップ２４０へ進む。ステップ２４０では、デザインの近接補正が評価される。近接補正は、何らかの適当な光学的近接補正ソフトウエアを使用して評価される。ステップ２４２では、露光器具１０の収差内容が受け取られる。この収差内容は、露光器具１０のレンズ収差を記述したものである。この収差内容に対するデザインの感度がステップ２４６で査定され、誤差が確認される。

誤差がステップ２４８で補正可能な場合、本発明によりステップ２５０へ進み、そこで補正が行われる。ステップ２５２で補正が不満足となった場合は、本発明によりステップ２４０に戻り、次のデザイン近接補正が評価され、改善された補正が生成される。ステップ２５２で補正が満足となった場合は、本方法によりステップ２７０へ進む。誤差がステップ２４８で補正不可能の場合、本方法によりステップ２６０へ進み、そこで補正モジュール１３６により誤差が補正不可能と指示される。その場合、本方法によりステップ２７０へ進む。

結果はステップ２７０で報告される。この結果には、補正されたデザインと、光学モデルを使用して行なった何らかの分析とが含まれている。結果の報告後、本方法は完了する。

本発明の範囲を逸脱することなしに、本方法に対し変更、追加、省略を加えることができる。加えて、本発明の範囲を逸脱することなしに、各ステップを何らかの適当な順序で実施することができる。

本発明の或る実施例は、１以上の技術上の利点を有している。１つの実施例の技術上の利点は、露光器具のレンズ収差がウェハ上に形成されるパターンにどのように影響するか、光学モデルが記述できることである。別の実施例によれば、光学モデルが、複数の露光器具のレンズ収差に対するパターンデザインの感度検出に使用できる。さらに別の実施例によれば、光学モデルは、パターンデザインを調整して、レンズ収差の結果生じる誤差を補正するのに使用される。

本発明の１つの実施例およびその利点を詳細に説明してきたが、当業者は、特許請求の範囲に定義されたような本発明の精神および範囲を逸脱することなく、種々の変更、追加、省略が可能である。

以上の説明に関してさらに以下の項を開示する。
（１） 光学モデルを生成する方法であって、
初期のレンズの１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整する段階と、
前記調整に対するウェハの応答を検出する段階と、
前記ウェハの応答に従ってレンズ収差データを生成する段階と、
複数の収差関数のうちから１以上の収差関数を選択する段階と、
前記１以上の収差関数を前記レンズ収差データに適合させる段階と、
前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する段階であって、該光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示している段階と
を含む光学モデル生成方法。
（２） 前記複数の収差関数が複数のゼルニケ関数を含む第１項記載の光学モデル生成方法。
（３） 複数の露光器具と関連する複数の収差内容の組を受け取る段階であって、該収差内容の各組が、前記１以上の露光器具のうちの１つの露光器具のレンズに関連する１以上のレンズ収差を表している段階と、
１以上の箇所を含むパターンデザインを受け取る段階と、
前記収差内容の各組のための応答データを生成するために、前記収差内容の各組に応じて前記光学モデルを前記パターンデザインに適用する段階と、
前記応答データに従って前記複数の露光器具に関連する前記１以上のレンズ収差に対する前記パターンデザインの１以上の箇所の感度を検出する段階と
をさらに含む第１項に記載の光学モデル生成方法。
（４） レンズに関連する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取る段階と、
誤差確認のために、前記収差内容に応じて光学モデルをパターンデザインに適用する段階と、
前記誤差に対し近接補正を実施する段階と
を含む第１項記載の光学モデル生成方法。
（５） パターンデザインに対して、推定される近接補正を実施する段階と、
露光器具のレンズに関連する１以上のレンズ収差を表した収差内容を受け取る段階と、
誤差確認のために、前記収差内容に従って前記パターンデザインに前記光学モデルを適用する段階と、
前記誤差が補正可能であれば、前記誤差の近接補正を実施する段階と、
そうでなければ前記誤差を補正不可能と同定する段階と
をさらに含む第１項記載の光学モデル生成方法。

（６） 光学モデルを生成するシステムであって、
初期のレンズの１以上のレンズ収差に対するウェハの応答に関連するレンズ収差データを記憶するように動作可能なデータベースと、
前記データベースに接続されたサーバーと
を有する光学モデル生成システムにおいて、
前記サーバーが、
前記１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整し、
前記調整に対する前記ウェハの応答を検出し、
前記ウェハの応答に従って前記レンズ収差データを生成し、
複数の収差関数から１以上の収差関数を選択し、
前記レンズ収差データに対して前記１以上の収差関数を適合させ、
前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する
ように動作可能であり、
前記光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示ものである、光学モデル生成システム。
（７） 前記複数の収差関数が複数のゼルニケ関数を含む第６項記載の光学モデル生成システム。
（８） 前記データベースが、
前記複数の露光器具に関連する複数の収差内容の組を受け取るようにさらに動作可能であり、前記収差内容の各組が、前記１以上の露光器具のうちの１つの露光器具のレンズに関連する１以上のレンズ収差を表しており、また
１以上の箇所を含むパターンデザインを受け取るようにさらに動作可能であり、
前記サーバーが、
前記収差内容の各組のための応答データを生成するように、前記収差内容の各組に従って前記パターンデザインに光学モデルを適用するようにさらに動作可能であり、また
前記応答データに従って前記複数の露光器具に関連する前記１以上のレンズ収差に対する前記パターンデザインの前記１以上の箇所の感度を検出するようにさらに動作可能である
ことを特徴とする第６項に記載の光学モデル生成システム。
（９） 前記データベースが、レンズに関連する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取るようにさらに動作可能であり、
前記サーバーが、
誤差確認のために、前記収差内容に従ってパターンデザインに前記光学モデルを適用するようにさらに動作可能であり、また
前記誤差に対する近接補正を実施するようにさらに動作可能である
ことを特徴とする第６項に記載の光学モデル生成システム。
（１０） 前記データベースが、露光器具のレンズに関係する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取るようにさらに動作可能であり、
前記サーバーが、
パターンデザインに対して、推定される近接補正を実施する動作と、
誤差確認のために、前記収差内容に従って前記パターンデザインに前記光学モデルを適用する動作と、
前記誤差が補正可能であれば、前記誤差に対して近接補正を実施する動作と、
そうでない場合には、前記誤差を補正不可能と同定する動作と
が可能である
ことを特徴とする第６項に記載の光学モデル生成システム。

（１１） 光学モデルを生成する論理であって、該論理が、媒体として具体化されており、かつ該論理が、
初期のレンズの１以上のレンズ収差のうちの１つのレンズ収差を調節する動作と、
前記調節に対するウェハの応答を検出する動作と、
前記ウェハの応答に従ってレンズ収差データを生成する動作と、
複数の収差関数のうちから１以上の収差関数を選択する動作と、
前記１以上の収差関数を前記レンズ収差データに対して適合させる動作と、
前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する動作であって、該光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上の収差に対する前記ウェハの応答を指示している動作と
が可能であることを特徴とする光学モデル生成論理。
（１２） 前記複数の収差関数が複数のゼルニケ関数を含む第１１項記載の光学モデル生成論理。
（１３） 前記論理が、
複数の露光器具と関連する複数の収差内容の組を受け取る動作であって、該収差内容の各組が、前記１以上の露光器具のうちの１つの露光器具のレンズと関係する１以上のレンズ収差を表している動作と、
１以上の箇所を含むパターンデザインを受け取る動作と、
前記収差内容の各組に従って前記パターンデザインに前記光学モデルを適用して、前記収差内容の各組のための応答データを生成する動作と、
前記応答データに従って前記複数の露光器具に関連する前記１以上のレンズ収差に対する前記パターンデザインの１つ以上の箇所の感度を検出する動作と
がさらに可能であることを特徴とする第１１項記載の光学モデル生成論理。
（１４） 前記論理が、
レンズに関連する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取る動作と、
誤差確認のために、前記収差内容に従ってパターンデザインに前記光学モデルを適用する動作と、
前記誤差に対して近接補正を実施する動作と
がさらに可能であることを特徴とする第１１項記載の光学モデル生成論理。
（１５） 前記論理が、
パターンデザインに対して、推定される近接補正を実施する動作と、
露光器具のレンズに関係する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取る動作と、
誤差確認のために、前記収差内容に従って前記パターンデザインに対して前記光学モデルを適用する動作と、
前記誤差が補正可能な場合には、前記誤差の近接補正を実施する動作と、
そうでなければ、前記誤差を補正不可能と同定する動作と
がさらに可能であることを特徴とする第１１項記載の光学モデル生成論理。

（１６） 光学モデルを生成するシステムであって、
初期のレンズの１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整する装置と、
前記調整に対するウェハの応答を検出する装置と、
前記ウェハの応答に従ってレンズ収差データを生成する装置と、
前記複数の収差関数のうちの１以上の収差関数を選択する装置と、
前記レンズ収差データに対して前記１以上の収差関数を適合させる装置と、
前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する装置であって、該光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示している装置と
を有している光学モデル生成システム。
（１７） 光学モデルを生成する方法であって、
初期のレンズの１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整するステップと、
前記調整に対するウェハの応答を検出するステップと、
前記ウェハの応答に従ってレンズ収差データを生成するステップと、
前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答に関係するレンズ収差データを受け取るステップと、
複数のゼルニケ関数を含む複数の収差関数のうちから１以上の収差関数を選択するステップと、
前記レンズ収差データに前記１以上の収差関数を適合させるステップと、
前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成するステップであって、該光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示しているステップと、
複数の露光器具に関連する複数の収差内容の組を受け取るステップであって、該収差内容の各組が、前記１以上の露光器具のうちの少なくとも１つの露光器具のレンズに関連する１以上のレンズ収差を表しているステップと、
１以上の箇所を含む第１パターンデザインを受け取るステップと、
前記収差内容の各組に従って前記第１パターンデザインに前記光学モデルを適用して、前記収差内容の各組に対する応答データを生成するステップと、
前記応答データに従って前記複数露光器具に関連する前記１以上のレンズ収差に対する前記第１パターンデザインの前記１以上の箇所の感度を検出するステップと、
第２パターンデザインに対して、推定される近接補正を実施するステップと、
露光器具のレンズに関連する１以上のレンズ収差を表す収差内容を受け取るステップと、
誤差確認のために、前記収差内容に従って前記第２パターンデザインに前記光学モデルを適用するステップと、
前記誤差が補正可能であれば、前記誤差の近接補正を実施するステップと、
そうでなければ、前記誤差を補正不可能と同定するステップと
を含む光学モデル生成方法。

（１８） 本発明によれば、光学モデルの生成が、レンズ収差に対するウェハ応答に関連するレンズ収差データの受け取り（２１２）を含む。収差関数が選択され、レンズ収差データに適合される。光学モデルが収差関数に従って生成され（２１８）、この場合、光学モデルはレンズ収差に対するウェハの応答を指示している。

本発明の１実施例による光学モデルにより表される露光器具の例を示す図。 光学モデルを生成するシステムの１実施例を示すブロック図。 光学モデルを生成する方法の１実施例を示す流れ図。

符号の説明

１０ 露光器具
２０ 光源
２２ 投影レンズ
２６ マスク
２８ ウェハ
１１０ システム
１２０ クライアント
１２４ サーバー
１２８ データベース

Claims (2)

1. 光学モデルを生成する方法であって、
   初期のレンズの１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整する段階と、
   前記調整に対するウェハの応答を検出する段階と、
   前記ウェハの応答に従ってレンズ収差データを生成する段階と、
   複数の収差関数のうちから１以上の収差関数を選択する段階と、
   前記１以上の収差関数を前記レンズ収差データに適合させる段階と、
   前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する段階であって、該光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示している段階と
   を含む光学モデルの生成方法。
2. 光学モデルを生成するシステムであって、
   初期のレンズの１以上のレンズ収差に対するウェハの応答に関連するレンズ収差データを記憶するように動作可能なデータベースと、
   前記データベースに接続されたサーバーと
   を有する光学モデル生成システムにおいて、
   前記サーバーが、
   前記１以上のレンズ収差のうちの少なくとも１つのレンズ収差を調整し、
   前記調整に対する前記ウェハの応答を検出し、
   前記ウェハの応答に従って前記レンズ収差データを生成し、
   複数の収差関数から１以上の収差関数を選択し、
   前記レンズ収差データに対して前記１以上の収差関数を適合させ、
   前記１以上の収差関数に従って光学モデルを生成する
   ように動作可能であり、
   前記光学モデルが、前記初期のレンズの前記１以上のレンズ収差に対する前記ウェハの応答を指示ものである、光学モデル生成システム。

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