JP2004516487A - グリッド構造の製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、押出し処理を用いてグリッド構造を製造する方法に関わる。高いアスペクト比を示す積層構造を押出すためには、増倍ダイが使用される。このような方法は、X線吸収領域(10)とX線透過領域(9)を有するX線散乱グリッドを製造するためにも適しており、このときX線酸r何グリッド(6)はX線検査装置に使用される。
Description
【0001】
本発明は、異なる特性を示す領域を有するグリッド構造を製造する方法に関わる。
【0002】
本発明は、X線源と、X線検出器と、X線源とX線検出器との間に配置される照射されるべき対象物のための受容空間と、X線吸収率が異なる連続的な領域を含み対象物とX線検出器との間に配置されるべきX線散乱グリッドとを有し、X線を用いて対象物を照射するX線検査装置に更に関わる。
【0003】
グリッド構造は、一般的にモニタコリメータ、又は、プライバシースクリーンとして使用される。このような場合、一つの好ましい方向からだけの観察が実現され得るよう例えば、異なる光学的特性を有する領域を含む通常の構造をグリッドが有することが望ましい。他方で、通常の構造が構造における個々の領域の高いアスペクト比(高い高さ対幅の比)を有することが望ましい。
【0004】
対象物のX線撮像に関して、患者内で発生する散乱した放射線が同様のグリッド構造、一般的にX線散乱グリッドと呼ばれるグリッドによって可能な限り減衰されることが望ましい。X線散乱グリッドは、X線伝搬に関してX線検出器の前に通常配置される。このようなX線散乱グリッドが検査されるべき対象物、例えば、患者の後ろにあるビーム路を遮るとき、検査されるべき対象物からの散乱した放射線が対象物の後ろで測定された信号における個々の域の制御されていない強度をもたらすことなく、患者における吸収量は、空間的に解像された方法で正確に検出され得る。
【0005】
X線散乱グリッドを形成する方法は、DE‐PS953303から公知である。公知の文書は、押出し処理を用いて溶融された塊から散乱グリッドのための支持部材を製造する方法を開示し、上記支持部材には、適当なくしのようなプレートを用いて規則的なカットアウトが設けられる。カットアウトは、支持部材を完全に通らず、その後、混合物、特に、X線に対して高い吸収係数を有する金属で充填され、それにより異なるX線吸収率を示す金属ストリップを有する散乱グリッドが提供される。この処理は、実現され得るアスペクト比によって実質的に制限される。非常に薄いくしのような構造は、非常に高い正確さで押出されなくてはならない。最新技術の押出しは、現在のグリッド設計に必要な構造を作ることができない。第2の段階、即ち、開いているチャネルを吸収材料で充填する段階は低粘度材料を必要とする。これは、鉛1当量未満が実現され得るよう吸収充填材料の割合を制限する。押出されたチャネルに挿入するために金属ストリップを使用することは、非常に高い正確度で別の段階で準備されなくてはならないため、実質的に好ましくない。X線グリッドの質は、材料ストリップのトリミング欠陥による積層体のピッチにおけるより小さい変動、グルーの粘度における変動、埃の含み、及び、積層剥離によって低下される。更に、公知の方法を用いると、薄い断面を有する相当の高さの正確に画成された領域を有する散乱グリッドを形成することは可能でない。
【0006】
本発明は、上記欠点が緩和された散乱グリッドを形成することを目的とする。
【0007】
本発明による方法は、異なる特性を示す材料ストリップが、グリッド構造の領域を形成するよう押出されることを特徴とする。特に公知の押出し処理を適用してグリッド構造を製造すると、ワンステップ処理が実現され、ここで全ての材料層が組み合わされ、積層された構造の高さに制限を付けないようにする。第2に、本発明に従って押出された材料ストリップによって異なる特性の連続的な領域が形成されるため、これらは同様の方法で製造され得る。毎回閉じた層が形成され、互いの上に配置されると、クリーンな明確な界面が互いと形成される。この方法は、連続的に実施され得、押出しは、より早くなり、製造費が低減する。従って、処理が簡単に拡大され得、製造費はピッチの減少とともに増加せず、大きさの増加とも殆ど増加しない。材料の界面は、本来の場所で生成され、空気に曝されず、汚染の可能性を低くする。
【0008】
製造は、異なる特性の2つの材料ストリップが一緒に押出されるとき特に著しく簡略化され、更に、形成された層は、同時に冷却される。従って、互いに対する層の結合は、最適化されると同時に、明確な界面が形成される。
【0009】
本発明による方法の実施例は、グリッド構造が異なるX線吸収係数を有する連続的な領域を有するX線散乱グリッドであり、異なる吸収挙動を示す材料ストリップが使用されることを特徴とする。このような組立体、特に、交互に配置された複数のストリップを有する組立体は、ユニットとして変形され得、ビーム路の方向にミリメートル範囲の厚さを実現することができる。例えば、押出しダイによって個々のストリップの傾斜を実現し、その後、ストリップの傾斜が得られる変形を実施することで合焦も実現できることが有利である。
【0010】
連続する交互のストリップの増倍(multiplication)は、一緒に押出された材料ストリップの長手軸方向に対して垂直な方向に材料ストリップを分割し、高さが低くなったパケットを形成するよう上記材料ストリップを圧縮し、その後、積層を行う、材料ストリップを増倍する装置を用いて効果的に実現される。典型的な実施では、ストリップの数は、従って、各増倍段階で2倍にされるが、この動作の数の多さも、溶融ストリームを多数のチャネルに分割することで単一の素子で実現され得る。
【0011】
本発明の更なる利点及び詳細は、図面に例示する本発明の以下の実施例の説明から明らかとなるであろう。
【0012】
図1に示すX線検査装置1は、X線3を放射するX線源2を含み、X線は、照射されるべき対象物4、例えば、患者或いは加工物のような検査されるべき材料の方向に拡散される。対象物4は、受容空間5に配置される。X線散乱グリッド6は、X線ビーム3を遮るために対象物4の後ろに配置される。ビーム軸7の方向において、X線散乱グリッド6は、検査されるべき対象物4の二次元画像を形成する機能を担う検出器8、例えば、フィルムに後続される。
【0013】
図2に示すように、X線散乱グリッド6は、異なるX線吸収率を有する材料の交互の領域9、10を有する。通常、領域9は、それと空間的に位置合わせされた全てのX線がX線散乱グリッド9によって透過されるようX線吸収率が非常に低い材料から製造される。このようなX線は、X線源2と素子9との間にある路においてX線散乱を受けていない光線3aに対応する。他方で、X線散乱を受けたタイプ3bのX線は、もはやセル9と位置合わせされず、素子10によって遮られ素子10内に吸収される。素子10の材料は、高いX線吸収率を有するよう選択される。従って、X線吸収グリッドは、対象物の減衰情報に寄与しない散乱したX線を遮るためにフィルタとして機能する。ストリップ9は、例えば、高分子材料から成る。これに関して使用できる材料は、全て熱可塑性重合体、例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、又は、可塑性剤DOP(フタル酸ジオクチル)のような流れ改質剤によって補充されてもよいポリカーボネートである。可塑剤との典型的な濃縮度は、約20%である。Kraton Liquid(ヒドロキシ−オリゴエチレン−ブチレン)が加えられたABS(ポリ‐(アクリロ‐ニトリル‐ブタジエン‐スチレン))を使用することも可能である。充填材料、例えば、酸化アルミニウム或いはカーボンブラック(又は軽い核の他の化合物)は、X線吸収率を僅かに増加させるが、増倍セルにおける流れ挙動を高めるようストリップ9の材料に添加されてもよい。
【0014】
一般的に、好ましくは、比較的重い核の金属、例えば、Wがストリップ10を製造するのに適切な充填材料である。更に、X線吸収ストリップ10を製造するのに塩を使用することも可能である。ニッケル及び/又はタングステンの金属粉も吸収材料として、従って、金属ストリップ10に対する混合物として使用され得る。この場合、粉粒子の大きさは、10μm未満である。タングステンの吸収率は鉛の吸収率の約2倍である。従って、金属ストリップ10の厚さdは、X線3の強度の全体的な損失が過度になることを回避するよう、従ってフィルム8に関する情報を有すること無く広バンドが存在することを回避するよう小さく維持される。小さいストリップ10の別の利点は、患者に送られるドーズ量が低く保たれることである。
【0015】
図3の実施例では、材料の流れ13及び12は一緒に押出され、実際の押出しの後には、一方が他方の上に位置する金属ストリップ13、12を増倍する装置11が続く。後の増倍後の流れ13、12は、結果として積層構造の金属ストリップ9、10となる。異なる金属ストリップ9と10との間の界面の安定性は、使用される材料の流れ挙動に依存する。従って、このような挙動に特に注目する。従って、充填物或いは結合剤の共有部の選択は、流れ要件に依存する。この選択は、一緒の押出しに使用される2つの材料の内部せん断変形と壁スリップとの比に基づき得る。この比は、いわゆるβ値
【0016】
【数1】
図3では、X線散乱グリッドを実現するために使用されるストックは、比較可能な情況で溶融され一緒に押し出される、比較可能な粘度の2つの材料ストリップ12及び13によって形成される。このような入力ストックストリップ12、13は、積層(図3a)又は隣接して配置される層(図3b)の形態で増倍装置11に送られ得る。図3bでは、増倍装置11のカッティングエッジ14は、ストリップ12、13を夫々の長手軸方向に対して垂直に毎回分離し、その後、入力ストックストリップ12及び13の2層組立体はランプ15で上方向に移動され、組立体12、13の元の幅、つまり、カット前の幅が復元され得るよう横方向に膨張されることが可能である。カットされた組立体12、13の他方の部分は、ランプ18で下方向に移動し、横方向の膨張の際、入力ストックレイヤ12、13の前述の膨張した2層組立体の下で反対方向の位置におかれる。第1の増倍動作の後、2層組立体は、従って、4層組立体となる。増倍素子の組を互いの後ろに配置することでより高い程度の積層増倍が実現され得る。
【0017】
これは、図4乃至図6、つまり、90°回転されて示される。図4は、エッジ14によるカッティング、並びに、ランプ15による組立体12、13の一部の後の上方向の移動、及び、ランプ18による組立体12、13の分離した部分の平行な下方向の移動を示す。図5は、入力ストックストリップ12、13の横方向の膨張が始まる位置を示し、増倍素子の出口では、同じ初期幅(又は回転された表示では高さ)を有する4層として互いに積層され、2層組立体は4層組立体に変化される。
【0018】
図7は、装置11の組(図示せず)が入力ストックストリップ12、13を全体的に、上記方法又は同様の方法の繰り返し増倍によって、後のカッティング動作(図示せず)後にX線散乱グリッド6の金属ストリップ9、10を構成する重畳された層12、13を有する多層組立体にどのようにして変化させるかを示す。
【0019】
図8を参照するに、入力ストックストリップ12、13(図示せず)は、増倍中に溶融された又は溶融されたような状態で維持される。増倍処理の終わりで得られる金属ストリップ9、10は、押出し装置16を通り、この押出し装置から積層された構造が最終的に押出される。押出し装置16は、流れが同時に二次元に変換される2つの動作を概略的に示す。これら2つの動作が続いて実施されることも可能であり、それにより正しい幅及び高さを有するプレートに多層を変えるための押出しダイにおける材料の変形は2段階に分割され、各段階は、一軸性の変形である。図8に示す装置16は、材料ストリップ9、10の長手軸方向に対して横方向にプレス動作を実施し、数ミリメートルまでの範囲に高さhがある広く平坦な部材を形成する。ビーム軸7に対して平行な厚さの寸法hの例は、0.5mm乃至2mmの範囲にある。
【0020】
図9は、構造がその中央光線の方にある程度の集束を示さなくてはならない場合の積層構造の更なる処理の段階17、18を概略的に示す。最初に形成された(図9a)平坦部材は、その幅を横切る方向に異なる吸収係数を有する材料ストリップ9及び10を含む。図9bに概略的に示すプレス装置20は、粘度変形によって平面からそれる形状を形成された平坦部材本体に同時に与えるよう構成される。この段階は、押出しダイにおける湾曲した形状への移行を追加することで連続する押し出し段階と統合され得る。その後、例えば、(別個の動作として)弾性部を押すことで湾曲した構造が再び平坦化される。平坦形状への変形後、組立体は冷却され、平坦形状は固定される。
【0021】
従って、材料ストリップ9、10は、図9cに示すように傾斜が付けられた位置を仮定する。表面全体のその後の冷却及び弾性変形は、ストリップ9、10の組立体を再び平面組立体に変え、ストリップ9の透過方向及びストリップ10の方向は、動作状態におけるX線源に対応する点2に本質的に方向付けられる。従って、光線3の伝搬方向(図1)に従わない散乱した放射線は、ストリップ9の長手軸方向に対して平行な方向にあるグリッド6を通ることができないが吸収ストリップ10に対して角をつけて入射するため、グリッドとして機能する素子6を横切らない。その結果、散乱した放射線は、可能な限り完全に吸収される。吸収しない材料ストリップ9の長手軸方向に対して平行な方向におけるグリッド6を通って移動する光線だけが吸収されずに透過され、従って、撮像のために検出器(図示せず)によって利用できるようになる。異なる方法で進むことも可能であることに注意する。この場合、より厚い初期平坦部材6が図9aに例示する段階で押出される。次に、段階9bの代わりに、部材の上表面に機械加工が適用され、球状の凹表面が形成される。段階9c中、凹表面は、平坦化され、傾斜が付けられた隣接セルを有する平坦な散乱グリッドに形成される。機械加工段階の適用は、凹表面を成形するために表面層を除去することで、ストリップ9、10の厚さにおいてさほど重要でない不規則性を示す表面層が除去され、結果として、散乱グリッドのよりよい質が得られる。
【0022】
後の段でストリップ9、10を組み合わすことが従って施される。X線グリッド6として機能する組立体は、一緒の押出し及びストリップ増倍を含む製造処理を用いて形成され得る。押出しダイによって実現され得、光線の拡散に対応する方向におけるストリップの位置合わせは、同時に、グリッド6が拡散放射線ビーム3の大きい幅にわたって効果的であることを確実にする。
【0023】
図7乃至図9に示す例の代替として、吸収材料ストリップ10の厚さdと、吸収しない材料ストリップ9の厚さDが異なってもよいことに注意すべきである(図2)。吸収材料ストリップ10の厚さdは、典型的には15μm乃至50μmの範囲にあり、吸収しない材料ストリップ9の厚さは、典型的には150μm乃至350μmの範囲にある。
【図面の簡単な説明】
【図1】
X線源と、照射されるべき対象物のための受容空間と、X線散乱グリッドとを有する検査装置の全体的な構造を示す図である。
【図2】
図1のX線散乱グリッドの詳細を示す図である。
【図3】
押出しダイの単一の増倍素子を示す図である。
【図4】
図3の面Vの域の近傍において90°回転された、押出されたカラムを示す図である。
【図5】
図3の面VIの域の近傍において更に90°回転された図4に類似する図である。
【図6】
図3の面VIIの域の近傍において更に90°回転された図5に類似する図である。
【図7】
材料ストリップを増倍する装置るさいに本発明に従って一緒に押出される材料ストリップの押出されたカラムを示す図である。
【図8】
X線散乱グリッドを形成するよう形成された積層部材の高さをプレスする装置、いわゆる押出しダイを示す図である。
【図9】
積層部材をフォーカシングされた構造に変化することを示す図である。
本発明は、異なる特性を示す領域を有するグリッド構造を製造する方法に関わる。
【0002】
本発明は、X線源と、X線検出器と、X線源とX線検出器との間に配置される照射されるべき対象物のための受容空間と、X線吸収率が異なる連続的な領域を含み対象物とX線検出器との間に配置されるべきX線散乱グリッドとを有し、X線を用いて対象物を照射するX線検査装置に更に関わる。
【0003】
グリッド構造は、一般的にモニタコリメータ、又は、プライバシースクリーンとして使用される。このような場合、一つの好ましい方向からだけの観察が実現され得るよう例えば、異なる光学的特性を有する領域を含む通常の構造をグリッドが有することが望ましい。他方で、通常の構造が構造における個々の領域の高いアスペクト比(高い高さ対幅の比)を有することが望ましい。
【0004】
対象物のX線撮像に関して、患者内で発生する散乱した放射線が同様のグリッド構造、一般的にX線散乱グリッドと呼ばれるグリッドによって可能な限り減衰されることが望ましい。X線散乱グリッドは、X線伝搬に関してX線検出器の前に通常配置される。このようなX線散乱グリッドが検査されるべき対象物、例えば、患者の後ろにあるビーム路を遮るとき、検査されるべき対象物からの散乱した放射線が対象物の後ろで測定された信号における個々の域の制御されていない強度をもたらすことなく、患者における吸収量は、空間的に解像された方法で正確に検出され得る。
【0005】
X線散乱グリッドを形成する方法は、DE‐PS953303から公知である。公知の文書は、押出し処理を用いて溶融された塊から散乱グリッドのための支持部材を製造する方法を開示し、上記支持部材には、適当なくしのようなプレートを用いて規則的なカットアウトが設けられる。カットアウトは、支持部材を完全に通らず、その後、混合物、特に、X線に対して高い吸収係数を有する金属で充填され、それにより異なるX線吸収率を示す金属ストリップを有する散乱グリッドが提供される。この処理は、実現され得るアスペクト比によって実質的に制限される。非常に薄いくしのような構造は、非常に高い正確さで押出されなくてはならない。最新技術の押出しは、現在のグリッド設計に必要な構造を作ることができない。第2の段階、即ち、開いているチャネルを吸収材料で充填する段階は低粘度材料を必要とする。これは、鉛1当量未満が実現され得るよう吸収充填材料の割合を制限する。押出されたチャネルに挿入するために金属ストリップを使用することは、非常に高い正確度で別の段階で準備されなくてはならないため、実質的に好ましくない。X線グリッドの質は、材料ストリップのトリミング欠陥による積層体のピッチにおけるより小さい変動、グルーの粘度における変動、埃の含み、及び、積層剥離によって低下される。更に、公知の方法を用いると、薄い断面を有する相当の高さの正確に画成された領域を有する散乱グリッドを形成することは可能でない。
【0006】
本発明は、上記欠点が緩和された散乱グリッドを形成することを目的とする。
【0007】
本発明による方法は、異なる特性を示す材料ストリップが、グリッド構造の領域を形成するよう押出されることを特徴とする。特に公知の押出し処理を適用してグリッド構造を製造すると、ワンステップ処理が実現され、ここで全ての材料層が組み合わされ、積層された構造の高さに制限を付けないようにする。第2に、本発明に従って押出された材料ストリップによって異なる特性の連続的な領域が形成されるため、これらは同様の方法で製造され得る。毎回閉じた層が形成され、互いの上に配置されると、クリーンな明確な界面が互いと形成される。この方法は、連続的に実施され得、押出しは、より早くなり、製造費が低減する。従って、処理が簡単に拡大され得、製造費はピッチの減少とともに増加せず、大きさの増加とも殆ど増加しない。材料の界面は、本来の場所で生成され、空気に曝されず、汚染の可能性を低くする。
【0008】
製造は、異なる特性の2つの材料ストリップが一緒に押出されるとき特に著しく簡略化され、更に、形成された層は、同時に冷却される。従って、互いに対する層の結合は、最適化されると同時に、明確な界面が形成される。
【0009】
本発明による方法の実施例は、グリッド構造が異なるX線吸収係数を有する連続的な領域を有するX線散乱グリッドであり、異なる吸収挙動を示す材料ストリップが使用されることを特徴とする。このような組立体、特に、交互に配置された複数のストリップを有する組立体は、ユニットとして変形され得、ビーム路の方向にミリメートル範囲の厚さを実現することができる。例えば、押出しダイによって個々のストリップの傾斜を実現し、その後、ストリップの傾斜が得られる変形を実施することで合焦も実現できることが有利である。
【0010】
連続する交互のストリップの増倍(multiplication)は、一緒に押出された材料ストリップの長手軸方向に対して垂直な方向に材料ストリップを分割し、高さが低くなったパケットを形成するよう上記材料ストリップを圧縮し、その後、積層を行う、材料ストリップを増倍する装置を用いて効果的に実現される。典型的な実施では、ストリップの数は、従って、各増倍段階で2倍にされるが、この動作の数の多さも、溶融ストリームを多数のチャネルに分割することで単一の素子で実現され得る。
【0011】
本発明の更なる利点及び詳細は、図面に例示する本発明の以下の実施例の説明から明らかとなるであろう。
【0012】
図1に示すX線検査装置1は、X線3を放射するX線源2を含み、X線は、照射されるべき対象物4、例えば、患者或いは加工物のような検査されるべき材料の方向に拡散される。対象物4は、受容空間5に配置される。X線散乱グリッド6は、X線ビーム3を遮るために対象物4の後ろに配置される。ビーム軸7の方向において、X線散乱グリッド6は、検査されるべき対象物4の二次元画像を形成する機能を担う検出器8、例えば、フィルムに後続される。
【0013】
図2に示すように、X線散乱グリッド6は、異なるX線吸収率を有する材料の交互の領域9、10を有する。通常、領域9は、それと空間的に位置合わせされた全てのX線がX線散乱グリッド9によって透過されるようX線吸収率が非常に低い材料から製造される。このようなX線は、X線源2と素子9との間にある路においてX線散乱を受けていない光線3aに対応する。他方で、X線散乱を受けたタイプ3bのX線は、もはやセル9と位置合わせされず、素子10によって遮られ素子10内に吸収される。素子10の材料は、高いX線吸収率を有するよう選択される。従って、X線吸収グリッドは、対象物の減衰情報に寄与しない散乱したX線を遮るためにフィルタとして機能する。ストリップ9は、例えば、高分子材料から成る。これに関して使用できる材料は、全て熱可塑性重合体、例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、又は、可塑性剤DOP(フタル酸ジオクチル)のような流れ改質剤によって補充されてもよいポリカーボネートである。可塑剤との典型的な濃縮度は、約20%である。Kraton Liquid(ヒドロキシ−オリゴエチレン−ブチレン)が加えられたABS(ポリ‐(アクリロ‐ニトリル‐ブタジエン‐スチレン))を使用することも可能である。充填材料、例えば、酸化アルミニウム或いはカーボンブラック(又は軽い核の他の化合物)は、X線吸収率を僅かに増加させるが、増倍セルにおける流れ挙動を高めるようストリップ9の材料に添加されてもよい。
【0014】
一般的に、好ましくは、比較的重い核の金属、例えば、Wがストリップ10を製造するのに適切な充填材料である。更に、X線吸収ストリップ10を製造するのに塩を使用することも可能である。ニッケル及び/又はタングステンの金属粉も吸収材料として、従って、金属ストリップ10に対する混合物として使用され得る。この場合、粉粒子の大きさは、10μm未満である。タングステンの吸収率は鉛の吸収率の約2倍である。従って、金属ストリップ10の厚さdは、X線3の強度の全体的な損失が過度になることを回避するよう、従ってフィルム8に関する情報を有すること無く広バンドが存在することを回避するよう小さく維持される。小さいストリップ10の別の利点は、患者に送られるドーズ量が低く保たれることである。
【0015】
図3の実施例では、材料の流れ13及び12は一緒に押出され、実際の押出しの後には、一方が他方の上に位置する金属ストリップ13、12を増倍する装置11が続く。後の増倍後の流れ13、12は、結果として積層構造の金属ストリップ9、10となる。異なる金属ストリップ9と10との間の界面の安定性は、使用される材料の流れ挙動に依存する。従って、このような挙動に特に注目する。従って、充填物或いは結合剤の共有部の選択は、流れ要件に依存する。この選択は、一緒の押出しに使用される2つの材料の内部せん断変形と壁スリップとの比に基づき得る。この比は、いわゆるβ値
【0016】
【数1】
図3では、X線散乱グリッドを実現するために使用されるストックは、比較可能な情況で溶融され一緒に押し出される、比較可能な粘度の2つの材料ストリップ12及び13によって形成される。このような入力ストックストリップ12、13は、積層(図3a)又は隣接して配置される層(図3b)の形態で増倍装置11に送られ得る。図3bでは、増倍装置11のカッティングエッジ14は、ストリップ12、13を夫々の長手軸方向に対して垂直に毎回分離し、その後、入力ストックストリップ12及び13の2層組立体はランプ15で上方向に移動され、組立体12、13の元の幅、つまり、カット前の幅が復元され得るよう横方向に膨張されることが可能である。カットされた組立体12、13の他方の部分は、ランプ18で下方向に移動し、横方向の膨張の際、入力ストックレイヤ12、13の前述の膨張した2層組立体の下で反対方向の位置におかれる。第1の増倍動作の後、2層組立体は、従って、4層組立体となる。増倍素子の組を互いの後ろに配置することでより高い程度の積層増倍が実現され得る。
【0017】
これは、図4乃至図6、つまり、90°回転されて示される。図4は、エッジ14によるカッティング、並びに、ランプ15による組立体12、13の一部の後の上方向の移動、及び、ランプ18による組立体12、13の分離した部分の平行な下方向の移動を示す。図5は、入力ストックストリップ12、13の横方向の膨張が始まる位置を示し、増倍素子の出口では、同じ初期幅(又は回転された表示では高さ)を有する4層として互いに積層され、2層組立体は4層組立体に変化される。
【0018】
図7は、装置11の組(図示せず)が入力ストックストリップ12、13を全体的に、上記方法又は同様の方法の繰り返し増倍によって、後のカッティング動作(図示せず)後にX線散乱グリッド6の金属ストリップ9、10を構成する重畳された層12、13を有する多層組立体にどのようにして変化させるかを示す。
【0019】
図8を参照するに、入力ストックストリップ12、13(図示せず)は、増倍中に溶融された又は溶融されたような状態で維持される。増倍処理の終わりで得られる金属ストリップ9、10は、押出し装置16を通り、この押出し装置から積層された構造が最終的に押出される。押出し装置16は、流れが同時に二次元に変換される2つの動作を概略的に示す。これら2つの動作が続いて実施されることも可能であり、それにより正しい幅及び高さを有するプレートに多層を変えるための押出しダイにおける材料の変形は2段階に分割され、各段階は、一軸性の変形である。図8に示す装置16は、材料ストリップ9、10の長手軸方向に対して横方向にプレス動作を実施し、数ミリメートルまでの範囲に高さhがある広く平坦な部材を形成する。ビーム軸7に対して平行な厚さの寸法hの例は、0.5mm乃至2mmの範囲にある。
【0020】
図9は、構造がその中央光線の方にある程度の集束を示さなくてはならない場合の積層構造の更なる処理の段階17、18を概略的に示す。最初に形成された(図9a)平坦部材は、その幅を横切る方向に異なる吸収係数を有する材料ストリップ9及び10を含む。図9bに概略的に示すプレス装置20は、粘度変形によって平面からそれる形状を形成された平坦部材本体に同時に与えるよう構成される。この段階は、押出しダイにおける湾曲した形状への移行を追加することで連続する押し出し段階と統合され得る。その後、例えば、(別個の動作として)弾性部を押すことで湾曲した構造が再び平坦化される。平坦形状への変形後、組立体は冷却され、平坦形状は固定される。
【0021】
従って、材料ストリップ9、10は、図9cに示すように傾斜が付けられた位置を仮定する。表面全体のその後の冷却及び弾性変形は、ストリップ9、10の組立体を再び平面組立体に変え、ストリップ9の透過方向及びストリップ10の方向は、動作状態におけるX線源に対応する点2に本質的に方向付けられる。従って、光線3の伝搬方向(図1)に従わない散乱した放射線は、ストリップ9の長手軸方向に対して平行な方向にあるグリッド6を通ることができないが吸収ストリップ10に対して角をつけて入射するため、グリッドとして機能する素子6を横切らない。その結果、散乱した放射線は、可能な限り完全に吸収される。吸収しない材料ストリップ9の長手軸方向に対して平行な方向におけるグリッド6を通って移動する光線だけが吸収されずに透過され、従って、撮像のために検出器(図示せず)によって利用できるようになる。異なる方法で進むことも可能であることに注意する。この場合、より厚い初期平坦部材6が図9aに例示する段階で押出される。次に、段階9bの代わりに、部材の上表面に機械加工が適用され、球状の凹表面が形成される。段階9c中、凹表面は、平坦化され、傾斜が付けられた隣接セルを有する平坦な散乱グリッドに形成される。機械加工段階の適用は、凹表面を成形するために表面層を除去することで、ストリップ9、10の厚さにおいてさほど重要でない不規則性を示す表面層が除去され、結果として、散乱グリッドのよりよい質が得られる。
【0022】
後の段でストリップ9、10を組み合わすことが従って施される。X線グリッド6として機能する組立体は、一緒の押出し及びストリップ増倍を含む製造処理を用いて形成され得る。押出しダイによって実現され得、光線の拡散に対応する方向におけるストリップの位置合わせは、同時に、グリッド6が拡散放射線ビーム3の大きい幅にわたって効果的であることを確実にする。
【0023】
図7乃至図9に示す例の代替として、吸収材料ストリップ10の厚さdと、吸収しない材料ストリップ9の厚さDが異なってもよいことに注意すべきである(図2)。吸収材料ストリップ10の厚さdは、典型的には15μm乃至50μmの範囲にあり、吸収しない材料ストリップ9の厚さは、典型的には150μm乃至350μmの範囲にある。
【図面の簡単な説明】
【図1】
X線源と、照射されるべき対象物のための受容空間と、X線散乱グリッドとを有する検査装置の全体的な構造を示す図である。
【図2】
図1のX線散乱グリッドの詳細を示す図である。
【図3】
押出しダイの単一の増倍素子を示す図である。
【図4】
図3の面Vの域の近傍において90°回転された、押出されたカラムを示す図である。
【図5】
図3の面VIの域の近傍において更に90°回転された図4に類似する図である。
【図6】
図3の面VIIの域の近傍において更に90°回転された図5に類似する図である。
【図7】
材料ストリップを増倍する装置るさいに本発明に従って一緒に押出される材料ストリップの押出されたカラムを示す図である。
【図8】
X線散乱グリッドを形成するよう形成された積層部材の高さをプレスする装置、いわゆる押出しダイを示す図である。
【図9】
積層部材をフォーカシングされた構造に変化することを示す図である。
Claims (6)
- 異なる特性を示す領域を有するグリッド構造を製造する方法であって、
異なる特性を示す材料ストリップは、上記グリッド構造の上記領域を形成するよう押し出されることを特徴とする方法。 - 上記材料ストリップは、一緒に押出されることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 上記グリッド構造は、異なるX線吸収係数を有する連続的な領域を含むX線散乱グリッドであり、
異なるX線吸収挙動を示す上記材料ストリップが使用されることを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 - 2つの異なる材料ストリップは、材料ストリップを増倍する装置の入口に送られ、
上記材料ストリップは、上記装置を通る間に何回か分割され、層に配置され、材料ストリップが交互になる組立体が形成されることを特徴とする請求項3記載の方法。 - 上記形成された組立体は、上記装置において上記材料ストリップの伝搬方向に対して横方向に変形され、
上記組立体は、その後、平坦な組立体に再び変化されることで材料ストリップが交互となる領域を有し、
隣接する交互の領域は互いに対して傾斜が付けられた位置にあり、上記組立体の中心線に合焦されることを特徴とする請求項4記載の方法。 - X線源と、X線検出器と、上記X線源と上記X線検出器との間に配置される照射されるべき対象物のための受容空間と、X線吸収率が異なる連続的な領域を含み上記対象物と上記X線検出器との間に配置されるX線散乱グリッドとを有する、X線を用いて対象物を照射する検査装置であって、
上記X線散乱グリッドは請求項3乃至5のうちいずれか一項記載の方法に従って製造されることを特徴とする検査装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP00128316 | 2000-12-22 | ||
PCT/IB2001/002417 WO2002052579A1 (en) | 2000-12-22 | 2001-12-10 | A method for producing a grid structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004516487A true JP2004516487A (ja) | 2004-06-03 |
Family
ID=8170782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002553191A Pending JP2004516487A (ja) | 2000-12-22 | 2001-12-10 | グリッド構造の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6707885B2 (ja) |
EP (1) | EP1346374A1 (ja) |
JP (1) | JP2004516487A (ja) |
WO (1) | WO2002052579A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6993110B2 (en) * | 2002-04-25 | 2006-01-31 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Collimator for imaging systems and methods for making same |
US7959752B2 (en) * | 2003-12-30 | 2011-06-14 | Samyang Corporation | Method for producing geogrid |
US20080118033A1 (en) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | General Electric Company | Antiscatter grid arrangement |
JP5656055B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2015-01-21 | Nltテクノロジー株式会社 | 光学素子の製造方法、光学素子用露光装置、光学素子、照明光学装置、表示装置、および電子機器 |
US9004001B2 (en) * | 2010-12-17 | 2015-04-14 | Palo Alto Research Center Incorporated | Interdigitated finger coextrusion device |
US9589692B2 (en) | 2010-12-17 | 2017-03-07 | Palo Alto Research Center Incorporated | Interdigitated electrode device |
US20120163553A1 (en) * | 2010-12-27 | 2012-06-28 | Analogic Corporation | Three-dimensional metal printing |
US9227354B2 (en) * | 2012-05-06 | 2016-01-05 | Extend Optronics Corp. | Feedblock multiplier with thickness gradient variation, feedblock system, method, and related multilayer structure |
US9590232B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-03-07 | Palo Alto Research Center Incorporated | Three dimensional co-extruded battery electrodes |
US9899669B2 (en) | 2012-12-27 | 2018-02-20 | Palo Alto Research Center Incorporated | Structures for interdigitated finger co-extrusion |
US9012090B2 (en) | 2012-12-27 | 2015-04-21 | Palo Alto Research Center Incorporated | Advanced, high power and energy battery electrode manufactured by co-extrusion printing |
US10923714B2 (en) | 2012-12-27 | 2021-02-16 | Palo Alto Research Center Incorporated | Structures for interdigitated finger co-extrusion |
US9337471B2 (en) * | 2012-12-27 | 2016-05-10 | Palo Alto Research Center Incorporated | Co-extrusion print head for multi-layer battery structures |
US10800086B2 (en) | 2013-08-26 | 2020-10-13 | Palo Alto Research Center Incorporated | Co-extrusion of periodically modulated structures |
US9213005B2 (en) * | 2013-11-04 | 2015-12-15 | Incom, Inc. | X-ray anti-scatter grid |
JP6448206B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2019-01-09 | 株式会社フジキン | 積層型x線グリッド、その製造装置及び製法 |
US9882200B2 (en) | 2014-07-31 | 2018-01-30 | Palo Alto Research Center Incorporated | High energy and power Li-ion battery having low stress and long-term cycling capacity |
US20160322131A1 (en) | 2015-04-29 | 2016-11-03 | Palo Alto Research Center Incoporated | Co-extrusion printing of filaments for superconducting wire |
US9755221B2 (en) | 2015-06-26 | 2017-09-05 | Palo Alto Research Center Incorporated | Co-extruded conformal battery separator and electrode |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE953303C (de) * | 1952-08-17 | 1956-11-29 | Mueller C H F Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Streustrahlenrasterblenden |
US3919559A (en) * | 1972-08-28 | 1975-11-11 | Minnesota Mining & Mfg | Louvered film for unidirectional light from a point source |
US5053092A (en) * | 1988-03-21 | 1991-10-01 | Corning Incorporated | Method for producing a sinterable extruded laminated article |
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JP2000157530A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | コーンビームctの散乱線除去装置 |
-
2001
- 2001-12-10 EP EP01272136A patent/EP1346374A1/en not_active Withdrawn
- 2001-12-10 JP JP2002553191A patent/JP2004516487A/ja active Pending
- 2001-12-10 WO PCT/IB2001/002417 patent/WO2002052579A1/en not_active Application Discontinuation
- 2001-12-20 US US10/024,784 patent/US6707885B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1346374A1 (en) | 2003-09-24 |
US20020176538A1 (en) | 2002-11-28 |
US6707885B2 (en) | 2004-03-16 |
WO2002052579A1 (en) | 2002-07-04 |
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