JP2004335724A - 半導体装置、これを用いた半導体モジュールおよび半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置40は、IGBT42と、被覆部材41と、放熱板44A,44Bとを備える。被覆部材41は、第1の部分411と、第2の部分412とを有する。第1の部分411は、IGBT42を埋設する。第2の部分412は、一主面4121に凹部413を有する。放熱板44Aは、第1の部分411の一方の側面411Aに設けられ、放熱板44Bは、第1の部分411の他方の側面411Bに設けられる。そして、IGBT42の端子42Aは、被覆部材41の第2の部分412を介して被覆部材41から露出している。
【選択図】 図5
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、冷却媒体に浸漬される半導体装置、これを用いた半導体モジュールおよび半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニットに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
最近、環境に配慮した自動車としてハイブリッド自動車(Hybrid Vehicle)または電気自動車(Electric Vehicle)が大きな注目を集めている。そして、ハイブリッド自動車は、一部、実用化されている。
【0003】
このハイブリッド自動車は、従来のエンジンに加え、直流電源とインバータとインバータによって駆動されるモータとを動力源とする自動車である。つまり、ハイブリッド自動車は、エンジンを駆動することにより動力源を得るとともに、直流電源からの直流電圧をインバータによって交流電圧に変換し、その変換した交流電圧によりモータを回転することによって動力源を得るものである。
【0004】
また、電気自動車は、直流電源とインバータとインバータによって駆動されるモータとを動力源とする自動車である。そして、電気自動車は、直流電源からの直流電圧をインバータによって交流電圧に変換し、その変換した交流電圧によってモータを回転することによって動力源を得る。
【0005】
このように、ハイブリッド自動車または電気自動車は、インバータを搭載しており、インバータは、パワートランジスタ等の半導体スイッチング素子から構成される。そして、半導体スイッチング素子は、駆動によって発熱する。したがって、半導体スイッチング素子からなるインバータを冷却する必要がある。
【0006】
従来、半導体装置の冷却装置としては、特開平4−372159号公報に開示された冷却装置が知られている。図53は、従来の冷却装置の断面図である。図53を参照して、冷却装置200は、容器210と、袋211a,211bと、蓋214a,214bとを備える。
【0007】
容器210は、排気口216と、開口部217a,217bとを有する。そして、容器210には、冷却媒体として水が入れられる。排気口216は、容器210の内部を減圧するための排気口である。袋211a,211bは、イミド樹脂フィルムからなり、容器210のそれぞれ開口部217a,217bに取り付けられる。蓋214a,214bは、それぞれ、開口部217a,217bに取り付けられる。また、蓋214a,214bは、それぞれ、排気口215a,215bを有する。排気口215a,215bは、それぞれ、袋211a,211bの内部を減圧するための排気口である。
【0008】
回路基板212a,212bは、その一方端が、それぞれ、蓋214a,214bに固定されている。そして、回路基板212a,212bは、その両側に半導体チップ213が実装されている。そして、外部リードが回路基板212a,212bに搭載された半導体チップ213に電気信号等が送れるようになっている。
【0009】
冷却装置200においては、容器210に水を入れることによって、柔軟な袋211a,211bは、水の圧力によって半導体チップ213の形状に沿って変形する。したがって、袋211a,211bは、半導体チップ213に密着し、袋211a,211bと半導体チップ213との間に入っていた空気は、排気口215a,215bから外部へ排気される。その結果、熱伝導率の低い空気を排除でき、水による半導体チップ213の冷却効率を向上させることができる。
【0010】
また、排気装置を排気口216に接続し、容器210の内部を減圧することにより、容器210の内部に入れられた水の沸点を低下させる。そうすると、半導体チップ213への電力供給によって半導体チップ213が発熱すると、容器210の内部の水がより低温で沸騰するため、半導体チップ213から効率的に気化熱を奪うことができる。
【0011】
このように、従来の冷却装置は、冷却媒体としての水と半導体チップとの間に袋を介在させ、水の圧力によって袋を半導体チップに密着させることによって半導体チップの冷却効率を高くしている。
【0012】
【特許文献1】
特開平4−372159号公報
【0013】
【特許文献2】
特開平6−104358号公報
【0014】
【特許文献3】
特開平4−129255号公報
【0015】
【特許文献4】
実開平3−6838号公報
【0016】
【特許文献5】
実開平3−32437号公報
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の冷却装置に装着された半導体チップは、外部リードを介して制御回路に接続されるため、冷却器への組付け性が悪いという問題がある。
【0018】
そこで、この発明は、かかる問題を解決するためになされたものであり、その目的は、冷却器への組付け性が良い半導体装置を提供することである。
【0019】
また、この発明の別の目的は、冷却器への組付け性が良い半導体装置を用いた半導体モジュールを提供することである。
【0020】
さらに、この発明の別の目的は、冷却器への組付け性が良い半導体装置を用いた半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニットを提供することである。
【0021】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
この発明によれば、半導体装置は、少なくとも1つの半導体素子と、被覆部材とを備える。被覆部材は、少なくとも1つの半導体素子が埋設された第1の部分と、冷却媒体が流れる冷却器に固定される第2の部分とを含む。そして、少なくとも1つの半導体素子の端子は、被覆部材から露出している。
【0022】
好ましくは、被覆部材の第1の部分は、冷却媒体に浸漬される。
好ましくは、被覆部材の第1および第2の部分の各々は、略平板形状からなる。そして、第1の部分の一方端は、第2の部分の一主面に接する。
【0023】
好ましくは、被覆部材の第2の部分は、冷却器との間で嵌合する嵌合構造を有する。
【0024】
好ましくは、被覆部材の第2の部分は、第1の部分の周囲に形成された凹部を一主面に有する。
【0025】
好ましくは、被覆部材の第2の部分は、第1の部分の周囲に形成された凸部を一主面に有する。
【0026】
好ましくは、被覆部材は、樹脂を成形することにより作製される。
また、この発明によれば、半導体モジュールは、冷却器と、複数の半導体装置と、押付部材とを備える。冷却器は、冷却媒体が流れる冷却路と、冷却路に接した複数の結合部とを有する。複数の半導体装置は、冷却器の複数の結合部に対応して設けられる。押付部材は、複数の半導体装置を冷却器の複数の結合部に押付ける。複数の半導体装置の各々は、少なくとも1つの半導体素子と、被覆部材とを含む。被覆部材は、少なくとも1つの半導体素子が埋設され、かつ、冷却器の結合部を介して冷却媒体に浸漬される第1の部分と、結合部に密着固定される第2の部分とを有する。そして、少なくとも1つの半導体素子の端子は、被覆部材から露出している。
【0027】
好ましくは、第1および第2の部分の各々は、略平板形状からなる。そして、被覆部材の第1の部分の一方端は、第2の部分の一主面に接する。
【0028】
好ましくは、複数の半導体装置は、被覆部材の第1の部分の面内方向が、冷却媒体が流れる方向と略平行になるように配置される。
【0029】
好ましくは、被覆部材の第2の部分は、対応する結合部と嵌合する第1の嵌合部を一主面に有する。そして、複数の結合部の各々は、開口部と、第2の嵌合部とを含む。開口部は、対応する半導体装置の第1の部分が挿入される。第2の嵌合部は、開口部の周囲に設けられ、第1の嵌合部に嵌合する。
【0030】
好ましくは、第1の嵌合部と第2の嵌合部との間は、シール剤によりシールされる。
【0031】
好ましくは、第1の嵌合部は、第1の部分の周囲に形成された凹部からなる。第2の嵌合部は、凹部に嵌合する凸部からなる。
【0032】
好ましくは、第1の嵌合部は、第1の部分の周囲に形成された凸部材からなる。第2の嵌合部は、凸部に嵌合する凹部からなる。
【0033】
好ましくは、押付部材は、複数の半導体装置に対応して設けられ、対応する半導体装置の第2の部分を結合部に押付ける押付部を有する。
【0034】
好ましくは、押付部材は、複数の半導体装置を制御する制御回路が設置された制御基板である。
【0035】
好ましくは、押付部材は、電磁シールド板である。
好ましくは、冷却器は、アルミニウムからなる。
【0036】
好ましくは、冷却媒体は、水である。
さらに、この発明によれば、半導体モジュールユニットは、請求項8から請求項19のいずれか1項に記載の半導体モジュールを備える。
【0037】
この発明においては、半導体装置は、少なくとも1つの半導体素子と被覆部材とを備える。そして、被覆部材は、端子を除いて、少なくとも1つの半導体素子を埋設する第1の部分と、冷却器の結合に固定される第2の部分とを含む。
【0038】
したがって、この発明によれば、複数の半導体装置を用いて半導体モジュールを作製する場合、複数の半導体装置を所定のパターンに配置し、その配置した複数の半導体装置から露出している端子に配線を接続すればよいので、組付け性をよくできる。
【0039】
また、複数の半導体装置を冷却器に固定する場合、複数の半導体装置に対応して設けられた複数の結合部に複数の半導体装置を分散配置すればよいので、半導体装置において熱が発生しても各結合部の膨張量を抑制できる。その結果、各半導体装置の第2の部分と各結合部とのシール面の信頼性を向上させることができる。
【0040】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。
【0041】
[実施の形態1]
図1は、実施の形態1による半導体モジュールの断面図である。図1を参照して、半導体モジュール10は、冷却器1と、複数の半導体装置2と、制御基板3と、ねじ5,6とを備える。
【0042】
冷却器1は、冷却路11と、複数の結合部12と、配管13とを含む。そして、冷却器1は、アルミニウムからなる。冷却路11は、冷却媒体としての水が流れる水路である。複数の結合部12は、冷却路11に接して設けられる。そして、複数の結合部12は、結合部12A,12B,12C,12Dからなる。
【0043】
結合部12Aは、シール面121A,121Bと、開口部122とからなる。シール面121A,121Bは、略三角形であり、かつ、制御基板3の方向に突出した断面形状、すなわち、略三角形の凸断面形状を有する。結合部12B,12C,12Dの各々は、結合部12Aと同じ構成からなる。
【0044】
配管13は、冷却路11に接続され、水を入り口13Aから冷却路11に流し、出口13Bから排出する。したがって、水は、冷却路11において、紙面右から左の方向へ流れる。
【0045】
複数の半導体装置2は、半導体装置2A,2B,2C,2Dを含む。半導体装置2Aは、シール面21A,21Bを有する。半導体装置2Bは、シール面22A,22Bを有する。半導体装置2Cは、シール面23A,23Bを有する。半導体装置2Dは、シール面24A,24Bを有する。シール面21A,21B,22A,22B,23A,23B,24A,24Bの各々は、略三角形であり、かつ、制御基板3の方向に窪んだ断面形状、すなわち、略三角形の凹断面形状を有する。
【0046】
半導体装置2Aは、第1の部分21と第2の部分22とを含む。そして、第1の部分21は、半導体チップが埋設されている。そして、半導体チップの端子は、第2の部分22を介して外部に露出している。半導体装置2B,2C,2Dの各々は、半導体装置2Aと同じ構成からなる。
【0047】
半導体装置2A,2B,2C,2Dは、それぞれ、結合部12A,12B,12C,12Dに固定される。すなわち、半導体装置2A,2B,2C,2Dの第1の部分は、それぞれ、結合部12A,12B,12C,12Dの開口部122を介して冷却路11に挿入され、半導体装置2A,2B,2C,2Dの第2の部分22に設けられたシール面21A,21B;22A,22B;23A,23B;24A,24Bは、それぞれ、結合部12A,12B,12C,12Dのシール面121A,121Bに嵌合する。そして、半導体装置2A,2B,2C,2Dを結合部12A,12B,12C,12Dに装着する場合、シール剤によってシール面21A,21B;22A,22B;23A,23B;24A,24Bがそれぞれ結合部12A,12B,12C,12Dのシール面121A,121Bに接着される。
【0048】
半導体装置2A,2B,2C,2Dの詳細については、後述する。
制御基板3は、押付部31〜38を有する。押付部31,32は、それぞれ、半導体装置2Aのシール面21A,21Bを結合部12Aのシール面121A,121Bに押付ける。押付部33,34は、それぞれ、半導体装置2Bのシール面22A,22Bを結合部12Bのシール面121A,121Bに押付ける。押付部35,36は、それぞれ、半導体装置2Cのシール面23A,23Bを結合部12Cのシール面121A,121Bに押付ける。押付部37,38は、それぞれ、半導体装置2Dのシール面24A,24Bを結合部12Dのシール面121A,121Bに押付ける。
【0049】
ねじ5は、制御基板3の一方端を冷却器1の一方端1Aに固定し、ねじ6は、制御基板3の他方端を冷却器1の他方端1Bに固定する。
【0050】
なお、押付部31,32;33,34;35,36;37,38は、制御基板3がねじ5,6によって冷却器1に取り付けられることによって、それぞれ、半導体装置2A,2B,2C,2Dを結合部12A,12B,12C,12Dに押付ける。
【0051】
図2は、図1に示す冷却器1の複数の結合部12を制御基板3側から見た平面図である。図2を参照して、複数の結合部12は、結合部1211〜1214,1221〜1224,1231〜1234を含む。結合部1211〜1214,1221〜1224,1231〜1234は、碁盤の目状に配置される。結合部1211〜1214,1221〜1224,1231〜1234の各々は、凸部121と、開口部122とを有する。凸部121における断面形状が図1に示すシール面21A,21Bの断面形状に相当する。凸部121は、開口部122の周囲に形成される。
【0052】
複数の結合部2を構成する結合部の数は、半導体モジュール10が駆動する負荷の種類および負荷の容量等に応じて決定される。たとえば、半導体モジュール10が駆動する負荷が三相モータである場合、半導体モジュール10は、6個の半導体チップからなるインバータにより構成される。したがって、複数の結合部2は、6個の結合部から構成される。また、半導体モジュール10が駆動する負荷が三相モータであっても、三相モータの容量が大きい場合、6個の半導体チップによって三相モータの1つの相に電流を供給する。したがって、インバータは、18個の半導体チップにより構成され、複数の結合部2は、18個の結合部を含む。
【0053】
図3は、図1に示す半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々を構成する半導体装置の斜視図である。図3を参照して、半導体装置40は、被覆部材41と、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)42と、ダイオード43と、放熱板44Aとを備える。
【0054】
被覆部材41は、樹脂からなり、第1の部分411と、第2の部分412とを有する。第1および第2の部分411,412は、一体成形される。第1の部分411には、IGBT42およびダイオード43が埋設される。そして、IGBT42の端子42Aおよびダイオード43の端子43Aは、第2の部分412を介して被覆部材41から露出している。
【0055】
したがって、半導体装置40は、端子42A,43Aを除いてIGBT42およびダイオード43を覆うように樹脂を一体成形することにより作製される。
【0056】
放熱板44Aは、被覆部材41の第1の部分411の一方の側面411Aに設けられる。図3においては、第1の部分411の一方の側面411Aに設けられた放熱板44Aのみが示されているが、後述するように第1の部分411の他方の側面にも放熱板が設けられている。つまり、2つの放熱板が第1の部分411の両方の側面に設けられる。
【0057】
図4は、図3に示すA方向から見た半導体装置40の斜視図である。図4を参照して、被覆部材41の第1および第2の部分411,412は、略平板形状からなる。そして、第1の部分411は、その一方端4111が第2の部分412の一主面4121に接している。そして、凹部413は、第1の部分411を囲むように第2の部分412の一主面4121に形成される。この凹部413における断面形状は、図1に示すシール面21A,21B;22A,22B;23A,23B;24A,24Bにおける略三角形の凹断面形状に相当する。
【0058】
図5は、図4に示す線V−V間における半導体装置40の断面図である。図5を参照して、被覆部材41の第1の部分411には、IGBT42が埋設されている。そして、放熱板44Aは、第1の部分411の一方の側面411Aに設けられ、放熱板44Bは、第1の部分411の他方の側面411Bに設けられる。
【0059】
IGBT42の端子42Aは、被覆部材41の第2の部分412を介して被覆部材41から露出している。なお、図5においては、図示されていないが、ダイオード43は、IGBT42と同じように第1の部分411に埋設され、端子43Aが第2の部分412を介して被覆部材41から露出している。
【0060】
このように、半導体装置40においては、IGBT42およびダイオード43(図示せず)の両側に放熱板44A,44Bが設置され、IGBT42およびダイオード43で発生した熱は、放熱板44A,44Bを介して放出される。
【0061】
凹部413は、シール面413A,413Bを有する。そして、シール面413A,413Bは、図1に示すシール面21A,21B;22A,22B;23A,23B;24A,24Bに相当する。
【0062】
再び、図1を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、上述した半導体装置40からなり、半導体装置2A,2B,2C,2Dがそれぞれ結合部12A,12B,12C,12Dの開口部122を介して冷却器1の冷却路11に挿入されると、半導体装置2A,2B,2C,2Dの第1の部分21(すなわち、図5に示す第1の部分411)は、冷却路11を紙面右から左の方向に流れる水によって冷却される。そして、シール面21A,21B;22A,22B;23A,23B;24A,24Bは、それぞれ、結合部12A,12B,12C,12Dのシール面121A,121Bに嵌合し、半導体装置2A,2B,2C,2Dは、分散配置される。その結果、半導体装置2A,2B,2C,2Dが発熱しても結合部12A,12B,12C,12Dの膨張量を抑制できる。また、制御基板3の押付部31,32;33,34;35,36;37,38は、それぞれ、半導体装置2A,2B,2C,2Dを結合部12A,12B,12C,12Dに押付けるので、冷却水が結合部12A,12B,12C,12Dを介して漏れることはない。
【0063】
さらに、IGBT42の端子42Aおよびダイオード43の端子43Aは、制御基板3に設置される制御回路(図示せず)に接続される。したがって、IGBT42は、制御回路から制御信号等を、直接、受けるので、半導体装置2A,2B,2C,2Dの組付け性がよくなる。
【0064】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図6に示す半導体装置40Aであってもよい。図6は、実施の形態1による半導体装置の他の断面図である。
【0065】
図6を参照して、半導体装置40Aは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Aに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Aは、一主面4122に凸部414を有する。凸部414は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。凸部414は、シール面414A,414Bを有する。
【0066】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図7に示す半導体装置40Bであってもよい。図7は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0067】
図7を参照して、半導体装置40Bは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Bに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Bは、平坦部415と枠部416とからなる。平坦部415は、枠部416によって囲まれている。そして、枠部416は、第1の部分411の方向へ突出している。枠部416は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。枠部416は、シール面416A,416Bを有する。
【0068】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図8に示す半導体装置40Cであってもよい。図8は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0069】
図8を参照して、半導体装置40Cは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Cに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Cは、中央部から周辺部に向かう方向に傾斜している傾斜面417A,417Bを有する。そして、傾斜面417A,417Bは、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。
【0070】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図9に示す半導体装置40Dであってもよい。図9は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0071】
図9を参照して、半導体装置40Dは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Dに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Dは、凹部413と、枠部416とを有する。凹部413および枠部416は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。そして、凹部413は、シール面413A,413Bを有し、枠部416は、シール面416A,416Bを有する。
【0072】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図10に示す半導体装置40Eであってもよい。図10は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0073】
図10を参照して、半導体装置40Eは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Eに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Eは、凸部414と、枠部416とを有する。凸部414および枠部416は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。そして、凸部414は、シール面414A,414Bを有し、枠部416は、シール面416A,416Bを有する。
【0074】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図11に示す半導体装置40Fであってもよい。図11は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0075】
図11を参照して、半導体装置40Fは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Fに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Fは、その一主面4123に凹部418を有する。凹部418は、一主面4123に垂直な軸AXに対して左右対称な断面形状を有する。そして、凹部418は、壁4181から軸AXに向かう方向に突出した凸部4182,4182を一主面4123から所定の深さに有する。その結果、凹部418は、矩形の断面形状からなるシール面418A,418Bを有する。凹部418は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。
【0076】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図12に示す半導体装置40Gであってもよい。図12は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0077】
図12を参照して、半導体装置40Gは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Gに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Gは、その一主面4124に凸部419を有する。凸部419は、壁4191から軸AXに向かう方向に突出した凸部4192,4192を一主面4124から所定の位置に有する。その結果、凸部419は、図11に示す凹部418を一主面4123に対して対称移動させた断面形状を有する。そして、凸部419は、矩形の断面形状からなるシール面419A,419Bを有する。凸部419は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。
【0078】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図13に示す半導体装置40Hであってもよい。図13は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0079】
図13を参照して、半導体装置40Hは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Hに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Hは、枠部416と凹部418とを有する。枠部416および凹部418は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。そして、枠部416は、シール面416A,416Bを有し、凹部418は、シール面418A,418Bを有する。
【0080】
実施の形態1による半導体装置2A,2B,2C,2Dの各々は、図14に示す半導体装置40Iであってもよい。図14は、実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0081】
図14を参照して、半導体装置40Iは、半導体装置40の第2の部分412を第2の部分412Iに代えたものであり、その他は、半導体装置40と同じである。第2の部分412Iは、枠部416と凸部419とを有する。枠部416および凸部419は、半導体装置40の凹部413と同じように第1の部分411の周囲に形成される。そして、枠部416は、シール面416A,416Bを有し、凸部419は、シール面418A,419Bを有する。
【0082】
図15は、図6に示す半導体装置40Aに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図15を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Aが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Aが用いられる。結合部50Aは、凹部51と、開口部52とを有する。凹部51は、開口部52の周囲に設けられ、シール面51A,51Bを有する。
【0083】
半導体装置40Aは、上述したように、第2の部分412Aに凸部414のシール面414A,414Bを有する。そして、第1の部分411が結合部50Aの開口部52を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面414A,414Bは、それぞれ、結合部50Aのシール面51A,51Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Aを介して漏洩するのが防止される。
【0084】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Aが第1の部分411の方向へ突出した凸部414を一主面に有する場合にも、半導体装置40Aの第2の部分412Aは、冷却器1の結合部50Aに密着固定される。
【0085】
図16は、図7に示す半導体装置40Bに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図16を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Bが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Bが用いられる。結合部50Bは、枠部53と、開口部54とを有する。枠部53は、開口部54の周囲に設けられ、シール面53A,53Bを有する。
【0086】
半導体装置40Bは、上述したように、第2の部分412Bに枠部416のシール面416A,416Bを有する。そして、第1の部分411が結合部50Bの開口部54を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面416A,416Bは、それぞれ、結合部50Bのシール面53A,53Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Bを介して漏洩するのが防止される。
【0087】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Bが第1の部分411の方向へ突出した枠部416を一主面に有する場合にも、半導体装置40Bの第2の部分412Bは、冷却器1の結合部50Bに密着固定される。
【0088】
図17は、図8に示す半導体装置40Cに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図17を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Cが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Cが用いられる。結合部50Cは、傾斜部55と、開口部56とを有する。傾斜部55は、開口部56の周囲に設けられ、傾斜面55A,55Bを有する。
【0089】
半導体装置40Cは、上述したように、第2の部分412Cに傾斜面417A,417Bを有する。そして、第1の部分411が結合部50Cの開口部56を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、傾斜面417A,417Bは、それぞれ、結合部50Cの傾斜面55A,55Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Cを介して漏洩するのが防止される。
【0090】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Cが傾斜面417A,417Bを有する場合にも、半導体装置40Cの第2の部分412Cは、冷却器1の結合部50Cに密着固定される。
【0091】
図18は、図9に示す半導体装置40Dに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図18を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Dが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Dが用いられる。結合部50Dは、枠部57と、凸部58と、開口部59とを有する。枠部57および凸部58は、開口部59の周囲に設けられ、枠部57は、シール面57A,57Bを有し、凸部58は、シール面58A,58Bを有する。そして、凸部58は、枠部57よりも開口部59側に設けられる。
【0092】
半導体装置40Dは、上述したように、第2の部分412Dに枠部416のシール面416A,416Bと凹部413のシール面413A,413Bとを有する。そして、第1の部分411が結合部50Dの開口部59を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面416A,416Bは、それぞれ、結合部50Dのシール面57A,57Bに嵌合し、シール面413A,413Bは、それぞれ、結合部50Dのシール面58A,58Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Dを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置40Dと結合部50Dとは、2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0093】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Dが枠部416および凹部413を有する場合にも、半導体装置40Dの第2の部分412Dは、冷却器1の結合部50Dに密着固定される。
【0094】
図19は、図10に示す半導体装置40Eに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図19を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Eが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Eが用いられる。結合部50Eは、枠部60と、凹部61と、開口部62とを有する。枠部60および凹部61は、開口部62の周囲に設けられ、枠部60は、シール面60A,60Bを有し、凹部61は、シール面61A,61Bを有する。そして、凹部61は、枠部60よりも開口部62側に設けられる。
【0095】
半導体装置40Eは、上述したように、第2の部分412Eに枠部416のシール面416A,416Bと凸部414のシール面414A,414Bとを有する。そして、第1の部分411が結合部50Eの開口部62を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面416A,416Bは、それぞれ、結合部50Eのシール面60A,60Bに嵌合し、シール面414A,414Bは、それぞれ、結合部50Eのシール面61A,61Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Eを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置40Eと結合部50Eとは、半導体装置40Dと結合部50Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0096】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Eが枠部416および凸部414を有する場合にも、半導体装置40Eの第2の部分412Eは、冷却器1の結合部50Eに密着固定される。
【0097】
図20は、図11に示す半導体装置40Fに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図20を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Fが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Fが用いられる。結合部50Fは、凸部63と、開口部64とを有する。凸部63は、開口部64の周囲に設けられ、凸部63は、シール面63A,63Bを有する。そして、凸部63は、中心軸AXXの方向に向かう凹部631,631を有する。
【0098】
半導体装置40Fは、上述したように、第2の部分412Fに凹部418のシール面418A,418Bを有する。そして、第1の部分411が結合部50Fの開口部64を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面418A,418Bは、それぞれ、結合部50Fのシール面63A,63Bに嵌合する。特に、凹部418の凸部4182,4182は、凸部63の凹部631,631と嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Fを介して漏洩するのが防止される。
【0099】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Fが凹部418を有する場合にも、半導体装置40Fの第2の部分412Fは、冷却器1の結合部50Fに密着固定される。
【0100】
図21は、図12に示す半導体装置40Gに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図21を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Gが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Gが用いられる。結合部50Gは、凹部65と、開口部66とを有する。凹部65は、開口部66の周囲に設けられ、凹部65は、シール面65A,65Bを有する。そして、凹部65は、中心軸AXXの方向に向かう凸部651,651を有する。
【0101】
半導体装置40Gは、上述したように、第2の部分412Gに凸部419のシール面419A,419Bを有する。そして、第1の部分411が結合部50Gの開口部66を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面419A,419Bは、それぞれ、結合部50Gのシール面65A,65Bに嵌合する。特に、凸部419の凹部4192,4192は、凹部65の凸部651,651と嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Gを介して漏洩するのが防止される。
【0102】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Gが凸部419を有する場合にも、半導体装置40Gの第2の部分412Gは、冷却器1の結合部50Gに密着固定される。
【0103】
図22は、図13に示す半導体装置40Hに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図22を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Hが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Hが用いられる。結合部50Hは、枠部67と、凸部63と、開口部68とを有する。枠部67および凸部63は、開口部68の周囲に設けられ、枠部67は、シール面67A,67Bを有し、凸部63は、シール面63A,63Bを有する。そして、凸部63は、枠部67よりも開口部68側に設けられる。
【0104】
半導体装置40Hは、上述したように、第2の部分412Hに枠部416のシール面416A,416Bと凹部418のシール面418A,418Bとを有する。そして、第1の部分411が結合部50Hの開口部68を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面416A,416Bは、それぞれ、結合部50Hのシール面67A,67Bに嵌合し、シール面418A,418Bは、それぞれ、結合部50Hのシール面63A,63Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Hを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置40Hと結合部50Hとは、半導体装置40Dと結合部50Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0105】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Hが枠部416および凹部418を有する場合にも、半導体装置40Hの第2の部分412Hは、冷却器1の結合部50Hに密着固定される。
【0106】
図23は、図14に示す半導体装置40Iに対応する図1に示す結合部12A,12B,12C,12Dの断面図である。図23を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dとして半導体装置40Iが用いられた場合、結合部12A,12B,12C,12Dとして結合部50Iが用いられる。結合部50Iは、枠部69と、凹部65と、開口部70とを有する。枠部69および凹部65は、開口部70の周囲に設けられ、枠部69は、シール面69A,69Bを有し、凹部65は、シール面65A,65Bを有する。そして、凹部65は、枠部69よりも開口部70側に設けられる。
【0107】
半導体装置40Iは、上述したように、第2の部分412Iに枠部416のシール面416A,416Bと凸部419のシール面419A,419Bとを有する。そして、第1の部分411が結合部50Iの開口部70を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面416A,416Bは、それぞれ、結合部50Iのシール面69A,69Bに嵌合し、シール面419A,419Bは、それぞれ、結合部50Iのシール面65A,65Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部50Iを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置40Iと結合部50Iとは、半導体装置40Dと結合部50Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0108】
したがって、被覆部材41の第2の部分412Iが枠部416および凸部419を有する場合にも、半導体装置40Iの第2の部分412Iは、冷却器1の結合部50Iに密着固定される。
【0109】
上述したように、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iが半導体装置2A,2B,2C,2Dとして用いられる場合、冷却器1の結合部12A,12B,12C,12Dは、それぞれ、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iに対応した嵌合構造を有する結合部50A,50B,50C,50D,50E,50F,50G,50H,50Iが用いられる。その結果、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iの第2の部分412A,412B,412C,412D,412E,412F,412G,412H,412Iは、それぞれ、結合部50A,50B,50C,50D,50E,50F,50G,50H,50Iに密着固定される。
【0110】
そして、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iが半導体装置2A,2B,2C,2Dとして用いられた場合にも、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iに埋設されたIGBT42およびダイオード43の端子42A,43Aは、制御基板3に形成された制御回路(図示せず)に接続される。したがって、半導体装置40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iの冷却器1への組付け性はよい。
【0111】
また、半導体モジュール10においては、複数の半導体装置2A,2B,2C,2Dが分散配置されるため、半導体装置2A,2B,2C,2Dが発熱しても、結合部12A,12B,12C,12Dにおける膨張量を抑制することができる。その結果、シール面121A,121Bの信頼性を向上させることができる。
【0112】
図24は、図1に示す半導体装置2A,2B,2C,2Dの配置方向と冷却水の流れる方向との関係を説明するための図である。図24の(a)は、半導体モジュール10の断面図であり、図24の(b)は、半導体モジュール10の制御基板3側から見た平面図である。
【0113】
図24を参照して、半導体装置2A,2B,2C,2Dは、第1の部分411の面内方向が冷却水の流れる方向30と略平行になるように冷却器1に配置される。これにより、冷却水は、冷却路11を流れ易くなり、半導体装置2A,2B,2C,2Dから熱を奪った冷却水は、冷却路11に滞留することなく、冷却路11から流れ出る。その結果、半導体装置2A,2B,2C,2Dの冷却効率を高くすることができ、結合部12A,12B,12C,12Dの膨張量を抑制できる。そして、シール面121A,121Bの信頼性を向上させることができる。したがって、この発明においては、好ましくは、半導体装置2A,2B,2C,2Dは、第1の部分411の面内方向が冷却水の流れる方向30と略平行になるように冷却器1に配置される。
【0114】
なお、この発明においては、半導体モジュール10の制御基板3を電磁シールド板に代えてもよい。
【0115】
また、上記においては、冷却路11に流れる冷却媒体は、水であると説明したが、この発明においては、冷却用のオイルであってもよい。
【0116】
[実施の形態2]
図25は、実施の形態2による半導体モジュールの断面図である。図24を参照して、半導体モジュール100は、冷却器110と、複数の半導体装置120と、制御基板130と、ねじ140,150とを備える。
【0117】
冷却器110は、冷却路111と、複数の結合部112と、配管116とを含む。そして、冷却器110は、アルミニウムからなる。冷却路111は、冷却媒体としての冷却水を流すための水路である。配管116は、冷却路111に接続されている。そして、冷却水は、配管116の入口116Aから配管116の出口116Bの方向へ流れる。
【0118】
複数の結合部112は、結合部112A,112B,112Cからなる。結合部112Aは、開口部113,114と、シール面115A,115Bとを有する。シール面115A,115Bは、略三角形であり、かつ、制御基板130の方向に突出した断面形状、すなわち、略三角形の凸断面形状を有する。結合部112B,112Cの各々は、結合部112Aと同じ構成からなる。
【0119】
複数の半導体装置120は、半導体装置120A,120B,120Cを含む。半導体装置120Aは、シール面141A,141Bを有する。半導体装置120Bは、シール面142A,142Bを有する。半導体装置120Cは、シール面143A,143Bを有する。シール面141A,141B;142A,142B;143A,143Bの各々は、略三角形であり、かつ、制御基板130の方向に窪んだ断面形状、すなわち、略三角形の凹断面形状を有する。
【0120】
半導体装置120Aは、第1の部分125,126と第2の部分127とを含む。そして、第1の部分125,126の各々には、半導体チップが埋設されている。そして、半導体チップの端子は、第2の部分127を介して外部に露出している。半導体装置120B,120Cの各々は、半導体装置120Aと同じ構成からなる。
【0121】
半導体装置120A,120B,120Cは、それぞれ、結合部112A,112B,112Cに固定される。すなわち、半導体装置120Aの第1の部分125,126は、それぞれ、結合部112Aの開口部113,114を介して冷却路111に挿入され、半導体装置120Aの第2の部分127に設けられたシール面141A,141Bは、それぞれ、結合部112Aのシール面115A,115Bに嵌合する。半導体装置120B,120Cについても同様である。このように、半導体装置120A,120B,120Cは、半導体チップが埋設された部分を2個有するので、これに対応して冷却器110の結合部112A,112B,112Cは、2つの開口部113,114を有する。そして、半導体装置120A,120B,120Cを結合部112A,112B,112Cに装着する場合、シール剤によってシール面141A,141B;142A,142B;143A,143Bがそれぞれ結合部112A,112B,112Cのシール面115A,115Bに接着される。
【0122】
半導体装置120A,120B,120Cの詳細については、後述する。
制御基板130は、押付部131〜136を有する。押付部131,132は、それぞれ、半導体装置120Aのシール面141A,141Bを結合部112Aのシール面115A,115Bに押付ける。押付部133,134は、それぞれ、半導体装置120Bのシール面142A,142Bを結合部112Bのシール面115A,115Bに押付ける。押付部135,136は、それぞれ、半導体装置120Cのシール面143A,143Bを結合部112Cのシール面115A,115Bに押付ける。
【0123】
ねじ140は、制御基板130の一方端を冷却器110の一方端110Aに固定し、ねじ150は、制御基板130の他方端を冷却器110の他方端110Bに固定する。
【0124】
なお、押付部131,132;133,134;135,136は、制御基板130がねじ140,150によって冷却器110に取り付けられることによって、それぞれ、半導体装置120A,120B,120Cを結合部112A,112,112Cに押付ける。
【0125】
図26は、図25に示す冷却器110の複数の結合部112を制御基板130側から見た平面図である。図26を参照して、複数の結合部112は、結合部1121A〜1121C,1122A〜1122C,1123A〜1123Cを含む。結合部1121A〜1121C,1122A〜1122C,1123A〜1123Cは、碁盤の目状に配置される。結合部1121A〜1121C,1122A〜1122C,1123A〜1123Cの各々は、開口部113,114と、凸部115とを有する。凸部115における断面形状が図25に示すシール面115A,115Bの断面形状に相当する。凸部115は、開口部113,114の周囲に形成される。
【0126】
複数の結合部112を構成する結合部の数は、実施の形態1における複数の結合部2を構成する結合部の数と同じように決定される。
【0127】
図27は、図25に示す半導体装置120A,120B,120Cの各々を構成する半導体装置の斜視図である。図27を参照して、半導体装置140は、被覆部材141と、IGBT142と、ダイオード143と、放熱板144B,144Dとを備える。
【0128】
被覆部材141は、樹脂からなり、第1の部分1411,1412と、第2の部分1413とを有する。第1および第2の部分1411〜1413は、一体成形される。第1の部分1411,1412の各々には、IGBT142およびダイオード143が埋設される。そして、IGBT142の端子142A,142Bおよびダイオード143の端子143A,143Bは、第2の部分1413を介して被覆部材141から露出している。
【0129】
したがって、半導体装置140は、端子142A,142B,143A,143Bを除いてIGBT142およびダイオード143を覆うように樹脂を一体成形することにより作製される。
【0130】
放熱板144Bは、被覆部材141の第1の部分1411の一方の側面1411Bに設けられる。また、放熱板144Dは、被覆部材141の第1の部分1412の一方の側面1412Bに設けられる。図27においては、第1の部分1411,1412の一方の側面1411B,1412Bに設けられた放熱板144B,144Dが示されているが、後述するように第1の部分1411の他方の側面にも放熱板が設けられ、第1の部分1412の他方の側面にも放熱板が設けられている。つまり、2つの放熱板が第1の部分1411,1412の各々の両方の側面に設けられる。
【0131】
図28は、図27に示すB方向から見た半導体装置140の斜視図である。図28を参照して、被覆部材141の第1および第2の部分1411〜1413は、略平板形状からなる。そして、第1の部分1411の一方端1411aおよび第1の部分1412の一方端1412aは、第2の部分1413の一主面1413aに接している。そして、凹部1414は、第1の部分1411,1412を囲むように第2の部分1413の一主面1413aに形成される。この凹部1414における断面形状は、図25に示すシール面141A,141B;142A,142B;143A,143Bにおける略三角形の凹断面形状に相当する。
【0132】
図29は、図28に示す線XXIX−XXIX間における半導体装置140の断面図である。図29を参照して、被覆部材141の第1の部分1411,1412には、IGBT142が埋設されている。そして、放熱板144Aは、第1の部分1411の一方の側面1411Aに設けられ、放熱板44Bは、第1の部分1411の他方の側面1411Bに設けられる。また、放熱板144Cは、第1の部分1412の一方の側面1412Aに設けられ、放熱板144Dは、第1の部分1412の他方の側面1412Bに設けられる。
【0133】
IGBT142の端子142A,142Bは、被覆部材141の第2の部分1413を介して被覆部材141から露出している。なお、図29においては、図示されていないが、ダイオード143は、IGBT142と同じように第1の部分1411,1412に埋設され、端子143Aが第2の部分1413を介して被覆部材141から露出している。
【0134】
このように、半導体装置140においては、IGBT142およびダイオード143(図示せず)の両側に放熱板144A,144B;144C,144Dが設置され、IGBT142およびダイオード143で発生した熱は、放熱板144A,144B;144C,144Dを介して放出される。
【0135】
凹部1414は、シール面1414A,1414Bを有する。そして、シール面1414A,1414Bは、図25に示すシール面141A,141B;142A,142B;143A,143Bに相当する。
【0136】
再び、図25を参照して、半導体装置120A,120B,120Cの各々は、上述した半導体装置140からなり、半導体装置120A,120B,120Cがそれぞれ結合部112A,112B,112Cの開口部113,114を介して冷却器110の冷却路111に挿入されると、半導体装置120A,120B,120Cの第1の部分125,126(すなわち、図29に示す第1の部分1411,1412)は、冷却路111を紙面右から左の方向に流れる水によって冷却される。そして、シール面141A,141B;142A,142B;143A,143Bは、それぞれ、結合部112A,112B,112Cのシール面115A,115Bに嵌合し、制御基板130の押付部131,132;133,134;135,136は、それぞれ、半導体装置120A,120B,120Cを結合部112A,112B,112Cに押付けるので、冷却水が結合部112A,112B,112Cを介して漏れることはない。
【0137】
また、IGBT142の端子142A,142Bおよびダイオード143の端子143A,143Bは、制御基板130に設置される制御回路(図示せず)に接続される。したがって、IGBT142は、制御回路から制御信号等を、直接、受けるので、半導体装置120A,120B,120Cの組付け性がよい。
【0138】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120C,120Dの各々は、図30に示す半導体装置140Aであってもよい。図30は、実施の形態2による半導体装置の他の断面図である。
【0139】
図30を参照して、半導体装置140Aは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Aに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Aは、一主面1413bに凸部1415を有する。凸部1415は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。凸部1415は、シール面1415A,1415Bを有する。
【0140】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図31に示す半導体装置140Bであってもよい。図31は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0141】
図31を参照して、半導体装置140Bは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Bに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Bは、平坦部1416と枠部1417とからなる。平坦部1416は、枠部1417によって囲まれている。そして、枠部1417は、第1の部分1411,1412の方向へ突出している。枠部1417は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。枠部1417は、シール面1417A,1417Bを有する。
【0142】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図32に示す半導体装置140Cであってもよい。図32は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0143】
図32を参照して、半導体装置140Cは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Cに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Cは、第1の部分1411,1412が接している第2の部分1413の位置から周辺部に向かう方向に傾斜している傾斜面1418A,1418Bを有する。そして、傾斜面1418A,1418Bは、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。
【0144】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図33に示す半導体装置140Dであってもよい。図33は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0145】
図33を参照して、半導体装置140Dは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Dに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Dは、凹部1414と、枠部1417とを有する。凹部1414および枠部1417は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。そして、凹部1414は、シール面1414A,1414Bを有し、枠部1417は、シール面1417A,1417Bを有する。
【0146】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図34に示す半導体装置140Eであってもよい。図34は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0147】
図34を参照して、半導体装置140Eは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Eに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Eは、凸部1415と、枠部1417とを有する。凸部1415および枠部1417は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。そして、凸部1415は、シール面1415A,1415Bを有し、枠部1417は、シール面1417A,1417Bを有する。
【0148】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図35に示す半導体装置140Fであってもよい。図35は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0149】
図35を参照して、半導体装置140Fは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Fに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Fは、その一主面1413cに凹部1418を有する。凹部1418は、一主面1413cに垂直な軸BXに対して左右対称な断面形状を有する。そして、凹部1418は、壁1419から軸BXに向かう方向に突出した凸部1420,1420を一主面1413cから所定の深さに有する。その結果、凹部1418は、矩形の断面形状からなるシール面1419A,1419Bを有する。凹部1418は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。
【0150】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図36に示す半導体装置140Gであってもよい。図36は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0151】
図36を参照して、半導体装置140Gは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Gに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Gは、その一主面1413dに凸部1421を有する。凸部1421は、壁1422から軸BXに向かう方向に突出した凹部1423,1423を一主面1413dから所定の位置に有する。その結果、凸部1421は、図35に示す凹部1418を一主面1413cに対して対称移動させた断面形状を有する。そして、凸部1421は、矩形の断面形状からなるシール面1421A,1421Bを有する。凸部1421は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。
【0152】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図37に示す半導体装置140Hであってもよい。図37は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0153】
図37を参照して、半導体装置140Hは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Hに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Hは、枠部1417と凹部1418とを有する。枠部1417および凹部1418は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。そして、枠部1417は、シール面1417A,1417Bを有し、凹部1418は、シール面1419A,1419Bを有する。
【0154】
実施の形態2による半導体装置120A,120B,120Cの各々は、図38に示す半導体装置140Iであってもよい。図38は、実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【0155】
図38を参照して、半導体装置140Iは、半導体装置140の第2の部分1413を第2の部分1413Iに代えたものであり、その他は、半導体装置140と同じである。第2の部分1413Iは、枠部1417と凸部1421とを有する。枠部1417および凸部1421は、半導体装置140の凹部1414と同じように第1の部分1411,1412の周囲に形成される。そして、枠部1417は、シール面1417A,1417Bを有し、凸部1421は、シール面1421A,1421Bを有する。
【0156】
図39は、図30に示す半導体装置140Aに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図39を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Aが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Aが用いられる。結合部150Aは、凹部151と、開口部152,153とを有する。凹部151は、開口部152,153の周囲に設けられ、シール面151A,151Bを有する。
【0157】
半導体装置140Aは、上述したように、第2の部分1413Aに凸部1415のシール面1415A,1415Bを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Aのそれぞれ開口部152,153を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1415A,1415Bは、それぞれ、結合部150Aのシール面151A,151Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Aを介して漏洩するのが防止される。
【0158】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Aが第1の部分1411,1412の方向へ突出した凸部1415を一主面に有する場合にも、半導体装置140Aの第2の部分1413Aは、冷却器110の結合部150Aに密着固定される。
【0159】
図40は、図31に示す半導体装置140Bに対応する図25に示す結合部112A,112B,112CDの断面図である。図40を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Bが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Bが用いられる。結合部150Bは、枠部154と、開口部155,156とを有する。枠部154は、開口部155,156の周囲に設けられ、シール面154A,154Bを有する。
【0160】
半導体装置140Bは、上述したように、第2の部分1413Bに枠部1417のシール面1417A,1417Bを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Bのそれぞれ開口部155,156を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1417A,1417Bは、それぞれ、結合部150Bのシール面154A,154Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Bを介して漏洩するのが防止される。
【0161】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Bが第1の部分1411,1412の方向へ突出した枠部1417を一主面に有する場合にも、半導体装置140Bの第2の部分1413Bは、冷却器110の結合部150Bに密着固定される。
【0162】
図41は、図32に示す半導体装置140Cに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図41を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Cが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Cが用いられる。結合部150Cは、傾斜部157と、開口部158,159とを有する。傾斜部157は、開口部158,159の周囲に設けられ、傾斜面157A,157Bを有する。
【0163】
半導体装置140Cは、上述したように、第2の部分1413Cに傾斜面1418A,1418Bを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Cのそれぞれ開口部158,159を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、傾斜面1418A,1418Bは、それぞれ、結合部150Cの傾斜面157A,157Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Cを介して漏洩するのが防止される。
【0164】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Cが傾斜面1418A,1418Bを有する場合にも、半導体装置140Cの第2の部分1413Cは、冷却器110の結合部150Cに密着固定される。
【0165】
図42は、図33に示す半導体装置140Dに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図42を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Dが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Dが用いられる。結合部150Dは、枠部160と、凸部161と、開口部162,163とを有する。枠部160および凸部161は、開口部162,163の周囲に設けられ、枠部160は、シール面160A,160Bを有し、凸部161は、シール面161A,161Bを有する。そして、凸部161は、枠部160よりも開口部162,163側に設けられる。
【0166】
半導体装置140Dは、上述したように、第2の部分1413Dに枠部1417のシール面1417A,1417Bと凹部1414のシール面1414A,1414Bとを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Dのそれぞれ開口部162,163を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1417A,1417Bは、それぞれ、結合部150Dのシール面160A,160Bに嵌合し、シール面1414A,1414Bは、それぞれ、結合部150Dのシール面161A,161Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Dを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置140Dと結合部150Dとは、2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0167】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Dが枠部1417および凹部1414を有する場合にも、半導体装置140Dの第2の部分1413Dは、冷却器110の結合部150Dに密着固定される。
【0168】
図43は、図34に示す半導体装置140Eに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図43を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Eが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Eが用いられる。結合部150Eは、枠部164と、凹部165と、開口部166,167とを有する。枠部164および凹部165は、開口部166,167の周囲に設けられ、枠部164は、シール面164A,164Bを有し、凹部165は、シール面165A,165Bを有する。そして、凹部165は、枠部164よりも開口部166,167側に設けられる。
【0169】
半導体装置140Eは、上述したように、第2の部分1413Eに枠部1417のシール面1417A,1417Bと凸部1415のシール面1415A,1415Bとを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Eのそれぞれ開口部166,167を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1417A,1417Bは、それぞれ、結合部150Eのシール面164A,164Bに嵌合し、シール面1415A,1415Bは、それぞれ、結合部150Eのシール面165A,165Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Eを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置140Eと結合部150Eとは、半導体装置140Dと結合部150Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0170】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Eが枠部1417および凸部1415を有する場合にも、半導体装置140Eの第2の部分1413Eは、冷却器110の結合部150Eに密着固定される。
【0171】
図44は、図35に示す半導体装置140Fに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図44を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Fが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Fが用いられる。結合部150Fは、凸部168と、開口部169,170とを有する。凸部168は、開口部169,170の周囲に設けられ、凸部168は、シール面168A,168Bを有する。そして、凸部168は、中心軸BXXの方向に向かう凹部1681,1681を有する。
【0172】
半導体装置140Fは、上述したように、第2の部分1413Fに凹部1418のシール面1419A,1419Bを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Fのそれぞれ開口部169,170を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1419A,1419Bは、それぞれ、結合部150Fのシール面168A,168Bに嵌合する。特に、凹部1418の凸部1420,1420は、凸部168の凹部1681,1681と嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Fを介して漏洩するのが防止される。
【0173】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Fが凹部1418を有する場合にも、半導体装置140Fの第2の部分1413Fは、冷却器110の結合部150Fに密着固定される。
【0174】
図45は、図36に示す半導体装置140Gに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図45を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Gが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Gが用いられる。結合部150Gは、凹部171と、開口部172,173とを有する。凹部171は、開口部172,173の周囲に設けられ、凹部171は、シール面171A,171Bを有する。そして、凹部171は、中心軸BXXの方向に向かう凸部1711,1711を有する。
【0175】
半導体装置140Gは、上述したように、第2の部分1413Gに凸部1421のシール面1421A,1421Bを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Gのそれぞれ開口部172,173を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1421A,1421Bは、それぞれ、結合部150Gのシール面171A,171Bに嵌合する。特に、凸部1421の凹部1423,1423は、凹部171の凸部1711,1711と嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Gを介して漏洩するのが防止される。
【0176】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Gが凸部1421を有する場合にも、半導体装置140Gの第2の部分1413Gは、冷却器110の結合部150Gに密着固定される。
【0177】
図46は、図37に示す半導体装置140Hに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図46を参照して、半導体装置120A,120,120Cとして半導体装置140Hが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Hが用いられる。結合部150Hは、枠部174と、凸部168と、開口部175,176とを有する。枠部174および凸部168は、開口部175,176の周囲に設けられ、枠部174は、シール面174A,174Bを有し、凸部168は、シール面168A,168Bを有する。そして、凸部168は、枠部174よりも開口部175,176側に設けられる。
【0178】
半導体装置140Hは、上述したように、第2の部分1413Hに枠部1417のシール面1417A,1417Bと凹部1418のシール面1419A,1419Bとを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Hのそれぞれ開口部175,176を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1417A,1417Bは、それぞれ、結合部150Hのシール面174A,174Bに嵌合し、シール面1419A,1419Bは、それぞれ、結合部150Hのシール面168A,168Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Hを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置140Hと結合部150Hとは、半導体装置140Dと結合部150Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0179】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Hが枠部1417および凹部1418を有する場合にも、半導体装置140Hの第2の部分1413Hは、冷却器110の結合部150Hに密着固定される。
【0180】
図47は、図38に示す半導体装置140Iに対応する図25に示す結合部112A,112B,112Cの断面図である。図47を参照して、半導体装置120A,120B,120Cとして半導体装置140Iが用いられた場合、結合部112A,112B,112Cとして結合部150Iが用いられる。結合部150Iは、枠部177と、凹部171と、開口部178,179とを有する。枠部177および凹部171は、開口部178,179の周囲に設けられ、枠部177は、シール面177A,177Bを有し、凹部171は、シール面171A,171Bを有する。そして、凹部171は、枠部177よりも開口部178,179側に設けられる。
【0181】
半導体装置140Iは、上述したように、第2の部分1413Iに枠部1417のシール面1417A,1417Bと凸部1421のシール面1421A,1421Bとを有する。そして、第1の部分1411,1412が結合部150Iのそれぞれ開口部178,179を介して冷却路(図示せず)に挿入されると、シール面1417A,1417Bは、それぞれ、結合部150Iのシール面177A,177Bに嵌合し、シール面1421A,1421Bは、それぞれ、結合部150Iのシール面171A,171Bに嵌合する。そして、冷却路を流れる冷却水が結合部150Iを介して漏洩するのが防止される。特に、半導体装置140Iと結合部150Iとは、半導体装置140Dと結合部150Dとの場合と同じように2箇所で嵌合するため、冷却路の冷却水の漏洩は、さらに防止される。
【0182】
したがって、被覆部材141の第2の部分1413Iが枠部1417および凸部1421を有する場合にも、半導体装置140Iの第2の部分1413Iは、冷却器110の結合部150Iに密着固定される。
【0183】
上述したように、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iが半導体装置120A,120B,120Cとして用いられる場合、冷却器110の結合部112A,112B,112Cは、それぞれ、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iに対応した嵌合構造を有する結合部150A,150B,150C,150D,150E,150F,150G,150H,150Iが用いられる。その結果、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iの第2の部分1413A,1413B,1413C,1413D,1413E,1413F,1413G,1413H,1413Iは、それぞれ、結合部150A,150B,150C,150D,150E,150F,150G,150H,150Iに密着固定される。
【0184】
そして、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iが半導体装置120A,120B,120Cとして用いられた場合にも、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iに埋設されたIGBT142およびダイオード143の端子142A,142B,143A,143Bは、制御基板130に形成された制御回路(図示せず)に接続される。したがって、半導体装置140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iの冷却器110への組付け性はよい。
【0185】
また、半導体モジュール100においては、複数の半導体装置120A,120B,120Cが分散配置されるため、半導体装置120A,120B,120Cが発熱しても、結合部112A,112B,112Cにおける膨張量を抑制することができる。その結果、シール面115A,115Bの信頼性を向上させることができる。
【0186】
なお、上記においては、半導体装置140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iは、冷却水に浸漬される2個の第1の部分1411,1412を有すると説明したが、この発明は、これに限らず、半導体装置140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iの各々は、各々がIGBTおよびダイオードを埋設する複数の第1の部分を有していてもよい。
【0187】
また、半導体モジュール100においても、半導体装置120A,120B,120Cは、好ましくは、第1の部分1411,1412の面内方向が冷却水の流れる方向に略平行になるように結合部112A,112B,112Cに配置される。
【0188】
その他は、実施の形態1と同じである。
[応用例]
上述した半導体モジュール10,100は、負荷としての三相モータを駆動するとき、インバータからなる。
【0189】
図48は、図1に示す半導体モジュール10または図25に示す半導体モジュール100を用いたモータ駆動装置の概略ブロック図である。図48を参照して、モータ駆動装置90は、直流電源B1と、コンバータ75と、コンデンサC1と、インバータ80とを備える。
【0190】
コンバータ75は、リアクトルL1とスイッチング回路71とを含む。スイッチング回路71は、IGBTQ1,Q2と、ダイオードD1,D2とからなる。リアクトルL1は、その一方端が直流電源B1の電源ラインに接続され、他方端がIGBTQ1とIGBTQ2との中間点、すなわち、IGBTQ1のエミッタとIGBTQ2のコレクタとの間に接続される。
【0191】
IGBTQ1およびQ2は、インバータ80の電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続される。そして、IGBTQ1は、コレクタが電源ライン81に接続され、エミッタがIGBTQ2のコレクタに接続される。IGBTQ2は、エミッタがアースラインに接続される。各IGBTQ1,Q2のエミッタ−コレクタ間には、エミッタ側からコレクタ側へ電流を流すダイオードD1,D2がそれぞれ接続されている。
【0192】
コンデンサC1は、電源ライン81とアースライン82との間にコンバータ75およびインバータ80に並列に接続される。
【0193】
インバータ80は、U相アーム15、V相アーム16およびW相アーム17を含む。U相アーム15、V相アーム16およびW相アーム17は、電源ライン81とアースライン82との間に並列に接続される。
【0194】
U相アーム15は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ3,Q4から成る。V相アーム16は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ5,Q6から成る。W相アーム17は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ7,Q8から成る。
【0195】
IGBTQ3,Q5,Q7は、コレクタが電源ライン81に接続され、エミッタがそれぞれIGBTQ4,Q6,Q8のコレクタに接続される。IGBTQ4,Q6,Q8は、エミッタがアースライン82に接続される。また、各IGBTQ3〜Q8のエミッタ−コレクタ間には、エミッタ側からコレクタ側へ電流を流すダイオードD3〜D8がそれぞれ接続されている。
【0196】
インバータ80の各相アームの中間点は、モータジェネレータMG1の3相コイルの各相コイルの各相端に接続されている。すなわち、3相コイルのU相、V相およびW相の3つのコイルの一端が中性点に共通接続されて構成され、U相コイルの他端がIGBTQ3,Q4の中間点に、V相コイルの他端がIGBTQ5,Q6の中間点に、W相コイルの他端がIGBTQ7,Q8の中間点にそれぞれ接続されている。
【0197】
IGBTQ1およびダイオードD1は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0198】
IGBTQ2およびダイオードD2は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0199】
IGBTQ3およびダイオードD3は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0200】
IGBTQ4およびダイオードD4は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0201】
IGBTQ5およびダイオードD5は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0202】
IGBTQ6およびダイオードD6は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0203】
IGBTQ7およびダイオードD7は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0204】
IGBTQ8およびダイオードD8は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0205】
また、IGBTQ1,Q2およびダイオードD1,D2、IGBTQ3,Q4およびダイオードD3,D4、IGBTQ5,Q6およびダイオードD5,D6、およびIGBTQ7,Q8およびダイオードD7,D8の各々は、半導体装置140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iのいずれかによって構成されてもよい。
【0206】
直流電源B1は、直流電圧を出力する。コンバータ75は、制御基板3または130上に設けられた制御回路(図示せず)からの制御信号によって直流電源B1からの直流電圧を昇圧してコンデンサC1に供給する。また、コンバータ75は、インバータ80からコンデンサC1を介して供給された直流電圧を制御回路からの制御信号によって降圧して直流電源B1に供給する。
【0207】
コンデンサC1は、コンバータ75から供給された直流電圧を平滑化してインバータ80へ供給し、またはインバータ80から供給された直流電圧を平滑化してコンバータ75へ供給する。
【0208】
インバータ80は、コンデンサC1を介してコンバータ75から供給された直流電圧を制御回路からの制御信号によって交流電圧に変換してモータジェネレータMG1を駆動する。また、インバータ80は、モータジェネレータMG1が発電した交流電圧を制御回路からの制御信号によって直流電圧に変換してコンデンサC1に供給する。
【0209】
このように、モータ駆動装置90は、直流電源B1からの直流電圧を昇圧し、その昇圧した直流電圧を交流電圧に変換してモータジェネレータMG1を駆動するとともに、モータジェネレータMG1が発電した交流電圧を直流電圧に変換し、さらに降圧して直流電源B1を充電する。
【0210】
そして、モータ駆動装置90において、コンバータ75のスイッチング回路71およびインバータ80は、半導体モジュール10または100によって構成されるので、IGBTQ1〜Q8およびダイオードD1〜D8は、複数の半導体装置2または120として冷却器1または110の複数の結合部12または112に分散配置され、冷却水に浸漬される(図1および図25を参照)。
【0211】
したがって、スイッチング回路71およびインバータ80を作製する際のIGBTQ1〜Q8およびダイオードD1〜D8の組付け性をよくでき、IGBTQ1〜Q8およびダイオードD1〜D8の発熱による複数の結合部2または112の膨張量を抑制できる。その結果、シール面121A,121B;115A,115Bの信頼性を向上させることができる。
【0212】
図49は、図1に示す半導体モジュール10または図25に示す半導体モジュール100を用いたモータ駆動装置の他の概略ブロック図である。図49を参照して、モータ駆動装置90Aは、直流電源B2と、コンデンサC1と、インバータ80,83とを備える。
【0213】
コンデンサC1およびインバータ80については、上述したとおりである。
インバータ83は、U相アーム18、V相アーム19およびW相アーム20を含む。U相アーム18、V相アーム19およびW相アーム20は、電源ライン81とアースライン82との間に並列に接続される。
【0214】
U相アーム18は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ9,Q10から成る。V相アーム19は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ11,Q12から成る。W相アーム20は、電源ライン81とアースライン82との間に直列に接続されたIGBTQ13,Q14から成る。
【0215】
IGBTQ9,Q11,Q13は、コレクタが電源ライン81に接続され、エミッタがそれぞれIGBTQ10,Q12,Q14のコレクタに接続される。IGBTQ10,Q12,Q14は、エミッタがアースライン82に接続される。また、各IGBTQ9〜Q14のエミッタ−コレクタ間には、エミッタ側からコレクタ側へ電流を流すダイオードD9〜D14がそれぞれ接続されている。
【0216】
インバータ83の各相アームの中間点は、モータジェネレータMG2の3相コイルの各相コイルの各相端に接続されている。すなわち、3相コイルのU相、V相およびW相の3つのコイルの一端が中性点に共通接続されて構成され、U相コイルの他端がIGBTQ9,Q10の中間点に、V相コイルの他端がIGBTQ11,Q12の中間点に、W相コイルの他端がIGBTQ13,Q14の中間点にそれぞれ接続されている。
【0217】
IGBTQ9およびダイオードD9は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0218】
IGBTQ10およびダイオードD10は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0219】
IGBTQ11およびダイオードD11は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0220】
IGBTQ12およびダイオードD12は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0221】
IGBTQ13およびダイオードD13は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0222】
IGBTQ14およびダイオードD14は、それぞれ、IGBT42およびダイオード43に相当し、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかによって構成される。
【0223】
また、IGBTQ9,Q10およびダイオードD9,D10、IGBTQ11,Q12およびダイオードD11,D12、およびIGBTQ13,Q14およびダイオードD13,D14の各々は、半導体装置140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iのいずれかによって構成されてもよい。
【0224】
直流電源B2は、直流電圧を出力する。インバータ83は、コンデンサC1を介して直流電源B2から供給された直流電圧を制御回路からの制御信号によって交流電圧に変換してモータジェネレータMG2を駆動する。また、インバータ83は、モータジェネレータMG2が発電した交流電圧を制御回路からの制御信号によって直流電圧に変換してコンデンサC1に供給する。
【0225】
モータ駆動装置90Aにおいては、直流電圧B2は、ノードN1,N2を介して直流電圧をコンデンサC1に供給し、コンデンサC1は、ノードN1,N2を介して直流電源B2から受けた直流電圧を平滑化してインバータ80,83へ供給する。
【0226】
インバータ80は、コンデンサC1から供給された直流電圧を制御回路(図示せず)からの制御信号によって交流電圧に変換してモータジェネレータMG1を駆動する。また、インバータ83は、コンデンサC1から供給された直流電圧を制御回路からの制御信号によって交流電圧に変換してモータジェネレータMG2を駆動する。
【0227】
モータジェネレータMG1の発電時、インバータ80は、モータジェネレータMG1が発電した交流電圧を制御回路からの制御信号によって直流電圧に変換してコンデンサC1に供給する。また、モータジェネレータMG2の発電時、インバータ83は、モータジェネレータMG2が発電した交流電圧を制御回路からの制御信号によって直流電圧に変換してコンデンサC1に供給する。そして、コンデンサC1は、インバータ80,83からの直流電圧を平滑化して直流電源B2に供給する。
【0228】
このように、モータ駆動装置90Aは、直流電源B2からの直流電圧を交流電圧に変換してモータジェネレータMG1,MG2を駆動するとともに、モータジェネレータMG1,MG2が発電した交流電圧を直流電圧に変換して直流電源B2を充電する。
【0229】
そして、モータ駆動装置90Aにおいて、インバータ80,83は、半導体モジュール10または100によって構成されるので、IGBTQ3〜Q14およびダイオードD3〜D14は、複数の半導体装置2または120として冷却器1または110の複数の結合部12または112に分散配置され、冷却水に浸漬される(図1および図25を参照)。
【0230】
したがって、インバータ80,83を作製する際のIGBTQ3〜Q14およびダイオードD3〜D14の組付け性をよくでき、IGBTQ3〜Q14およびダイオードD3〜D14の発熱による複数の結合部2または112の膨張量を抑制できる。その結果、シール面121A,121B;115A,115Bの信頼性を向上させることができる。
【0231】
半導体モジュール10がインバータを構成する場合、複数の半導体装置2の配置方法は、負荷の容量によって異なる。図50は、負荷の容量が大きい場合の複数の半導体装置2の平面配置図である。
【0232】
負荷の容量が大きい場合、その負荷を駆動するインバータは、たとえば、600Aの容量を有する。図50を参照して、インバータ84は、半導体装置SD1〜SD18からなる。半導体装置SD1〜SD18の各々は、IGBT42とダイオード43とを含み、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかからなる。
【0233】
半導体装置SD1〜SD6は、U相アームを構成し、半導体装置SD7〜SD12は、V相アームを構成し、半導体装置SD13〜SD18は、W相アームを構成する。
【0234】
また、半導体装置SD1〜SD3は、U相アームの上アームを構成し、半導体装置SD4〜SD6は、U相アームの下アームを構成する。半導体装置SD7〜SD9は、V相アームの上アームを構成し、半導体装置SD10〜SD12は、V相アームの下アームを構成する。半導体装置SD13〜SD15は、W相アームの上アームを構成し、半導体装置SD16〜SD18は、W相アームの下アームを構成する。
【0235】
そして、半導体装置SD1〜SD3,SD7〜SD9,SD13〜SD15は、それぞれ、半導体装置SD4〜SD6,SD10〜SD12,SD16〜SD18と直列に接続される。
【0236】
図51は、負荷の容量が小さい場合の複数の半導体装置2の平面配置図である。
【0237】
負荷の容量が小さい場合、その負荷を駆動するインバータは、たとえば、200Aの容量を有する。図51を参照して、インバータ85は、半導体装置SD1〜SD6からなる。半導体装置SD1〜SD6の各々は、IGBT42とダイオード43とを含み、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40Iのいずれかからなる。
【0238】
半導体装置SD1およびSD4は、直列に接続され、U相アームを構成する。半導体装置SD2およびSD5は、直列に接続され、V相アームを構成する。半導体装置SD3およびSD6は、直列に接続され、W相アームを構成する。
【0239】
このように、半導体モジュール10においては、複数の半導体装置2の配置方法は、負荷の容量に応じて変化する。
【0240】
図52は、図1に示す半導体モジュール10または図25に示す半導体モジュール100を用いた半導体モジュールユニットの斜視図である。
【0241】
図52を参照して、半導体モジュールユニット190は、上述したコンバータ75およびインバータ80を備える。そして、コンバータ75のスイッチング回路(図示せず)およびインバータ80は、半導体モジュール10または100によって構成される。冷却水86は、コンバータ75およびインバータ80を冷却する。コンバータ75は、リアクトルL1およびスイッチング回路71を含むので、リアクトルL1、IGBTQ1〜Q8およびダイオードD1〜D8は、冷却水86によって冷却される。
【0242】
半導体モジュールユニット190は、自動車に搭載されるラジエータに連結され、冷却水86はラジエータから供給される。したがって、ラジエータを含めて半導体モジュールユニット190として構成してもよい。
【0243】
また、半導体モジュールユニット190は、コンバータ75を削除し、2つのインバータ80,83を備えるようにしてもよい。
【0244】
上記においては、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40I,140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iは、IGBT42,142を含むと説明したが、この発明は、これに限らず、半導体装置40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40I,140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140Iは、一般に、NPNトランジスタおよびMOSトランジスタ等の半導体スイッチング素子を含む。
【0245】
また、この発明においては、半導体装置の第1の部分は、少なくとも1つの半導体スイッチング素子を含めばよい。
【0246】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1による半導体モジュールの断面図である。
【図2】図1に示す冷却器の複数の結合部を制御基板側から見た平面図である。
【図3】図1に示す複数の半導体装置の各々を構成する半導体装置の斜視図である。
【図4】図3に示すA方向から見た半導体装置の斜視図である。
【図5】図4に示す線V−V間における半導体装置の断面図である。
【図6】実施の形態1による半導体装置の他の断面図である。
【図7】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図8】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図9】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図10】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図11】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図12】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図13】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図14】実施の形態1による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図15】図6に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図16】図7に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図17】図8に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図18】図9に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図19】図10に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図20】図11に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図21】図12に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図22】図13に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図23】図14に示す半導体装置に対応する図1に示す結合部の断面図である。
【図24】図1に示す半導体装置の配置方向と冷却水の流れる方向との関係を説明するための図である。
【図25】実施の形態2による半導体モジュールの断面図である。
【図26】図25に示す冷却器の複数の結合部を制御基板側から見た平面図である。
【図27】図25に示す複数の半導体装置の各々を構成する半導体装置の斜視図である。
【図28】図27に示すB方向から見た半導体装置の斜視図である。
【図29】図28に示す線XXIX−XXIX間における半導体装置の断面図である。
【図30】実施の形態2による半導体装置の他の断面図である。
【図31】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図32】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図33】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図34】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図35】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図36】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図37】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図38】実施の形態2による半導体装置のさらに他の断面図である。
【図39】図30に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図40】図31に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図41】図32に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図42】図33に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図43】図34に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図44】図35に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図45】図36に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図46】図37に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図47】図38に示す半導体装置に対応する図25に示す結合部の断面図である。
【図48】図1に示す半導体モジュールまたは図25に示す半導体モジュールを用いたモータ駆動装置の概略ブロック図である。
【図49】図1に示す半導体モジュールまたは図25に示す半導体モジュールを用いたモータ駆動装置の他の概略ブロック図である。
【図50】負荷の容量が大きい場合の複数の半導体装置の平面配置図である。
【図51】負荷の容量が小さい場合の複数の半導体装置の平面配置図である。
【図52】図1に示す半導体モジュールまたは図25に示す半導体モジュールを用いた半導体モジュールユニットの斜視図である。
【図53】従来の冷却装置の断面図である。
【符号の説明】
1,110 冷却器、1A,1411a,1412a,4111 一方端、1B 他方端、2,120 複数の半導体装置、2A,2B,2C,2D,40,40A,40B,40C,40D,40E,40F,40G,40H,40I,120A,120B,120C,140,140A,140B,140C,140D,140E,140F,140G,140H,140I,SD1〜SD18半導体装置、3,130 制御基板、5,6,140,150 ねじ、10,100 半導体モジュール、11,111 冷却路、12,112 複数の結合部、12A,12B,12C,12D,50A,50B,50C,50D,50E,50F,50G,50H,50I,112A,112B,112C,1121A〜1121C,1122A〜1122C,1123A〜1123C,1211〜1214,1221〜1224,1231〜1234 結合部、13,116 配管、13A,116A 入口、13B,116B 出口、15,18 U相アーム、16,19 V相アーム、17,20 W相アーム、21,125,126,411,1411,1412 第1の部分、22,127,412,412A,412B,412C,412D,412E,412F,412G,412H,412I,1413,1413A,1413B,1413C,1413D,1413E,1413F,1413G,1413H,1413I 第2の部分、21A,21B,22A,22B,23A,23B,24A,24B,51A,51B,53A,53B,57A,57B,58A,58B,60A,60B,61A,61B,63A,63B,65A,65B,67A,67B,69A,69B,115A,115B,121A,121B,141A,141B,142A,142B,143A,143B,151A,151B,154A,154B,160A,160B,161A,161B,164A,164B,165A,165B,168A,168B,171A,171B,174A,174B,177A,177B,413A,413B,414A,414B,416A,416B,418A,418B,419A,419B,1414A,1414B,1415A,1415B,1417A,1417B,1419A,1419B,1421A,1421B シール面、31〜36,131〜136 押付部、41,141,157 被覆部材、42,142,Q1〜Q14 IGBT、42A,43A,142A,142B,143A,143B 端子、43,143,D1〜D14 ダイオード、51,61,65,115,151,165,171,413,418,1414,1423 凹部、52,54,56,59,62,66,70,113,114,122,151,153,155,156,158,159,162,163,166,167,169,170,172,173,175,176,178,179 開口部、53,57,60,67,69,154,160,164,174,177,416,1417 枠部、55 傾斜部材、55A,55B,157A,157B,417A,417B,1418A,1418B 傾斜面、58,63,161,651,121,168,414,419,1420,4182,4192,1415,1421,1681,1711 凸部、44A,44B,144A,144B,144C,144D 放熱板、71 スイッチング回路、75 コンバータ、80,83〜85 インバータ、81 電源ライン、82 アースライン、86 冷却水、90,90A モータ駆動装置、190 半導体モジュールユニット、200 冷却装置、210 容器、211a,211b 袋、212a,212b 回路基板、213 半導体チップ、214a,214b 蓋、216,217a,217b 排気口、411A,411B,1411A,1411B,1412A,1412B 側面、415 平坦部、1413a,1413b,1413c,1413d,4121〜4124 一主面、1419,1422,4181,4191壁、B1,B2 直流電源、L1 リアクトル、C1 コンデンサ、MG1,MG2 モータジェネレータ、N1,N2 ノード。
Claims (20)
- 少なくとも1つの半導体素子と、
前記少なくとも1つの半導体素子が埋設された第1の部分と、冷却媒体が流れる冷却器に固定される第2の部分とを含む被覆部材とを備え、
前記少なくとも1つの半導体素子の端子は、前記被覆部材から露出している、半導体装置。 - 前記第1の部分は、前記冷却媒体に浸漬される、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1および第2の部分の各々は、略平板形状からなり、
前記第1の部分の一方端は、前記第2の部分の一主面に接する、請求項1または請求項2に記載の半導体装置。 - 前記第2の部分は、前記冷却器との間で嵌合する嵌合構造を有する、請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第2の部分は、前記第1の部分の周囲に形成された凹部を前記一主面に有する、請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第2の部分は、前記第1の部分の周囲に形成された凸部を前記一主面に有する、請求項4に記載の半導体装置。
- 前記被覆部材は、樹脂を成形することにより作製される、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 冷却媒体が流れる冷却路と、前記冷却路に接した複数の結合部とを有する冷却器と、
前記複数の結合部に対応して設けられる複数の半導体装置と、
前記複数の半導体装置を前記冷却器の前記複数の結合部に押付ける押付部材とを備え、
前記複数の半導体装置の各々は、
少なくとも1つの半導体素子と、
前記少なくとも1つの半導体素子が埋設され、かつ、前記結合部を介して前記冷却媒体に浸漬される第1の部分と、前記結合部に密着固定される第2の部分とを有する被覆部材とを含み、
前記少なくとも1つの半導体素子の端子は、前記被覆部材から露出している、半導体モジュール。 - 前記第1および第2の部分の各々は、略平板形状からなり、
前記第1の部分の一方端は、前記第2の部分の一主面に接する、請求項8に記載の半導体モジュール。 - 前記複数の半導体装置は、前記第1の部分の面内方向が、前記冷却媒体が流れる方向と略平行になるように配置される、請求項9に記載の半導体モジュール。
- 前記第2の部分は、対応する結合部と嵌合する第1の嵌合部を前記一主面に有し、
前記複数の結合部の各々は、
対応する半導体装置の前記第1の部分が挿入される開口部と、
前記開口部の周囲に設けられ、前記第1の嵌合部に嵌合する第2の嵌合部とを含む、請求項9または請求項10に記載の半導体モジュール。 - 前記第1の嵌合部と前記第2の嵌合部との間は、シール剤によりシールされる、請求項11に記載の半導体モジュール。
- 前記第1の嵌合部は、前記第1の部分の周囲に形成された凹部からなり、
前記第2の嵌合部は、前記凹部に嵌合する凸部からなる、請求項11または請求項12に記載の半導体モジュール。 - 前記第1の嵌合部は、前記第1の部分の周囲に形成された凸部からなり、
前記第2の嵌合部は、前記凸部に嵌合する凹部からなる、請求項11または請求項12に記載の半導体モジュール。 - 前記押付部材は、前記複数の半導体装置に対応して設けられ、対応する半導体装置の前記第2の部分を前記結合部に押付ける押付部を有する、請求項8から請求項14のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 前記押付部材は、前記複数の半導体装置を制御する制御回路が設置された制御基板である、請求項8から請求項15のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 前記押付部材は、電磁シールド板である、請求項8から請求項15のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 前記冷却器は、アルミニウムからなる、請求項8から請求項17のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 前記冷却媒体は、水である、請求項8から請求項18のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 請求項8から請求項19のいずれか1項に記載の半導体モジュールを備える半導体モジュールユニット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003129301A JP4168825B2 (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003129301A JP4168825B2 (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004335724A true JP2004335724A (ja) | 2004-11-25 |
JP4168825B2 JP4168825B2 (ja) | 2008-10-22 |
Family
ID=33505183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003129301A Expired - Fee Related JP4168825B2 (ja) | 2003-05-07 | 2003-05-07 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールを搭載した半導体モジュールユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4168825B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116075106A (zh) * | 2021-11-01 | 2023-05-05 | 华为技术有限公司 | 散热组件、车辆模块及车辆 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5439309B2 (ja) | 2010-07-28 | 2014-03-12 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電力変換装置 |
-
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---|---|---|---|---|
CN116075106A (zh) * | 2021-11-01 | 2023-05-05 | 华为技术有限公司 | 散热组件、车辆模块及车辆 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4168825B2 (ja) | 2008-10-22 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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