JP2004361493A - カラーフィルタ基板の製造方法及びその製造装置、エレクトロルミネッセンス基板の製造方法及びその製造装置、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基材上に異物が付着することを防止できるカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法である。この製造方法は、液状フィルタ材料を記録ヘッド２１３に含まれるインクジェットヘッドノズルから基材２へ液滴として吐出する工程を有する。この工程では、基材２を鉛直又はほぼ鉛直に配置した状態で液滴を吐出する。この製造装置２０１は、好ましくは、上から下へ矢印Ｅのように流れる気流によって部屋内を清潔な環境に保持するクリーンルーム内に設置される。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示を行う際に用いられるカラーフィルタ基板の製造方法及びその製造装置に関する。また本発明は、基板上に発光要素が形成されて成る構造体であるエレクトロルミネッセンス基板の製造方法及びその製造装置に関する。また本発明は、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置を製造するための製造方法に関する。また本発明は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等といった電子機器を製造するための製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器に、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するために電気光学装置が用いられている。
【０００３】
電気光学装置として液晶装置を考えた場合、その液晶装置によってカラー表示を行うときには、その液晶装置の内部にカラーフィルタ基板が設けられる。カラーフィルタ基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上にカラーフィルタを形成することによって作製される。カラーフィルタとは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のフィルタ要素や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色のフィルタ要素を平面内に所定の配列で並べることによって形成された光学要素である。
【０００４】
電気光学装置としてエレクトロルミネッセンス装置を考えた場合、このエレクトロルミネッセンス装置の内部には、一般に、エレクトロルミネッセンス基板が設けられる。そして、このエレクトロルミネッセンス基板は、例えば、透光性のガラス等によって形成された基材上に、複数の発光要素をマトリクス状に配列することによって形成される。
【０００５】
ところで、基材上にカラーフィルタを形成してカラーフィルタ基板を作製する際、すなわち、基材上に複数のフィルタ要素を形成する際に、従来、インクジェット技術を利用して基材上にフィルタ要素の材料を供給する方法が知られている。この方法によれば、ノズル等といった液滴吐出部からフィルタ材料が液滴として基材上へ吐出される（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−３７２６１４（第３頁、図１）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来のカラーフィルタ基板の製造方法においては、液滴が吐出される機材は水平に置かれ、ノズルを有する記録ヘッドが水平面内で平行移動するようになっていた。このように基材が水平に置かれると、埃、その他の異物が基材に付着し易いという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、基材上に異物が付着することを防止できるカラーフィルタ基板の製造方法及びその製造装置、エレクトロルミネッセンス基板の製造方法及びその製造装置、電気光学装置の製造方法、並びに電子機器の製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、該工程では、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に配置した状態で前記液滴を吐出することを特徴とする。
【００１０】
上記構成において、「基材」は、例えば、透光性のガラスや透光性のプラスチック等によって形成される。また、「フィルタ材料」は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）やＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）の色を有する材料によって構成される。このフィルタ材料の材質は特別のものに限定されないが、例えば、レジン等の透明材を主体とする各色顔料と、エチレングリコール等といったグリコール系の溶媒とから成る液状物とすることができる。また、顔料、界面活性剤及び溶媒によって構成される固形分を適宜の溶媒に溶かすことによって構成された液状物とすることもできる。
【００１１】
また、「フィルタ材料を液滴として吐出する工程」は、液滴吐出技術いわゆるインクジェット技術によって実現できる。このインクジェット技術は、例えば、インク貯留室に圧電素子及びノズルを付設し、圧電素子の振動によるインク貯留室の体積変化に応じてノズルからインク、すなわち液状物を液滴として吐出する技術であることが望ましい。また、インクジェット技術は、例えば、インク貯留室内に貯留されたインクを加熱によって膨張させることによりノズルからインクを液滴として吐出する技術とすることもできる。また、「液滴吐出部」は、例えば、インクジェットヘッドのノズルのような微細な開口によって構成される。
【００１２】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、基材が鉛直又はほぼ鉛直に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。なお、従来のスピンコートでは、基材を鉛直に立てることができなかったが、液滴吐出技術を用いた本発明によれば、基材を鉛直に立てた状態でその基材に対して液滴の吐出を行うことができる。
【００１３】
次に、本発明に係る他のカラーフィルタ基板の製造方法は、基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、該工程では、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けることを特徴とする。この製造方法において、上記の製造方法と同じ名称の構成要素は同じ機能を奏するものであるので、その説明は省略する。
【００１４】
このカラーフィルタ基板の製造方法によれば、基材が鉛直に対して角度略±５°傾いた状態に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。本発明者の実験によれば、鉛直に対する基板の傾斜角度が５°以内であると、当該基板に対する異物の付着量を大幅に低減できることが分かった。
【００１５】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記液滴吐出部からの液滴の吐出方向を前記基材の法線方向又はほぼ法線方向に設定した状態で、前記液滴を吐出することが好ましい。こうすれば、基材に対する液滴の着弾位置の制御が容易になる。
【００１６】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記基材の帯電電位と反対電位のイオンを該基材に供給することが好ましい。こうすれば、基材の帯電を除電できるので、静電気による異物の基材への付着を防止できる。また、この場合、イオンは、前記基材の液滴吐出部に対向しない側から供給されることが好ましい。こうすれば、基材へ十分な量のイオンを供給でき、しかも、イオンを供給する手段の存在によって液滴吐出部の動きが邪魔されることもない。
【００１７】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記基材は上下方向の気流が存在する部屋の中に置かれることが好ましい。半導体装置等といった精細な構造から成る電子部品を製造する環境として、いわゆるクリーンルームが知られている。このクリーンルームでは、例えば、上下方向へ流れる気流によって異物を回収してルーム内を異物の存在しない雰囲気に保持する。このように、気流が上下方向に流れる環境下では基材を水平に置いておくと、その基材上に異物が載り易い。これに対し、本発明のように基材を鉛直等に配置しておけば、その基材上に異物が載ることを大幅に低減できる。
【００１８】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記気流の前記基材より上流側には、防塵フィルタが配置されていることが好ましい。上記のように、クリーンルームでは上下方向に気流が流れているが、基材の上流に配置されている防塵フィルタが異物を回収するので、基材上に異物が載ることを更に低減できる。
【００１９】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記液滴吐出部は、圧電素子を用いたインクジェットヘッドであることが好ましい。また、上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記液滴吐出部は、熱エネルギーによって発生する気泡により液状フィルタ材料を吐出するインクジェットヘッドであることが好ましい。
【００２０】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造装置は、基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造装置において、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に支持する基材支持手段と、液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段とを有することを特徴とする。
【００２１】
上記の「基材支持手段」は、基材を鉛直又はほぼ鉛直に支持できるあらゆる構造を採用できるが、例えば、基材よりも少し大きい面積の板状部材であるベースに基材を面接触させた状態で空気吸引によって基材をベース上に吸着して固定する構造や、ベースに基材を面接触させた状態で適宜の機械的なクランプ機構によって基材をベース上に固定する構造や、適宜の接着剤によって基材をベース上に固定する構造等が考えられる。
【００２２】
また、「液滴吐出手段」は、液状物を液滴として吐出することができる任意の構造の吐出装置を用いることができる。例えば、圧電素子の振動によって液体室の体積を変化させることによって吐出する構造や、液体室内の液状物を加熱及び冷却によって膨張及び収縮させることによって吐出する構造等を用いることができる。また、「液滴吐出部」は、ノズル等といった微細な開口によって構成できる。また、「走査移動手段」は、例えば、基材を支持した部材を互いに直交する２方向へ平行移動させることのできる任意の構造によって構成できる。このような構造としては、いわゆるＸ−Ｙテーブルと呼ばれる面内平行移動機構を採用できる。
【００２３】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造装置によれば、基材が鉛直又はほぼ鉛直に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。なお、従来のスピンコートでは、基材を鉛直に立てることができなかったが、液滴吐出技術を用いた本発明によれば、基材を鉛直に立てた状態でその基材に対して液滴の吐出を行うことができる。
【００２４】
次に、本発明に係る他のカラーフィルタ基板の製造装置は、基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造装置において、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けて支持する基材支持手段と、液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段とを有することを特徴とする。この製造装置において、上記の製造装置と同じ名称の構成要素は同じ機能を奏するものであるので、その説明は省略する。
【００２５】
このカラーフィルタ基板の製造装置によれば、基材が鉛直に対して角度略±５°傾いた状態に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。本発明者の実験によれば、鉛直に対する基板の傾斜角度が５°以内であると、当該基板に対する異物の付着量を大幅に低減できることが分かった。
【００２６】
次に、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、該工程では、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に配置した状態で前記液滴を吐出することを特徴とする。
【００２７】
上記構成において、「基材」は、例えば、透光性のガラスや透光性のプラスチック等によって形成される。また、「発光要素」とは、エレクトロルミネッセンス装置で用いられる電気光学物質のことであり、電界の印加に応じてＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）等といった３原色の各色で発光する物質のことである。
【００２８】
また、「発光要素の材料を液滴として吐出する工程」は、液滴吐出技術いわゆるインクジェット技術によって実現できる。このインクジェット技術は、例えば、インク貯留室に圧電素子及びノズルを付設し、圧電素子の振動によるインク貯留室の体積変化に応じてノズルからインク、すなわち液状物を液滴として吐出する技術であることが望ましい。また、インクジェット技術は、例えば、インク貯留室内に貯留されたインクを加熱によって膨張させることによりノズルからインクを液滴として吐出する技術とすることもできる。また、「液滴吐出部」は、例えば、インクジェットヘッドのノズルのような微細な開口によって構成される。
【００２９】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によれば、基材が鉛直又はほぼ鉛直に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。なお、従来のスピンコートでは、基材を鉛直に立てることができなかったが、液滴吐出技術を用いた本発明によれば、基材を鉛直に立てた状態でその基材に対して液滴の吐出を行うことができる。
【００３０】
次に、本発明に係る他のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、該工程では、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けることを特徴とする。この製造方法において、上記の製造方法と同じ名称の構成要素は同じ機能を奏するものであるので、その説明は省略する。
【００３１】
このエレクトロルミネッセンス基板の製造方法によれば、基材が鉛直に対して角度略±５°傾いた状態に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。本発明者の実験によれば、鉛直に対する基板の傾斜角度が５°以内であると、当該基板に対する異物の付着量を大幅に低減できることが分かった。
【００３２】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法においては、前記液滴吐出部からの液滴の吐出方向を前記基材の法線方向又はほぼ法線方向に設定した状態で、前記液滴を吐出することが好ましい。こうすれば、基材に対する液滴の着弾位置の制御が容易になる。
【００３３】
また、上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法においては、前記基材の帯電電位と反対電位のイオンを該基材に供給することが好ましい。こうすれば、基材の帯電を除電できるので、静電気による異物の基材への付着を防止できる。また、この場合、イオンは、前記基材の前記液滴吐出部に対向しない側から供給されることが好ましい。こうすれば、基材へ十分な量のイオンを供給でき、しかも、イオンを供給する手段の存在によって液滴吐出部の動きが邪魔されることもない。
【００３４】
また、上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記基材は上下方向の気流が存在する部屋の中に置かれることが好ましい。半導体装置等といった精細な構造から成る電子部品を製造する環境として、いわゆるクリーンルームが知られている。このクリーンルームでは、例えば、上下方向へ流れる気流によって異物を回収してルーム内を異物の存在しない雰囲気に保持する。このように、気流が上下方向に流れる環境下では基材を水平に置いておくと、その基材上に異物が載り易い。これに対し、本発明のように基材を鉛直等に配置しておけば、その基材上に異物が載ることを大幅に低減できる。
【００３５】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記気流の前記基材より上流側には、防塵フィルタが配置されていることが好ましい。上記のように、クリーンルームでは上下方向に気流が流れているが、基材の上流に配置されている防塵フィルタが異物を回収するので、基材上に異物が載ることを更に低減できる。
【００３６】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記液滴吐出部は、圧電素子を用いたインクジェットヘッドであることが好ましい。また、上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記液滴吐出部は、熱エネルギーによって発生する気泡により材料を吐出するインクジェットヘッドであることが好ましい。
【００３７】
次に、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造装置は、基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造装置において、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に支持する基材支持手段と、前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段とを有することを特徴とする。
【００３８】
上記の「基材支持手段」、「液滴吐出手段」、「液滴吐出部」、「走査移動手段」等の各構成要素は、上述した本発明に係るカラーフィルタ基板の製造装置で用いる同じ名称の構成要素と同じ機能を奏するので、ここでの説明は省略する。
【００３９】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板の製造装置によれば、基材が鉛直又はほぼ鉛直に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。なお、従来のスピンコートでは、基材を鉛直に立てることができなかったが、液滴吐出技術を用いた本発明によれば、基材を鉛直に立てた状態でその基材に対して液滴の吐出を行うことができる。
【００４０】
次に、本発明に係る他のエレクトロルミネッセンス基板の製造装置は、基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造装置において、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けて支持する基材支持手段と、前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段とを有することを特徴とする。この製造装置において、上記の製造装置と同じ名称の構成要素は同じ機能を奏するものであるので、その説明は省略する。
【００４１】
このエレクトロルミネッセンス基板の製造装置によれば、基材が鉛直に対して角度０°〜±５°傾いた状態に配置されるので、当該基材上に埃等といった異物が載ることを防止でき、従って、当該基材上に異物が付着することを防止できる。本発明者の実験によれば、鉛直に対する基板の傾斜角度が５°以内であると、当該基板に対する異物の付着量を大幅に低減できることが分かった。
【００４２】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、カラーフィルタ基板上に電気光学物質層が形成されて成る電気光学装置を製造するための製造方法において、以上に記載したカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。
【００４３】
この製造方法で用いる電気光学物質は、例えば液晶層であり、液晶層を用いた電気光学装置は液晶装置である。液晶装置でカラーフィルタ基板を用いれば、カラー表示を行うことができる。本発明の電気光学装置の製造方法では、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法を用いるので、カラーフィルタ基板で用いられる基材上に異物が付着することを防止でき、それ故、高品位のカラー表示を行うことができる。
【００４４】
次に、本発明に係る他の電気光学装置の製造方法は、エレクトロルミネッセンス基板上に電極が形成されて成る電気光学装置を製造するための製造方法において、以上に記載したエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。
【００４５】
この製造方法で用いる電気光学物質は、例えばエレクトロルミネッセンス発光要素であり、この発光要素を用いた電気光学装置はエレクトロルミネッセンス装置である。このエレクトロルミネッセンス装置において、発光要素としてＲ，Ｇ，Ｂの３原色に対応する発光要素を使用すれば、カラー表示を行うことができる。本発明の電気光学装置の製造方法では、本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を用いるので、エレクトロルミネッセンス基板で用いられる基材上に異物が付着することを防止でき、それ故、高品位のカラー表示を行うことができる。
【００４６】
次に、本発明に係る電子機器の製造方法は、電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有する電子機器を製造するための製造方法において、以上に記載した電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ、デジタルカメラ、その他種々の機器が考えられる。
【００４７】
本発明に係る電気光学装置の製造方法によれば、電気光学装置の内部に異物が含まれることを防止でき、高品位のカラー表示を提供できる。従って、その電気光学装置の製造方法を用いて達成される本発明の電子機器の製造方法によれば、高品位の表示部を有する電子機器を製造することができる。
【００４８】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタ基板の製造方法及びその製造装置の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法及びその製造装置を一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これから説明するカラーフィルタ基板の製造方法は、図８（ｋ）に示すカラーフィルタ基板１を製造するものとする。
【００４９】
カラーフィルタ基板の製造方法の説明に先立って、まず、その製造方法を実現できる製造装置について説明する。図１は、そのようなカラーフィルタ基板の製造装置の一例を示している。この製造装置２０１は、フィルタ形成部２０２と、フィルタ材料供給部２０３とを有する。フィルタ形成部２０２は、ベース２０６と、このベース２０６上に設置されたＸ方向駆動系２０７ｘと、同じくベース２０６上に設置されたＹ方向駆動系２０７ｙとを有する。
【００５０】
製造装置２０１はクリーンルーム内に設置される。クリーンルームは、一般に、半導体装置等といった精細な電子部品を製造する際に使用される部屋であって、例えば矢印Ｅで示すように上から下へ気流が流れ、この気流によって埃等といった異物を回収することにより、部屋内をきれいな環境に維持するようになっている。
【００５１】
Ｘ方向駆動系２０７ｘは、駆動モータ２１１と、その駆動モータ２１１によって駆動されて自身の中心軸線を中心として回転するネジ軸２１２とを有する。ネジ軸２１２には、記録ヘッド２１３がネジ嵌合している。駆動モータ２１１が作動してネジ軸２１２が正時計回転又は反時計回転すると、それにネジ嵌合する記録ヘッド２１３が矢印Ｘ方向で往復移動する。
【００５２】
Ｙ方向駆動系２０７ｙは、ベース２０６上に固定されたネジ軸２１６と、そのネジ軸２１６に嵌合する嵌合部材を回転駆動する駆動モータ２１７と、この駆動モータ２１７に固定されたステージ２１８とを有する。ステージ２１８は、フィルタ形成処理を受けるカラーフィルタ基板の基材２を支持するための基材支持手段として機能する。この基材２はステージ２１８上に載せられた上、容易には位置ズレしないように、例えば、空気吸引によって吸着固定されたり、適宜の機械的なクランプ機構によって固定されたりする。Ｙ方向モータ２１７が作動して上記の嵌合部材が正時計回転又は反時計回転すると、ステージ２１８がネジ軸２１６にガイドされて矢印Ｙ方向で往復移動する。Ｙ方向は上記のＸ方向に直角の方向である。
【００５３】
ステージ２１８は鉛直、すなわち水平に対して直角、又はほぼ鉛直に配置されている。「ほぼ鉛直」とは、実質的に鉛直と変わりない程度の微小なバラツキ角度を含む意味である。このように、ステージ２１８を鉛直又はほぼ鉛直に配置することにより、それに支持される基材２も鉛直又はほぼ鉛直に配置されることになる。
【００５４】
Ｙ方向駆動系２０７ｙを構成するネジ軸２１６上にはクリーニング装置２０８が配設され、このクリーニング装置２０８と一体なモータ２０９の出力軸がネジ軸２１６にネジ嵌合している。モータ２０９を作動させてクリーニング装置２０８を記録ヘッド２１３の所まで搬送すれば、このクリーニング装置２０８によって記録ヘッド２１３をクリーニングすることができる。
【００５５】
ステージ２１８の裏面に対向するベース２０６の表面にイオン供給手段としてのイオナイザー２１９が固定配置されている。このイオナイザー２１９の構造は周知であるので詳しい説明は省略するが、このイオナイザー２１９は、ステージ２１８に支持されている基材２の帯電電位と反対の電位を有するイオンを発生する機能及び発生したそのイオンをステージ２１８へ供給する機能を有する。イオンをステージ２１８に供給する機能を確実に達成するため、イオナイザー２１９は、発生したイオンをステージ２１８へ向けて流すための送風装置、例えば、回転ファンを備えた送風装置を有することが望ましい。
【００５６】
このイオナイザー２１９によってステージ２１８へイオンを供給することにより、基材２が帯電することを防止でき、あるいは、帯電した基材２を除電でき、その結果、静電気の作用によって基材２へ異物が付着することを防止できる。なお、本実施形態のイオナイザー２１９は、基材２の記録ヘッド２１３に対向しない側からイオンを供給するように構成されているので、基材２へ十分な量のイオンを供給でき、しかも、イオナイザー２１９の存在によって記録ヘッド２１３の動きが邪魔されることもない。
【００５７】
フィルタ材料供給部２０３にはフィルタ材料を貯留した容器２２２が配置される。そして、容器２２２と記録ヘッド２１３とはパイプ２２３によってつながっている。このパイプ２２３を通して、容器２２２内の液状物、すなわちフィルタ材料が記録ヘッド２１３内へ供給される。
【００５８】
なお、本実施形態においてＲ，Ｇ，Ｂの３色によってカラーフィルタを形成する場合には、製造装置２０１がＲ色用、Ｇ色用、Ｂ色用の３種類用意されて、それらが別々の場所に設置され、個々の製造装置２０１の容器２２２の中にはＲ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色のフィルタ材料が１色ずつ収容される。
【００５９】
図１のフィルタ形成部２０２を構成する記録ヘッド２１３の底面には、例えば図３に示すようなインクジェットヘッド２２が１つ又は複数設けられている。このインクジェットヘッド２２は、ほぼ長方形状のケーシング２０を有し、そのケーシング２０の底面には複数のノズル２７が設けられている。これらのノズル２７は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。
【００６０】
本実施形態では、複数のノズル２７は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列２８，２８が形成されている。個々のノズル列２８において、ノズル２７は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列２８には、矢印Ｂで示す方向から液状物、すなわちフィルタ材料が供給される。供給されたフィルタ材料は圧電素子の振動に従って各ノズル２７から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列２８の個数は、１本又は３本以上であっても良い。
【００６１】
インクジェットヘッド２２は、図４に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向して配置された振動板３１と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材３２とを有する。また、ノズルプレート２９と振動板３１との間には、フィルタ材料を貯留するための複数の貯留室３３と、フィルタ材料が一時的に溜る個所である液溜り３４とが、各仕切り部材３２によって形成されている。さらに、複数の貯留室３３と液溜り３４とが通路３８を介して互いに連通している。また、振動板３１の適所にフィルタ材料の供給孔３６が形成されており、この供給孔３６に図１のパイプ２２３を介して容器２２２が接続されている。容器２２２から供給されたフィルタ材料Ｍ０は、液溜り３４に充填され、さらに、通路３８を通って貯留室３３に充填される。
【００６２】
インクジェットヘッド２２の一部を構成するノズルプレート２９には、フィルタ材料を貯留室３３からジェット状に噴射するためのノズル２７が設けられている。このノズル２７が複数個並べられてノズル列２８を構成することは図３に関連して既述した通りである。また、振動板３１において貯留室３３に対応する面にはフィルタ材料を加圧するための加圧体３９が取り付けられている。この加圧体３９は、図５に示すように、圧電素子４１及びこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有している。
【００６３】
圧電素子４１は、電極４２ａ及び４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室３３の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室３３の容積が増大すると、その増大した容積分に相当するフィルタ材料Ｍ０が液溜り３４から通路３８を通って貯留室３３内へ流入する。
【００６４】
一方、圧電素子４１への通電を解除すると、圧電素子４１と振動板３１とが共に元の形状に戻り、貯留室３３も元の容積に戻る。そのため、貯留室３３の内部にあるフィルタ材料の圧力が上昇し、ノズル２７からフィルタ材料が液滴８となって吐出される。なお、液滴８は、フィルタ材料に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル２７から安定して吐出される。
【００６５】
カラーフィルタ基板の製造装置２０１は、図２に示す制御装置９０を有する。この制御装置９０は、図１のフィルタ形成部２０２内のＸ方向モータ２１１、Ｙ方向モータ２１７及び記録ヘッド２１３の各要素の動作を制御する。なお、製造装置２０１は、図１のクリーニング用モータ２０９の動作を制御する制御部も有するが、その制御部についての詳しい説明は省略する。
【００６６】
制御装置９０は、コンピュータによって構成された駆動信号制御部９１と、コンピュータによって構成されたヘッド位置制御部９２とを有する。これらの制御部は信号線９７を通して互いに情報を共有できるようになっている。駆動信号制御部９１は、記録ヘッド２１３を駆動するための波形Ｓ０をアナログアンプ９３へ出力する。また、駆動信号制御部９１は、フィルタ材料をいずれの位置に吐出するかを示すビットマップデータＳ１をタイミング制御部９４へ出力する。
【００６７】
アナログアンプ９３は、上記の波形Ｓ０を増幅して中継回路９５へ伝送する。タイミング制御部９４は、クロックパルス回路を内蔵し、上記のビットマップデータＳ１に従って吐出タイミング信号Ｓ２を中継回路９５へ出力する。中継回路９５は、タイミング制御部９４から送られた吐出タイミング信号Ｓ２に従って、アナログアンプ９３から送られた波形Ｓ０を記録ヘッド２１３の入力ポートへ出力する。
【００６８】
ヘッド位置制御部９２は、Ｘ−Ｙ制御回路９６へ記録ヘッド２１３の位置に関する情報Ｓ３を出力する。Ｘ−Ｙ制御回路９６は、送られてきた記録ヘッド２１３の位置情報Ｓ３に基づいて、Ｘ方向における記録ヘッド２１３の位置を制御する信号をＸ方向モータ２１１に対して出力し、さらに、Ｙ方向におけるステージ２１８の位置を制御する信号をＹ方向モータ２１７に対して出力する。
【００６９】
駆動信号制御部９１及びヘッド位置制御部９２に関する以上の構成により、記録ヘッド２１３は、ステージ２１８に載置された基材２の希望の座標位置が到来したときにフィルタ材料を液滴として吐出し、これにより、基材２上の希望位置にフィルタ材料の液滴が着弾して塗布される。
【００７０】
次に、図３に示したインクジェットヘッド２２を用いて行われる、カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。図６〜図８はその製造方法を構成する各工程を工程順に示している。また、図８（ｋ）が目標とするカラーフィルタ基板１を示している。
【００７１】
まず、図６（ａ）において、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された基材２の上に、遮光層３を形成する材料として、クロム、ニッケル、アルミニウム等を材料として、例えばドライメッキ法を用いて金属薄膜３ａを形成する。この場合、金属薄膜３ａの厚さは、０．１〜０．５μｍ程度であることが望ましい。
【００７２】
次に、図６（ｂ）において、感光性樹脂であるレジスト７ａを一様な厚さで塗布し、そのレジスト７ａをマスクを介して露光し、さらに現像して、レジスト７ａを所定のパターンに形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして金属薄膜３ａをエッチングして、図６（ｃ）に示すように、所定形状、本実施形態では矢印Ａ方向から見て格子形状の遮光層３を形成する。
【００７３】
次に、図６（ｄ）において、遮光層３の上に、感光性樹脂４ａを一様な厚さで形成し、これにフォトリソグラフィ処理を施して図７（ｅ）に示すように所定パターンのバンク４を遮光層３と同じ形状、すなわち格子形状に形成する。このとき、バンク４の高さは１．０μｍ程度に形成するのが望ましい。バンク４は、基材２の表面を、液滴を吐出するための領域に区分けする区分け要素として作用する。
【００７４】
こうしてバンク４を形成することにより、基材２上にそのバンク４によって区分けされた複数の表示用ドット領域６が形成される。バンク４が格子形状であることにより、これら複数の表示用ドット領域６は、矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことになる。バンク４としては、特に黒色のものを用いる必要はなく、例えば、ウレタン系又はアクリル系の硬化型の感光性樹脂組成物を用いることができる。
【００７５】
なお、バンク４は表示用ドット領域６内にフィルタ材料を収容することが主な役割であり、このバンク４の表面にフィルタ材料が付着することは好ましくない。従って、バンク４の材質としては、フィルタ材料をはじく性質を有するもの、すなわち撥液性を有するものであることが望ましい。この意味からバンク４は、フッ素系樹脂、シリコン樹脂、又は、チタニア含有樹脂等によって形成されることが好ましい。
【００７６】
以上のように基材２上にバンク４が形成された後、その基材２を図１においてステージ２１８上の所定位置に載置する。そして、Ｘ方向駆動系２０７ｘ及びＹ方向駆動系２０７ｙを作動させると共に、図４の加圧体３９を作動させることにより、以下のようなカラーフィルタ形成処理を行う。なお、本実施形態では、図９（ａ）で示すようにＧ色フィルタ要素９ｇ、Ｒ色フィルタ要素９ｒ及びＢ色フィルタ要素９ｂをストライプ配列に形成するものとする。ここで、ストライプ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。
【００７７】
図９では、ストライプ配列の他に、図９（ｂ）にモザイク配列を示し、図９（ｃ）にデルタ配列を示している。モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。また、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。ストライプ配列に代えて、モザイク配列やデルタ配列を採用することもできる。
【００７８】
カラーフィルタの形成処理工程に入ると、まず、図７（ｆ）において、Ｇ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｇ内へ、図３に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｇ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。この液滴吐出は１つの表示用ドット領域に対して複数回行われ、合計の吐出量Ａｇは、予め、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多くなるように設定されている。従って、供給されたＧ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＧ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図７（ｇ）に示すように、Ｇ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＧ色フィルタ要素９ｇを形成する。
【００７９】
次に、図７（ｈ）において、Ｒ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｒ内へ、図３に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｒ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの合計の吐出量Ａｒも、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｒの容積より多くなるように設定され、供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＲ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図８（ｉ）に示すように、Ｒ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＲ色フィルタ要素９ｒを形成する。
【００８０】
次に、図８（ｊ）において、Ｂ色のフィルタ要素を形成すべき表示用ドット領域６ｂ内へ、図３に示したインクジェットヘッド２２を用いて、Ｂ色フィルタ材料を液滴８として吐出する。このときの合計の吐出量Ａｂも、バンク４の高さによって規定される表示用ドット領域６ｂの容積より多くなるように設定され、供給されたＲ色フィルタ材料はバンク４よりも上方へ突出する。次に、５０℃、１０分程度の加熱処理によってプレベークを行ってＢ色フィルタ材料内の溶剤を蒸発させて、図８（ｋ）に示すように、Ｂ色フィルタ材料の表面を平坦化させてＢ色フィルタ要素９ｂを形成する。
【００８１】
その後、例えば、２３０℃、３０分程度の加熱によってアフターベークを行って、フィルタ要素を硬化させることにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂを所定の配列、例えば図９（ａ）のストライプ配列に並べて成るカラーフィルタが形成される。また、同時に、基材２とカラーフィルタとから成るカラーフィルタ基板１が形成される。
【００８２】
本実施形態では、図１に示すように、ステージ２１８が鉛直状態に設置されるので、それに支持される基材２も鉛直状態に保持され、その基材２に記録ヘッド２１３からフィルタ材料が液滴として吐出される。製造装置２０１は矢印Ｅのように上から下へ流れる気流の中に置かれるので、基材２が水平状態に置かれると、埃等といった異物がその基材２の上に載り易い。こうなると、品質の高いカラーフィルタ基板を高い歩留まりで製造することが難しい。しかしがなら、本実施形態では、基材２を鉛直状態に維持するので、その表面に異物はほとんど載らない。従って、高品質のカラーフィルタ基板を高い歩留まりで製造することができる。
【００８３】
（変形例）
上記実施形態では、図１でステージ２１８を鉛直状態に配置した。これにより、基材２も鉛直状態に配置されていた。しかしながら、ステージ２１８は、鉛直に対して角度０°〜±５°傾けて配置させることもできる。本発明者の実験によれば、ステージ２１８を鉛直状態に配置すれば、基材２への異物の付着を最も有効に防止できたが、ステージ２１８の傾斜角度を鉛直に対して±５°以内の範囲に抑えておけば、異物の付着を実用上全く問題の無い程度に抑えられることが分かった。
【００８４】
上記の実施形態では、カラーフィルタを構成するフィルタ要素としてＲ，Ｇ，Ｂの３色を考えた。しかしながら、フィルタ要素としては、Ｒ，Ｇ，Ｂ以外にＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）とすることもできる。また、上記の実施形態では、フィルタ要素９ｇ，９ｒ，９ｂの配列を図９（ａ）に示すストライプ配列とした。しかしながら、これに代えて、図９（ｂ）に示すモザイク配列や、図９（ｃ）に示すデルタ配列を採用することもできる。
【００８５】
（エレクトロルミネッセンス基板の製造方法の実施形態）
以下、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を、図１６及び図１７に示したエレクトロルミネッセンス装置に用いられるエレクトロルミネッセンス基板を製造する場合を例に挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００８６】
図１１〜図１５はエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の一実施形態を工程順に示している。そして、この製造方法は、図１５（ｒ）に示すエレクトロルミネッセンス基板１００を製造することを目標とする。このエレクトロルミネッセンス基板１００を製造する場合には、まず、図１１（ａ）において、透光性の基材１０２に対して、テトラエトキシシラン（ｔｅｔｒａｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅ：ＴＥＯＳ）や酸素ガス等を原料ガスとしてプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、シリコン酸化膜から成る下地保護層（図示せず）を、望ましくは、約２，０００〜５，０００オングストロームの厚さで形成する。
【００８７】
次に、基材１０２の温度を約３５０℃に設定し、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により、非晶質のシリコン膜である半導体膜１２０ａを、約３００〜７００オングストロームの厚さで形成する。次に、半導体膜１２０ａに対して、レーザアニール又は固相成長法等といった結晶化工程を実施し、半導体膜１２０ａをポリシリコン膜に結晶化する。
【００８８】
次に、半導体膜１２０ａの上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて半導体膜１２０ａをパターニングすることによって、図１１（ｂ）に示す島状の半導体膜１２０ｂを形成する。
【００８９】
次に、半導体膜１２０ｂが形成された基材１０２の表面にＴＥＯＳや酸素ガス等を原料ガスに用いて、プラズマＣＶＤ法により、図１１（ｃ）に示すように、シリコン酸化膜あるいは窒化膜から成るゲート絶縁膜１２１ａを、望ましくは約６００〜１，５００オングストロームの厚さで形成する。なお、半導体膜１２０ｂは、カレント薄膜トランジスタ１１０（図１７参照）のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ１０９（図１７参照）のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる図示しない半導体膜も形成されている。図１１から図１５に示す製造工程では２種類のスイッチング薄膜トランジスタ及びカレント薄膜トランジスタが同時に形成されるが、それらは同じ手順で形成されるため、以下の説明では、カレント薄膜トランジスタ１１０についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタについては説明を省略する。
【００９０】
次に、図１１（ｄ）において、アルミニウムやタンタル等を材料としてスパッタリングによって導電膜１１６ａを形成する。次に、レジスト材料を塗布し、露光及び現像によってレジストマスクを形成し、そのマスクを用いて導電膜１１６ａをパターニングして、図１２（ｅ）に示すように、ゲート電極１１６を形成する。
【００９１】
この状態で、不純物、例えば高温度のリンイオンを注入し、図１２（ｆ）に示すように、ゲート電極１１６に対して自己整合的にソース・ドレイン領域１１７ａ，１１７ｂを半導体膜１２０ｂに形成する。なお、不純物が導入されなかった部分が、チャネル領域１１８となる。
【００９２】
次に、図１２（ｇ）において、層間絶縁膜１２２を形成し、その後、図１２（ｈ）においてコンタクトホール１２３，１２４を形成する。さらにその後、図１３（ｉ）に示すように、それらのコンタクトホール１２３，１２４の内部に導電材料を埋め込んで中継電極１２６，１２７を形成する。
【００９３】
次に、図１３（ｊ）に示すように、層間絶縁膜１２２の上に信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３（図１７参照）を形成する。そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜１３０を形成し、中継電極１２６に対応する位置にコンタクトホール１３２を形成する。次に、図１３（ｋ）において、コンタクトホール１３２の内部を埋めるようにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜１１１ａを形成する。次に、ＩＴＯ膜１１１ａの上にレジストを塗布し、そのレジストを露光及び現像してレジストマスクを形成し、そのマスクを用いてＩＴＯ膜１１１ａをパターニングすることにより、図１３（ｌ）に示すように、信号線１０４、共通給電線１０５及び走査線１０３に囲まれた領域に、ソース・ドレイン領域１１７ａに電気的に接続する画素電極１１１を形成する。
【００９４】
次に、図３に示したインクジェットヘッド２２を用いて、図１４（ｍ）〜図１５（ｒ）に示すようにして、基材１０２上にＥＬ発光要素を形成する。この場合には、図１４（ｍ）において信号線１０４、共通給電線１０５及び図１７の走査線１０３が区分け要素として機能して、基材１０２上に複数の表示用ドット領域６が形成される。なお、図１４（ｍ）において、Ｇ色の発光要素が形成される領域を６ｇと示し、Ｒ色の発光要素が形成される領域を６ｒと示し、さらに、Ｂ色の発光要素が形成される領域を６ｂと示すことにする。
【００９５】
まず、基材１０２の上面を上方に向けた状態で、図１６のＥＬ発光要素１１３ｇの下層部分に当る正孔注入層１１３Ａを形成するための材料Ｍ１を、図３のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。
【００９６】
このときの吐出量Ａ１ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給されたＧ色発光要素材料は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ１に含まれる溶剤を蒸発させて、図１４（ｎ）に示すように表面が平坦な正孔注入層１１３Ａを形成する。正孔注入層１１３Ａが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ１の吐出供給処理を繰り返す。
【００９７】
次に、図１４（ｏ）に示すように、基材１０２の上面を上に向けた状態で、図１６のＥＬ発光要素１１３ｇの上層部分に有機半導体膜１１３Ｂを形成するための有機半導体膜材料Ｍ２を、図３のインクジェットヘッド２２のノズル２７から液滴として吐出し、区分け要素１０３，１０４，１０５で囲まれた第１番目の領域、すなわちＧ色領域６ｇ内に選択的に供給して塗布する。有機半導体膜材料Ｍ２は、溶媒に溶かされた状態の有機蛍光材料であることが望ましい。
【００９８】
このときの吐出量Ａ２ｇは、予め、区分け要素１０３，１０４，１０５の高さによって規定される表示用ドット領域６ｇの容積よりも多く設定されており、供給された有機半導体膜材料Ｍ２は区分け要素１０３，１０４，１０５よりも上方へ突出する。次に、加熱すなわちプレベーク又は光照射等を行って材料Ｍ２に含まれる溶剤を蒸発させて、図１５（ｐ）に示すように、正孔注入層１１３Ａの上に、表面が平坦な有機半導体膜１１３Ｂを形成する。有機半導体膜１１３Ｂが希望の厚さに満たない場合は、材料Ｍ２の吐出供給処理を繰り返す。以上により、正孔注入層１１３Ａ及び有機半導体膜１１３Ｂによって、Ｇ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｇが形成される。
【００９９】
次に、図１５（ｐ）において、第２番目の表示用ドット領域であるＲ色領域６ｒに対して、図１４（ｍ）から図１５（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１５（ｑ）に示すように、Ｒ色領域６ｒの中にＲ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｒを形成する。さらに、図１５（ｑ）においてＲ色発光要素１１３ｒの形成が終了すると、次に、第３番目の表示用ドット領域であるＢ色領域６ｂに対して、図１４（ｍ）から図１５（ｐ）に示した処理を繰り返して、図１５（ｒ）に示すように、Ｂ色領域６ｒの中にＢ色を発光するＥＬ発光要素１１３ｂを形成する。
【０１００】
以上により、図１５（ｒ）において各色のＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂの形成が完了することにより、エレクトロルミネッセンス基板１００が製造される。その後、図１６に示すように、ＥＬ発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂが形成された後の基材１０２の表面全体又はストライプ領域に、例えばフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理を用いて、反射電極１１２を形成する。また、必要に応じて、その他の電子要素を付設する。これにより、エレクトロルミネッセンス装置１０１が製造される。このエレクトロルミネッセンス装置１０１では、マトリクス状に並べられた複数の表示用ドット領域６の中から希望のものを選択して、それらの画素電極１１１と反射電極１１２との間に電圧を印加することにより発光要素１１３ｇ，１１３ｒ，１１３ｂを選択的に発光させる。これにより、基材１０２側に文字、数字、図形等といった像を表示できる。
【０１０１】
本実施形態では、図１１〜図１５に至る工程を実施する際、基材１０２は図１に示したように鉛直状態に保持される。図１は発光要素の材料を記録ヘッド２１３から吐出するための装置を示しているが、基材１０２はエレクトロルミネッセンス基板の製造工程の全般にわたって鉛直状態に保持されることが好ましい。基材１０２をこのように鉛直に保持した状態でエレクトロルミネッセンス基板の製造工程を実施することにより、基材１０２上に埃等といった異物が載ることを防止でき、それ故、出来上がったエレクトロルミネッセンス基板の表面に異物が付着することを防止できる。
【０１０２】
なお、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造装置は、図１〜図５に示した液滴吐出装置２０１を含んで構成される。液滴吐出装置２０１については、既に、カラーフィルタ基板の製造装置２０１として説明したので、その説明は省略する。
【０１０３】
（電気光学装置の製造方法の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を電気光学装置の一例である液晶装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。図１０は、液晶装置の一実施形態であって、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式であり、且つ、反射型表示と透過型表示を選択的に行うことができる半透過反射型の液晶装置を示している。
【０１０４】
ここに示す液晶装置５１は、液晶パネル５２に照明装置５６及び配線基板５４を付設することによって形成されている。液晶パネル５２は、矢印Ａ方向から見て長方形状又は正方形状の第１基板５７ａと、矢印Ａ方向から見て同じく長方形状又は正方形状の第２基板５７ｂとを、矢印Ａ方向から見て環状のシール材５８によって貼り合わせることによって形成されている。
【０１０５】
第１基板５７ａと第２基板５７ｂとの間には間隙、いわゆるセルギャップが形成され、そのセルギャップ内に液晶が注入されて液晶層５５を形成している。符号６９はセルギャップを維持するためのスペーサを示している。なお、観察者は矢印Ａ方向から液晶装置５１を観察する。
【０１０６】
第１基板５７ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材６１ａを有する。この第１基材６１ａの液晶側の表面には、反射膜６２が形成され、その上に絶縁膜６３が形成され、その上に第１電極６４ａが形成され、その上に配向膜６６ａが形成されている。また、第１基材６１ａの照明装置５６側の表面には第１偏光板６７ａが、例えば貼着によって装着されている。
【０１０７】
第１基板５７ａに対向する第２基板５７ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材６１ｂを有する。この第２基材６１ｂの液晶側の表面には、カラーフィルタ６８が形成され、その上に第２電極６４ｂが形成され、その上に配向膜６６ｂが形成されている。また、第２基材６１ｂの外側の表面には第２偏光板６７ｂが、例えば貼着によって装着されている。
【０１０８】
第１基板５７ａ側の第１電極６４ａは図１０の左右方向へ延びる線状電極である。また、第１電極６４ａは複数本形成されていて、それらは紙面垂直方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第１電極６４ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
【０１０９】
また、第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、図１０の紙面垂直方向に延びる線状電極である。また、第２電極６４ｂは複数本形成されていて、それらは図１０の左右方向へ互いに平行に並べられている。つまり、複数の第２電極６４ｂは、第１電極６４ａに直交する方向へ延びるストライプ状に形成されている。
【０１１０】
第１電極６４ａと第２電極６４ｂとは矢印Ａ方向から見て多数のマトリクス状に並ぶ点で交差しており、これらの交差点が表示のためのドット領域を構成している。Ｒ，Ｇ，Ｂの３色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色のフィルタ要素から成るカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、上記のドット領域の１つずつにそれら３色のうちの１つずつが対応して配置され、３色の集まりが１つのユニットになって１画素を構成する。そして、その画素の多数が矢印Ａ方向から見てマトリクス状に並ぶことにより、有効表示領域Ｖが形成され、この有効表示領域Ｖの領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【０１１１】
表示の最小単位である表示用ドット領域に対応して、反射膜６２に開口７１が形成されている。これらの開口７１は、照明装置５６から供給される面状の光を透過させて、透過型の表示を実現する。なお、透過型の表示を行うにあたっては、反射膜６２に開口７１を設けることだけに限られず、例えば、反射膜６２の膜厚を薄くすることによっても透過型の表示を実現できる。
【０１１２】
第１基材６１ａは第２基材６１ｂを越えて外側へ張り出す張出し部７０を有している。第１基板５７ａ側の第１電極６４ａはシール材５８を横切ってその張出し部７０上に延び出て配線６５となっている。また、張出し部７０の辺縁には外部接続端子４９が形成されている。配線基板５４は、その外部接続端子４９に導電接続されている。第２基板５７ｂ側の第２電極６４ｂは、シール材５８の内部に分散された導通材５９を介して第１基板５７ａ側の配線６５に接続されている。なお、導通材５９は、図１０ではシール材５８の幅寸法とほとんど同じ寸法で描いてあるが、実際は、導通材５９はシール材５８の幅よりも小さくなっており、そのため、シール材５８の幅方向には複数の導通材５９が存在するのが普通である。
【０１１３】
張出し部７０の表面において、配線６５と外部接続端子４９との間には駆動用ＩＣ５３がＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）４８によって接着されている。そして、このＡＣＦ４８により、駆動用ＩＣ５３のバンプが配線６５及び外部接続端子４９に導電接続している。この実装構造により、配線基板５４から駆動用ＩＣ５３へ信号及び電圧が供給される。一方、駆動用ＩＣ５３からの走査信号及びデータ信号が第１電極６４ａや第２電極６４ｂへ伝送される。
【０１１４】
図１０において、照明装置５６は、観察側から見て液晶パネル５２の背面に緩衝材７８を挟んで配設され、バックライトとして機能する。この照明装置５６は、基板７７に支持された光源としてのＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）７６と、導光体７２とを有する。導光体７２の観察側の表面には拡散シート７３が設けられ、その反対側の面には反射シート７４が設けられる。ＬＥＤ７６を点状光源とする光は、導光体７２の受光面７２ａから導光体７２の内部に取り込まれ、その内部を伝播する間に光出射面７２ｂから面状光となって出射する。
【０１１５】
上記構成より成る液晶装置５１において反射型の表示が行われる場合には、太陽光、室内光等といった外部光が第２基板５７ｂを通して液晶層５５の内部に取り込まれ、反射膜６２で反射した後、再び液晶層５５へ供給される。一方、透過型の表示が行われる場合には、照明装置５６のＬＥＤ７６が発光し、導光体７２の光出射面７２ｂから面状の光が出射し、反射膜６２に設けた複数の開口７１を通過した光が液晶層５５へ供給される。
【０１１６】
液晶層５５に光が供給されたとき、第１電極６４ａ及び第２電極６４ｂの一方に走査信号が与えられ、それらの他方にデータ信号が与えられると、当該データ信号が与えられた部分の表示用ドットに所定電圧が印加されて液晶が駆動され、当該表示用ドットに供給された光が変調される。このような変調が、有効表示領域Ｖ内の表示用ドットごと、換言すれば画素ごとに行われ、文字、数字、図形等といった希望する像がその有効表示領域Ｖ内に形成され、観察者によって矢印Ａ方向から観察される。
【０１１７】
本実施形態の液晶装置５１の製造方法を考えると、それに含まれるカラーフィルタ６８が図１〜図５に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図６〜図９に示した製造方法によって製造されることに特徴がある。図１に示した製造装置２０１を用いて行われるカラーフィルタ基板の製造工程においては、基材２が鉛直状態に保持された状態で作業が行われるので、基材２に埃等といった異物が付着することを防止できる。従って、そのカラーフィルタ基板の製造工程を用いて行われる液晶装置５１の製造方法によれば、カラーフィルタ基板に関して不良の発生を極めて低く抑えることができる。
【０１１８】
（変形例）
図１０の実施形態では、半透過反射型で単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した。しかしながら、本発明は、これ以外に、反射型表示機能を持たない半透過型の単純マトリクス方式の液晶装置や、透過型表示機能を持たない反射型の単純マトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）等といった２端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等といった各種の液晶装置に適用できる。
【０１１９】
（電気光学装置の製造方法の第２実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を電気光学装置の一例であるエレクトロルミネッセンス装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。図１７は、エレクトロルミネッセンス装置の電気的な構成の一実施形態を示している。また、図１６は、その電気的な構成に対応する機械的な構成の一部分の断面構造を示している。なお、本明細書で、エレクトロルミネッセンス基板とは、基板上にＥＬ発光要素が形成されて成る構造体である。また、エレクトロルミネッセンス装置とは、エレクトロルミネッセンス基板に反射電極やその他の光学要素を付設して成る電気光学装置である。
【０１２０】
図１７において、エレクトロルミネッセンス装置１０１は、データ信号を出力する駆動用ＩＣ１０７と、走査信号を出力する駆動用ＩＣ１０８とを有する。駆動用ＩＣ１０７は、複数の信号線１０４へデータ信号を出力する。また、駆動用ＩＣ１０８は、複数の走査線１０３へ走査信号を出力する。走査線１０３と信号線１０４とは複数の部分で交差し、それらの交差部分には画素を構成する表示用ドット領域が形成される。図１６では、Ｇ色の表示用ドット領域６ｇ、Ｒ色の表示用ドット領域６ｒ，Ｂ色の表示用ドット領域６ｂを示している。個々の表示用ドット領域はＲ，Ｇ，Ｂの３色のＥＬ発光要素のうちの１つを含む領域であり、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する表示用ドット領域が集まって１つの画素が構成される。
【０１２１】
図１７において、１つの表示用ドット領域の中には、スイッチング薄膜トランジスタ１０９、カレント薄膜トランジスタ１１０、画素電極１１１、反射電極１１２、そしてＥＬ発光要素１１３が含まれる。なお、発光要素１１３に関しては、Ｇ色を発光する発光要素１１３ｇと、Ｒ色を発光する発光要素１１３ｒと、Ｂ色を発光する発光要素１１３ｂとが所定の配列、例えばストライプ配列で並べられる。図１６において、各発光要素１１３は、下層部分の正孔注入層１１３Ａ上に上層部分の有機半導体膜１１３Ｂを重ねることによって形成されている。なお、図１６では、カレント薄膜トランジスタ１１０は示されているが、これと異なる断面に存在するスイッチング薄膜トランジスタ１０９は図示されていない。
【０１２２】
図１６において、複数の表示用ドット領域６の中から適宜のものを選択して、その領域内の画素電極１１１と反射電極１１２との間に所定の電圧を印加すると、当該表示ドット領域６内の発光要素１１３が発光し、基材１０２の外側（すなわち、図１６の下方側）に文字、数字、図形等といった像がカラー表示される。
【０１２３】
本実施形態のエレクトロルミネッセンス装置１０１の製造方法を考えると、それに含まれるエレクトロルミネッセンス基板１００（図１５（ｒ）参照）が図１〜図５に示したエレクトロルミネッセンス基板の製造装置を用いて、図１１〜図１５に示した製造方法によって製造されることに特徴がある。図１に示した製造装置２０１を用いて行われるエレクトロルミネッセンス基板の製造工程においては、基材２（図１６の符号１０２に相当）が鉛直状態に保持された状態で作業が行われるので、基材２に埃等といった異物が付着することを防止できる。従って、そのカラーフィルタ基板の製造工程を用いて行われるエレクトロルミネッセンス装置１０１の製造方法によれば、エレクトロルミネッセンス基板１００に関して不良の発生を極めて低く抑えることができる。
【０１２４】
（電子機器の製造方法の実施形態）
以下、電子機器の製造方法の実施形態を一例を挙げて説明する。まず、製造方法の説明に先立って、図１８を用いて電子機器の一例を説明する。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１４１、表示情報処理回路１４２、電源回路１４３、タイミングジェネレータ１４４及び液晶装置１４５によって構成される。そして、液晶装置１４５は液晶パネル１４７及び駆動回路１４６を有する。液晶装置１４５は、図１〜図５に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図６〜図９に示した製造方法によって製造された、図１０に示す液晶装置５１によって構成できる。
【０１２５】
表示情報出力源１４１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１４４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１４２に供給する。
【０１２６】
次に、表示情報処理回路１４２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１４６へ供給する。ここで、駆動回路１４６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１４３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
【０１２７】
図１９は、本発明に係る電子機器のさらに他の例であるデジタルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１５０におけるケース１５１の背面には液晶表示ユニット１５２が設けられる。この液晶表示ユニット１５２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１５２は、図１〜図５に示したカラーフィルタ基板の製造装置を用いて、図６〜図９に示した製造方法によって製造された、図１０に示す液晶装置５１によって構成できる。
【０１２８】
ケース１５１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１５３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１５２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１５４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１５５のメモリに転送されてそこに格納される。
【０１２９】
ケース１５１の側面には、ビデオ信号出力端子１５６と、データ通信用の入出力端子１５７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１５６にはテレビモニタ１５８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１５７にはパーソナルコンピュータ１５９が必要に応じて接続される。回路基板１５５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１５８や、パーソナルコンピュータ１５９に出力される。
【０１３０】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造装置及びエレクトロルミネッセンス基板の製造装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示す製造装置の制御系を示す回路ブロック図である。
【図３】図１に示す製造装置の材料吐出部を示す斜視図である。
【図４】図３に示す材料吐出部の主要部の内部構造を一部破断して示す斜視図である。
【図５】図４のＤ−Ｄ線に従った断面図である。
【図６】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図７】図６に続く工程図である。
【図８】図７に続く工程図であり、特に（ｋ）は目標とするカラーフィルタ基板の一実施形態を示している。
【図９】複数のフィルタ要素の配列例を示す図であり、（ａ）はストライプ配列、（ｂ）はモザイク配列、（ｃ）はデルタ配列を示している。
【図１０】本発明に係る電気光学装置の製造方法を説明するための図であって、電気光学装置の一実施形態である液晶装置の断面構造を示す断面図である。
【図１１】本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の一実施形態の主要工程を示す工程図である。
【図１２】図１１に続く工程図である。
【図１３】図１２に続く工程図である。
【図１４】図１３に続く工程図である。
【図１５】図１４に続く工程図である。
【図１６】エレクトロルミネッセンス装置の一例の１画素分の断面構造を示す断面図である。
【図１７】図１６のエレクトロルミネッセンス装置の等価回路を示す回路図である。
【図１８】本発明に係る電子機器の製造方法によって製造される電子機器の一例を示すブロック図である。
【図１９】本発明に係る電子機器の製造方法によって製造される電子機器の一例であるデジタルカメラを示す図である。
【符号の説明】
１：カラーフィルタ基板、 ２：基材、 ３：遮光層、 ３ａ：金属膜、 ４：バンク、 ４ａ：感光性樹脂、 ６，６ｇ，６ｒ，６ｂ：表示用ドット領域、７ａ：レジスト、 ８：液滴、 ９ｇ，９ｒ，９ｂ：フィルタ要素、 ２０：ケーシング、 ２２：インクジェットヘッド、２７：ノズル（液滴吐出部）、 ３９：加圧体、 ４１：圧電素子、 ４２ａ，４２ｂ：電極、 ５１：液晶装置（電気光学装置）、 ５２：液晶パネル、 ５５：液晶層、 ５７ａ，５７ｂ：基板、 ６１ａ．６１ｂ：基材、 ６８：カラーフィルタ、 １００：エレクトロルミネッセンス基板、１０１：エレクトロルミネッセンス装置（電気光学装置）、 １１１：画素電極、 １１１ａ：ＩＴＯ膜、 １１２：反射膜、１１３，１１３ｒ，１１３ｒ，１１３ｂ：ＥＬ発光要素、 １１３Ａ：正孔注入層、 １１３Ｂ：有機半導体膜、 １５０：デジタルカメラ（電子機器）、２０１：カラーフィルタ基板の製造装置、 ２０２：フィルタ形成部、２０３：フィルタ材料供給部、 ２１３：記録ヘッド、 Ｍ０：フィルタ材料、Ｍ１：正孔注入層材料、Ｍ２：有機半導体膜材料、 Ｓ０：波形、 Ｓ１：ビットマップデータ、 Ｓ２：吐出タイミング信号、 Ｓ３：位置情報、 Ｖ：有効表示領域、

Claims (25)

1. 基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、
   液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、
   該工程では、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に配置した状態で前記液滴を吐出する
   ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
2. 基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造方法において、
   液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、
   該工程では、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾ける
   ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
3. 請求項１又は請求項２において、前記液滴吐出部からの液滴の吐出方向を前記基材の法線方向又はほぼ法線方向に設定した状態で、前記液滴を吐出することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記基材の帯電電位と反対電位のイオンを該基材に供給することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 請求項４において、前記イオンを前記基材の、前記液滴吐出部に対向しない側から供給することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 請求項１から請求項５の少なくともいずれか１つにおいて、前記基材は上下方向の気流が存在する部屋の中に置かれることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
7. 請求項６において、前記気流の前記基材より上流側には、防塵フィルタが配置されていることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
8. 請求項１から請求項７のいずれか１つにおいて、前記液滴吐出部は、圧電素子を用いたインクジェットヘッドであることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
9. 請求項１から請求項７のいずれか１つにおいて、前記液滴吐出部は、熱エネルギーによって発生する気泡により液状フィルタ材料を吐出するインクジェットヘッドであることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
10. 基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造装置において、
    前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に支持する基材支持手段と、
    液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、
    前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段と
    を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造装置。
11. 基材と、該基材上に形成されるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造するためのカラーフィルタ基板の製造装置において、
    前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けて支持する基材支持手段と、
    液状フィルタ材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、
    前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段と
    を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造装置。
12. 基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、
    前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、
    該工程では、前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に配置した状態で前記液滴を吐出する
    ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
13. 基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、
    前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する工程を有し、
    該工程では、前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾ける
    ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
14. 請求項１２又は請求項１３において、前記液滴吐出部からの液滴の吐出方向を前記基材の法線方向又はほぼ法線方向に設定した状態で、前記液滴を吐出することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
15. 請求項１２から請求項１４の少なくともいずれか１つにおいて、前記基材の帯電電位と反対電位のイオンを該基材に供給することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
16. 請求項１４において、前記イオンを前記基材の、前記液滴吐出部に対向しない側から供給することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
17. 請求項１２から請求項１６の少なくともいずれか１つにおいて、前記基材は上下方向の気流が存在する部屋の中に置かれることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
18. 請求項１７において、前記気流の前記基材より上流側には、防塵フィルタが配置されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
19. 請求項１２から請求項１８のいずれか１つにおいて、前記液滴吐出部は、圧電素子を用いたインクジェットヘッドであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
20. 請求項１２から請求項１８のいずれか１つにおいて、前記液滴吐出部は、熱エネルギーによって発生する気泡により材料を吐出するインクジェットヘッドであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
21. 基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造装置において、
    前記基材を鉛直又はほぼ鉛直に支持する基材支持手段と、
    前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、
    前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段と
    を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造装置。
22. 基材と、該基材上に形成される発光要素とを有するエレクトロルミネッセンス基板を製造するためのエレクトロルミネッセンス基板の製造装置において、
    前記基材を鉛直に対して角度略±５°の範囲で傾けて支持する基材支持手段と、
    前記発光要素の材料を液滴吐出部から前記基材へ液滴として吐出する液滴吐出手段と、
    前記基材を前記液滴吐出部に対して相対的に平行移動させる走査移動手段と
    を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造装置。
23. カラーフィルタ基板上に電気光学物質層が形成されて成る電気光学装置を製造するための製造方法において、請求項１又は請求項２記載のカラーフィルタ基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
24. エレクトロルミネッセンス基板上に電極が形成されて成る電気光学装置を製造するための製造方法において、請求項１１又は請求項１２記載のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
25. 電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有する電子機器を製造するための製造方法において、請求項２３又は請求項２４記載の電気光学装置の製造方法を実施する工程を有することを特徴とする電子機器の製造方法。

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