JP2005008920A - クロム系窒化膜の成膜方法 - Google Patents

クロム系窒化膜の成膜方法 Download PDF

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Abstract

【目的】熱間加工型等として使用した場合に、耐熱耐久性の向上に寄与するクロム系窒化膜を基材上に成膜できる方法を提供すること。
【構成】機能性金属部材における基材の所要部位にクロム系窒化膜を成膜する方法。 Al:約2〜20質量%、W:約0.05〜15質量%、Cr:残部である実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングによりクロム系窒化膜を形成する。主として金属塑性加工型として使用する。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【技術分野】
本発明は、金属塑性加工用金型におけるクロム系窒化膜の成膜方法及びクロム系窒化膜を備えた金属塑性加工用金型に関する。
【0002】
【背景技術】
金属塑性加工用金型は、基材(母材、金型本体)が一般に鋼製であるため、耐摩耗性等の耐久性を維持するために、表面硬化処理(硬質皮膜処理)をする必要がある。
【0003】
そして、表面硬化処理として、窒化処理が多用されている。他方、熱間加工においては、従来にもまして耐熱耐久性向上の要求が増大している。
【0004】
金属塑性加工用金型の耐熱耐久性を向上させるために、特許文献1において、JIS鋼種SKH、SKDあるいはこれらの相当材である鋼からなる母材表面に、(Al1−X、Cr)N被膜(ただしxは原子比であり、1.0>x≧0.02)を形成した表面被覆成形型が提案されている(請求項1等参照)。
【0005】
また、金属塑性加工用金型ではないが、特許文献2においては、クロム、M群(M;チタン、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ハフニウム、タンタル、タングステン及びアルミニウムから選択された1種または2種以上の金属元素)及び窒素からなり、金属元素の組成比が原子%でM/(Cr+M)=1〜55%であるイオンプレーティング皮膜を基体に被覆した摺動部材(金属塑性加工用金型)が提案されている(請求項1等参照)。なお、本特許文献においては、実施例は、全て「Cr−V−N系硬質皮膜」である。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−271699公報
【特許文献2】
特許第2977066号公報
【0007】
【発明の開示】
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記にかんがみて、新規な、特に、熱間加工用金型等として使用した場合に、耐熱耐久性の向上に寄与するクロム系窒化膜を基材上に成膜できる方法及びクロム系窒化膜を備えた金属塑性加工用金型を提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題
(目的)を、下記構成により解決するものである。
【0010】
金属塑性加工用金型における基材の所要部位にクロム系窒化膜を成膜する方法において、
Al:約2〜20質量%、W:約0.05〜15質量%、Cr:残部である実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングによりクロム系窒化膜を形成することを特徴とする。
【0011】
上記のようなターゲットを用いて反応性イオンプレーティングにより形成したクロム系窒化膜は、金属塑性加工用金型の耐熱耐久性の向上に寄与する。
【0012】
上記構成のクロム系窒化膜の成膜方法において、基材として、前記クロム系窒化膜の成膜部位が窒化処理されているものを使用することが望ましい。窒化処理されている基材を使用することにより、金型本体の硬度が増大して、耐熱耐久性の増大に更に寄与する。
【0013】
上記に各構成のクロム系窒化膜の成膜方法において、基材としては、通常、鋼材製とする。鋼材は、汎用性に富みかつ本体に所要の機械的特性を得たものを選択し易い。
【0014】
本発明のクロム系窒化膜の成膜方法は、耐熱耐久性が要求される熱間加工用金型に適用することが、効果が顕著となる。
【0015】
そして、本発明を物の発明として表現した場合、それぞれ下記構成の金属塑性加工用金型に係るものとなる。
【0016】
クロム系窒化膜を備えた金属塑性加工用金型において、
前記クロム系窒化膜が、Al:2〜20質量%、W:0.05〜15質量%、Cr:残部であるクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングにより成膜されてなることを特徴とする。
【0017】
上記構成において、基材におけるクロム系窒化膜の成膜部位が、窒化処理されていることを特徴とする。
【0018】
上記各構成において、基材が鋼材製であることを特徴とする。
【0019】
熱間加工用金型が、上記いずれかの構成を備えていることを特徴とする。
【0020】
また、当該熱間加工用金型は、クロム窒化膜の表面硬度が、800℃×1hの耐熱試験後においてHV(JIS Z 2244)1800以上を示すことを特徴とする。
【0021】
本発明の技術的思想は、金属塑性加工用金型以外の金属機能製品への適用も期待できるものである。
【0022】
【発明を実施するための最良の形態】
以下、本発明のクロム系窒化膜の成膜方法に係る望ましい実施の形態について、説明を行う。以下の説明のターゲット組成は、特に断らない限り、質量%である。また、「HV」は、JIS Z 2244に準じて測定したビッカース硬さを意味する。
【0023】
本発明は、金属塑性加工用金型における基材の所要部位にクロム窒化膜を成膜する方法を前提とする。
【0024】
ここで、金属塑性加工用金型としては、熱間加工用、冷間加工用を問わないが、耐熱耐久性が要求される熱間加工用金型として好適である。
【0025】
なお、金属塑性加工としては、鍛造、スピニング、転造、引抜き用、押出、圧延等が含まれる。
【0026】
また、基材としては、通常、強靭鋼材を使用する。強靭鋼材を使用するのは、金属塑性加工用金型の如く、機械的衝撃、熱衝撃を受け易い金属塑性加工用金型等の金属製品(無機製品)を予定しているためである。
【0027】
鋼材としては、ダイス鋼、高速度鋼、粉末ハイス鋼、セミハイス鋼等のFe基合金(強靭鋼材)を好適に使用できる。基材としては、550℃以上の耐熱性を有すれば、Fe基合金に限られず、Ti基合金、銅基合金、サーメットさらにはセラミックス等が使用可能である。ただし、Fe基合金、特に、強靭鋼以外は、焼き戻しによる寸法歪が発生しないため、本発明の効果の全てを享受できない。
【0028】
上記Fe基合金の具体例としては、SKD11、SKD61等の冷間・熱間ダイス鋼、SKH51、SKH55、SKH57等の高速度鋼、さらには、HAP10、HAP40等の粉末ハイス鋼(日立金属社製)、YXR3、YXR7、YXR33等のセミハイス鋼(同社製)等を挙げることができる。
【0029】
そして、上記鋼材(基材)の表面は、汎用の窒化処理を行っておくことが望ましい。窒化処理としては、慣用のイオン窒化、ラジカル窒化、塩浴窒化、等、特に限定されず、窒化深さは、通常、25μm以上、望ましくは50〜220μmとする。
【0030】
そして、クロム系窒化膜は、Al:約2〜20%(望ましくは、約2〜12%、さらに望ましくは約3.5〜10.5%)W:約0.05〜15質量%(望ましくは、約0.5〜10.5%)、Cr:残部である実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングにより成膜する。ここで実質的とは、他の合金元素を、本発明に影響を与えない範囲で微量含んでいる場合も含む意味である。
【0031】
ここで、Al及びWの添加は実質的にCr系窒化膜の耐熱性向上(耐酸化性、放熱性を含む。)とともに硬度増大の作用を奏し、更に、Wはターゲット(クロム基合金)の靱性を確保する作用を奏する。それらの含有量が過少であると、それらの各作用を奏し難い。また、Al及びWが過多であると、Cr系被膜の本来有する耐衝撃性が低下するおそれがある。更に、Alの場合は、ターゲットの靱性を低下させるおそれがあるため、その見地から望ましい範囲は、Al:約2〜12%、さらに望ましくは約3.5〜5%とする。
【0032】
クロム系窒化膜の膜厚は、通常約2〜30μm、望ましくは約4〜20μm、さらに望ましくは約5〜16μmとする。膜厚が薄すぎると耐熱耐久性の向上効果を得難く、膜厚が厚すぎると、Cr系窒化膜と耐衝撃性に問題が発生し易い。
【0033】
反応性イオンプレーティングは、本実施形態では、図2に示すようなイオンプレーティング装置、通常、アークイオンプレーティング(AIP)装置を用いて行う。AIP法は、上記クロム基合金をターゲット(蒸発源)とし、反応ガスを窒素ガスとして注入ガス量を膜厚・ターゲット組成に対応させて調節維持することにより、クロム系窒化を高純度で基材上に反応成膜させることが可能である。当然、多陰極熱電子照射法、高周波励起法、ホロカソードディスチャージ法、クラスタ法、活性化反応蒸着法、等他のタイプのイオンプレーティング法も可能である。
【0034】
イオンプレーティング装置は、チャンバー12内に、ターゲット(クロム基合金)を保持する金属蒸発源保持部(ポット部)14と、バイアス電圧源16と接続された被処理物(基材)18を載置する回転テーブル20を備えている。さらに、チャンバー12は、チャンバー内を所定真空度に維持する排気ポンプと接続される排気口22と、反応ガス(窒素及び/又はメタン)を導入する反応ガス導入口24とを備えるとともに、チャンバー24内を所定温度に維持するとともに基材(基板)18も所定温度に維持するヒータ26を備えている。
【0035】
そして、AIP法により反応成膜する場合を例に採り説明する。
【0036】
蒸発源とするクロム合金は、通常、上記ツウナインからスリーナインの純度のものを使用する。また、クロム合金の各成分(Cr・Al・W)と反応する元素である窒素の純度は、それぞれ、スリーナインからシックスナインとする。
【0037】
そして、AIP法による成膜条件は、表1の通りとする。
【0038】
そして、AIP法による成膜条件は、下記の如くとする。
【0039】
(a)真空度・・・通常:10〜50mmTorr(13.3〜66.5Pa)
望ましくは:15〜30mmTorr(19.2〜39.9Pa)
(b)アーク電流・・・通常:80〜200A、望ましくは:80〜150A
(c)バイアス電圧・・・通常:30〜400V、望ましくは:40〜200V
(d)基板温度・・・通常:350〜550℃、望ましくは:400〜500℃
上記条件項目の着眼点について以下にそれぞれ説明する。
【0040】
(a)真空度:
真空度が高すぎる(絶対圧が低い)と、反応ガス量が少ない状態となり、成膜速度が遅くなり生産性が低下し、また、成膜された被膜が、金属成分過多の組成になってしまったり、粒子が粗くて空隙の多いもの(結晶核の生成が遅くなるためと推定される。)になりやすい。
【0041】
逆に真空度が低すぎる(絶対圧が高い)と、反応ガス量が過剰となり、反応に使用されずに充分に活性化されていないガスが、成長被膜面で吸着インヒビタ(抑制剤)として作用するおそれがある。
【0042】
(b)アーク電流:
電流値が低すぎると成膜速度が遅くなり、逆に高過ぎると、装置の安全性の見地から望ましくない。
【0043】
(c)バイアス電圧:
一般的に、バイアス電圧が高いほど成膜速度が遅くなるため、生産性を考慮して適当な範囲で設定する。供給ガスが窒素(N)の場合、バイアス電圧の窒化物成膜結晶にほとんど影響はなく30〜400V、望ましくは、50〜200Vの範囲で適宜設定できる。
【0044】
(d)基板温度:
温度が高いほど成膜速度が速くて望ましいが、省エネルギー及び基材の耐熱性の見地から、基材が鋼の場合、焼き戻しによる寸法歪が発生しない温度以下、通常350〜550℃、望ましくは400〜500℃とする。
【0045】
【試験例】
次に、本発明の効果を確認するために、表1〜3に示す窒化処理、成膜処理を行って各実施例及び窒化処理等を行った各比較例の各種金属塑性加工用金型(熱間加工用金型)を調製した。なお、実施例及び比較例は、同タイプ、同材質の金型について、同一番号としてある。
【0046】
そして、各実施例・比較例の加工型について、それぞれ所定の条件で、鋳鉄材料(S30C、SPC420等)に対して熱間加工(加工時温度:原則として1000〜1100℃)を行なって、耐熱耐久性を金型寿命回数で判定した。寸法公差内の成形品(合格品)が成形不能となったときを金型寿命回数とした。
【0047】
表1〜3に示す結果から、下記のようなことが分かる。
【0048】
基材に窒化処理を行わなくても、本発明の窒化膜を形成したものは、浸硫窒化を行なったものと同等又は近い耐熱耐久性を有する(試料No.3−3・6・9)ともに、窒化処理無しに比しては、当然耐熱耐久性が向上している(試験No.4−2・4・6・8、5及びNo.5)。
【0049】
また、基材に窒化処理がされている場合は、窒化処理をしてないものに比しては勿論(試験No.4−1・3・5・7、試験No.10・11・16・17)、同じような窒化処理をした比較例に比して耐熱耐久性が向上、特に、鍛造に適用した場合、顕著な耐熱耐久性の向上が期待できる。
【0050】
なお、イオンプレーティング装置は、神戸製鋼社製「AIP4024型」を用い、クロム基合金Vは純度スリーナインのもの800gを充填し、Nは純度ファイブナインのものをそれぞれ使用した。
【0051】
更に、実施例3−1について、ビッカース硬度を、試験前と試験後において測定したとこの、試験前:HV2200であったのに対し、試験後:HV1800であり、高温雰囲気下でも十分な耐熱耐久性(硬度低下しない。)を示すことが示唆された。
【0052】
【表1】
Figure 2005008920
【0053】
【表2】
Figure 2005008920
【0054】
【表3】
Figure 2005008920
【0055】
【産業上の利用の可能性】
本発明の技術的思想は、金属塑性加工用金型以外の金属機能製品への適用も期待できるものである。金属機能製品としては、シリンダライナー、バルブリフター、スプロケット、ギヤ、プーリー、車軸等の輸送機関関連部材、機械部品、治具等を挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用するイオンプレーティング装置の一例を示す概略モデル図

Claims (10)

  1. 金属塑性加工用金型における基材の所要部位にクロム系窒化膜を成膜する方法において、
    Al:約2〜20質量%、W:約0.05〜15質量%、Cr:残部である実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングによりクロム系窒化膜を形成することを特徴とするクロム系窒化膜の成膜方法。
  2. 前記基材として、前記クロム系窒化膜の成膜部位が窒化処理されているものを使用することを特徴とする請求項1記載のクロム系窒化膜の成膜方法。
  3. 前記基材が鋼材製であることを特徴とする請求項1又は2記載のクロム系窒化膜の成膜方法。
  4. 前記金属塑性加工用金型が熱間加工用金型であることを特徴とする請求項3記載のクロム系窒化膜の成膜方法。
  5. クロム系窒化膜を備えた金属塑性加工用金型において、
    前記クロム系窒化膜が、Al:約2〜20質量%、W:約0.05〜15質量%、Cr:残部の実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングにより成膜されてなることを特徴とする金属塑性加工用金型。
  6. 金属塑性加工用金型におけるクロム系窒化膜の成膜部位が、窒化処理されていることを特徴とする請求項5記載の金属塑性加工用金型。
  7. 前記基材が鋼材製であることを特徴とする請求項5又は6記載の金属塑性加工用金型。
  8. 請求項5〜7のいずれかの構成を備えていることを特徴とする金属塑性加工の熱間加工用金型。
  9. 前記クロム窒化膜の表面硬度が、800℃×1hの耐熱試験後においてHV(JIS Z 2244)1800以上を示すことを特徴とする請求項8記載の熱間加工用金型。
  10. クロム系窒化膜を備えた金属機能製品において、
    前記クロム系窒化膜が、Al:約2〜20質量%、W:0.05〜15質量%、Cr:残部である実質的組成を有するクロム基合金をターゲットとして、反応性イオンプレーティングにより成膜されてなることを特徴とする金属機能製品。
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