JP2004356152A

JP2004356152A - 磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品

Info

Publication number: JP2004356152A
Application number: JP2003148758A
Authority: JP
Inventors: Keita Isotani; 桂太磯谷; Teruhiko Fujiwara; 照彦藤原
Original assignee: NEC Tokin Corp
Current assignee: Tokin Corp
Priority date: 2003-05-27
Filing date: 2003-05-27
Publication date: 2004-12-16

Abstract

【課題】優れたコアロス特性と直流重畳特性を有する安価な磁心およびそれを用いたインダクタンス部品を提供する。
【解決手段】磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁芯であって、そのギャップに固有保磁力が１０ｋＯｅ以上、Ｔｃが５００℃以上、粉末平均粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末と樹脂からなり、比抵抗が１．０Ω・ｃｍ以上で、挿入前に比べて、その磁心のヒステリシス損失の増加が２０％以内であるボンド磁石を挿入した磁芯１１と、前記磁芯に巻かれた少なくとも１ターン以上の巻線４とで構成されたインダクタンス部品とする。
【選択図】図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スイッチング電源などに使用されるチョークコイル用及びトランス用磁芯に好適な磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
チョークコイル用及びトランス用磁芯には、良好な直流重畳特性が求められており、高周波用の磁芯にはフェライトや圧粉磁芯が使用されている。フェライト磁芯は初透磁率が高く飽和磁束密度が小さい、圧粉磁芯は初透磁率が低く飽和磁束密度が高い、という材料物性に由来した特徴がある。従って、圧粉磁芯は、トロイダル形状で用いられることが多く、フェライトは、例えばＥ型コアの中足にギャップを挿入してＥＥコアで用いられることが多い。
【０００３】
しかし、近年の電子機器の小型化要請に伴う電子部品の小型化の要求により、より大きな重畳磁界における、より高い透磁率が強く求められている。一般に、直流重畳特性を向上させるためには、飽和磁化の高い磁芯を選択する事、つまり高磁界で磁気飽和しない磁芯の選択が必須とされている。しかし、飽和磁化は、材料の組成で必然的に決まるものであり、無限に高く出来るものではない。そのため、従来の直流重畳特性を向上させる手段は、わずかな飽和磁化の向上に多大な労力が費やされている割には、直流重畳特性は期待されている程伸びていないのが現状であった。
【０００４】
その解決手段として、磁路の一箇所以上にギャップを挿入し、そのギャップに永久磁石を挿入する事が従来から検討されてきた。この方法は、直流重畳特性を向上させるには優れた方法であるが、一方で金属焼結磁石を用いると磁芯のコアロスの増大が著しく、またフェライト磁石を用いると重畳特性が安定しないなどとても実用に耐え得るものではなかった。
【０００５】
これらを解決する手段として、例えば、特許文献１では、永久磁石として保磁力の高い希土類磁石粉末とバインダーとを混合し圧縮成形したボンド磁石を挿入することが示されており、直流重畳特性とコアの温度上昇が改善されたことが示されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開昭５０−１３３４５３号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、近年、電源に対する電力変換効率向上の要求はますます厳しくなっており、チョークコイル用及びトランス用のコアについても単にコア温度を測定するだけでは優劣が判断不能なレベルとなっている。そのため、コアロス測定装置による測定結果の判断が不可欠であり、実際、本発明者等が検討を行った結果、特許文献１に示された抵抗率の値ではコアロス特性が劣化する事が明らかになった。
【０００８】
そこで、我々は、先願特許として、特許文献２に、ギャップに挿入する永久磁石として１０ｋＯｅ以上の固有保磁力、５００℃以上のＴｃ、１．０Ω・ｃｍ以上の比抵抗の永久磁石を挿入することでコアロスを低下させることなく、良好な直流重畳特性が得られることを開示している。しかしながら、これらの特性値では十分とは言えず、信頼性、コアロス特性、重畳特性において更なる向上を目指すためには、ギャップに挿入する永久磁石の高保磁力と高残留磁束密度、高Ｔｃをあわせ持つ、磁石の開発が必要である。
【０００９】
【特許文献２】
特開２００３−００７５１９号公報
【００１０】
また、耐蝕性を向上させるために、従来行われていたＺｎコーティング技術ではＳＭＣｏ粉末とＺｎ粉末が反応を起こし、軟磁性相が形成される。このため、磁石特性としては、残留磁束密度Ｂｒの減少、保磁力の減少、角型比の減少といった劣化が見られ、これらのボンド磁石を挿入した磁芯の特性としては直流重畳特性の劣化、コアロスの増大、信頼性の減少といった劣化が生じる。特に、コアロスは軟磁性層析出に伴う、ヒステリシス損失の増大として劣化し、従来行われた４７５℃・Ａｒ中でＺｎコーティング熱処理した場合、約５０％もヒステリシス損失が増大する。
【００１１】
本発明の課題は、上記問題点に鑑み、優れたコアロス特性と直流重畳特性を有する安価な磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を達成するべく挿入する永久磁石について検討した結果、磁石の比抵抗が１．０Ω・ｃｍ以上の永久磁石を使用した時、優れた直流重畳特性が得られ、しかも、コアロス特性の劣化が生じない磁芯を形成できることを発見したことによりなされたものである。これは、優れた直流重畳特性を得るのに必要な磁石特性はエネルギー積よりもむしろ固有保磁力であり、従って、比抵抗の高い永久磁石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重畳特性が得られるためである。
【００１３】
比抵抗が高く、しかも固有保磁力が高い磁石は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混合して成形した希土類ボンド磁石で得られる。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅＢ系、ＳｍＦｅＮ系とあるが、リフロー条件及び耐酸化性を考慮すると、Ｔｃが５００℃以上、保磁力が１０ｋＯｅ以上の磁石は現状ではＳｍ_２Ｃｏ_１７系磁石に限定される。また、Ｚｎコーティングをする際の熱処理条件として、Ｚｎ量が３ｗｔ％〜７ｗｔ％、１０^−６〜１００ｔｏｒｒの減圧下で３００℃〜４００℃において熱処理することにより、耐食・耐酸化性とコアロス特性の両方を兼ね備えた磁芯を容易かつ安価に提供することが可能になる。
【００１４】
即ち、本発明は、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁芯であって、そのギャップに固有保磁力が１０ｋＯｅ以上、Ｔｃが５００℃以上、粉末平均粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末と樹脂からなり、比抵抗が１．０Ω・ｃｍ以上で、挿入前に比べて、その磁芯のヒステリシス損失の増加が２０％以内であるボンド磁石が挿入された磁芯である。
【００１５】
また、本発明は、前記ボンド磁石を、２７０℃、大気中で３０分熱処理をした時の減磁率（不可逆減磁率＋永久減磁率）が８％以内とする磁芯である。
【００１６】
また、本発明は、前記希土類磁石粉末は、３％〜７％の重量比で混合されたＺｎ粉末を３００℃〜４００℃で熱処理して得られる被覆層を有する磁芯である。
【００１７】
また、本発明は、前記熱処理における雰囲気は、圧力が１０^−６〜１００ｔｏｒｒの不活性ガスの磁芯である。
【００１８】
また、本発明は、前記磁芯と、前記磁芯に巻かれた少なくとも１ターン以上の巻線とで構成されたインダクタンス部品である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態による磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品について、以下に説明する。
【００２０】
前述のように比抵抗が高く、しかも固有保磁力が高い磁石は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混合して成形した希土類ボンド磁石で得られる。希土類磁石粉末の種類は、ＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅＢ系、ＳｍＦｅＮ系とあるが、リフロー条件及び耐酸化性を考慮するとＴｃが５００℃以上、保磁力が１０ｋＯｅ以上の磁石は現状ではＳｍ_２Ｃｏ_１７系磁石に限定される。
【００２１】
また、Ｚｎコーティングをする際の熱処理条件として、Ｚｎ量が３ｗｔ％〜７ｗｔ％、１０^−６〜１００ｔｏｒｒの減圧下で３００℃〜４００℃において熱処理することにより、耐食・耐酸化性とコアロス特性の両方を兼ね備えた磁芯を容易かつ安価に提供することが可能になる。
【００２２】
チョークコイル用及びトランス用磁芯としては、軟磁気特性を有する材料であればなんでも有効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェライト、圧粉磁芯、珪素鋼板、アモルファス等が用いられる。また、磁芯の形状についても特に制限があるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコア等あらゆる形状の磁芯に本発明の適用が可能である。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを設け、そのギャップに永久磁石を挿入する。ギャップ長に特に制限はないが、ギャップ長が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入するギャップ長は決まってくる。
【００２３】
次に、ギャップに挿入される永久磁石に対する要求特性は、固有保磁力については信頼性の確保とヒステリシス損失を抑えるため１０ｋＯｅ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は大きいほど良いが、１．０Ω・ｃｍ以上であれば渦電流損失劣化の大きな要因にはならない。粉末の平均最大粒径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するので、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ましく、最小粒径が２．５μｍ以下になると粉末熱処理及びリフロー時に粉末の酸化による磁化の減少が顕著になるため、２．５μｍ以上の粒径が必要である。また、耐蝕性を向上させるために行うＺｎコーティング処理であるが、従来行われていた方法では、Ｚｎとの反応が進み、その結果、軟磁性相が析出し、ヒステリシス損失が増大する。
【００２４】
しかしながら、Ｚｎ量や熱処理温度が低いと、減磁率特性が劣化する。これに対し、Ｚｎ量を総重量に対し３ｗｔ％〜７ｗｔ％混合し、１０^−６〜１００ｔｏｒｒ、３００℃〜４００℃で熱処理することにより、２７０℃・大気中で３０分熱処理をした時の減磁率が８％以内、コアロス特性がＭｎＺｎフェライトのコアに磁石を挿入しないときに比べ、２０％以内の増加に抑えることが可能になる。これにより、高耐食性、高効率を満足するバイアスコア用のボンド磁石を得ることが可能になる。
【００２５】
【実施例】
発明の実施例による磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品について、以下に説明する。
【００２６】
（実施例１）
実施例１の磁芯について、以下に説明する。実施例１の磁芯の例として、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７系磁石粉末にＺｎを１〜１０ｗｔ％混合し、それを２７５℃〜４５０℃で熱処理し、Ｚｎコーティングを施した試料の磁気特性・減磁率特性を測定し、比較を行った例を示す。
【００２７】
使用したＳｍＣｏ磁石粉末、Ｚｎ粉末の平均粒径は、それぞれ１２μｍ、７μｍであり、これらの粉末に対しＺｎを総重量の１ｗｔ％、２ｗｔ％、３ｗｔ％、５ｗｔ％、７ｗｔ％、１０ｗｔ％をそれぞれ加え、Ｖ型混合機で３０分間、混合した。これらの粉末を５×１０^−３ｔｏｒｒの不活性ガス中で、それぞれ２７５℃、３００℃、３２５℃、３５０℃、３７５℃、４００℃、４２５℃、４５０℃でそれぞれ熱処理し、ＳｍＣｏ粉末にＺｎコーティングを施した。
【００２８】
これらのＺｎコーティングしたＳｍＣｏ磁石粉末に１０ｗｔ％に当たる量のバインダー（エポキシ樹脂）を混合した後、プレス圧５ｔｏｎ／ｃｍ^２・無磁場中で金型成形を行い、その後、１５０℃・３０ｍｉｎ大気中で硬化を行った。以下に、試料の作製条件・測定条件の詳細を示す。
【００２９】

【００３０】
〔ヒステリシス損失測定〕
・測定装置：東英工業社製Ｂ−Ｈトレーサー（軟磁性測定）
・測定コア材：ＦＥＥフェライトコア（ＢＨ２）に５００μｍのＳｍＣｏボンド挿入
・測定磁場：Ｈｍ＝１０〜１５Ｏｅ
・巻線：１次７５ターン、２次３０ターン
・測定温度：５０℃（恒温層内にて測定）
【００３１】
〔Ｂ−Ｈ特性測定（Ｂｒ測定）〕
・測定装置：東英工業社製Ｂ−Ｈトレーサー（硬磁性測定）
・形状：φ１３×９（ｍｍ）の円柱型
・最大印加磁界：２５ｋＯｅ（２５ｋＯｅ以上の保磁力は外挿して導出）
・検出コイル：２５ターン、１６ターン
【００３２】
〔減磁率特性〕
・ＯＥＩＴＤＦ−５ＤＩＧＩＴＡＬＦＬＵＸＭＥＴＥＲ
・７６ターンの巻線を施した１５×１５×５０（ｍｍ）のパーマロイの磁芯に磁石を貼り付け、そこを零点とし、シート磁石を引き剥がした時の磁束の変化を測定
・測定５回の平均値
【００３３】
減磁率は、２７０℃で３０分、大気中で加熱した後、室温まで冷却し、その時のフラックス量の降下した割合を示している。ヒステリシス損失の測定は、以下のとおりである。ＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長５．９３ｃｍ、実効断面積０．８３ｃｍ^２のＥＥコアであり、その中芯に５００μｍのギャップ加工をした。ボンド磁石をフェライトコアの中芯断面形状で、かつ高さ５００μｍの形状に加工し、その後、約１０Ｔのパルス磁場で磁路方向に着磁後、そのギャップ部に挿入した。
【００３４】
各磁石を挿入したコアを東英工業製ＢＨトレーサーでＢｍ＝０．２０００Ｔ時におけるヒステリシス損失を測定した。残留磁束密度Ｂｒは、バイアスコイルにおけるバイアス量に比例し、直流重畳特性を左右する重要な因子となる。上記の条件で作製された試料の残留磁束密度Ｂｒの結果を表１に示す。また、Ｚｎコーティングを行わなかった試料の残留磁束密度Ｂｒは０．３０００Ｔであった。
【００３５】
【表１】

【００３６】
表１より、Ｚｎの割合が増えると、非磁性であるＺｎの占有率が大きくなり、残留磁束密度が悪化すると思われる。また、高温では、ＳｍＣｏ磁石とＺｎとの反応が進み、残留磁束密度が小さくなったものと考えられる。５ｗｔ％・４２５℃以上、７ｗｔ％・４２５℃以上、１０ｗｔ％・３５０℃以上の条件では、残留磁束密度は５００Ｇ以上小さくなり、磁気特性が大きく劣化することが分かった。表２に、２７０℃で３０分、大気中で加熱した時の減磁率のＺｎ量、熱処理温度の依存性を示す。
【００３７】
【表２】

【００３８】
表２より、低Ｚｎ量では、ＳｍＣｏ表面を完全にはコーティングできずに減磁率が大きくなると思われる。また、２７５℃の低温では、減磁率が非常に大きいことから、Ｚｎコーティングはほとんどなされないと考えられる。Ｚｎ量が１ｗｔ％、２ｗｔ％における範囲と、２７５℃で熱処理した場合では、減磁率が１０％を超え、耐食性が大きく劣化することが明らかになった。また、Ｚｎ量＝３〜１０ｗｔ％、熱処理温度＝３００〜４５０℃の条件下では、減磁率は８％以下になり良好な特性を示した。
【００３９】
表３に、Ｂｍ＝０．２０００Ｔ時のヒステリシス損失値のＺｎ量、熱処理温度の依存性を示す。実験に用いたフェライトコアは、ＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長５．９３ｃｍ、実効断面積０．８３ｃｍ^２のＥＥコアであり、その中芯赤に５００μｍのギャップ加工をした。ボンド磁石をフェライトコアの中芯断面形状で、かつ高さ５００μｍの形状に加工した。その後、約１０Ｔのパルス磁場で磁路方向に着磁後、そのギャップ部に挿入した。各磁石を挿入したコアを東英工業製ＢＨトレーサーでＢｍ＝２０００Ｇ時におけるヒステリシス損失を測定した。また、磁石を挿入していないファライトコアのみのヒステリシス損失値は６０．２×１０^−７Ｊ／ｃｃである。
【００４０】
【表３】

【００４１】
表３より、高熱処理温度ではＳｍＣｏとＺｎが反応してしまい、高ヒステリシス損失になると考えられる。また、高Ｚｎ量になるほど、ＳｍＣｏとの反応率は大きくなると考えられる。Ｚｎ＝１０ｗｔ％・４００℃、Ｚｎ＝３〜１０ｗｔ％・４５０℃、Ｚｎ＝２〜１０ｗｔ％・４５０℃の条件ではＢｍ＝０．２０００Ｔにおけるヒステリシス損失は、磁石を挿入していないフェライトコアのみのヒステリシス損失値に比べ、２０％以上、上昇することが明らかになった。
【００４２】
以上の実験より、Ｂｒ、減磁率特性、ヒステリシス損失値のすべてを満足するＺｎ量、熱処理条件はＺｎ量＝３〜７ｗｔ％、熱処理温度＝３００〜４００℃である。この条件下で磁石粉末をＺｎコーティングすれば、高Ｂｒ、高耐食性、高効率を満足するバイアスコア用のボンド磁石が得られることが明らかになった。
【００４３】
（実施例２）
実施例２の磁芯について、以下に説明する。実施例２の磁芯の例として、Ｓｍ_２Ｃｏ_１７系磁石粉末にＺｎを１〜１０ｗｔ％混合し、それを２７５℃〜４５０℃で熱処理し、Ｚｎコーティングを施した試料の磁気特性・減磁率特性を測定し、比較を行った例を示す。使用したＳｍＣｏ磁石粉末、Ｚｎ粉末の平均粒径は、それぞれ１２μｍ、７μｍであり、これらの粉末に対し総重量に対し５ｗｔ％のＺｎをＶ型混合機で３０分間、混合した。これらの粉末を５×１０^−３ｔｏｒｒ〜５００ｔｏｒｒの真空中（Ａｒ雰囲気）において３５０℃で２時間熱処理し、ＳｍＣｏ粉末にＺｎコーティングを施した。これらのＺｎコーティングしたＳｍＣｏ磁石粉末に１０ｗｔ％に当たる量のバインダー（エポキシ樹脂）を混合した後、プレス圧５ｔｏｎ／ｃｍ^２・無磁場中で金型成形を行い、その後、１５０℃・３０分、大気中でバインダーの硬化を行った。
【００４４】

【００４５】
〔ヒステリシス損失測定〕
・測定装置：東英工業社製Ｂ−Ｈトレーサー（軟磁性測定）
・測定コア材：ＦＥＥフェライトコア（ＢＨ_２）に５００μｍのＳｍＣｏボンド挿入
・測定磁場：Ｈｍ＝１０〜１５Ｏｅ
・巻線：１次７５ターン２次３０ターン
・測定温度：５０℃（恒温層内にて測定）
【００４６】
〔Ｂ−Ｈ特性測定（Ｂｒ測定）〕
・測定装置：東英工業社製Ｂ−Ｈトレーサー（硬磁性測定）
・形状：φ１３×９（ｍｍ）の円柱型
・最大印加磁界：２５ｋＯｅ（２５ｋＯｅ以上の保磁力は外挿して導出）
・検出コイル：２５ターン、１６ターン
【００４７】
〔減磁率測定〕
・ＯＥＩＴＤＦ−５ＤＩＧＩＴＡＬＦＬＵＸＭＥＴＥＲ
・７６ターンの巻線を施した１５×１５×５０（ｍｍ）のパーマロイの磁芯に磁石を貼り付け、そこを零点とし、シート磁石を引き剥がした時の磁束の変化を測定
・測定５回の平均値
【００４８】
上記の条件で作製された試料の残留磁束密度Ｂｒ、減磁率、ヒステリシス損失の各特性の結果を表４に示す。減磁率と真空度の関係を図１に示す。測定は実施例１と同じ方法を用いた。減磁率は２７０℃で３０分、大気中で加熱した後、室温まで冷却し、その時のフラックス量の降下した割合を示している。
【００４９】
ヒステリシス損失測定は、以下のとおりである。ＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長５．９３ｃｍ、実効断面積０．８３ｃｍ^２のＥＥコアであり、その中芯に５００μｍのギャップ加工をした。ボンド磁石をフェライトコアの中芯断面形状で、かつ高さ５００μｍの形状に加工し、その後、約１ｃｍのパルス磁場で磁路方向に着磁後、そのギャップ部に挿入した。各磁石を挿入したコアを東英工業製ＢＨトレーサーでＢｍ＝２０００Ｇ時におけるヒステリシス損失を測定した。
【００５０】
【表４】

【００５１】
表４、図１より、Ｚｎコーティングの熱処理時において、真空度が低くなるにつれて、残留磁束密度Ｂｒは高く、またヒステリシス損失値は低くなり、良好な値を示すが、減磁率は次第に大きくなり、特性は劣化した。Ｚｎコーティングを５００ｔｏｒｒで行った場合、減磁率は１０．６％と非常に大きな値を示した。Ｚｎコーティング１００ｔｏｒｒ以下で行った場合、減磁率は８％以下に抑えられ、良好な特性を示すことが明らかになった。
【００５２】
（実施例３）
図２は、本発明の実施例のインダクタンス部品の説明図である。図２のインダクタンス部品は、Ｅ型のフェライトコア１と２の、合体した中足部に磁石３が配置された磁芯１１と、前記磁芯１１の中足部に巻かれた巻線４とで構成されている。ここで、前記磁芯１１は、実施例１と実施例２にて説明した製造方法にて作製された磁芯が用いられる。また、巻線４は、少なくとも１ターン以上の巻かれている。
【００５３】
【発明の効果】
以上により、残留磁束密度Ｂｒ、減磁率特性、ヒステリシス損失直のすべてを満足する混合Ｚｎ量、熱処理温度条件は、Ｚｎ量＝３〜７ｗｔ％、熱処理温度＝３００〜４００℃、真空度＝１００ｔｏｒｒ以下である。この条件下で磁石粉末をＺｎコーティングすれば、２７０℃・大気中で３０分熱処理をした時の減磁率が８％以内、コアロス特性がＭｎＺｎフェライトのコアに磁石を挿入しないときに比べ、２０％以内の増加に抑えることが可能になり、高耐食性、高効率を満足するバイアスコア用のボンド磁石が得られることが明らかになった。従って、本発明によれば、優れたコアロス特性と直流重畳特性を有する安価な磁芯およびそれを用いたインダクタンス部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の磁芯の減磁率と真空度の関係の特性図。
【図２】本発明の実施例のインダクタンス部品の説明図。
【符号の説明】
１，２フェライトコア
３磁石
４巻線
１１磁芯
１０インダクタンス部品

Claims

磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁芯であって、そのギャップに固有保磁力が１０ｋＯｅ以上、Ｔｃが５００℃以上、粉末平均粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末と樹脂からなり、比抵抗が１．０Ω・ｃｍ以上で、挿入前に比べて、その磁芯のヒステリシス損失の増加が２０％以内であるボンド磁石が挿入されたことを特徴とする磁芯。
前記ボンド磁石は、２７０℃、大気中で３０分熱処理をした時の減磁率（不可逆減磁率＋永久減磁率）が８％以内であることを特徴とする請求項１に記載の磁芯。
前記希土類磁石粉末は、３％〜７％の重量比で混合されたＺｎ粉末を、３００℃〜４００℃で熱処理して得られる被覆層を有することを特徴とする請求項１または２に記載の磁芯。
前記熱処理における雰囲気は、圧力が１０^−６〜１００ｔｏｒｒの不活性ガスであることを特徴とする請求項３に記載の磁芯。
請求項１ないし４のいずれかに記載の磁芯と、前記磁芯に巻かれた少なくとも１ターン以上の巻線とで構成されたことを特徴とするインダクタンス部品。