JP2004354535A - 光学媒質の光入出射部処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】屈折率が異なる2つの光学媒質の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるにあたり、光学媒質に対するレーザアブレーション用にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いてその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質表面に形成する。光反射損失の低減に有効な微細凹凸形状の形成を非接触で簡便に行うことができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光を伝播させる素子や部品等の光学媒質における光伝播特性の向上のための光入出射部処理方法及び光学媒質に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光学媒質と他の光学媒質との界面(空気との界面を含む)においては、光の反射による光量の減衰が問題となるほか、ディスプレー等にあっては反射が視認性を低下させてしまうという問題がある。また、照明器具などでは光が照明器具内部に閉じ込められるために熱損失となり、低輝度・高消費電力となってしまうという問題もある。
【0003】
この反射の低減に関しては、1/4波長の膜厚の反射防止膜のコーティングを多層で行うことが有効で従来より多用されているが、処理に要する時間が長いことや設備的なことなどからコストが高く、このためにより簡単に反射の低減を行うことができるものが求められている。
【0004】
ここにおいて、界面に微小な凹凸を形成することで屈折率の傾斜性を持たせて反射の低減を得ること、具体的には上記界面に光の波長の数分の一程度の粒径の微粒子を適当なバインダを用いて高密度に分散した塗膜を形成することが特開平7−20451号公報に開示されており、微小な凹凸を型を用いた賦形や成形で行うことが特開2000−712900号公報に開示されている。
【0005】
【特許文献1】
特開平7−20451号公報
【特許文献2】
特開2000−71290号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前者においては有効な厚みの塗膜を形成するのに相応の設備が必要であり、後者においては熱的な損傷で光学的な特性を損なう可能性がある上に曲面への適用が困難であり、また成形用の型及び相応の設備が必要であって工程数や処理時間の点からも生産性が高くない。加えるに、上記両者は発光ダイオードの表面のような小さな表面の処理には不向きである。
【0007】
本発明はこのような点に鑑みなされたものであって、その目的とするところは簡便な設備で光伝播効率を高める処理を低コストで行うことができる上に光学媒質が小さくても容易に処理を行うことができる光学媒質の光入出射部処理方法を提供するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
しかして本発明は、屈折率が異なる2つの光学媒質の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるにあたり、光学媒質に対するレーザアブレーション用にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いてその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質表面に形成することに特徴を有している。パルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザによるレーザアブレーションを利用することにより、光反射損失の低減に有効な微細凹凸形状の形成を簡便に行うことができるようにしたものである。
【0009】
この場合、周期的構造の方向性をパルスレーザの偏光方向で制御することにより、透過させる光の偏光方向に合わせた方向性を有する周期的構造の微細凹凸形状を形成することができる。
【0010】
パルスレーザを光学媒質に斜め方向から照射してもよく、この場合、パルスレーザの照射角によって周期的構造のピッチを光の透過率を最も高くするのに適した値にすることが容易となる。
【0011】
また、所定の圧力以下の雰囲気中でレーザアブレーションを行うことにより、アブレーションで飛散した粒子の再付着による光学媒質の汚染を防ぐことができる。
【0012】
また、レーザアブレーション後に光学媒質におけるレーザ加工面のエッチング処理を行うことで、光学媒質のレーザで改質部分を除去することができる上に、エッチングで生じた凹凸で光反射損失の低減を更に図ることができる。
【0013】
屈折率が異なる2つの光学媒質の間にこれら2つの光学媒質の屈折率とは異なる屈折率を有する他の光学媒質を介在させるとともにこれら3つの光学媒質の間の2つの界面のうちの少なくとも一方に周期的構造の微細凹凸形状を設けるようにしてもよい。
【0014】
この場合、屈折率が異なる2つの光学媒質の間に介在させた他の光学媒質の屈折率を前2者の光学媒質の屈折率より大として、該光学媒質における少なくとも光出射側の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるならば、微小凹凸を形成することが困難な光学媒質から射出する光の量を上記介在させた他の光学媒質により簡便に増加させることができる。
【0015】
また、屈折率が異なる2つの光学媒質の間に介在させた他の光学媒質の屈折率を前2者の光学媒質の屈折率の中間の値とし、2つの界面に夫々周期的構造の微細凹凸形状を設けるようにしてもよい。屈折率が異なる2つの光学媒質の間に連続した屈折率の傾斜性を持たせることができる。
【0016】
そして、微細凹凸形状の周期的構造のピッチを透過させる光の波長の1/5〜5倍とすることが好ましい。周期的構造のピッチが透過させる光の波長の1/5〜1倍である時、屈折率の傾斜性を好適に発揮させることができ、1倍〜5倍である時、回折性によって光透過率を向上させることができる。
【0017】
また、微細凹凸形状の周期的構造の凹部の深さを透過させる光の波長の1/5〜5倍とすることで、やはり光の透過性を高めることができる。
【0018】
微細凹凸形状の断面形状は三角形状とすることが屈折率の傾斜性を持たせるという点において、最も好ましい結果を得ることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
屈折率が高い光学媒質から屈折率の低い光学媒質に光が入射する際に反射損失が生じるが、この損失は屈折率の差が大きいほど大となる。例えば屈折率が1.77の高屈折率光学媒質(サファイア)から屈折率が1である光学媒質(大気)に光を伝播させた場合、その界面においては垂直入射光に対して7.7%の反射ロスが生じ、更に屈折率が大である光学媒質から屈折率が小さい光学媒質に光を伝播する時に生ずる全反射は入射角度34.4°以上で生じてしまう。このような損失の低減には前述のように光学媒質と屈折率が異なる他の光学媒質との界面に屈折率変化層を設けること、具体的には微細な凹凸形状を形成することが有効である。
【0020】
本発明に係る光学媒質の光入出射部処理方法は、光学媒質の光入出射部となる界面にレーザアブレーションによって上記微細な凹凸形状を形成するものであり、殊にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザによってその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を形成するものである。
【0021】
パルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザとしては、モードロックTi:サファイアレーザやYAGレーザ、あるいはこれらのレーザ光の波長変換したレーザ(SHG−Ti:サファイアレーザ、THG−Ti:サファイアレーザ、FHG−Ti:サファイアレーザ、SHG−YAGレーザ、THG−YAGレーザ、FHG−YAGレーザ、エキシマレーザ)などを好適に用いることができる。
【0022】
ここで、1ps以下のパルス幅のパルスレーザ、いわゆるフェムト秒レーザによるアブレーションでは、近年多くの報告がなされているように、多光子吸収による加工が可能であり、1光子のエネルギーでは除去することが困難な物質でも除去加工を行うことができる上に、レーザビームはその波長以下に集光することが困難であるものの、多光子吸収を利用することからビームの集光径以下の微細な加工が可能であり、しかも多光子吸収による加工しきい値以上のビームサイズの部分のみという局所的加工が可能である。加えるに、fsオーダーでレーザの照射が完了することから、nsオーダーの時間が必要となるレーザ加工周囲への熱伝播がなく、従って熱影響を周囲に与えることなく加工を行うことができる。
【0023】
今、波長800nm、パルス幅150fsのTi:サファイアレーザを用いると、1μJ/パルス以下の加工エネルギーの1パルス加工でサファイア表面にφ100nmの穴加工が可能であり、またTi:サファイアレーザよりも波長が短く且つ光子エネルギーが高い上に、より小径に集光することができる紫外レーザであるFHG−Ti:サファイアレーザを用いれば、より微細な加工が可能となる。
【0024】
さらに1ps以下のパルス幅のパルスレーザを照射する際に得られる多光子吸収によるアブレーションでは、レーザ照射面に周期的構造を持つ微細な凹凸形状が形成されるものであり、また上記周期的構造のピッチは、加工エネルギー密度を低くすれば狭くなるために、反射率の低減に影響を及ぼす周期的構造のピッチを加工エネルギー密度の制御で調整することができる。
【0025】
たとえばパルス幅100fs、波長800nmのTi:サファイアレーザを用いてサファイア表面にアブレーション加工を行う時、レーザの1パルスあたりのエネルギー密度が1.3〜1.7mJ/mm2であるビームを走査速度1.67mm/sで2回照射した場合、ピッチ約800nmの周期的構造の微細凹凸形状を得ることができ、エネルギー密度が0.9〜1.3mJ/mm2であるビームを同様に照射した場合、ピッチ約400nmの周期的構造の微細凹凸形状を得ることができ、エネルギー密度が0.4〜0.9mJ/mm2であるビームを同様に照射した場合、ピッチ約266nmの周期的構造を有する微細凹凸形状を得ることができた。
【0026】
また上記レーザを用いて銅表面にアブレーション加工を行ったところ、図2にも示すように、1パルスあたりのエネルギー密度が2〜20mJ/mm2である時、ピッチ約600nmの周期的構造の微細凹凸形状を得ることができ、エネルギー密度が0.4〜2mJ/mm2である時、ピッチ約300nmの周期的構造の微細凹凸形状を得ることができた。
【0027】
ピッチの調整に関しては、パルスレーザの照射を図3(a)に示すように直上から行うのではなく、図3(b)に示すように斜め方向から行うようにしてもよい。直上から照射した時に得られる周期的構造の微小凹凸のピッチをP0、斜め方向から照射する時の角度をθ、この時の周期的構造の微小凹凸のピッチをPθとすると、
Pθ=P0/(1±sinθ)
となり、パルスレーザの走査方向を図中イ方向とすれば、
Pθ=P0/(1+sinθ)
パルスレーザの走査方向を図中ロ方向とすれば、
Pθ=P0/(1−sinθ)
となることが現象として確認されている。
【0028】
ところで、上記周期的構造はレーザビームの偏光方向によって変化する。すなわち、偏光方向が図4(a)に示す方向である場合、図4(b)に示す周期的構造を得ることができ、偏光方向が図5(a)に示す方向である場合、図4(b)のSEM写真で示す周期的構造を得ることができ、偏光方向が図6(a)に示す方向である場合、図6(b)に示す周期的構造を得ることができる。偏光方向に対して垂直に交差する方向に筋が形成されることになる周期的構造を得られるものであり、しかも周期的構造の方向性はレーザビームの走査方向の影響を受けないために、レーザビームの偏光方向を制御することにより、伝播させる光の偏光方向に合わせた適切な方向性を有している周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質に形成することができる。なお、レーザビームが直線偏光ではなく円偏光である(図7(a))場合には、図7(b)に示す周期的構造を得ることができる。
【0029】
上記レーザによる加工はアブレーション加工であり、このために加工対象の光学媒質表面からの除去物が光学媒質に再付着する問題がつきまとう。この点に関しては、光学媒質に対するレーザアブレーション加工雰囲気を所定の圧力以下、好ましくは真空下で行うことで再付着による光学媒質の汚染を抑制することができる。
【0030】
また、レーザアブレーション加工後の光学媒質に対してエッチング処理を行って、レーザにて改質された部分のみの除去を行うようにしてもよい。このエッチング処理により微細な凹凸形状を光学媒質に確実に形成することができて、光取り出し効率を向上させることができる。エッチング溶液にはレーザによる改質部分のみを選択的に除去することができるフッ酸(HF)が好適であり、フッ酸の5%溶液を用いる場合、5分以上の処理を行うことが好ましい。
【0031】
いずれにせよ、光学媒質の光入出射部となる界面にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザによってレーザアブレーションを行って加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を形成して屈折率に傾斜性を持たせた場合、図1に示すように、屈折率n1の光学媒質1aから屈折率n2(n2<n1)の光学媒質1bへ光が伝播する時、両光学媒質1a,1bの界面に設けた上記屈折率傾斜性を有する屈折率変化層2は、界面での反射を低減して光透過率を高める。
【0032】
ここにおいて、光学媒質1a,1bのうちの一方が気体や液体である場合には他方に微小凹凸を設けることで、両者の界面に屈折率変化層2を形成することができるが、両光学媒質1a,1bが共に固体である場合には、硬さが大である方の光学媒質にレーザアブレーションを行って微小凹凸を形成し、他方の光学媒質を上記光学媒質に押し付けることで微小凹凸間に端面が入り込むようにすることで、光学媒質1a,1b間の屈折率の傾斜性を確保することができる。
【0033】
図8に他例を示す。これは屈折率n1の光学媒質1aと屈折率n2の光学媒質1bとの間にこれら2つの光学媒質1a,1bとは異なる屈折率n3(n1>n3>n2)を有している光学媒質3を介在させ、屈折率変化層2は光学媒質n3の光学媒質3と屈折率n2の光学媒質1bとの間に設けたものを示している。
【0034】
光学媒質1a,1bが共に固体である場合、光学媒質1aの端面と光学媒質1bの端面の両者に微小凹凸を形成したならば、その界面には隙間が生じてしまうことなるが、上記光学媒質3を介在させてこの光学媒質3が光学媒質1a,1bの両者に形成した微小凹凸に入り込むようにすることで、2つの界面に夫々屈折率変化層2を確保することができる。たとえば、光学媒質1aがサファイア(n1=1.77)、光学媒質1bが石英ガラス(n2=1.5)である時、光学媒質3としてアクリル樹脂(n3=1.6)を用いることで、光学媒質1aから光学媒質1bに至るまでの連続した屈折率傾斜性を確保することができるものである。
【0035】
光学媒質3の屈折率n3が光出射側の光学媒質1aの屈折率n1より大(n3>n1>n2)であってもよい。今、光学媒質1aがサファイア(n1=1.77)、光学媒質1bが大気(n2=1)であり、光学媒質1aの表面に光学媒質3としてGaN層(n3=2.5)を形成して該光学媒質3の大気側の表面にレーザアブレーションで微小凹凸を形成すれば、光学媒質1aへのレーザアブレーションよりも容易に屈折率変化層2を形成することができる。図9はこの場合の例を示している。なお、屈折率が小さい光学媒質1aから屈折率が大きい光学媒質3に光が伝播する時の反射損失はさほど大きくないことから、光学媒体3と光学媒体1bとの界面にのみ屈折率変化層2を設けるだけで、光透過率を大きく向上させることができる。
【0036】
周期的構造の微細凹凸形状であるが、その周期的構造のピッチは透過させる光の波長λの1/5〜5倍程度とすることが好ましい。ピッチが波長λの1/5〜1倍である時、屈折率に傾斜性を有する屈折率変化層2として有効に機能することになるためであり、またピッチが1〜5倍である時、周期的構造が回折格子となって回折光学的な効果を得ることができて全反射角以上の光についても回折光によって透過させてしまうことができるためである。
【0037】
ちなみに、図10に示すように凹凸形状が三角テーパ状で屈折率n2の光学媒質から屈折率n1の光学媒質に光が伝播する時、周期的構造のピッチPが波長に比して十分小さい時、山部の幅をa、谷部の幅をbとする時、TE波に対する有効屈折率nEは
【0038】
【数1】
【0039】
となり、TM波に対する有効屈折率nMは
【0040】
【数2】
【0041】
となる。徐々に有効屈折率が変化するために、前述の屈折率の傾斜性を得られるものである。
【0042】
なお、周期的構造のピッチだけでなく、その凹凸形状の凹部の深さDも波長のλの1/5〜5倍程度とすることが好ましく、特にピッチPと同等であることが好ましい。
【0043】
また、周期的構造の微細な凹凸の断面形状であるが、これは上記三角テーパ状であること、特にピッチPと深さDとが同等のアスペクト1のものであることが望ましいが、図11(a)に示すような正弦波形状、図11(b)に示す台形形状、図9(c)に示す矩形形状であってもよい。ただし、屈折率の傾斜性という点からは、三角形状であることが最も望ましく、正弦波形状、台形形状、矩形形状の順に屈折率の傾斜性が少なくなって効率が悪くなる。
【0044】
【発明の効果】
以上のように本発明においては、パルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザによるレーザアブレーション、つまりは多光子吸収によるアブレーションで微細凹凸を形成するために、レーザ波長以下の大きさの光反射損失の低減に極めて有効な微細凹凸形状の形成を簡便に行うことができるものであり、しかも干渉露光のような方法と異なり、レーザ光を2分岐することなく加工することができて加工条件管理が容易なものであり、しかも非接触加工であって微細に集光することも可能であることから、光学媒質が小さな部品であろうと問題なく処理を行うことができるとともに、光学媒質をデバイスなどに組み込む前はもちろん、組み込んだ後でも処理することができる。また、加工エネルギー密度の制御で微細応答形状の周期ピッチを調整するために、光の透過率が最適となるものを容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の一例で得られた光学媒質の断面図である。
【図2】同上の加工エネルギー密度と周期構造間隔との相関の説明図である。
【図3】(a)(b)は同上の光照射方向とピッチとの相関の説明図である。
【図4】(a)はレーザの偏光方向を示す説明図、(b)は微細凹凸形状の周期的構造の方向性を示す正面図(写真)である。
【図5】(a)はレーザの偏光方向を示す説明図、(b)は微細凹凸形状の周期的構造の方向性を示す正面図(写真)である。
【図6】(a)はレーザの偏光方向を示す説明図、(b)は微細凹凸形状の周期的構造の方向性を示す正面図(写真)である。
【図7】(a)はレーザの偏光方向を示す説明図、(b)は微細凹凸形状の周期的構造の方向性を示す正面図(写真)である。
【図8】他例の断面図である。
【図9】更に他例の断面図である。
【図10】微細凹凸形状の拡大断面図である。
【図11】(a)〜(c)は微細凹凸形状の他の断面形状例を示す断面図である。
【符号の説明】
1a 光学媒質
1b 光学媒質
2 屈折率変化層
Claims (11)
- 屈折率が異なる2つの光学媒質の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるにあたり、光学媒質に対するレーザアブレーション用にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いてその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質表面に形成することを特徴とする光学媒質の光入出射部処理方法。
- 周期的構造の方向性をパルスレーザの偏光方向で制御していることを特徴とする請求項1記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- パルスレーザを光学媒質に斜め方向から照射することを特徴とする請求項1または2記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 所定の圧力以下の雰囲気中でレーザアブレーションを行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- レーザアブレーション後に光学媒質におけるレーザ加工面のエッチング処理を行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 屈折率が異なる2つの光学媒質の間にこれら2つの光学媒質の屈折率とは異なる屈折率を有する他の光学媒質を介在させるとともにこれら3つの光学媒質の間の2つの界面のうちの少なくとも一方に周期的構造の微細凹凸形状を設けることを特徴とする請求項1〜5のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 屈折率が異なる2つの光学媒質の間に介在させた他の光学媒質の屈折率を前2者の光学媒質の屈折率より大として、該光学媒質における少なくとも光出射側の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けることを特徴とする請求項6記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 屈折率が異なる2つの光学媒質の間に介在させた他の光学媒質の屈折率を前2者の光学媒質の屈折率の中間の値とし、2つの界面に夫々周期的構造の微細凹凸形状を設けることを特徴とする請求項6記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 微細凹凸形状の周期的構造のピッチを透過させる光の波長の1/5〜5倍とすることを特徴とする請求項1〜8のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 微細凹凸形状の周期的構造の凹部の深さを透過させる光の波長の1/5〜5倍とすることを特徴とする請求項1〜9のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
- 微細凹凸形状の断面形状を三角形状とすることを特徴とする請求項1〜10のいずれかの項に記載の光学媒質の光入出射部処理方法。
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