JP2005026693A - 測定装置を有するリトグラフ投影装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、放射線源から出る放射線から投影ビームPBを作る放射装置3、4と、投影ビームにパターン付与すべく投影ビームで照射されるパターン付与手段を保持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン付与手段の照射部分の画像を基板の目標部分に与えるように構成され、配列された投影装置とを含むリトグラフ投影装置1。さらに、リトグラフ投影装置は、第1フレームと、少なくとも1つの光学部品および少なくとも1つの電気部品を有する測定装置とを含む。電気部品は動作中に熱を出す。光学部品は第1フレームに搭載されている。少なくとも1つの電気部品は第2フレーム59に搭載されている。フレーム59は、第1フレーム51に対して熱的、機械的に減結合されている。第1フレーム51と第2フレーム59の間で光結合が行われる。
【選択図】図3
Description
放射線源によって放出される放射線から投影放射線ビームを形成する放射装置、
前記投影ビームにパターン付与するために投影ビームで照射されるべきパターン付与手段を保持するように構築された支持構造、
基板を保持するように構築された基板テーブル、
パターン付与手段の照射された部分の画像を基板の目標部分に形成するように構築されかつ配設された投影装置、
第1フレーム、および
第1フレームに取り付けられた少なくとも1つの光学部品、および、少なくとも1つの電気部品を含む測定装置。
放射線感応材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を用意する段階と、
放射装置を用いて投影放射線ビームを供給する段階と、
パターン付与手段を用いて、投影放射線ビームの横断面にパターンを付与する段階と、
パターン付与された放射線ビームを放射線感応材料層の目標部分に投影する段階とを含むリトグラフ工程で集積構造を製造する方法に係わり、本方法は、さらに、
第1フレームと、少なくとも1つの光学部品および動作中に熱を出す少なくとも1つの電気部品を有する測定装置とを含むリトグラフ投影装置を用いる段階を含み、前記少なくとも1つの光学部品は前記第1フレームに配設されており、第1フレームに対して熱的および機械的に実質的に減結合された第2フレームに搭載された少なくとも1つの電気部品を用いることによって特徴づけられる。
マスク: マスクの概念は、リトグラフではよく知られており、各種ハイブリッド(混成)・マスクは勿論のこと、バイナリ(2元)マスク、交互位相シフトマスク、減衰相シフトマスク等のマスク種を含む。そのようなマスクを放射線ビーム中に配置することで、マスク・パターンに応じて、マスクに当たる放射線の選択的透過(透過マスクの場合)または反射(反射マスクの場合)が起こる。マスクの場合、支持構造は、一般にマスク・テーブルであり、このマスク・テーブルによって、入射放射線ビーム中の所望位置にマスクを保持でき、また、所望により、マスクをビームに対して移動させることができる。
プログラム可能なミラー・アレイ: そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス指定可能な表面である。そのような装置の基本原理は、例えば、反射表面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、アドレス指定されていない領域が入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルタを用いて、前記非回折光を、反射ビームからフィルタ除去して、後に回折光だけを残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス指定可能な表面のアドレス指定パターンに従って、ビームのパターン付与が行なわれる。プログラム可能なミラー・アレイのその他の例では、微小ミラーのマトリックス配列が使用される。この微小ミラーの各々は、適切な局部電界を加えることによって、または、圧電作動手段を用いることによって、軸線の周囲で傾斜させることができる。繰り返して云うが、アドレス指定されたミラーがアドレス指定されないミラーに対して異なる方向に入射放射線ビームを反射するように、ミラーのマトリックス・アドレス指定が可能である。このようにして、反射ビームは、マトリックス・アドレス指定可能なミラーのアドレス指定されたパターンに応じてパターン付与される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子的手段を用いて行うことができる。前記両状況で、パターン付与手段は1つまたは複数のプログラム可能なミラー・アレイを含むことができる。ここで述べたミラー・アレイについて、例えば、米国特許第5296891号、米国特許第5523193号、PCT特許出願であるWO98/38597およびWO98/33096から、多くの情報を得ることができる(これらの特許および特許出願の記載内容を本明細書の記載として援用する)。プログラム可能なミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具現化でき、それは、必要に応じて、固定式でも可動式でもよい。
プログラム可能なLCDアレイ: そのような構造の例が、米国特許第5229872号に記載されている(本特許の記載内容を本明細書の記載として援用する)。前記と同様に、この場合の支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具現化でき、それは、必要に応じて、固定式でも可動式でもよい。
前記放射装置Ex、ILは、投影放射線ビームPB(とりわけ、紫外線(UV)放射(例えば、365、248、193、157または126nmの波長を有する)および極超紫外線(EUV)放射線(例えば、5〜20nmの範囲の波長を有する)を含むあらゆる種類の電磁放射線)を供給するためのものであり、この特別な例では、放射線源LAをも含む。
前記第1物体テーブル(マスク・テーブル)MTは、マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、かつ、要素PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1位置決め手段PMに接続される。
前記第2物体テーブル(基板テーブル)WTは、基板W(例えば、レジスト被覆されたシリコン・ウェーハ)を保持するための基板ホルダを備え、かつ、要素PLに対して基板を正確に位置決めするための第2位置決め手段PWに接続される。
前記投影装置(レンズ)PLは、マスクMAの照射された部分を、基板Wの目標部分C(例えば、1つまたは複数のダイを含む)上に画像投与するためのものである。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは基本的に静止したままであり、全マスク画像が一括して(すなわち、単一「フラッシュ」で)目標部分Cに投影される。次に、異なる目標部分CがビームPBで照射されるように、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向に移動される。
2.走査モードでは、基本的に同じ状況が当てはまるが、ただ、特定の目標部分Cが単一「フラッシュ」で露光されないことが異なる。代わりに、マスク・テーブルMTが、特定の方向(いわゆる「走査方向」、例えば、y方向)に速度vで移動可能であり、その結果、投影ビームPBはマスク画像全体を走査することができるようになる。これと並行して、基板テーブルWTが、速度V=Mvで、同じ方向または反対方向に同時に移動する。ここで、MはレンズPLの拡大率である(一般に、M=1/4または1/5)。このようにして、分解能で妥協する必要なく、比較的大きな目標部分Cを露光することができる。
Claims (7)
- 放射線源(LA)によって放出される放射線から投影放射線ビーム(PB)を形成する放射装置(3、4)と、
前記投影放射線ビームをパターン付与するために、前記投影放射線ビームで照射されるべきパターン付与手段を保持するように構築された支持構造(MT)と、
基板を保持するように構築された基板テーブル(WT)と、
前記パターン付与手段の照射された部分の画像を前記基板の目標部分に形成するように構築されかつ配設された投影装置(PL)とを含み、さらに
第1フレーム(51)と、
前記第1フレームに取り付けられた少なくとも1つの光学部品、および、少なくとも1つの電気部品を含む測定装置とを含むリトグラフ投影装置(1)において、
前記少なくとも1つの電気部品(65)が、前記第1フレーム(51)に対して、実質上、熱的および機械的に減結合された第2フレーム(59)に搭載されていることを特徴とするリトグラフ投影装置(1)。 - 前記第1フレーム(51)と前記第2フレーム(59)の間で光結合が行われることを特徴とする請求項1に記載されたリトグラフ投影装置(1)。
- 前記光結合が、前記第1フレーム(51)に搭載された少なくとも第1レンズ(5)、および、前記第2フレーム(59)に搭載された少なくとも第2レンズ(19)から成る組立体を含むことを特徴とする請求項2に記載されたリトグラフ投影装置(1)。
- 前記組立体が瞳面を有し、前記第1フレーム(51)が壁(27)を有する閉鎖室内に収蔵され、前記壁(27)が透明窓(17)を有し、かつ、光学的作用力を有する要素が前記瞳面と前記透明窓(17)との間に配設されていないことを特徴とする請求項3に記載されたリトグラフ投影装置(1)。
- 前記窓(17)が前記瞳面に配列されていることを特徴とする請求項4に記載されたリトグラフ投影装置(1)。
- 前記閉鎖室内に第1圧力が存在し、前記閉鎖室外に第2圧力が存在することを特徴とする請求項4または請求項5に記載されたリトグラフ投影装置(1)。
- 放射線感応材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を用意する段階と、
放射装置を用いて投影放射線ビームを供給する段階と、
パターン付与手段を用いて、投影放射線ビームの横断面にパターンを付与する段階と、
前記パターン付与された投影放射線ビームを前記放射線感応材料の層の目標部分に投影する段階とを含むリトグラフ工程で集積構造を製造する方法であり、さらに、
第1フレーム(51)と、少なくとも1つの光学部品および動作中に熱を出す少なくとも1つの電気部品を有する測定装置とを含むリトグラフ投影装置(1)を用いる段階を含み、前記少なくとも1つの光学部品が前記第1フレーム(51)に配設されている、リトグラフ工程で集積構造を製造する方法において、
前記第1フレーム(51)に対して、実質上、熱的および機械的に減結合された第2フレーム(59)に搭載された前記少なくとも1つの電気部品を用いることを特徴とするリトグラフ工程で集積構造を製造する方法。
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