JP2004509053A - ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部の応力緩和のための方法ならびに装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部の応力緩和のための方法に関し、この方法は、少なくとも次の工程;応力緩和すべきガラスを開始温度T1から保持温度T2まで昇温し;ガラスが応力緩和するまで期間t2の間ガラスを保持温度T2に維持し;常にT1>T3であるような或る温度T3までガラスを冷却し;温度を検出するための少なくとも一つの温度センサを有する制御回路と操作部としての加熱装置とを用いることによって温度T2の維持、昇温、及び冷却を行う工程を有している。本発明は、熱的な遅延時間が10秒より少ない、特に5秒より少ないような、応力緩和対象のガラスを加熱するための赤外線放射器を加熱装置に設けることを特徴としている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部、つまり正面に画面を有するブラウン管本体と電子銃が設けられるネック部との間の接続部分の漏斗形になっている部分(Fernsehtrichter−Halsansatz)の中の応力を解消するための方法、ならびにガラスの応力緩和のための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ガラスの応力緩和のための通常のやり方は、例えば、Guenther Noelle(ギュンター・ニョレ)著「Technik der Glasherstellung(ガラス製造技術)」VEB Deutscher Verlag fuer Grundstoffindustrie(基礎材料工業に関するVEBドイツ出版), Leipzig(ライプチヒ) 1977, 180頁以降に記載されている。ここに記載された応力緩和冷却は、成形後直ぐに行なわれるか、あるいは既に冷却されたが未だ応力を残していてこの応力緩和冷却のためにもう一度昇温されるようなガラスに対して行なわれる。以下に用いられる概念ないし用語「上側冷却温度(obere Kuehltemperatur)」ならびに「下側冷却温度(untere Kuehltemperatur)」は、G. Noelle著「Technik der Glasherstellung」VEB Deutscher Verlag fuer Grundstoffindustrie, 182−183頁に、それも特に図127に定義されている。
【0003】
上記の概念は、成形から取り出されて冷却されるガラスに関する冷却曲線から導かれる。かくして、先ずはG. Noelleの上述の箇所によるこれらの定義に従い、成形から取り出されると第1の冷却速度vK1で冷却され、冷却範囲(Kuehlbereich)では第2の冷却速度vK2で、さらに下側冷却温度より下側では第3の冷却速度vK3で下げられる。vK1は任意で、技術的に可能か否かに依存し、他方面からの制約がある場合もあるが、応力形成からもたらされるものではない。
【0004】
vK2は、以下のように求められる;
【数1】
ここで、σaKは、ガラス表面で許容される冷却応力(Kuehlspannung)を表す。以下の数値例において、アルカリ−アルカリ土類ケイ酸塩ガラス(Alkali−Erdalkali−Silikatglas)に関して550℃の上側冷却温度ならびに500℃の下側冷却温度を仮定し、材料に関する以下の物理的特性値
E=8×104Nmm−2
μ=0.22
ρ=2.4gcm3
λeff=2.7Wm−1K−1(冷却範囲内)
λ=0.9Wm−1K−1
c=0.9kJkg−1K−1
α=10−5K−1
Ψ=1/3(形状因子)(Formfaktor)
を用いると、ガラスの冷却モジュール(Kuehlmodul)は、以下の式
【数2】
により、冷却範囲において
MK=0.8×1012NsK−1m−4
ならびに低温において
M0=2.4×1012NsK−1m−4
と算出される。ガラス表面においてσaK=1.5Nmm−2の冷却応力を許容するとすると、厚さs=6mmのプレートについて考えると、vK2=9.4Kmin−1という結果が得られる。
【0005】
この冷却速度を超えると、許容できない大きな冷却応力を考慮しなければならない。冷却範囲の幅が50Kである場合、この冷却範囲を横切るのに約5.3minを要する。
【0006】
vK3は、もっと大きく選ぶことができる。それは、冷却範囲の外では、冷却速度は、冷却応力に関して重要ではないからである。ただ注意しなければならないのは、ガラスが冷却中に一時的な応力によって壊れないようにすることだけである。これに関して許される冷却速度は、やはり計算することができる。以下の式
【数3】
が成り立ち、このとき、σaは、最大許容できる一時的な応力である。冷却時には、この応力は引張り応力である。σaに関しては引張り強度よりも低い値に留まっていなればならず、例えばσa=20Nmm−2の値が挿入される。
【0007】
ガラスの厚さが6mmの場合には、vK3≒40Kmin−1となり、したがって、下側冷却温度からの冷却時間が約12分となる。
【0008】
この冷却速度を超える場合には、冷却破壊(Kuehlbruch)を考慮に入れなければならない。
【0009】
既に冷却されたガラスを応力緩和するために、ガラスは、先ず、例えばすぐに応力が緩和するような或る保持温度まで再び昇温される。
【0010】
G. Noelleによる上述の箇所において指摘されているのは、保持温度をより低く設定、つまり上側冷却温度と下側冷却温度との間に設定できるという点である。すると、応力緩和に必要な維持時間が長くなる。応力リラクセーションの運動学的な法則に従って、その逆もまた成立し、「より高い保持温度では、必要な維持時間が短く」なる。これに関しては、G. W. Scherer(シェーラー)著「Relaxation in Glass and Composites(ガラス及び複合材料におけるリラクセーション)」Willet, 1986を参照されたい。
【0011】
どんどん高い保持温度を選択することによって、このように達成された温度ならびにさらに高いあらゆる温度において瞬間的な応力リラクセーションが得られる限り、維持時間をどんどん縮めることができる。この方法は、G. Noelleにおいても述べられている。その場合、上記温度まで昇温した後、下側冷却点の上側領域における冷却速度に関してG. Noelleにおいて述べられた方法から得られる冷却速度を用いて、下側冷却点まで冷却することが行なわれる。
【0012】
この方法で問題なのは、瞬時の応力リラクセーションが得られるような最も下側の温度でさえ、冷却工程の前に成形されたガラス製品の形状変化が生じる可能性があるということである。
【0013】
その上、上述の方法は、時間経過の仕方から言っても最適ではない。その理由は、保持温度を上昇させることに伴って必要になる冷却時間の増し分が、保持温度の上昇と線型の関係にあり、それも、ガラスの応力緩和に必要な維持時間が必ずしもこの冷却時間の増し分と同程度かそれよりも大幅に縮められることがないという点にある。維持時間は、温度とともに概ね指数関数的に変わり、或る特定の温度からは、維持時間が短くはなるものの、それは、温度をさらに上昇させて得られる維持時間の短縮分が冷却時間の増し分に満たない程度のものである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、従来技術において記載されている方法に比べて一層優れたガラス応力緩和の方法、ならびにこの方法のための装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
応力緩和が瞬時に進むような最も下側の温度まで温度を上げる際に生じるであろう付加的な冷却時間(冷却時間の増し分)と、応力緩和に必要な維持時間とが等しくなるような温度に基づきながら、より高い値に温度を上げるのに伴って生じる冷却時間の増し分と、このより高い温度での維持時間との合計が目標値であるような或る最適化を行なうことができる。このようにして、最適の保持温度が見つけられる。かくして冷却は次のように行なわれる:保持温度まで昇温し、この保持温度において応力緩和に必要なだけ温度を一定に維持し、その後例えばG. Noelleにおいて述べられているような周知の冷却速度で冷却する。一般には、上側冷却温度において10分から15分必要となる応力緩和工程は、応力緩和に関して数分(約1〜5分)の期間に短縮され、保持温度から上側冷却温度まで付加的に必要となる冷却が短縮されるようになる。
【0016】
このような方法は、保持温度が非常に素早くしかも非常に正確に制御可能であることが前提となる。特に好ましいのは、制御時間が数秒の範囲に収まる場合である。
【0017】
本発明により、赤外線放射器からなる加熱装置のパワーを操作量として用い、より短い遅延時間を有する制御回路(Regelkreis)によって迅速かつ正確な温度の設定が行なわれる。
【0018】
所望の温度の素早い開ループ制御ないし閉ループ制御のために重要なことは、系の熱的な遅延時間が少ないことである。遅延時間を算出するために、この系を簡単化して電気工学における「RC回路網」のようなものとみなすことができる。この場合、電圧が本実施形態においては温度に相当し、電流が本実施形態における熱流に相当する。
【0019】
熱抵抗Rは、一方では加熱素子と焼鈍素材との間の温度差から、そして他方では流れる熱流から指数として生じるものである。熱容量Cは、加熱素子から放出される熱流を焼鈍素材の昇温速度で割ることによって得られる。理想的な場合において、流れる熱流が焼鈍素材だけに恩恵を与えて迷容量(Streukapazitaet)を熱するようなことが無いときには、熱容量は、ガラスの、言い換えれば焼鈍素材の熱容量だけとなる。迷容量が一緒に暖められると、この迷容量がかなりのウエートを占めて、熱容量が焼鈍素材の昇温速度と固有の昇温速度による指数に対応するようになる。
【0020】
熱抵抗Rは、加熱素子として高温の赤外線放射器を選ぶことによって低い値にすることができる。ステファン・ボルツマンの法則に従って、二つの互いに放射し合う平面の間の正味の熱放射流速密度jは、
【数4】
によって与えられる。ここで、σはステファン・ボルツマン定数であり、ε1ないしT1は一方の面の放射率ないし温度であり、さらにε2ないしT2は他方の面の放射率ないし温度である。
【0021】
一次の近似により、
【数5】
が成り立つ。熱放射流速密度は、この近似式において二つの面の間の温度差に比例する。このとき、比例係数は一定ではなく、それ自身平均温度(T1+T2)/2の3乗に依存している。熱抵抗Rに関する上述の定義にしたがって、全熱流速J(Aを双方の面の大きさとしてJ=j・Aを用いる)は、J=(T1‐T2)/Rの関係を満たす。このjに関する近似的な関係式から、R〜1/((T1+T2)/2)3となることが分かる。つまり、熱抵抗Rは、平均温度の3乗で減少する。
【0022】
上に述べた考察から、熱抵抗およびそれに伴う系の遅延時間は、極めて高温の加熱素子を選択する場合に、特に小さくすることができるという結果が導かれる。こうして、高い平均温度とそれによる小さな熱抵抗という結論が導かれる。したがって、短波長の赤外線放射器を用いることが特に好ましく、これは例えば、保護ガスとしてのハロゲン化合物が密封された石英ガラス内のタングステンフィラメントによって実現することができ、その温度は約3000℃までに達する。加熱温度が上がるとともに熱放射のスペクトル分布がより短い波長に移り、このとき、比較的長い波長のときに比べて焼鈍素材が比較的短い波長であまり吸収を行なわなくなるという影響を打ち消すために、放射空洞室の内部で赤外線照射を実施し、この中で、赤外線が何度も異なる角度でガラスを通して行ったり来たりはね返されるように構成することが好ましい。放射空洞室内での赤外線照射に関しては、その開示内容が本願に包括的に取り入れられている独国実用新案出願公開第29905385号明細書を参照されたい。
【0023】
迷容量に起因する熱容量を低く保つか、又は迷容量の赤外線放射へのカップリング(Ankopplung)をできるだけ抑えることによって、迷容量の影響を最小限にすることができる。これは、炉壁の放射率が小さく保たれ、つまりは炉壁が強く反射するように形成されていることによって実現することができる。
【0024】
赤外線放射空洞室の壁面から反射された、および/または散乱された赤外線の割合は、この面に入射する光線の50%を超える値であることが好ましい。
【0025】
特に好ましいのは、壁面から反射された、および/または散乱された赤外線放射光の割合が、90%を超える値、それも特に98%を超える値となる場合である。
【0026】
加えて、赤外線放射空洞室を用いる特に有利な点は、非常に強く反射する壁材を用いることが、損失が僅かしかなくかつそれ故に高いエネルギー消費効率が保証される高いQ値の共振器を意味するという点である。
【0027】
赤外線を反射する材料として例えば一つないし複数の以下の材料;
Al2O3;BaF2;BaTiO3;CaF2;CaTiO3;
MgO・3.5Al2O3;MgO,SrF2;SiO2;
SrTiO3;TiO2;スピネル;コージエライト;
コージエライト・焼結ガラスセラミック(Cordierit−Sinterglaskeramik)
を用いることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図ならびに実施形態に基づき例を挙げて説明する。
【0029】
図1には、赤外線放射空洞室を有する本発明に係る装置が示されており、この装置を用いて本発明に係る方法を実施することができるが、本発明がこれに限定されることはないと考える。
【0030】
図1に示された加熱装置は、反射器3の下側に配置された複数の赤外線放射器1を備えている。反射器3によって、応力緩和のために昇温ないし冷却すべきガラス5、特にブラウン管のガラス製漏斗状部が上側から加熱される。赤外線放射器から放射された赤外線は、この波長領域では大半が透明となるガラス5を通り抜け、強く反射ないし強く散乱する材料からなる保持プレート7上に入射する。この目的に特に適しているのは、焼結石英ガラス(Quarzal)であり、この焼結石英ガラスも、赤外線領域における約90%の入射光線を反射する。この焼結石英ガラスの代わりに、焼結された純粋なAl2O3も用いることが可能であると考えられ、Al2O3は、十分な厚さがあれば約98%の反射率を有する。上記保持プレート7上に例えば焼結石英ガラス帯板ないしAl2O3帯板9を用いてガラス5が載置されている。ガラス下側の温度は、保持プレート内の穴部11を通してパイロメータ13によって測ることができる。測定された温度は、開ループ制御ユニット/閉ループ制御ユニット15に伝達される。この開ループ制御ユニット/閉ループ制御ユニット15は、さらにまた赤外線放射器1を有する加熱装置を制御する。赤外線放射器1は、色温度が2000℃から3000℃の短波長の赤外線放射器とされていることが好ましい。
【0031】
壁部10は、例えば焼結石英ガラスないしAl2O3等の反射材料を用いて適切に構成されて、反射器3及び保持プレート7とともにQ値の高い一つの赤外線放射空洞室を形成している。
【0032】
赤外領域において高い反射率を有する壁部材料、例えば、近赤外領域において98%を超える反射率を有する、Morgan Martoc(モルガン・マルトック)社(Troisdorf(トロイスドルフ)在)のAl2O3 Sintox Al の反射率曲線が図2に示されている。
【0033】
以下に、本発明の方法を実施例に基づきより詳細に説明する。
【0034】
〔実施例1〕
従来通りのやり方で、電気式マッフル(Elektromuffeln)による処理サイクルを用いてブラウン管漏斗形状部1Vを応力緩和した。
【0035】
応力緩和は五つの工程に分けられ、その温度変化が図3に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に550℃まで昇温
工程2:56秒間550℃で維持
工程3:56秒以内に525℃まで冷却
工程4:56秒以内に500℃まで冷却
工程5:56秒以内に485℃まで冷却
全行程に280秒要する。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(略長方形とされたブラウン管正面から見て長辺方向に中心を通る軸)(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)15°F、放物線部(Parabel)29°F
小軸(略長方形とされたブラウン管正面から見て短辺方向に中心を通る軸)(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)21°F、放物線部(Parabel)26°F
であった。
【0036】
〔実施例2〕
遅延時間が少ない赤外線放射素子を有する加熱装置を用いながら理想的な処理サイクルによってブラウン管漏斗形状部39Vを応力緩和した。
【0037】
応力緩和は三つの工程に分けられ、その温度変化が図4に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に560℃まで昇温
工程2:30秒間560℃で維持
工程3:85秒以内に450℃まで冷却
全行程に171秒要する。この経過時間は、加熱素子としての赤外線放射器を使わない実施例1による従来の工程の経過時間に対して、約40%程短縮されている。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)16°F、放物線部(Parabel)13°F
小軸(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)20°F、放物線部(Parabel)23°F
であった。
【0038】
〔実施例3〕
遅延時間が少ない赤外線放射素子を有する加熱装置を用いながら理想的な処理サイクルによってブラウン管漏斗形状部52Vを応力緩和した。加えて、温度を上げる際ならびに温度を一定に保つ際、赤外線炉の上側の開いている部分を閉鎖した。この処置によって、ネック部に沿って炉室を通る冷たい空気の対流が阻止される。これにより、炉内の一層優れた温度均一性が得られた。冷却時には、十分な冷却速度を保証するために、再び閉鎖を解除した。
【0039】
応力緩和は三つの工程に分けられ、その温度変化が図5に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に560℃まで昇温
工程2:30秒間560℃で維持
工程3:85秒以内に450℃まで冷却
全行程に171秒要する。この経過時間は、加熱素子としての赤外線放射器を使わない実施例1による従来の工程の経過時間に対して、約40%程短縮されている。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)07°F、放物線部(Parabel)12°F
小軸(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)15°F、放物線部(Parabel)16°F
であった。
【0040】
本発明により、ガラスの応力緩和のための処理時間(Prozesszeit)を著しく短縮できる装置ならびに方法が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】放射空洞室を有する本発明に係るガラスの応力緩和のための装置を示す概略構成図である。
【図2】近赤外線領域において98%を超える反射率を有するAl2O3、Morgan Matroc 社(Troisdorf 在)製の Sintox Al の波長に関する反射率曲線を示す図である。
【図3】従来技術によりブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【図4】赤外線放射空洞室内でブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【図5】赤外線放射空洞室が閉鎖されている場合の、赤外線放射空洞室内でブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【符号の説明】
1・・・赤外線放射器(加熱装置、加熱素子)
3・・・反射器
5・・・ガラス
7・・・プレート
9・・・焼結石英ガラスないしAl2O3整の帯板
10・・・壁部
11・・・穴部
13・・・パイロメータ(温度センサ)
15・・・制御ユニット(制御回路)
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部、つまり正面に画面を有するブラウン管本体と電子銃が設けられるネック部との間の接続部分の漏斗形になっている部分(Fernsehtrichter−Halsansatz)の中の応力を解消するための方法、ならびにガラスの応力緩和のための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ガラスの応力緩和のための通常のやり方は、例えば、Guenther Noelle(ギュンター・ニョレ)著「Technik der Glasherstellung(ガラス製造技術)」VEB Deutscher Verlag fuer Grundstoffindustrie(基礎材料工業に関するVEBドイツ出版), Leipzig(ライプチヒ) 1977, 180頁以降に記載されている。ここに記載された応力緩和冷却は、成形後直ぐに行なわれるか、あるいは既に冷却されたが未だ応力を残していてこの応力緩和冷却のためにもう一度昇温されるようなガラスに対して行なわれる。以下に用いられる概念ないし用語「上側冷却温度(obere Kuehltemperatur)」ならびに「下側冷却温度(untere Kuehltemperatur)」は、G. Noelle著「Technik der Glasherstellung」VEB Deutscher Verlag fuer Grundstoffindustrie, 182−183頁に、それも特に図127に定義されている。
【0003】
上記の概念は、成形から取り出されて冷却されるガラスに関する冷却曲線から導かれる。かくして、先ずはG. Noelleの上述の箇所によるこれらの定義に従い、成形から取り出されると第1の冷却速度vK1で冷却され、冷却範囲(Kuehlbereich)では第2の冷却速度vK2で、さらに下側冷却温度より下側では第3の冷却速度vK3で下げられる。vK1は任意で、技術的に可能か否かに依存し、他方面からの制約がある場合もあるが、応力形成からもたらされるものではない。
【0004】
vK2は、以下のように求められる;
【数1】
ここで、σaKは、ガラス表面で許容される冷却応力(Kuehlspannung)を表す。以下の数値例において、アルカリ−アルカリ土類ケイ酸塩ガラス(Alkali−Erdalkali−Silikatglas)に関して550℃の上側冷却温度ならびに500℃の下側冷却温度を仮定し、材料に関する以下の物理的特性値
E=8×104Nmm−2
μ=0.22
ρ=2.4gcm3
λeff=2.7Wm−1K−1(冷却範囲内)
λ=0.9Wm−1K−1
c=0.9kJkg−1K−1
α=10−5K−1
Ψ=1/3(形状因子)(Formfaktor)
を用いると、ガラスの冷却モジュール(Kuehlmodul)は、以下の式
【数2】
により、冷却範囲において
MK=0.8×1012NsK−1m−4
ならびに低温において
M0=2.4×1012NsK−1m−4
と算出される。ガラス表面においてσaK=1.5Nmm−2の冷却応力を許容するとすると、厚さs=6mmのプレートについて考えると、vK2=9.4Kmin−1という結果が得られる。
【0005】
この冷却速度を超えると、許容できない大きな冷却応力を考慮しなければならない。冷却範囲の幅が50Kである場合、この冷却範囲を横切るのに約5.3minを要する。
【0006】
vK3は、もっと大きく選ぶことができる。それは、冷却範囲の外では、冷却速度は、冷却応力に関して重要ではないからである。ただ注意しなければならないのは、ガラスが冷却中に一時的な応力によって壊れないようにすることだけである。これに関して許される冷却速度は、やはり計算することができる。以下の式
【数3】
が成り立ち、このとき、σaは、最大許容できる一時的な応力である。冷却時には、この応力は引張り応力である。σaに関しては引張り強度よりも低い値に留まっていなればならず、例えばσa=20Nmm−2の値が挿入される。
【0007】
ガラスの厚さが6mmの場合には、vK3≒40Kmin−1となり、したがって、下側冷却温度からの冷却時間が約12分となる。
【0008】
この冷却速度を超える場合には、冷却破壊(Kuehlbruch)を考慮に入れなければならない。
【0009】
既に冷却されたガラスを応力緩和するために、ガラスは、先ず、例えばすぐに応力が緩和するような或る保持温度まで再び昇温される。
【0010】
G. Noelleによる上述の箇所において指摘されているのは、保持温度をより低く設定、つまり上側冷却温度と下側冷却温度との間に設定できるという点である。すると、応力緩和に必要な維持時間が長くなる。応力リラクセーションの運動学的な法則に従って、その逆もまた成立し、「より高い保持温度では、必要な維持時間が短く」なる。これに関しては、G. W. Scherer(シェーラー)著「Relaxation in Glass and Composites(ガラス及び複合材料におけるリラクセーション)」Willet, 1986を参照されたい。
【0011】
どんどん高い保持温度を選択することによって、このように達成された温度ならびにさらに高いあらゆる温度において瞬間的な応力リラクセーションが得られる限り、維持時間をどんどん縮めることができる。この方法は、G. Noelleにおいても述べられている。その場合、上記温度まで昇温した後、下側冷却点の上側領域における冷却速度に関してG. Noelleにおいて述べられた方法から得られる冷却速度を用いて、下側冷却点まで冷却することが行なわれる。
【0012】
この方法で問題なのは、瞬時の応力リラクセーションが得られるような最も下側の温度でさえ、冷却工程の前に成形されたガラス製品の形状変化が生じる可能性があるということである。
【0013】
その上、上述の方法は、時間経過の仕方から言っても最適ではない。その理由は、保持温度を上昇させることに伴って必要になる冷却時間の増し分が、保持温度の上昇と線型の関係にあり、それも、ガラスの応力緩和に必要な維持時間が必ずしもこの冷却時間の増し分と同程度かそれよりも大幅に縮められることがないという点にある。維持時間は、温度とともに概ね指数関数的に変わり、或る特定の温度からは、維持時間が短くはなるものの、それは、温度をさらに上昇させて得られる維持時間の短縮分が冷却時間の増し分に満たない程度のものである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、従来技術において記載されている方法に比べて一層優れたガラス応力緩和の方法、ならびにこの方法のための装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
応力緩和が瞬時に進むような最も下側の温度まで温度を上げる際に生じるであろう付加的な冷却時間(冷却時間の増し分)と、応力緩和に必要な維持時間とが等しくなるような温度に基づきながら、より高い値に温度を上げるのに伴って生じる冷却時間の増し分と、このより高い温度での維持時間との合計が目標値であるような或る最適化を行なうことができる。このようにして、最適の保持温度が見つけられる。かくして冷却は次のように行なわれる:保持温度まで昇温し、この保持温度において応力緩和に必要なだけ温度を一定に維持し、その後例えばG. Noelleにおいて述べられているような周知の冷却速度で冷却する。一般には、上側冷却温度において10分から15分必要となる応力緩和工程は、応力緩和に関して数分(約1〜5分)の期間に短縮され、保持温度から上側冷却温度まで付加的に必要となる冷却が短縮されるようになる。
【0016】
このような方法は、保持温度が非常に素早くしかも非常に正確に制御可能であることが前提となる。特に好ましいのは、制御時間が数秒の範囲に収まる場合である。
【0017】
本発明により、赤外線放射器からなる加熱装置のパワーを操作量として用い、より短い遅延時間を有する制御回路(Regelkreis)によって迅速かつ正確な温度の設定が行なわれる。
【0018】
所望の温度の素早い開ループ制御ないし閉ループ制御のために重要なことは、系の熱的な遅延時間が少ないことである。遅延時間を算出するために、この系を簡単化して電気工学における「RC回路網」のようなものとみなすことができる。この場合、電圧が本実施形態においては温度に相当し、電流が本実施形態における熱流に相当する。
【0019】
熱抵抗Rは、一方では加熱素子と焼鈍素材との間の温度差から、そして他方では流れる熱流から指数として生じるものである。熱容量Cは、加熱素子から放出される熱流を焼鈍素材の昇温速度で割ることによって得られる。理想的な場合において、流れる熱流が焼鈍素材だけに恩恵を与えて迷容量(Streukapazitaet)を熱するようなことが無いときには、熱容量は、ガラスの、言い換えれば焼鈍素材の熱容量だけとなる。迷容量が一緒に暖められると、この迷容量がかなりのウエートを占めて、熱容量が焼鈍素材の昇温速度と固有の昇温速度による指数に対応するようになる。
【0020】
熱抵抗Rは、加熱素子として高温の赤外線放射器を選ぶことによって低い値にすることができる。ステファン・ボルツマンの法則に従って、二つの互いに放射し合う平面の間の正味の熱放射流速密度jは、
【数4】
によって与えられる。ここで、σはステファン・ボルツマン定数であり、ε1ないしT1は一方の面の放射率ないし温度であり、さらにε2ないしT2は他方の面の放射率ないし温度である。
【0021】
一次の近似により、
【数5】
が成り立つ。熱放射流速密度は、この近似式において二つの面の間の温度差に比例する。このとき、比例係数は一定ではなく、それ自身平均温度(T1+T2)/2の3乗に依存している。熱抵抗Rに関する上述の定義にしたがって、全熱流速J(Aを双方の面の大きさとしてJ=j・Aを用いる)は、J=(T1‐T2)/Rの関係を満たす。このjに関する近似的な関係式から、R〜1/((T1+T2)/2)3となることが分かる。つまり、熱抵抗Rは、平均温度の3乗で減少する。
【0022】
上に述べた考察から、熱抵抗およびそれに伴う系の遅延時間は、極めて高温の加熱素子を選択する場合に、特に小さくすることができるという結果が導かれる。こうして、高い平均温度とそれによる小さな熱抵抗という結論が導かれる。したがって、短波長の赤外線放射器を用いることが特に好ましく、これは例えば、保護ガスとしてのハロゲン化合物が密封された石英ガラス内のタングステンフィラメントによって実現することができ、その温度は約3000℃までに達する。加熱温度が上がるとともに熱放射のスペクトル分布がより短い波長に移り、このとき、比較的長い波長のときに比べて焼鈍素材が比較的短い波長であまり吸収を行なわなくなるという影響を打ち消すために、放射空洞室の内部で赤外線照射を実施し、この中で、赤外線が何度も異なる角度でガラスを通して行ったり来たりはね返されるように構成することが好ましい。放射空洞室内での赤外線照射に関しては、その開示内容が本願に包括的に取り入れられている独国実用新案出願公開第29905385号明細書を参照されたい。
【0023】
迷容量に起因する熱容量を低く保つか、又は迷容量の赤外線放射へのカップリング(Ankopplung)をできるだけ抑えることによって、迷容量の影響を最小限にすることができる。これは、炉壁の放射率が小さく保たれ、つまりは炉壁が強く反射するように形成されていることによって実現することができる。
【0024】
赤外線放射空洞室の壁面から反射された、および/または散乱された赤外線の割合は、この面に入射する光線の50%を超える値であることが好ましい。
【0025】
特に好ましいのは、壁面から反射された、および/または散乱された赤外線放射光の割合が、90%を超える値、それも特に98%を超える値となる場合である。
【0026】
加えて、赤外線放射空洞室を用いる特に有利な点は、非常に強く反射する壁材を用いることが、損失が僅かしかなくかつそれ故に高いエネルギー消費効率が保証される高いQ値の共振器を意味するという点である。
【0027】
赤外線を反射する材料として例えば一つないし複数の以下の材料;
Al2O3;BaF2;BaTiO3;CaF2;CaTiO3;
MgO・3.5Al2O3;MgO,SrF2;SiO2;
SrTiO3;TiO2;スピネル;コージエライト;
コージエライト・焼結ガラスセラミック(Cordierit−Sinterglaskeramik)
を用いることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図ならびに実施形態に基づき例を挙げて説明する。
【0029】
図1には、赤外線放射空洞室を有する本発明に係る装置が示されており、この装置を用いて本発明に係る方法を実施することができるが、本発明がこれに限定されることはないと考える。
【0030】
図1に示された加熱装置は、反射器3の下側に配置された複数の赤外線放射器1を備えている。反射器3によって、応力緩和のために昇温ないし冷却すべきガラス5、特にブラウン管のガラス製漏斗状部が上側から加熱される。赤外線放射器から放射された赤外線は、この波長領域では大半が透明となるガラス5を通り抜け、強く反射ないし強く散乱する材料からなる保持プレート7上に入射する。この目的に特に適しているのは、焼結石英ガラス(Quarzal)であり、この焼結石英ガラスも、赤外線領域における約90%の入射光線を反射する。この焼結石英ガラスの代わりに、焼結された純粋なAl2O3も用いることが可能であると考えられ、Al2O3は、十分な厚さがあれば約98%の反射率を有する。上記保持プレート7上に例えば焼結石英ガラス帯板ないしAl2O3帯板9を用いてガラス5が載置されている。ガラス下側の温度は、保持プレート内の穴部11を通してパイロメータ13によって測ることができる。測定された温度は、開ループ制御ユニット/閉ループ制御ユニット15に伝達される。この開ループ制御ユニット/閉ループ制御ユニット15は、さらにまた赤外線放射器1を有する加熱装置を制御する。赤外線放射器1は、色温度が2000℃から3000℃の短波長の赤外線放射器とされていることが好ましい。
【0031】
壁部10は、例えば焼結石英ガラスないしAl2O3等の反射材料を用いて適切に構成されて、反射器3及び保持プレート7とともにQ値の高い一つの赤外線放射空洞室を形成している。
【0032】
赤外領域において高い反射率を有する壁部材料、例えば、近赤外領域において98%を超える反射率を有する、Morgan Martoc(モルガン・マルトック)社(Troisdorf(トロイスドルフ)在)のAl2O3 Sintox Al の反射率曲線が図2に示されている。
【0033】
以下に、本発明の方法を実施例に基づきより詳細に説明する。
【0034】
〔実施例1〕
従来通りのやり方で、電気式マッフル(Elektromuffeln)による処理サイクルを用いてブラウン管漏斗形状部1Vを応力緩和した。
【0035】
応力緩和は五つの工程に分けられ、その温度変化が図3に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に550℃まで昇温
工程2:56秒間550℃で維持
工程3:56秒以内に525℃まで冷却
工程4:56秒以内に500℃まで冷却
工程5:56秒以内に485℃まで冷却
全行程に280秒要する。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(略長方形とされたブラウン管正面から見て長辺方向に中心を通る軸)(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)15°F、放物線部(Parabel)29°F
小軸(略長方形とされたブラウン管正面から見て短辺方向に中心を通る軸)(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)21°F、放物線部(Parabel)26°F
であった。
【0036】
〔実施例2〕
遅延時間が少ない赤外線放射素子を有する加熱装置を用いながら理想的な処理サイクルによってブラウン管漏斗形状部39Vを応力緩和した。
【0037】
応力緩和は三つの工程に分けられ、その温度変化が図4に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に560℃まで昇温
工程2:30秒間560℃で維持
工程3:85秒以内に450℃まで冷却
全行程に171秒要する。この経過時間は、加熱素子としての赤外線放射器を使わない実施例1による従来の工程の経過時間に対して、約40%程短縮されている。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)16°F、放物線部(Parabel)13°F
小軸(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)20°F、放物線部(Parabel)23°F
であった。
【0038】
〔実施例3〕
遅延時間が少ない赤外線放射素子を有する加熱装置を用いながら理想的な処理サイクルによってブラウン管漏斗形状部52Vを応力緩和した。加えて、温度を上げる際ならびに温度を一定に保つ際、赤外線炉の上側の開いている部分を閉鎖した。この処置によって、ネック部に沿って炉室を通る冷たい空気の対流が阻止される。これにより、炉内の一層優れた温度均一性が得られた。冷却時には、十分な冷却速度を保証するために、再び閉鎖を解除した。
【0039】
応力緩和は三つの工程に分けられ、その温度変化が図5に与えられている。
開始温度:365℃
工程1:56秒以内に560℃まで昇温
工程2:30秒間560℃で維持
工程3:85秒以内に450℃まで冷却
全行程に171秒要する。この経過時間は、加熱素子としての赤外線放射器を使わない実施例1による従来の工程の経過時間に対して、約40%程短縮されている。
得られたフリーデル値(Friedelwert)は;
大軸(Grosse Achse):ネック部接続部(Halsansatz)07°F、放物線部(Parabel)12°F
小軸(Kleine Achse):ネック部接続部(Halsansatz)15°F、放物線部(Parabel)16°F
であった。
【0040】
本発明により、ガラスの応力緩和のための処理時間(Prozesszeit)を著しく短縮できる装置ならびに方法が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】放射空洞室を有する本発明に係るガラスの応力緩和のための装置を示す概略構成図である。
【図2】近赤外線領域において98%を超える反射率を有するAl2O3、Morgan Matroc 社(Troisdorf 在)製の Sintox Al の波長に関する反射率曲線を示す図である。
【図3】従来技術によりブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【図4】赤外線放射空洞室内でブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【図5】赤外線放射空洞室が閉鎖されている場合の、赤外線放射空洞室内でブラウン管のガラス製漏斗状部の応力を緩和するための温度曲線を示す図である。
【符号の説明】
1・・・赤外線放射器(加熱装置、加熱素子)
3・・・反射器
5・・・ガラス
7・・・プレート
9・・・焼結石英ガラスないしAl2O3整の帯板
10・・・壁部
11・・・穴部
13・・・パイロメータ(温度センサ)
15・・・制御ユニット(制御回路)
Claims (15)
- ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部の応力緩和のための方法であって、少なくとも以下の工程、
前記応力緩和すべきガラスを開始温度T1から保持温度T2まで昇温し、
前記ガラスを期間t2にわたり該ガラスが応力緩和するまで前記保持温度T2に維持し、
常にT1>T3であるような或る温度T3まで前記ガラスを冷却し、
温度を検出するための少なくとも一つの温度センサを有する制御回路と、操作部としての加熱装置とを用いて、温度T2の維持、昇温、及び冷却を行う工程を有する方法において、
熱的な遅延時間が10秒より少ない、特に5秒より少ないような、応力緩和対象のガラスを加熱するための赤外線放射器を前記加熱装置に設けることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
高い色温度の赤外線放射器を前記加熱装置に設けることを特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法において、
前記赤外線放射器を、色温度が1500℃よりも大きい、特に2000℃よりも大きい、特に好ましくは2400℃より大きい、さらに好ましくは2700℃よりも大きい短波長の赤外線放射器とすることを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法において、
反射ないし後方散乱する境界面を有する画成された空間の中に、前記加熱装置の赤外線放射器を設けることを特徴とする方法。 - 請求項4に記載の方法において、
前記反射ないし後方散乱する境界面に、Al2O3;BaF2;BaTiO3;CaF2;CaTiO3;MgO・3.5Al2O3;MgO,SrF2;SiO2;SrTiO3;TiO2;焼結石英ガラス;スピネル;コージエライト;コージエライト・焼結ガラスセラミックの材料のうち一つ、ないしこれらの材料のうちの複数からなる混合物を含ませることを特徴とする方法。 - 請求項4または請求項5に記載の方法において、
前記画成された空間を赤外線放射空洞室とすることを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の方法において、
前記昇温時間を90秒より少なく、好ましくは60秒より少なくし、前記温度T2を600℃より低くすることを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法において、
前記温度T2での維持時間を60秒より少なく、好ましくは40秒より少なくすることを特徴とする方法。 - 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法において、
前記冷却時間を120秒より少なく、好ましくは90秒より少なくし、前記温度T3を350℃より高く、好ましくは500℃より高くすることを特徴とする方法。 - ガラス、特にブラウン管のガラス製漏斗状部の応力緩和のための装置であって、少なくとも、
加熱装置と、
温度センサと、
検出された温度と予め設定された温度プログラムとに基づいて前記加熱装置を制御するための開ループ制御/閉ループ制御装置とを備えている装置において、
前記加熱装置は、熱的な遅延時間が10秒より少ない、特に5秒より少ないような、応力緩和対象のガラスを加熱するための赤外線放射器を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項10に記載の装置において、
前記加熱装置は、高い色温度の赤外線放射器を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記赤外線放射器は、色温度が1500℃よりも大きい、特に2000℃よりも大きい、特に好ましくは2400℃より大きい、さらに好ましくは2700℃よりも大きい短波長の赤外線放射器とされていることを特徴とする装置。 - 請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の装置において、
前記加熱装置の赤外線放射器は、反射ないし後方散乱する境界面を有する画成された空間の中に設けられていることを特徴とする装置。 - 請求項13に記載の装置において、
前記反射ないし後方散乱する境界面は、Al2O3;BaF2;BaTiO3;CaF2;CaTiO3;MgO・3.5Al2O3;MgO,SrF2;SiO2;SrTiO3;TiO2;焼結石英ガラス;スピネル;コージエライト;コージエライト・焼結ガラスセラミックの材料のうち一つ、ないしこれらの材料のうちの複数からなる混合物を含んでいることを特徴とする装置。 - 請求項13または請求項14に記載の装置において、
前記画成された空間は、赤外線放射空洞室とされていることを特徴とする装置。
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