JP2004349706A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のリソグラフィ投影装置は、2次元配列の複数の源像を生成するためのマイクロレンズ・アレイと、源像に対してシャッタとして働く複数のアドレス指定可能な素子を有するプログラム可能なパターン形成手段と、源像アレイの像を基板上に投影するための投影サブシステムとを有し、それによってより大きい作動距離を得ることができる。
【選択図】図2
Description
放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、
複数のアドレス指定可能な素子を有し、所望のパターンに従って設定されることのできるプログラム可能なパターン形成手段と、
基板を保持するための基板テーブルと、
所望のパターンを基板のターゲット部分の上に転写するための投影システムと
を有するリソグラフィ投影装置に関する。
プログラム可能なパターン形成手段のアドレス指定可能な素子に対応した複数のマイクロレンズを有し、「源像(source image;あるいは、元イメージ)」アレイを形成するマイクロレンズ・アレイと、
源像アレイの像を基板上に投影するための投影サブシステムと
を有することを特徴とするリソグラフィ装置における本発明により達成される。
少なくとも部分的に放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
照明システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
プログラム可能なパターン形成手段の複数のアドレス指定可能な素子を、所望のパターンに従って設定するステップと、
投影システムを用いて、所望のパターンを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に転写するステップと
を含むデバイス製造方法であって、前記投影システムが、
プログラム可能なパターン形成手段のアドレス指定可能な素子に対応した複数のマイクロレンズを有する、源像アレイを形成するためのマイクロレンズ・アレイと
源像アレイの像を基板上に投影するための投影サブシステムと
を有することを特徴とするデバイス製造方法が提供される。
(1)プログラマブル・ミラー・アレイ
このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射面を有する、マトリックス状にアドレス指定可能な表面である。こうした装置の背景となる基本原理は、(例えば)反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、アドレス指定されていない領域が入射光を非回折光として反射することにある。適切なフィルタを用いると、前記非回折光を反射ビームから濾去し、後に回折光のみを残すことができる。このようにして、マトリックス状にアドレス指定可能な表面のアドレス指定されたパターンに従ってビームにパターンが形成される。回折格子光制御弁(GLV)アレイを同様の方法で使用することもできる。各GLVは、入射光を回折光として反射する格子を形成するように互いに対して変形することができる複数の反射性リボンからなる。プログラマブル・ミラー・アレイの別の実施例は、小さいミラーのマトリックス状の配列を使用するものであり、適切な局部電界を印加するか、あるいは電圧作動手段を用いることによりそれぞれのミラーを別々に軸線を中心として傾斜させることができる。ここでも、ミラーはマトリックス状にアドレス指定可能にされ、アドレス指定されたミラーが、入射する放射線ビームを、アドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射する。このようにして、マトリックス状にアドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従って、反射ビームにパターンが形成される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子手段を用いて実施することができる。上述のどちらの場合も、プログラム可能なパターン形成手段は1つまたは複数のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関する他の情報は、例えば米国特許第5,296,891号および第5,523,193号、ならびにPCT特許出願WO98/38597号およびWO98/33096号から得られ、これらを参照によって本明細書に組み込む。
(2)プログラマブルLCDアレイ
このような構成の例は米国特許第5,229,872号に示されており、これを参照によって本明細書に組み込む。
図2は、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ投影装置10を概略的に示している。この装置は、
(1)放射線の投影ビーム(例えばUV放射)を供給するための放射線システムLA、Ex、ILと、
(2)2次元配列の複数の源像を形成するためのマイクロレンズ・アレイ11と、
(3)マイクロレンズ・アレイによって形成された複数の源像に対応する複数のアドレス指定可能な素子を有するプログラム可能なパターン形成手段12(例えばSLM)と、
(4)基板W(例えば、その上にフラット・パネル・ディスプレイが構成されるレジスト塗布ガラス板)を保持するための基板ホルダを備えた基板テーブルWTであって、基板を正確に位置決めするための位置決め手段に接続された基板テーブルWTと、
(5)複数の源像を基板Wの(例えば1つまたは複数のダイの一部を含む)ターゲット部分Cに結像させるための投影サブシステム(「レンズ」)13(例えば、石英および/またはCaF2レンズ・システム、またはそうした材料から作成されたレンズ要素を含む反射屈折光学系、またはミラー・システム)と
を備えている。
本発明の第2の実施例によるリソグラフィ投影装置20を図3に示すが、以下に記載することを除き、第1の実施例と同様である点に留意されたい。
Ex ビーム・エキスパンダ
IF 干渉測定手段
IL 照明器
LA 放射線源
MLA マイクロレンズ・アレイ
PL 投影レンズ・システム
SLM 空間光変調器
W 基板
WT 基板テーブル
10、20 リソグラフィ投影装置
11、23 マイクロレンズ・アレイ
12、21 プログラム可能なパターン形成手段
13、22、24 投影サブシステム
Claims (8)
- 放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、
複数のアドレス指定可能な素子を有し、所望のパターンに従って設定することのできるプログラム可能なパターン形成手段と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記所望のパターンを前記基板のターゲット部分の上に転写するための投影システムと
を有するリソグラフィ投影装置であって、前記投影システムが、
前記プログラム可能なパターン形成手段の前記アドレス指定可能な素子に対応する複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ・アレイであって、源像アレイを形成するためのマイクロレンズ・アレイと、
前記源像アレイの像を前記基板上に投影するための投影サブシステムと
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記照明システムが、実質的に視準された放射線ビームを前記マイクロレンズ・アレイに向けて出力し、該マイクロレンズ・アレイが、そこから源像アレイを形成し、前記プログラム可能なパターン形成手段が、前記マイクロレンズ・アレイの近傍に配置された選択的透過性デバイスであり、それによって前記プログラム可能なパターン形成手段のアドレス指定可能な素子が、前記源像のそれぞれの像を遮るように設定可能であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記プログラム可能なパターン形成手段が、好適には、前記源像の平面に近いことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記投影システムが、前記プログラム可能なパターン形成手段の像を前記マイクロレンズ・アレイに投影するための第2の投影サブシステムをさらに有している請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記プログラム可能なパターン形成手段と前記マイクロレンズ・アレイが異なるピッチおよび/またはアスペクト比を有し、前記第2の投影サブシステムが、前記プログラム可能なパターン形成手段の前記アドレス指定可能な素子を前記マイクロレンズ・アレイのマイクロレンズに適合させるように適切な拡大率または縮小率を有している請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記マイクロレンズ・アレイが、前記源像を球面上に投影するように構成されている請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記投影サブシステムが、前記源像アレイの1:1の像、または縮小像を投影する請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 少なくとも部分的に放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
照明システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
プログラム可能なパターン形成手段の複数のアドレス指定可能な素子を、所望のパターンに従って設定するステップと、
投影システムを用いて、所望のパターンを前記放射線感光材料の層のターゲット部分の上に転写するステップと
を含むデバイス製造方法であって、前記投影システムが、
前記プログラム可能なパターン形成手段の前記アドレス指定可能な素子に対応する複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ・アレイであって、源像アレイを形成するためのマイクロレンズ・アレイと、
前記源像アレイの像を前記基板上に投影するための投影サブシステムと
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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