JP4041791B2 - 光学素子を製造する方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するように働く支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ投影装置に関する。
(1)マスク
マスクの概念はリソグラフィの分野では周知であり、それにはバイナリ・マスク、交互位相シフト・マスク(alternating PSM)および減衰位相シフト・マスク(attenuated PSM)などのマスク・タイプ、ならびに様々なハイブリッド型のマスク・タイプが含まれる。こうしたマスクを放射線ビーム中に配置すると、マスク・パターンに従って、マスク上に衝突する放射線の選択的透過(透過性マスクの場合)または反射(反射性マスクの場合)が行われる。マスクの場合、その支持構造は、一般に入射する放射線ビーム中の所望の位置にマスクを保持できること、および必要であればビームに対してマスクを移動できることを保証するマスク・テーブルである。
(2)プログラマブル・ミラー・アレイ
このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射面を有する、マトリクス状にアドレス指定可能な表面である。こうした装置の背景となる基本原理は、(例えば)反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、アドレス指定されていない領域が入射光を非回折光として反射することにある。適切なフィルタを用いると、前記非回折光を反射ビームから濾去し、後に回折光のみを残すことができる。このようにして、マトリクス状にアドレス指定可能な表面のアドレス指定されたパターンに従ってビームにパターンが形成される。プログラマブル・ミラー・アレイの別の実施例は小さいミラーのマトリクス状の配列を使用するものであり、適切な局部電界を印加するか、あるいは電圧作動手段を用いることによりそれぞれのミラーを別々に軸線を中心に傾斜させることができる。ここでも、ミラーはマトリクス状にアドレス指定可能にされ、アドレス指定されたミラーが、入射する放射線ビームを、アドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射する。このようにして、マトリクス状にアドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従って、反射ビームにパターンが形成される。必要なマトリクス・アドレス指定は、適切な電子手段を用いて実施することができる。上述のどちらの場合も、パターン形成手段は1つまたは複数のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関する他の情報は、例えば米国特許第5,296,891号および第5,523,193号、ならびにPCT特許出願WO98/38597号およびWO98/33096号から得られ、これらを参照によって本明細書に組み込む。プログラマブル・ミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えばフレームまたはテーブルとして実施されることができ、これらは必要に応じて固定することも移動させることもできる。
(3)プログラマブルLCDアレイ
このような構成の例は米国特許第5,229,872号に示されており、これを参照によって本明細書に組み込む。この場合の支持構造は、上述のように、例えば必要に応じて固定することも移動させることもできるフレームまたはテーブルとして実施されることができる。
簡略化のために、本明細書の他の部分では特定の箇所で、特にマスクおよびマスク・テーブルに関する実施例に言及することがあるが、こうした実施例の中で論じる一般原理は、先に述べたように、パターン形成手段のより広い意味において理解すべきである。
(a)基板を提供するステップと、
(b)前記基板の表面上に、第1および第2の材料の交互層を含む多層スタックを堆積させるステップであって、前記2つの材料が相対的なエッチング選択性を提供可能であるステップと、
(c)前記スタックの上にレジスト層を形成するステップと、
(d)前記レジスト層にパターンを形成し、また前記レジスト膜を現像して前記スタックの1または複数の領域を遮蔽のないようにするステップと、
(e)1または複数の遮蔽のない前記スタックの領域をプラズマ・エッチングしてステップ(d)で露出された前記多層スタックの1つの層の一部を除去し、それによってレリーフ状のプロファイルを形成するステップと、
(f)前記レリーフ状のプロファイルの上に膜を堆積させるステップと
を含む光学素子の製造方法によって達成される。
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと
を有するリソグラフィ投影装置であって、上述の方法で製造された光学素子によって特徴づけられるリソグラフィ投影装置が提供される。
少なくとも一部分を放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
放射線システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を用いて投影ビームの断面にパターンを付与するステップと、
パターンが形成された放射線ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に投影するステップと
を含み、上述の方法で製造された回折光学素子を用いて前記投影ビームを回折することを特徴とするデバイス製造方法が提供される。
(1)この特定の場合には放射線源LAをも備えた、放射線の投影ビーム(例えばEUV放射)PBを供給するための放射線システムEx、ILと、
(2)マスクMA(例えばレチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備えた第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTであって、部材PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTと、
(3)基板W(例えばレジスト塗布シリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備えた第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTであって、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTと、
(4)マスクMAの照射された部分を基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分Cに結像させるための投影システム(「レンズ」)PL(例えばミラー群)と
を備えている。本明細書で図示する装置は、(例えば反射性マスクを有する)反射タイプのものである。しかし一般に、例えば(透過性マスクを有する)透過タイプのものであってもよい。あるいは装置には先に言及したタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなど、他の種類のパターン形成手段を用いてもよい。
(1)ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、マスクの像全体を1回(すなわち、ただ1回の「フラッシュ」)でターゲット部分Cの上に結像させる。次いで、異なるターゲット部分CをビームPBで照射することができるように、基板テーブルWTをxおよび/またはy方向に移動させる。
(2)走査モードでは、所与のターゲット部分Cを1回の「フラッシュ」で露光しないことを除けば、本質的に同じ方法が適用される。その代わり、マスク・テーブルMTは速度vで所与の方向(例えばy方向など、いわゆる「走査方向」)に移動可能であり、したがって投影ビームPBはマスクの像全体を走査する。それと同時に、基板テーブルWTを、速度V=Mv(ただし、MはレンズPLの倍率であり、一般にM=1/4または1/5)で同じ方向または反対方向に同時に移動させる。この方法では、解像度を損なうことなく、比較的大きいターゲット部分Cを露光することができる。
CO コンデンサ
Ex ビーム・エキスパンダー
IL 照明器
IN 積算器
LA 放射線源
MA マスク
MT マスク・テーブル
OE 光学素子
PB 投影ビーム
PL レンズ
W 基板
WT 基板テーブル
10 基板
20 多層スタック
20a〜g スタック層
30、34 レジスト
Claims (9)
- リソグラフィ投影装置に用いられる光学素子を製造する方法であって、
前記リソグラフィ投影装置は、
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成する支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、を備えており
前記光学素子を製造する方法は、
(a)基板を提供するステップと、
(b)前記基板の表面上に第1の材料および第2の材料の交互層を含む多層スタックを堆積させるステップであって、前記2つの材料が相対的なエッチング選択性を提供可能であるステップと、
(c)前記スタックの表面上にレジスト層を形成するステップと、
(d)前記レジスト層にパターンを形成し、またこのレジスト層を現像して、前記スタックの1または複数の領域を遮蔽のないようにするステップと、
(e)前記スタックの前記1または複数の遮蔽のない領域をプラズマ・エッチングしてステップ(d)で露出された前記多層スタックの1つの層の一部を除去し、それによってレリーフ状のプロファイルを形成するステップと、
(f)前記レリーフ状のプロファイルの上に膜を堆積させるステップと
を含む、光学素子の製造方法。 - デバイス製造方法に用いられる光学素子を製造する方法であって、
前記デバイス製造方法は、
少なくとも一部分が放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
放射線システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを付与するステップと、
パターンが形成された放射線ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に投影するステップと、を含み、
前記光学素子を用いて前記投影ビームを変化させるものであり、
前記光学素子を製造する方法は、
(a)基板を提供するステップと、
(b)前記基板の表面上に第1の材料および第2の材料の交互層を含む多層スタックを堆積させるステップであって、前記2つの材料が相対的なエッチング選択性を提供可能であるステップと、
(c)前記スタックの表面上にレジスト層を形成するステップと、
(d)前記レジスト層にパターンを形成し、またこのレジスト層を現像して、前記スタックの1または複数の領域を遮蔽のないようにするステップと、
(e)前記スタックの前記1または複数の遮蔽のない領域をプラズマ・エッチングしてステップ(d)で露出された前記多層スタックの1つの層の一部を除去し、それによってレリーフ状のプロファイルを形成するステップと、
(f)前記レリーフ状のプロファイルの上に膜を堆積させるステップと
を含む、光学素子の製造方法。 - 前記ステップ(e)の後に残存するレジストが除去され、前記ステップ(f)の前に、前記ステップ(c)から(e)までが複数回繰り返されることを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記回折光学素子がフレネル・タイプのレンズである請求項1乃至3のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記膜が反射膜である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記膜がブラッグ反射体である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記膜が保護層である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成する支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ投影装置であって、
以下の方法で製造される光学素子を有することを特徴とするリソグラフィ製造装置。
(a)基板を提供するステップ;
(b)前記基板の表面上に第1の材料および第2の材料の交互層を含む多層スタックを堆積させるステップであって、前記2つの材料が相対的なエッチング選択性を提供可能であるステップ;
(c)前記スタックの表面上にレジスト層を形成するステップ;
(d)前記レジスト層にパターンを形成し、またこのレジスト層を現像して、前記スタックの1または複数の領域を遮蔽のないようにするステップ;
(e)前記スタックの前記1または複数の遮蔽のない領域をプラズマ・エッチングしてステップ(d)で露出された前記多層スタックの1つの層の一部を除去し、それによってレリーフ状のプロファイルを形成するステップ;および
(f)前記レリーフ状のプロファイルの上に膜を堆積させるステップ。 - 少なくとも一部分が放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
放射線システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを付与するステップと、
パターンが形成された放射線ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に投影するステップとを含むデバイス製造方法であって、
以下の方法で製造される光学素子を用いて前記投影ビームを変化させることを特徴とするデバイス製造方法。
(a)基板を提供するステップ;
(b)前記基板の表面上に第1の材料および第2の材料の交互層を含む多層スタックを堆積させるステップであって、前記2つの材料が相対的なエッチング選択性を提供可能であるステップ;
(c)前記スタックの表面上にレジスト層を形成するステップ;
(d)前記レジスト層にパターンを形成し、またこのレジスト層を現像して、前記スタックの1または複数の領域を遮蔽のないようにするステップ;
(e)前記スタックの前記1または複数の遮蔽のない領域をプラズマ・エッチングしてステップ(d)で露出された前記多層スタックの1つの層の一部を除去し、それによってレリーフ状のプロファイルを形成するステップ;および
(f)前記レリーフ状のプロファイルの上に膜を堆積させるステップ。
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