JP2004536462A - 基体上への導電層の形成方法 - Google Patents
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Abstract
基体上への導電層の形成方法であって、樹脂と有機溶媒との混合物中に懸濁された、微粒子形態の金属酸化物を含むインクを供給する工程、リソグラフィー印刷プロセスを用いてインクを基体上に付着させる工程、及び還元剤をインクに加えて、前記金属酸化物の少なくともいくらかを金属に還元する工程を含む方法が開示されている。好ましくはアルキドと非アルキド樹脂との混合物が用いられる。
Description
【技術分野】
【0001】
本願は、基体上への導電層の形成方法に関する。特に本願は、印刷プロセスによる柔軟性基体上へのめっき播種(seeding)層の形成方法であって、電気回路(例えば柔軟性電子配線盤)の低コスト代替物を、印刷及びめっき技術によって製造することができるようにする方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、シリコンデバイスがプリント基板(PCB)上に取り付けられている。プリント基板は一般に、ガラス繊維積層品上にエッチングされた銅からなり、錫めっきされ、おそらくは保護及びラベリングのためにさらにほかのラッカー層も有する。クロッピング、ドリリング、エッチング、及びめっきの多くの操作が、その調製に関わっている。これは安価ではなく、これらの生産プロセスは有意な環境影響を有することがある。
【0003】
PCB製造によって引起こされる2つの主要な環境危険は、廃水(これは塩化第二鉄及び重金属、特に銅を含む)、及びフォトレジスト現像液及びストリッパーにおける炭化水素の使用である。水当局によって課された、ますます厳しくなって行く汚染の制限は、流出物中の銅を減少させる1つの原動力である。理論的には廃水は、銅付着に対する全面的な添加剤プロセスによって除去することができるであろう。これはまた、かなり大きいコスト削減を与えるであろうが、満足すべきプロセスはいまだに開発されていない。
【0004】
回路基板のそのままでの使用を避ける試みには、厚いフィルム及び薄いフィルムの両方の技術の使用が含まれるが、これは通常、より高いコストを伴ない、より安くはならない。適切なフィルムのトラックを付着させることによって、抵抗器がセラミック基体上に形成され、これは時には、レーザーエッチングによって正確な値までトリミングされる。より高い導電性のフィルムが、相互接続のために一般に用いられている。
【0005】
本願と共通の出願人を有する国際公開第WO97/48257号パンフレット(これの開示は本明細書に組込まれる)は、電気回路基板の1つの代替形成方法であって、導電性インクが、電気回路を形成するために基板上にリソグラフィー印刷される方法を開示している。インクは、有機樹脂中に懸濁した導電性粒子(例えば金属銀)を含んでいる。電気要素、例えば抵抗器、キャパシター、及びアンテナの製造も記載されている。
【0006】
国際公開第WO97/48257号パンフレットに開示されている回路印刷技術は、以前の技術に対する有意な改良であるが、これはいくつかの欠点を有する。
【0007】
第一に、電気要素がついで基体にはんだ付けされうるように、及び/または回路の抵抗率を減少させるために、国際公開第WO97/48257号パンフレットに開示されている導電性インク上へ第二導電層を電気めっきすることは有利である。問題は、インクが電気めっきを可能にするのに十分なほど十分に基体に接着しないということである。
【0008】
第二に、導電性インクを調製するために、乾燥インクを導電性にするようにして粒子を樹脂中に分散させることができるように、微粒子表面処理(例えば長鎖脂肪酸のコーティング)を有する微粒子導電性材料を用いる必要がある。しかしながらこの表面処理は、乾燥インクのそれ以上の処理を不可能にする。例えばこれは、無電解付着によるもう1つの導電層の付着を妨げる。
【0009】
第三に、電気要素を、導電性インク層から形成された電気回路上にはんだ付けすることは難しい。その理由は、これらの層が、適切なはんだ結合を生じるのに十分なほど高い金属負荷を含んでいないからである。このことは、要素が導電性ポリマー接着剤または機械的接合を用いて接着されなければならないことを意味する。しかしながらこれらの接合方法は、はんだ付けほど十分に熟成(age)されず、より高い電気抵抗を示すと考えられる。さらにはインク中の導電性粒子の含有量の増加は、インクのレオロジー特性に損害を与える。
【0010】
本願と共通の出願人を有する国際公開第WO00/33625号パンフレット(これの開示は参照して本明細書に組込まれる)は、リソグラフィー印刷インクの付着方法であって、めっき播種層を形成するために、リソグラフィー印刷によって柔軟性基体媒質上に金属銀ナノ粒子を付着させることを含む方法を開示している。
【0011】
国際公開第WO00/33625号パンフレットには開示されていないが、印刷されたインク層の後処理(post−processing)が任意に行なわれてもよい。これは、印刷されたインクフィルムをパラジウム溶液中に浸漬して、最終めっき付着物の均一性を改良し、ついで従来の無電解プロセス及び電気めっきプロセスによる銅めっきを行なうことを含む。
【0012】
その結果生じた回路トラックは、銅金属付着物が上に置かれた銀インクベース層からなる。銀播種プロセスによって形成された導電性トラックは、銅金属のものに実質的にさらに近い体抵抗率(bulk resistivity)を有する。しかしながら銅播種プロセスは一般に、3段階プロセスであり、別々の印刷、パラジウム活性化、及び銅めっき操作を必要とする。したがって回路生産の速度は潜在的に低下する。
【0013】
もう1つの問題は、国際公開第WO00/33625号パンフレットのプロセスが(あまり効果的ではないが)、主要なインク成分として、平均粒子サイズ0.1μm(1×10−7m)を有する銀金属ナノ粒子を用いることである。この銀粒子は価格が高く(現在約£200/kg)、製造が難しい。従来のパラジウム浴の使用において、もう1つのコスト上の欠点がある。
【0014】
米国特許第US4,756,756号明細書(ローヌ・プーラン・スペシャリティーズ・シミック(Rhone−Poulenc Specialities Chimiques)は、絶縁基体上への非導電性金属酸化物インクを付着させるためのシルクスクリーニング方法の使用、ついでこの金属酸化物を導電性金属に転換するための還元剤の使用工程を開示している。リソグラフィー印刷プロセスの使用の開示はない。
【0015】
英国特許第GB1,016,465号明細書(コーニング・グラス・ワークス(Corning Glass Works))は、金属酸化物接着性フィルムでの基体のコーティング、金属酸化物の金属への還元、ついでその上へのさらなる金属コーティングの付着を開示している。印刷工程の開示はまったくない。
【0016】
英国特許第GB2,027,270号明細書(フィリップス(Philips))は、還元性金属酸化物を含むスクリーン印刷インクを開示している。しかしながら金属酸化物は、金属へというよりもむしろより低い酸化物へ還元され、酸化によって有機バインダーを除去するための酸化剤として用いられる。
【0017】
米国特許第US6,379,569号明細書(サン−ゴバン・ビトラージュ(Saint−Gobain Vitrage))は、透明ガラス基体への導電層の化学的エッチング方法であって、ホットメルトインクが基体上に付着されてマスクを形成する方法を開示している。
【0018】
米国特許第US3,873,360号明細書(ウエスタン・エレクトリック・カンパニー(Western Electric Company,Inc.))は、溶液中の金属イオンが、ポリイミドシート上にコートされ、ついで還元剤の線で描かれたパターンが、コート表面上に印刷される方法に関する。このプロセスは、水性懸濁液中の金属酸化物粒子の連続酸化/還元に依存する多段レドックスプロセスであるように思われる。酸化物粒子を付着させるための油ベースのインク/水系の明らかな使用はない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0019】
本発明の第一の側面によれば、基体(好ましくは柔軟性基体)上に導電層を形成する方法であって、樹脂と有機溶媒との混合物中に懸濁された微粒子形態の金属酸化物を含むインクを供給する工程、リソグラフィー印刷プロセスを用いて基体上にインクを付着させる工程、前記金属酸化物の少なくともいくらかを金属に還元するために、インクに還元剤を加える工程を含む方法が提供される。
【0020】
金属酸化物層は、導電性であってもよく、非導電性であってもよい。好ましくはこの金属酸化物は、銅(II)酸化物である。
【0021】
粉末がインクビヒクル(vehicle)中に組込まれる時、ビヒクル成分は、リソグラフィー印刷機を通り、ついで基体に接着するために、正しい粘度及びレオロジー特性を有する混合物を生じるように選択され、かつ調節されなければならない。次のような金属酸化物インクを調製することが可能だとは以前には考えられなかった。すなわち、(a)リソグラフィー印刷することができ、(b)硬化された時、導電性播種層を形成するために、溶液状の還元剤が、酸化物粒子を還元するのに十分なほどこれらに対して作用することができるようにする樹脂ビヒクル中で調製されうるインクである。予測される問題の1つは、リソグラフィー印刷インクビヒクルが樹脂ベースでなければならないということであり、疎水性樹脂ビヒクルが水溶液中の還元剤を効果的に追い払い、このようにしてその後の化学還元相の間、インク微粒子の適切な湿潤を妨げるであろうと考えられた。さらには、有機溶媒(これが配合されうるならば)中に溶解された還元剤が、樹脂を溶解し、したがって印刷画像を破壊すると考えられた。
【0022】
もう1つの潜在的な問題は、あるいくつかの金属酸化物粉末の親水性(水吸引)特徴に関していた。これは、リソグラフィー印刷機の噴水(fount)溶液中に移行するインク微粒子を結果として生じるであろう。
【0023】
驚くべきことに、金属酸化物インクは、本発明にしたがって基体上へリソグラフィー印刷されうることが発見された。
【0024】
もう1つの問題は、あるいくつかの樹脂が、あるいくつかの還元剤及び/または無電解プロセスまたは電気めっきプロセスによって悪影響が与えられることが発見されたということである。特に、影響を受けていることが分かっているインクは、単一樹脂ベースとしてアルキド樹脂(国際公開第WO97/48257号パンフレット及び国際公開第WO00/33625号パンフレットの好ましい樹脂)を用いるインクである。基体、例えばポリアート(Polyart)基体(コートポリエチレン材料)へのこれらのインクの接着は、還元剤の作用またはその後の無電解/電気めっき工程の作用によって劣化することが発見された。
【0025】
何がこの問題を引起こすかを正確に確立するために、さらなる研究が実施されているが、さしあたり、次のようなリソグラフィー印刷樹脂ビヒクルへのニーズが明らかに存在する:すなわち、
【0026】
・酸溶液に抵抗性があり、
・劣化せず、
・還元剤によるある程度の湿潤を許容し、
・強い還元剤と適合性があり、
・リソグラフィー印刷することができ、
・好ましくはそのレオロジーにおいてチキソトロープ性である(すなわち、25℃における103mPaSから25℃における105mPaSの範囲の粘度を有する)。
【0027】
本発明の第二の側面によれば、基体(例えばポリマー基体)へのリソグラフィー印刷プロセスにおける使用のためのインクであって、インクビヒクル中に懸濁された金属酸化物を含み、前記ビヒクルが少なくとも1つの樹脂と有機溶媒とを含むインクが提供される。このインクビヒクルは好ましくは、少なくとも1つのアルキド樹脂と少なくとも1つの非アルキド樹脂とを含む。酸化防止剤、例えばユージノールがインク配合物に添加されてもよい。
【0028】
インクは好ましくは、微粒子形態の金属酸化物65から82重量%(より好ましくは約75%)を含み、残りはインクビヒクルを含む。インクビヒクルは好ましくは、75から85%(より好ましくは約80%)w/w樹脂、15から25%(より好ましくは約20%)w/w有機溶媒、及び(任意に)1から2%(より好ましくは約1.5%)w/wの酸化防止剤、例えばユージノールを含む。
【0029】
好ましい実施形態において、樹脂は、アルキド樹脂とアルキド樹脂でない樹脂との混合物を含む。総樹脂含量の割合としてのアルキド樹脂の量は、好ましくは65から95%w/w、より好ましくは75から85%w/w、最も好ましくは約80%w/wである。インクビヒクルの総樹脂含量の割合としての非アルキド樹脂の量は、好ましくは5から35%w/w、より好ましくは15から25%w/w、最も好ましくは約20%w/wである。
【0030】
アルキド樹脂は、あらゆる従来のアルキド樹脂であってもよい。特に好ましい例は、ローター(Lawtor)によって商標VX1598として販売されているアルキド樹脂である。
【0031】
非アルキド樹脂は、様々な油とブレンドされたポリマーであってもよい。好ましくは樹脂は、アミド基を有するポリマー、例えばナイロンベースのポリマーを含む。
【0032】
特に適切であることが分かっている樹脂の1つは、商品名「ナイポール(Nypol)3」として、ローター・インターナショナル(Lawter International)(ベルギー国B−9130カロー、ケテニスラーン1c−ハーベン(Ketenislaan 1c−Haven 1520、B−9130 Kallow,Belgium))から商品として入手しうる。ナイポール3は、変性ポリアミド及びキリ油及び植物油ブレンドを含む。
【0033】
本明細書において示されている「リソグラフィー印刷」という用語は、親水性と疎水性とを包含する、印刷板の表面化学の差を利用する印刷プロセスである。これはエッチングされた回路基板及び/またはシリコン半導体マイクロエレクトロニクスの生産中に発生するエッチングとフォトレジストとに関わる、通常用いられているプロセスのことを言うのではない。「インク」という用語は、印刷に適したあらゆる材料を意味するものである。
【0034】
好ましくはインクは、オフセットリソグラフィー印刷法を用いて基体に塗布される。ついで少なくとも一部酸化されたインクの層は、例えば柔軟性配線盤導体を形成し、所望の導体厚さを得るために、無電解処理及び/または電気めっきされてもよい。
【0035】
無電解付着(またはめっき)は、ひとたび開始されたら自己接触的になる化学還元プロセスを用いて、物体(または物体の一部)をコーティングすることを含むよく知られた技術である。このプロセスは、外部電流が必要とされないこと以外、電気めっきと同様である。無電解的に物体をめっきするためには、適切な幾何学及び電気及び化学的特徴の播種層が物体上に形成され、金属が付着されるための核生成部位を生じるようにしなければならない。播種層は、付着工程のための活性化エネルギーを減少させるという点で、触媒として作用すると考えられる。
【0036】
好ましいめっき播種製造技術は、次の工程を組込んでいる2段階プロセスである:
【0037】
1.金属酸化物ベースの印刷用インクを含むインク層を柔軟性基体上に付着させるために、オフセットリソグラフィー印刷法または関連する印刷技術のどちらかを用いる最初の段階。ナノ粒子金属粉末または貴金属はこのインクに用いられず、したがって開示されているプロセスは、記載されている先行技術のプロセスよりもかなり安価である。金属酸化物の粒子サイズは、国際公開第WO00/33625号パンフレットに開示されているプロセスの微粒子よりもかなり大きく、これはさらにインク原料の製造コストを低下させ、したがってこのプロセスの全体のコストを低下させる。
【0038】
2.乾燥インクフィルム中の金属酸化物(全体または一部)を金属に転換し、これによってめっき播種層を形成する化学還元プロセスを含む第二段階。
【0039】
その結果生じた金属/金属酸化物播種層はついで、柔軟性配線盤導体を形成するため、及び所望の導体厚さを得るために、無電解処理及び/または電気めっきされてもよい。
【0040】
本発明の第三の側面によれば、その上にインク層が印刷されている基体であって、このインク層が上記のようなプロセスを用いて形成されている基体が提供される。
【0041】
用途
「金属酸化物播種インク」の特別な用途は、電子回路及び電子系用の柔軟性配線盤の製造、キーボードスイッチ膜の製造、セキュリティタギング構造、及び関連加工品である。その他の用途は、無線周波及び/またはマイクロ波ストリップライン要素及びアンテナ、柔軟性センサー構造、及び印刷された電子要素である。
【0042】
インク
リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスによって付着されたインク層は、約3から5ミクロン(3から5×10−6m)厚さである。したがってインクは、十分に高い割合の適切な金属酸化物を示すが、リソグラフィー印刷または関連印刷プロセスによって課される機械的制約に合致しなければならない。
【0043】
採用された方法は、複合有機樹脂ビヒクル中に懸濁された粒子を有する金属酸化物からインクを配合することであった。ビヒクルは、インクの機械的性質を大部分決定する。ビヒクル配合の操作、及び様々なレオロジー調節剤及び溶媒を含めることによって、インクの機械的性質(例えば粘度)が、その金属酸化物負荷の相対的単離において調節されうる。インク配合物は、標準的リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスによって付着されうる。約400ナノメートル(400×10−9m)の平均粒子サイズを有する銅(II)酸化物が、インク微粒子として用いられて成功してきた。
【0044】
印刷された時、結果として生じたインクフィルムは、インクビヒクルによって基体表面に結合された金属酸化物粒子の「小石埋め込み仕上げ(pebble dash)」からなる。典型的なめっきインク配合物は、次のものからなる:
【0045】
・リソグラフィー印刷用の400ナノメートル(400×10−9m)75%w/wの平均粒子サイズを有する細かい粉末における銅(II)酸化物。
【0046】
・次のものを含むリソグラフィー印刷用のインクビヒクル25%w/w:
アルキドまたはポリマー樹脂−例えばローターVX1578、またはナイポール3(79.5%w.w)。
炭化水素フラクション−例えばエクソン(Exxon)M71A(19%w/w)。
酸化防止剤−例えばユージノール(1.5%w/w)。
【0047】
インクは、標準的方法または印刷用インク製造にしたがって混合及び特徴決定される。上記配合物から印刷されたインクフィルムは、化学還元によって(全体または一部)転換され、銅金属めっき播種層を形成することができる。これはその後、確立された無電解及び/または電気めっき技術によってあらゆる所望の金属厚さにめっきすることができる。
【0048】
付着されためっきインクフィルムの特徴、及びその結果生じためっき播種層及びめっきされた付着物は、次のものによって影響される:
・金属酸化物粒子サイズ及び形状。
・配合インクの粒子対樹脂比
・インクフィルムの厚さ。
【0049】
基体
リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスは、基体がめっきインクに対してある程度の親和性を有することを必要とする。平床式リソグラフィー印刷機を、非柔軟性基体のために用いることができる。うまくゆく回路基板製造のための基体の考察事項には次のものが含まれる:
・基体表面トポグラフィー
・材料特性。
【0050】
基体トポグラフィーは、置かれたインクの量及び金属酸化物の粒子の近接性に影響を与える。金属への化学還元に続いて、基体のトポグラフィーもまた、インクフィルムが凝集性導電性金属層中へ無電解または電気めっきされる能力に影響を与える。適度に滑らかな表面が好ましい。ただしこれは、印刷されたインクフィルムの摩擦抵抗に有害であることが証明されている。
【0051】
しかしながらプライマーが用いられるならば(例えばEVA)、その場合には表面トポグラフィーは、それほど問題ではない。
【0052】
考察されなければならない基体の材料特性には、湿分抵抗、誘電特性、難燃性、温度循環、及び機械的強度が含まれる。光沢アート紙、シートポリマー、及び半合成(ポリエステル繊維)紙が、印刷試験に用いられて成功してきた。
【0053】
導電層が印刷される基体は、好ましくはポリマーから形成され、好ましくは柔軟性シートを含む。適切なポリマーには、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、またはポリスルホンが含まれる。基体は、基体表面へのインクの接着を改良するために処理されてもよい。例えば基体は、コポリマー接着剤層でコートされてもよく、あるいは表面が化学処理されるか、またはコロナ処理に付されてもよい。
【0054】
好ましくは基体は、コポリマー接着剤層を用いて、または用いずに、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、またはポリアミドから形成されている。特に好ましい実施形態において、基体は、コポリマーコートされたポリエステル、例えばRG248PD、ハンプシャー、ベイシングストーク、ルーサーフォード・ロード(Rutherford Road,Basingstoke,Hampshire,RG248PD)のGBC(英国)社(GBC(UK)Ltd.)から商品として入手しうるものである。
【0055】
化学還元剤
例えば水素化ホウ素ナトリウムNaBH4、ナトリウムヒポボレートNaH2PO2、またはジメチルアミンボラン(DMAB)C2H10BNを単独またはpH調節剤及びその他の物質と組合わせて含む化学還元剤。還元プロセスは好ましくは、アルカリ条件下で実施され、水性水酸化ナトリウムが好ましくはpH調節剤として用いられる。還元剤の機能は、付着されためっきインク中の金属酸化物微粒子を(全体または一部)金属に化学還元することであり、インクフィルムをめっき播種層にし、従来の化学的めっきプロセスによって無電解及び/または電気めっきすることが可能である。
【0056】
ここでいくつかの本発明の好ましい実施例を、添付図面を参照して記載する。
【実施例1】
【0057】
銅(II)酸化物を組込んでいる様々なプロトタイプインク配合物が開発され、一連の比較印刷試験の結果として、許容しうるレオロジー、金属酸化物負荷、及び乾燥特性を有するいくつかのインク配合物を生じた。開発されたインクは、溶媒及びレオロジー調節剤とともに有機樹脂ビヒクル中に懸濁された、平均粒子サイズ400nmの高い割合(77から82%w/v)の銅(II)酸化物からなる。
【0058】
インクの例は次のとおりである。
・平均粒子サイズ400ナノメートル(400×10−9m)を有する、細かい粉末における75%w/wの銅(II)酸化物。
・次のものを含む25%w/wインクビヒクル:
・79.5%w/wローターVX1578(アルキド樹脂)
・19%w/wエクソンM71A(有機溶媒)
・1.5%w/wユージノール(酸化防止剤)。
【0059】
これらのプロトタイプインクを用いる印刷試験を、ポリエチレン、未クラッド(unclad)FR4、カプトン(Kapton)、及びコートポリプロピレン基体に対して実施した。印刷された金属酸化物インクフィルムの顕微鏡写真を、図1に示す。乾燥銅(II)酸化物インクフィルム上のプロトタイプ化学還元溶液を評価するために、印刷基体を一連の試験に用いた。
【0060】
還元剤試験
印刷された銅(II)酸化物インクフィルムに関連したいくつかの化学還元剤の試験を実施した。この目的は、インクバインダーかまたは基体材料のどちらかに損傷を与えることなく、乾燥インクフィルムにおけるある割合の銅(II)酸化物微粒子を、急速に金属に転換する経済的還元浴形成を開発することであった。これらの試験において評価された化合物は、水素化ホウ素ナトリウムNaBH4、ナトリウムヒポホスファイトNaH2PO2、及びジメチルアミンボラン(DMAB)C2H10BNを、溶媒及びpH調節剤と組合わせて含んでいた。
【0061】
最適な結果は、アルカリDMAB溶液を用いて得られた。これは実質的に、25℃で2分以内に、印刷されたインクフィルムの表面を還元した。化学還元されたインクフィルムは、様々な従来の化学めっきプロセスによって、無電解及び/または電気めっきしうる、優れためっき播種特徴を示すことが発見された。
【0062】
銅めっき試験
化学還元された基体のサンプルを、従来の無電解銅めっきプロセスを用いて銅めっきした(シプレイ(Shipley)「サーキュポジット(Circuposit)4750」無電解銅)。無電解めっき時間を、3から30分で様々に変え、その結果、0.5から2ミクロン(10−6m)の厚さの範囲の銅付着物を生じた。
【0063】
図2において、めっき付着物は明らかに目に見える。これは、化学還元され、無電解めっきされた銅(II)酸化物インクフィルムの顕微鏡写真である。銅めっき付着物は、明るい方の銅(II)酸化物グラニュールを取り囲んで相互連結している黒い物質である。この付着物の物理的外見はよく画定されており、一貫性があり、基体材料への高い程度の接着を有する。
【0064】
無電解めっきに続き、インクフィルムのサンプルを、厚さ10μmを超える銅金属付着物が得られるまで、1A/dm2の電流密度で、従来の銅(II)スルフェート/硫酸めっきプロセスを用いて電気めっきした。
【0065】
結果
銅(II)酸化物インクフィルムの無電解及び電気めっきされたサンプルを、電子顕微鏡法によって調べた。これは、下部基体材料に接着された銅金属の均一かつ一貫性のある層を明らかにした。細い線構造の最小の「広がり」が観察された。ほかのCLF回路製造戦略と同様に、基体への回路トラック構造の接着度は、基体材料に依存することが観察された(基体トポグラフィー)。
【0066】
約1ミクロンの無電解銅及び10ミクロンの電気めっき銅金属でめっきされた細長い回路トラックの抵抗の測定は、20mΩ/□程度のシート抵抗を示す。これらの導体は、このシート抵抗を銅金属に近いものまで低下させるために、さらに電気めっきすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0067】
【図1】図1は、本発明にしたがって付着された銅(II)酸化物インクフィルムの顕微鏡写真を示している。
【図2】図2は、本発明にしたがって形成された銅めっき播種層の顕微鏡写真を示している。
【0001】
本願は、基体上への導電層の形成方法に関する。特に本願は、印刷プロセスによる柔軟性基体上へのめっき播種(seeding)層の形成方法であって、電気回路(例えば柔軟性電子配線盤)の低コスト代替物を、印刷及びめっき技術によって製造することができるようにする方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、シリコンデバイスがプリント基板(PCB)上に取り付けられている。プリント基板は一般に、ガラス繊維積層品上にエッチングされた銅からなり、錫めっきされ、おそらくは保護及びラベリングのためにさらにほかのラッカー層も有する。クロッピング、ドリリング、エッチング、及びめっきの多くの操作が、その調製に関わっている。これは安価ではなく、これらの生産プロセスは有意な環境影響を有することがある。
【0003】
PCB製造によって引起こされる2つの主要な環境危険は、廃水(これは塩化第二鉄及び重金属、特に銅を含む)、及びフォトレジスト現像液及びストリッパーにおける炭化水素の使用である。水当局によって課された、ますます厳しくなって行く汚染の制限は、流出物中の銅を減少させる1つの原動力である。理論的には廃水は、銅付着に対する全面的な添加剤プロセスによって除去することができるであろう。これはまた、かなり大きいコスト削減を与えるであろうが、満足すべきプロセスはいまだに開発されていない。
【0004】
回路基板のそのままでの使用を避ける試みには、厚いフィルム及び薄いフィルムの両方の技術の使用が含まれるが、これは通常、より高いコストを伴ない、より安くはならない。適切なフィルムのトラックを付着させることによって、抵抗器がセラミック基体上に形成され、これは時には、レーザーエッチングによって正確な値までトリミングされる。より高い導電性のフィルムが、相互接続のために一般に用いられている。
【0005】
本願と共通の出願人を有する国際公開第WO97/48257号パンフレット(これの開示は本明細書に組込まれる)は、電気回路基板の1つの代替形成方法であって、導電性インクが、電気回路を形成するために基板上にリソグラフィー印刷される方法を開示している。インクは、有機樹脂中に懸濁した導電性粒子(例えば金属銀)を含んでいる。電気要素、例えば抵抗器、キャパシター、及びアンテナの製造も記載されている。
【0006】
国際公開第WO97/48257号パンフレットに開示されている回路印刷技術は、以前の技術に対する有意な改良であるが、これはいくつかの欠点を有する。
【0007】
第一に、電気要素がついで基体にはんだ付けされうるように、及び/または回路の抵抗率を減少させるために、国際公開第WO97/48257号パンフレットに開示されている導電性インク上へ第二導電層を電気めっきすることは有利である。問題は、インクが電気めっきを可能にするのに十分なほど十分に基体に接着しないということである。
【0008】
第二に、導電性インクを調製するために、乾燥インクを導電性にするようにして粒子を樹脂中に分散させることができるように、微粒子表面処理(例えば長鎖脂肪酸のコーティング)を有する微粒子導電性材料を用いる必要がある。しかしながらこの表面処理は、乾燥インクのそれ以上の処理を不可能にする。例えばこれは、無電解付着によるもう1つの導電層の付着を妨げる。
【0009】
第三に、電気要素を、導電性インク層から形成された電気回路上にはんだ付けすることは難しい。その理由は、これらの層が、適切なはんだ結合を生じるのに十分なほど高い金属負荷を含んでいないからである。このことは、要素が導電性ポリマー接着剤または機械的接合を用いて接着されなければならないことを意味する。しかしながらこれらの接合方法は、はんだ付けほど十分に熟成(age)されず、より高い電気抵抗を示すと考えられる。さらにはインク中の導電性粒子の含有量の増加は、インクのレオロジー特性に損害を与える。
【0010】
本願と共通の出願人を有する国際公開第WO00/33625号パンフレット(これの開示は参照して本明細書に組込まれる)は、リソグラフィー印刷インクの付着方法であって、めっき播種層を形成するために、リソグラフィー印刷によって柔軟性基体媒質上に金属銀ナノ粒子を付着させることを含む方法を開示している。
【0011】
国際公開第WO00/33625号パンフレットには開示されていないが、印刷されたインク層の後処理(post−processing)が任意に行なわれてもよい。これは、印刷されたインクフィルムをパラジウム溶液中に浸漬して、最終めっき付着物の均一性を改良し、ついで従来の無電解プロセス及び電気めっきプロセスによる銅めっきを行なうことを含む。
【0012】
その結果生じた回路トラックは、銅金属付着物が上に置かれた銀インクベース層からなる。銀播種プロセスによって形成された導電性トラックは、銅金属のものに実質的にさらに近い体抵抗率(bulk resistivity)を有する。しかしながら銅播種プロセスは一般に、3段階プロセスであり、別々の印刷、パラジウム活性化、及び銅めっき操作を必要とする。したがって回路生産の速度は潜在的に低下する。
【0013】
もう1つの問題は、国際公開第WO00/33625号パンフレットのプロセスが(あまり効果的ではないが)、主要なインク成分として、平均粒子サイズ0.1μm(1×10−7m)を有する銀金属ナノ粒子を用いることである。この銀粒子は価格が高く(現在約£200/kg)、製造が難しい。従来のパラジウム浴の使用において、もう1つのコスト上の欠点がある。
【0014】
米国特許第US4,756,756号明細書(ローヌ・プーラン・スペシャリティーズ・シミック(Rhone−Poulenc Specialities Chimiques)は、絶縁基体上への非導電性金属酸化物インクを付着させるためのシルクスクリーニング方法の使用、ついでこの金属酸化物を導電性金属に転換するための還元剤の使用工程を開示している。リソグラフィー印刷プロセスの使用の開示はない。
【0015】
英国特許第GB1,016,465号明細書(コーニング・グラス・ワークス(Corning Glass Works))は、金属酸化物接着性フィルムでの基体のコーティング、金属酸化物の金属への還元、ついでその上へのさらなる金属コーティングの付着を開示している。印刷工程の開示はまったくない。
【0016】
英国特許第GB2,027,270号明細書(フィリップス(Philips))は、還元性金属酸化物を含むスクリーン印刷インクを開示している。しかしながら金属酸化物は、金属へというよりもむしろより低い酸化物へ還元され、酸化によって有機バインダーを除去するための酸化剤として用いられる。
【0017】
米国特許第US6,379,569号明細書(サン−ゴバン・ビトラージュ(Saint−Gobain Vitrage))は、透明ガラス基体への導電層の化学的エッチング方法であって、ホットメルトインクが基体上に付着されてマスクを形成する方法を開示している。
【0018】
米国特許第US3,873,360号明細書(ウエスタン・エレクトリック・カンパニー(Western Electric Company,Inc.))は、溶液中の金属イオンが、ポリイミドシート上にコートされ、ついで還元剤の線で描かれたパターンが、コート表面上に印刷される方法に関する。このプロセスは、水性懸濁液中の金属酸化物粒子の連続酸化/還元に依存する多段レドックスプロセスであるように思われる。酸化物粒子を付着させるための油ベースのインク/水系の明らかな使用はない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0019】
本発明の第一の側面によれば、基体(好ましくは柔軟性基体)上に導電層を形成する方法であって、樹脂と有機溶媒との混合物中に懸濁された微粒子形態の金属酸化物を含むインクを供給する工程、リソグラフィー印刷プロセスを用いて基体上にインクを付着させる工程、前記金属酸化物の少なくともいくらかを金属に還元するために、インクに還元剤を加える工程を含む方法が提供される。
【0020】
金属酸化物層は、導電性であってもよく、非導電性であってもよい。好ましくはこの金属酸化物は、銅(II)酸化物である。
【0021】
粉末がインクビヒクル(vehicle)中に組込まれる時、ビヒクル成分は、リソグラフィー印刷機を通り、ついで基体に接着するために、正しい粘度及びレオロジー特性を有する混合物を生じるように選択され、かつ調節されなければならない。次のような金属酸化物インクを調製することが可能だとは以前には考えられなかった。すなわち、(a)リソグラフィー印刷することができ、(b)硬化された時、導電性播種層を形成するために、溶液状の還元剤が、酸化物粒子を還元するのに十分なほどこれらに対して作用することができるようにする樹脂ビヒクル中で調製されうるインクである。予測される問題の1つは、リソグラフィー印刷インクビヒクルが樹脂ベースでなければならないということであり、疎水性樹脂ビヒクルが水溶液中の還元剤を効果的に追い払い、このようにしてその後の化学還元相の間、インク微粒子の適切な湿潤を妨げるであろうと考えられた。さらには、有機溶媒(これが配合されうるならば)中に溶解された還元剤が、樹脂を溶解し、したがって印刷画像を破壊すると考えられた。
【0022】
もう1つの潜在的な問題は、あるいくつかの金属酸化物粉末の親水性(水吸引)特徴に関していた。これは、リソグラフィー印刷機の噴水(fount)溶液中に移行するインク微粒子を結果として生じるであろう。
【0023】
驚くべきことに、金属酸化物インクは、本発明にしたがって基体上へリソグラフィー印刷されうることが発見された。
【0024】
もう1つの問題は、あるいくつかの樹脂が、あるいくつかの還元剤及び/または無電解プロセスまたは電気めっきプロセスによって悪影響が与えられることが発見されたということである。特に、影響を受けていることが分かっているインクは、単一樹脂ベースとしてアルキド樹脂(国際公開第WO97/48257号パンフレット及び国際公開第WO00/33625号パンフレットの好ましい樹脂)を用いるインクである。基体、例えばポリアート(Polyart)基体(コートポリエチレン材料)へのこれらのインクの接着は、還元剤の作用またはその後の無電解/電気めっき工程の作用によって劣化することが発見された。
【0025】
何がこの問題を引起こすかを正確に確立するために、さらなる研究が実施されているが、さしあたり、次のようなリソグラフィー印刷樹脂ビヒクルへのニーズが明らかに存在する:すなわち、
【0026】
・酸溶液に抵抗性があり、
・劣化せず、
・還元剤によるある程度の湿潤を許容し、
・強い還元剤と適合性があり、
・リソグラフィー印刷することができ、
・好ましくはそのレオロジーにおいてチキソトロープ性である(すなわち、25℃における103mPaSから25℃における105mPaSの範囲の粘度を有する)。
【0027】
本発明の第二の側面によれば、基体(例えばポリマー基体)へのリソグラフィー印刷プロセスにおける使用のためのインクであって、インクビヒクル中に懸濁された金属酸化物を含み、前記ビヒクルが少なくとも1つの樹脂と有機溶媒とを含むインクが提供される。このインクビヒクルは好ましくは、少なくとも1つのアルキド樹脂と少なくとも1つの非アルキド樹脂とを含む。酸化防止剤、例えばユージノールがインク配合物に添加されてもよい。
【0028】
インクは好ましくは、微粒子形態の金属酸化物65から82重量%(より好ましくは約75%)を含み、残りはインクビヒクルを含む。インクビヒクルは好ましくは、75から85%(より好ましくは約80%)w/w樹脂、15から25%(より好ましくは約20%)w/w有機溶媒、及び(任意に)1から2%(より好ましくは約1.5%)w/wの酸化防止剤、例えばユージノールを含む。
【0029】
好ましい実施形態において、樹脂は、アルキド樹脂とアルキド樹脂でない樹脂との混合物を含む。総樹脂含量の割合としてのアルキド樹脂の量は、好ましくは65から95%w/w、より好ましくは75から85%w/w、最も好ましくは約80%w/wである。インクビヒクルの総樹脂含量の割合としての非アルキド樹脂の量は、好ましくは5から35%w/w、より好ましくは15から25%w/w、最も好ましくは約20%w/wである。
【0030】
アルキド樹脂は、あらゆる従来のアルキド樹脂であってもよい。特に好ましい例は、ローター(Lawtor)によって商標VX1598として販売されているアルキド樹脂である。
【0031】
非アルキド樹脂は、様々な油とブレンドされたポリマーであってもよい。好ましくは樹脂は、アミド基を有するポリマー、例えばナイロンベースのポリマーを含む。
【0032】
特に適切であることが分かっている樹脂の1つは、商品名「ナイポール(Nypol)3」として、ローター・インターナショナル(Lawter International)(ベルギー国B−9130カロー、ケテニスラーン1c−ハーベン(Ketenislaan 1c−Haven 1520、B−9130 Kallow,Belgium))から商品として入手しうる。ナイポール3は、変性ポリアミド及びキリ油及び植物油ブレンドを含む。
【0033】
本明細書において示されている「リソグラフィー印刷」という用語は、親水性と疎水性とを包含する、印刷板の表面化学の差を利用する印刷プロセスである。これはエッチングされた回路基板及び/またはシリコン半導体マイクロエレクトロニクスの生産中に発生するエッチングとフォトレジストとに関わる、通常用いられているプロセスのことを言うのではない。「インク」という用語は、印刷に適したあらゆる材料を意味するものである。
【0034】
好ましくはインクは、オフセットリソグラフィー印刷法を用いて基体に塗布される。ついで少なくとも一部酸化されたインクの層は、例えば柔軟性配線盤導体を形成し、所望の導体厚さを得るために、無電解処理及び/または電気めっきされてもよい。
【0035】
無電解付着(またはめっき)は、ひとたび開始されたら自己接触的になる化学還元プロセスを用いて、物体(または物体の一部)をコーティングすることを含むよく知られた技術である。このプロセスは、外部電流が必要とされないこと以外、電気めっきと同様である。無電解的に物体をめっきするためには、適切な幾何学及び電気及び化学的特徴の播種層が物体上に形成され、金属が付着されるための核生成部位を生じるようにしなければならない。播種層は、付着工程のための活性化エネルギーを減少させるという点で、触媒として作用すると考えられる。
【0036】
好ましいめっき播種製造技術は、次の工程を組込んでいる2段階プロセスである:
【0037】
1.金属酸化物ベースの印刷用インクを含むインク層を柔軟性基体上に付着させるために、オフセットリソグラフィー印刷法または関連する印刷技術のどちらかを用いる最初の段階。ナノ粒子金属粉末または貴金属はこのインクに用いられず、したがって開示されているプロセスは、記載されている先行技術のプロセスよりもかなり安価である。金属酸化物の粒子サイズは、国際公開第WO00/33625号パンフレットに開示されているプロセスの微粒子よりもかなり大きく、これはさらにインク原料の製造コストを低下させ、したがってこのプロセスの全体のコストを低下させる。
【0038】
2.乾燥インクフィルム中の金属酸化物(全体または一部)を金属に転換し、これによってめっき播種層を形成する化学還元プロセスを含む第二段階。
【0039】
その結果生じた金属/金属酸化物播種層はついで、柔軟性配線盤導体を形成するため、及び所望の導体厚さを得るために、無電解処理及び/または電気めっきされてもよい。
【0040】
本発明の第三の側面によれば、その上にインク層が印刷されている基体であって、このインク層が上記のようなプロセスを用いて形成されている基体が提供される。
【0041】
用途
「金属酸化物播種インク」の特別な用途は、電子回路及び電子系用の柔軟性配線盤の製造、キーボードスイッチ膜の製造、セキュリティタギング構造、及び関連加工品である。その他の用途は、無線周波及び/またはマイクロ波ストリップライン要素及びアンテナ、柔軟性センサー構造、及び印刷された電子要素である。
【0042】
インク
リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスによって付着されたインク層は、約3から5ミクロン(3から5×10−6m)厚さである。したがってインクは、十分に高い割合の適切な金属酸化物を示すが、リソグラフィー印刷または関連印刷プロセスによって課される機械的制約に合致しなければならない。
【0043】
採用された方法は、複合有機樹脂ビヒクル中に懸濁された粒子を有する金属酸化物からインクを配合することであった。ビヒクルは、インクの機械的性質を大部分決定する。ビヒクル配合の操作、及び様々なレオロジー調節剤及び溶媒を含めることによって、インクの機械的性質(例えば粘度)が、その金属酸化物負荷の相対的単離において調節されうる。インク配合物は、標準的リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスによって付着されうる。約400ナノメートル(400×10−9m)の平均粒子サイズを有する銅(II)酸化物が、インク微粒子として用いられて成功してきた。
【0044】
印刷された時、結果として生じたインクフィルムは、インクビヒクルによって基体表面に結合された金属酸化物粒子の「小石埋め込み仕上げ(pebble dash)」からなる。典型的なめっきインク配合物は、次のものからなる:
【0045】
・リソグラフィー印刷用の400ナノメートル(400×10−9m)75%w/wの平均粒子サイズを有する細かい粉末における銅(II)酸化物。
【0046】
・次のものを含むリソグラフィー印刷用のインクビヒクル25%w/w:
アルキドまたはポリマー樹脂−例えばローターVX1578、またはナイポール3(79.5%w.w)。
炭化水素フラクション−例えばエクソン(Exxon)M71A(19%w/w)。
酸化防止剤−例えばユージノール(1.5%w/w)。
【0047】
インクは、標準的方法または印刷用インク製造にしたがって混合及び特徴決定される。上記配合物から印刷されたインクフィルムは、化学還元によって(全体または一部)転換され、銅金属めっき播種層を形成することができる。これはその後、確立された無電解及び/または電気めっき技術によってあらゆる所望の金属厚さにめっきすることができる。
【0048】
付着されためっきインクフィルムの特徴、及びその結果生じためっき播種層及びめっきされた付着物は、次のものによって影響される:
・金属酸化物粒子サイズ及び形状。
・配合インクの粒子対樹脂比
・インクフィルムの厚さ。
【0049】
基体
リソグラフィー印刷及び関連印刷プロセスは、基体がめっきインクに対してある程度の親和性を有することを必要とする。平床式リソグラフィー印刷機を、非柔軟性基体のために用いることができる。うまくゆく回路基板製造のための基体の考察事項には次のものが含まれる:
・基体表面トポグラフィー
・材料特性。
【0050】
基体トポグラフィーは、置かれたインクの量及び金属酸化物の粒子の近接性に影響を与える。金属への化学還元に続いて、基体のトポグラフィーもまた、インクフィルムが凝集性導電性金属層中へ無電解または電気めっきされる能力に影響を与える。適度に滑らかな表面が好ましい。ただしこれは、印刷されたインクフィルムの摩擦抵抗に有害であることが証明されている。
【0051】
しかしながらプライマーが用いられるならば(例えばEVA)、その場合には表面トポグラフィーは、それほど問題ではない。
【0052】
考察されなければならない基体の材料特性には、湿分抵抗、誘電特性、難燃性、温度循環、及び機械的強度が含まれる。光沢アート紙、シートポリマー、及び半合成(ポリエステル繊維)紙が、印刷試験に用いられて成功してきた。
【0053】
導電層が印刷される基体は、好ましくはポリマーから形成され、好ましくは柔軟性シートを含む。適切なポリマーには、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、またはポリスルホンが含まれる。基体は、基体表面へのインクの接着を改良するために処理されてもよい。例えば基体は、コポリマー接着剤層でコートされてもよく、あるいは表面が化学処理されるか、またはコロナ処理に付されてもよい。
【0054】
好ましくは基体は、コポリマー接着剤層を用いて、または用いずに、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、またはポリアミドから形成されている。特に好ましい実施形態において、基体は、コポリマーコートされたポリエステル、例えばRG248PD、ハンプシャー、ベイシングストーク、ルーサーフォード・ロード(Rutherford Road,Basingstoke,Hampshire,RG248PD)のGBC(英国)社(GBC(UK)Ltd.)から商品として入手しうるものである。
【0055】
化学還元剤
例えば水素化ホウ素ナトリウムNaBH4、ナトリウムヒポボレートNaH2PO2、またはジメチルアミンボラン(DMAB)C2H10BNを単独またはpH調節剤及びその他の物質と組合わせて含む化学還元剤。還元プロセスは好ましくは、アルカリ条件下で実施され、水性水酸化ナトリウムが好ましくはpH調節剤として用いられる。還元剤の機能は、付着されためっきインク中の金属酸化物微粒子を(全体または一部)金属に化学還元することであり、インクフィルムをめっき播種層にし、従来の化学的めっきプロセスによって無電解及び/または電気めっきすることが可能である。
【0056】
ここでいくつかの本発明の好ましい実施例を、添付図面を参照して記載する。
【実施例1】
【0057】
銅(II)酸化物を組込んでいる様々なプロトタイプインク配合物が開発され、一連の比較印刷試験の結果として、許容しうるレオロジー、金属酸化物負荷、及び乾燥特性を有するいくつかのインク配合物を生じた。開発されたインクは、溶媒及びレオロジー調節剤とともに有機樹脂ビヒクル中に懸濁された、平均粒子サイズ400nmの高い割合(77から82%w/v)の銅(II)酸化物からなる。
【0058】
インクの例は次のとおりである。
・平均粒子サイズ400ナノメートル(400×10−9m)を有する、細かい粉末における75%w/wの銅(II)酸化物。
・次のものを含む25%w/wインクビヒクル:
・79.5%w/wローターVX1578(アルキド樹脂)
・19%w/wエクソンM71A(有機溶媒)
・1.5%w/wユージノール(酸化防止剤)。
【0059】
これらのプロトタイプインクを用いる印刷試験を、ポリエチレン、未クラッド(unclad)FR4、カプトン(Kapton)、及びコートポリプロピレン基体に対して実施した。印刷された金属酸化物インクフィルムの顕微鏡写真を、図1に示す。乾燥銅(II)酸化物インクフィルム上のプロトタイプ化学還元溶液を評価するために、印刷基体を一連の試験に用いた。
【0060】
還元剤試験
印刷された銅(II)酸化物インクフィルムに関連したいくつかの化学還元剤の試験を実施した。この目的は、インクバインダーかまたは基体材料のどちらかに損傷を与えることなく、乾燥インクフィルムにおけるある割合の銅(II)酸化物微粒子を、急速に金属に転換する経済的還元浴形成を開発することであった。これらの試験において評価された化合物は、水素化ホウ素ナトリウムNaBH4、ナトリウムヒポホスファイトNaH2PO2、及びジメチルアミンボラン(DMAB)C2H10BNを、溶媒及びpH調節剤と組合わせて含んでいた。
【0061】
最適な結果は、アルカリDMAB溶液を用いて得られた。これは実質的に、25℃で2分以内に、印刷されたインクフィルムの表面を還元した。化学還元されたインクフィルムは、様々な従来の化学めっきプロセスによって、無電解及び/または電気めっきしうる、優れためっき播種特徴を示すことが発見された。
【0062】
銅めっき試験
化学還元された基体のサンプルを、従来の無電解銅めっきプロセスを用いて銅めっきした(シプレイ(Shipley)「サーキュポジット(Circuposit)4750」無電解銅)。無電解めっき時間を、3から30分で様々に変え、その結果、0.5から2ミクロン(10−6m)の厚さの範囲の銅付着物を生じた。
【0063】
図2において、めっき付着物は明らかに目に見える。これは、化学還元され、無電解めっきされた銅(II)酸化物インクフィルムの顕微鏡写真である。銅めっき付着物は、明るい方の銅(II)酸化物グラニュールを取り囲んで相互連結している黒い物質である。この付着物の物理的外見はよく画定されており、一貫性があり、基体材料への高い程度の接着を有する。
【0064】
無電解めっきに続き、インクフィルムのサンプルを、厚さ10μmを超える銅金属付着物が得られるまで、1A/dm2の電流密度で、従来の銅(II)スルフェート/硫酸めっきプロセスを用いて電気めっきした。
【0065】
結果
銅(II)酸化物インクフィルムの無電解及び電気めっきされたサンプルを、電子顕微鏡法によって調べた。これは、下部基体材料に接着された銅金属の均一かつ一貫性のある層を明らかにした。細い線構造の最小の「広がり」が観察された。ほかのCLF回路製造戦略と同様に、基体への回路トラック構造の接着度は、基体材料に依存することが観察された(基体トポグラフィー)。
【0066】
約1ミクロンの無電解銅及び10ミクロンの電気めっき銅金属でめっきされた細長い回路トラックの抵抗の測定は、20mΩ/□程度のシート抵抗を示す。これらの導体は、このシート抵抗を銅金属に近いものまで低下させるために、さらに電気めっきすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0067】
【図1】図1は、本発明にしたがって付着された銅(II)酸化物インクフィルムの顕微鏡写真を示している。
【図2】図2は、本発明にしたがって形成された銅めっき播種層の顕微鏡写真を示している。
Claims (11)
- 基体上に導電層を形成する方法であって、樹脂と有機溶媒との混合物中に懸濁した微粒子形態の金属酸化物を含むインクを供給する工程、リソグラフィー印刷プロセスを用いて基体上にこのインクを付着させる工程、及び還元剤をインクに加えて、前記金属酸化物の少なくともいくらかを金属に還元する工程を含む方法。
- 無電解付着によって前記金属上に導電層を付着させる、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記金属上に導電層を電気めっきする工程も含む、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記無電解処理(electrolessed)された導電層上にもう1つの導電層を電気めっきする工程も含む、請求項2に記載の方法。
- 前記樹脂が、アルキド樹脂と非アルキド樹脂との混合物である請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 非アルキド樹脂が、アミド基を有するポリマーを含む、請求項5に記載の方法。
- 非アルキド樹脂が、ナイロンベースのポリマーを含む、請求項6に記載の方法。
- 基体上のリソグラフィー印刷プロセスに用いるためのインクであって、インクビヒクル中に懸濁した金属酸化物を含み、前記ビヒクルが、アルキド樹脂、非アルキド樹脂、及び有機溶媒の混合物を含んでいるインク。
- 非アルキル樹脂が、アミド基を有するポリマーを含む、請求項8に記載のインク。
- 非アルキド樹脂が、ナイロンベースのポリマーを含む、請求項9に記載のインク。
- 請求項1から7のうちのいずれかに記載のプロセスによって、電気回路がその上に印刷されている基体を含む電気デバイス。
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