JP2004335508A

JP2004335508A - セラミック配線基板の製造方法

Info

Publication number: JP2004335508A
Application number: JP2003124896A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Yada; 節男矢田
Original assignee: NGK Spark Plug Co Ltd
Current assignee: Niterra Co Ltd
Priority date: 2003-04-30
Filing date: 2003-04-30
Publication date: 2004-11-25

Abstract

【課題】歩留まりの向上した、形状の歪みが少ないセラミック配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】積層されたセラミック層１０２及び導電層１３１、１３２にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層１３１、１３２が露出したセラミック配線基板１０１の製造方法であって、第一セラミックシート１０２と、該第一セラミックシート１０２の主面上に印刷された前記導電層１３１、１３２となる第一導電ペーストと、にて構成されたメタライズシート体１０１を形成し、当該メタライズシート体１０１を、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シート２０１によって挟んだ状態で非酸化雰囲気中にて焼成することにより、前記セラミック配線基板を形成する。前記焼成用シート２０１は、第二セラミックシート２０２と、該第二セラミックシート２０２の主面上に印刷された第二導電ペースト２０３と、にて構成されることを特徴とする。
【選択図】図４

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、交互に積層されたセラミック層及び導電層にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層が露出したセラミック配線基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置において、半導体素子やチップコンデンサ等の電子部品は、電子部品用パッケージに搭載されて実用に供されている。電子部品用パッケージの本体である配線基板は、その材料として耐熱性、耐久性、熱伝導性等に優れるアルミナ等のセラミックスが適しており、セラミック配線基板は現在盛んに使用されている。そのようなセラミック配線基板は、一般に、セラミックシート、及びその表面上にパターン印刷された導電ペーストにて構成される積層体（以下メタライズシート体という）を、非酸化雰囲気中で焼成することにより製造される。
【０００３】
そして、パワーモジュールに代表されるような半導体素子からの発熱量が大きなものでは、発熱により半導体装置が正常に作動しなくなる恐れがあるので、上記のようなセラミック配線基板には、放熱板（ヒートシンク）が備え付けられ、半導体素子の作動時に発生する熱を大気中に良好に放散させるようにした電子部品用パッケージとされる（特許文献１等）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−１２７１８号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、セラミック配線基板では、半導体素子や外部機器、また放熱板などに電気的もしくは熱的に接続される等の理由から、それぞれの主面に導電層が露出するよう形成されている。したがって、セラミック配線基板の基（焼成前）となるメタライズシート体のそれぞれの主面には、導電層となるべき導電ペーストが露出しているわけであるが、それぞれの主面における導電ペーストの被覆面積やパターンの違い等の要因により、焼成時にメタライズシート体が反ってしまい形状の歪んだセラミック配線基板となってしまうという問題があった。このような歪んだセラミック配線基板は、放熱板に良好に備え付けることができない。
【０００６】
そこで、本発明の課題は、歩留まりの向上した、形状の歪みが少ないセラミック配線基板の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用・発明の効果】
上記課題を解決するため、本発明のセラミック配線基板の製造方法では、
セラミック層及び導電層にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層が露出したセラミック配線基板の製造方法であって、
前記セラミック層となる第一セラミックシートと、該第一セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された前記導電層となる第一導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面に該第一導電ペーストが露出したメタライズシート体を形成し、
当該メタライズシート体を、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シートによって挟んだ状態で焼成することにより、前記セラミック配線基板を形成するとともに、
前記焼成用シートは、第二セラミックシートと、該第二セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された第二導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面の全体に該第二導電ペーストが露出してなり、少なくとも該第二導電ペーストが前記第一導電ペーストと同一の材料からなることを特徴とする。
【０００８】
上記本発明によると、メタライズシート体は、それぞれの主面全体に密着するように配された一対の焼成用シートによって挟まれた状態（以下、サンドイッチ状態ともいう）で焼成される。そして、焼成用シートは、メタライズシート体と同様に、セラミックシートと、その主面上に印刷された導電ペーストと、にて構成されている。焼成用シートのそれぞれの主面全体には該導電ペーストが露出しており、この場合、それぞれの主面における導電ペーストの被覆面積やパターンに違いがないため、焼成用シートは焼成時に反りが生じることが少ない。したがって、メタライズシート体は、このような焼成用シートによってサンドイッチ状態とされたまま焼成されるため、反りの発生が該焼成用シートによって矯正されることになる。
【０００９】
さらに、焼成用シートの第二導電ペーストは、メタライズシート体の第一導電ペーストと同一の材料にて構成されている。サンドイッチ状態において、メタライズシート体の主面に露出する第一導電ペーストと、焼成用シートの主面全体に露出する第二導電ペーストとは密着するが、両者は同一の材料であるため焼成時の収縮率（以下、焼成収縮率という）も同一で、密着面に余計な負荷を生じさせることなく焼成を行うことが可能であり、これによっても反りの発生を抑えることができる。
【００１０】
次に、上記のような焼成収縮率の観点からすると、焼成用シートの第二導電ペーストは、メタライズシート体の第一導電ペーストと異なる材料であっても、その焼成収縮率がおおよそ同じであれば、上記と同様の効果を得ることができる。すなわち、本発明のセラミック配線基板の製造方法では、
セラミック層及び導電層にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層が露出したセラミック配線基板の製造方法であって、
前記セラミック層となる第一セラミックシートと、該第一セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された前記導電層となる第一導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面に該第一導電ペーストが露出したメタライズシート体を形成し、
当該メタライズシート体を、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シートによって挟んだ状態で焼成することにより、前記セラミック配線基板を形成するとともに、
前記焼成用シートは、第二セラミックシートと、該第二セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された第二導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面の全体に該第二導電ペーストが露出してなり、少なくとも該第二導電ペーストが前記第一導電ペーストと異なる材料であって、前記第一導電ペーストの焼成収縮率を１としたときの焼成収縮率が０．９〜１．１の範囲にある材料からなることを特徴とする。
なお、第二導電ペーストの焼成収縮率が上記の範囲外である場合は、焼成の際において、サンドイッチ状態におけるメタライズシート体と焼成用シートとの密着面（互いに露出した第一導電ペーストと第二導電ペーストが密着した面）に余計な負荷が生じてしまい、反りを抑えることが困難となる。また、第一導電ペーストの焼成収縮率を１としたときの第二導電ペーストの焼成収縮率は、０．９５〜１．０５の範囲であることがより好ましい。
【００１１】
次に、本発明のセラミック配線基板の製造方法では、第二セラミックシート（焼成用シートを構成する）は、第一セラミックシート（メタライズシート体を構成する）と同一の材料とすることができる。上記サンドイッチ状態においては、密着する第一導電ペースト（メタライズシート体）と第二導電ペースト（焼成用シート）との間の焼成収縮の関係が非常に重要となることは上述の通りであるが、第一セラミックシートと第二セラミックシートとの焼成収縮率をおおよそ同じにすることで、焼成用シート自体の焼成収縮の態様を、メタライズシート体の焼成収縮の態様にさらに近づけることができ、ひいてはより密着面に余計な負荷を生じさせないことに繋がる。したがって、第一セラミックシートと第二セラミックシートとは同一の材料で構成されることがより望ましい。
【００１２】
次に、本発明のセラミック配線基板の製造方法では、メタライズシート体は、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シートによって挟まれた状態、且つ、厚さ方向に０．１ｇ／ｃｍ^２以上１５．０ｇ／ｃｍ^２以下の圧力にて押さえつけられた状態で焼成することができる。このようにメタライズシート体を厚さ方向に押さえつけて焼成することで、反りの発生をさらに防止することができる。そのような効果を得るためには、０．１ｇ／ｃｍ^２以上の圧力で押さえつけることが好ましく、また１５．０ｇ／ｃｍ^２を超えるとメタライズシート体や焼成用シートを破壊してしまう惧れがあるので、上記の範囲とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のセラミック配線基板及びその製造方法の実施形態を、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明のセラミック配線基板１の断面構造を表す模式図である。セラミック配線基板１は、交互に積層されたセラミック層２、及び導電層３１、３２にて構成され、且つ、それぞれの主面１１、１２に導電層３１、３２が露出している。本実施形態では、セラミック層２のそれぞれの主面に導電層３１、３２が形成された３層のセラミック配線基板１であるが、これに限らず、例えば図３に示すようにセラミック層２を複数層有し（図では２層）、その間に層間導電層３３が形成された形態であってもよい。
【００１４】
また、セラミック配線基板１は、第一主面１１の一部の領域において導電層３１が形成される一方、第二主面１２の全体領域において導電層３２が形成されており、それぞれの主面において被覆面積及び被覆パターンが異なる。
【００１５】
そして、セラミック配線基板１は、図２に示すように、片方の主面（本実施形態では主面１２）に、例えば銀ロウからなる接着材４を介して放熱板（ヒートシンク）５が備え付けられ、電子備品用パッケージ（放熱板付セラミック配線基板）１０をなす。詳しくは、セラミック配線基板１には貫通孔１３が形成されており、貫通孔１３と、その内部に露出する接着材４（放熱板５を露出させてもよい）と、で電子部品を搭載するためのキャビティ６が形成される。
【００１６】
以上のようなセラミック配線基板１は、以下のような製造方法で得ることができる。図４は、その工程を示す説明図である。まず、アルミナ質セラミック粉末等の誘電材料粉末を有機溶媒に加えて混練し、ドクターブレード法等の方法でセラミックシート（セラミックグリーンシート）１０２を成形する（工程１）。そして、セラミックシート１０２のそれぞれの主面に導電ペースト層１３１、１３２をパターン印刷する（工程２）。導電ペースト層１３１、１３２は、Ｗ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）などの高融点金属を含有するメタライズインクの印刷により形成することができる。なお、本実施例においては、セラミックシート１０２の第二主面（下側）に形成される導電ペースト層１３２は、該第二主面の全体に形成されている。
【００１７】
また、例えば図３に示すようなセラミック層２を複数層有するセラミック配線基板１を形成する場合は、導電ペースト層１３１上にさらに新たなセラミックシートを積層圧着し、その主面上に新たな導電ペースト層を印刷する工程を所定数繰り返す。なお、層間の電気的接続を取るためのビアを形成する場合は、セラミックシートのビア形成位置にパンチング等を用いて穿孔しておき、そこに導電ペーストを充填するようにする。
【００１８】
その後、例えばパンチング等の手段により、セラミックシート１０２を導電ペースト層１３２とともに打ち抜いて貫通孔１１３を形成する（工程３）。なお本実施形態においては、導電ペースト１３１が形成されていない領域を打ち抜いている。以上のようにして、メタライズシート大板１０１´が形成される。これは、複数のメタライズシート体１０１（後述）が連結されたもの、つまり、セラミック配線基板１の多数個取りワーク基板として構成されたものである。なお、貫通孔１１３は、導電ペースト１３１、１３２の印刷前にパンチングにより形成し、その後、導電ペーストを印刷してもよい。
【００１９】
次に、メタライズシート大板１０１´を切断し、メタライズシート体１０１を得る（工程４）。本実施形態では、ブレイク溝を形成しておき、ブレイク刃７によってブレイク溝に沿って分割している。なお、ブレイク溝を形成せずに切断してもよい。以上の工程により、上記セラミック層２（図１参照）となるセラミックシート１０２と、該セラミックシート１０２の主面上に印刷された上記導電層３１、３２（図１参照）となる導電ペースト層１３１、１３２と、にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電ペースト１３１、１３２が露出したメタライズシート体１０１が得られる（工程５）。
【００２０】
そして、得られたメタライズシート体１０１に対して、以下に説明する焼成工程（工程６）が行われる。メタライズシート体１０１は、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シート２０１によって挟まれた状態（サンドイッチ状態）で、例えばＮ（窒素）やＨ（水素）雰囲気等の非酸化雰囲気中にて、例えばＭｏ（モリブデン）からなる焼成板２１０等によって焼成される。このように焼成されることで、メタライズシート体１０１からセラミック配線基板１（図１参照）が得られる。
【００２１】
焼成用シート２０１は、セラミックシート２０２と、該セラミックシート２０２の主面上に印刷された導電ペースト２０３と、にて構成され、且つ、それぞれの主面の全体には該導電ペースト２０２が露出している。なお、焼成用シート２０１は、それぞれの主面の全面に導電ペースト２０２が露出していれば、セラミック層２０２が複数層形成された積層構造であっても構わない。そして、セラミックシート２０２はメタライズシート体１０１を構成するセラミックシート１０２と、導電ペースト２０３はメタライズシート体１０１を構成する導電ペースト１３１、１３２と同一の材料（上記参照）からなる。
【００２２】
また、導電ペースト２０３には、メタライズシート体１０１を構成する導電ペースト１３１、１３２とは異なる材料であっても、導電ペースト１３１、１３２の焼成収縮率を１としたときの焼成収縮率が０．９〜１．１の範囲にある材料であれば好適に用いることができる。上記のようにメタライズシート体１０１を構成する導電ペースト１３１、１３２が、Ｗ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）などの高融点金属を含有するものである場合、例えばその含有比率が異なるもの等を例示することができる。
【００２３】
また、セラミックシート２０２には、メタライズシート体１０１を構成するセラミックシート１０２と同一の材料を用いることが好ましいが、異なる材料とすることもできる。
【００２４】
焼成用シート２０１のそれぞれの主面全体には導電ペースト２０３が露出しており、この場合、それぞれの主面における導電ペースト２０３の被覆面積やパターンに違いがないため、焼成用シート２０１は焼成時に反りが生じることが少ない。したがって、メタライズシート体１０１は、このような焼成用シート２０１によってサンドイッチ状態とされたまま焼成されるため、反りの発生が該焼成用シート２０１によって矯正されることになる。
【００２５】
また、サンドイッチ状態において、メタライズシート体１０１の主面に露出する導電ペースト１３１、１３２と、焼成用シート２０１の主面全体に露出する導電ペースト２０３とは密着するが、両者は同一の材料もしくは焼成収縮率が近似した（導電ペースト１３１、１３２の焼成収縮率を１としたときの焼成収縮率が０．９〜１．１の範囲にある）材料であるため、密着面に余計な負荷を生じさせることなく焼成を行うことが可能であり、これによってもメタライズシート体１０１の反りの発生を抑えることができる。
【００２６】
焼成工程（工程６）は、また、メタライズシート体１０１に対して、厚さ方向に０．１ｇ／ｃｍ^２以上１５．０ｇ／ｃｍ^２以下の圧力にて押さえつけた状態で焼成することができる。具体的には、図４の工程６を示す図中において、例えばＭｏ等からなる圧力印加用板（図示せず）を用いて、メタライズシート体１０１に対し、サンドイッチ状態を構成する焼成用シート２０１ごと焼成板２１０側に荷重を加える。つまり、サンドイッチ状態を構成するメタライズシート体１０１と、そのそれぞれの主面側に配された一対の焼成用シート体２０１を、焼成板２１０と圧力印加用板（図示せず）とによってさらに挟んで荷重を加える。また、圧力印加用板から熱を加えるようにすることもできる。このようにして、メタライズシート体１０１の反りの発生をさらに防止することができる。
【００２７】
以上のような焼成工程（工程６）を行うことによって、メタライズシート体１０１の反り発生を抑えることができ、図１に示すような、交互に積層されたセラミック層２、及び導電層３１、３２にて構成され、且つ、それぞれの主面１１、１２に導電層３１、３２が露出したセラミック配線基板１であって、当該それぞれの主面１１、１２における反りを低減させたセラミック配線基板１を得ることが可能となる。このような反り形状の低減されたセラミック配線基板１は、図２に示すような放熱板（ヒートシンク）５への接着（接着材４を介して）を容易に行うことができる。
【００２８】
また、例えば図３に示すようなセラミック層２が複数層形成された配線基板１を得るためには、メタライズシート体１０１は、セラミックシート１０２（その主面に導電ペーストがパターン印刷された）が複数積層された構造となるわけであるが、このような多層構造になればなるほど焼成時におけるメタライズシート体１０１の反りの発生が緩和される。したがって、工程６のようにサンドイッチ状態で焼成を行う方法は、積層構造を構成する層が少ない場合、特には図１に示すセラミック層２のそれぞれの主面に導電層３１、３２が形成された３層構造の配線基板１を形成する場合に、より好適に用いることができる。
【００２９】
なお、焼成工程（工程６）は、一対の焼成用シート２０１の間に複数個のメタライズシート体１００を配したサンドイッチ状態にて焼成することができる。また図４の工程３に示すメタライズシート大板１０１´に対し一対の焼成用シート２０１によりサンドイッチ状態にして焼成することもできる。
【００３０】
【実施例】
以下、本発明の効果を確認するために行った試験について説明する。
上述の本発明の製造方法によってセラミック配線基板１を作製し（図４の工程６を表す図を参照）、実施例とした。また、比較例として、焼成板２１０とメタライズシート体１０１との間のみに焼成用シート２０１を配して焼成したもの（比較例１）と、焼成板２１０上にアルミナからなる目砂を敷いて焼成したもの（比較例２）と、焼成板２１０上に直接メタライズシート体１０１を載せて焼成したもの（比較例３）を作製した。なお、ここで作製したセラミック配線基板１は、図１におけるセラミック配線基板１と同様なものに対応しており、第二主面１２（導電層３２が全面に形成された主面）を焼成板２１０側にして作製が行われている。また、第一主面１１を焼成板２１０側にし、焼成板２１０の上に直接を載せて焼成したものを比較例４とした。
【００３１】
実施例及び比較例１〜４には、▲１▼密度２．４４ｇ／ｃｍ^３のセラミックシートを用いて作製したもの、▲２▼密度２．４７ｇ／ｃｍ^３のセラミックシートを用いて作製したもの、▲３▼密度２．４７ｇ／ｃｍ^３のセラミックシートを用い、圧力印加用板によって１０ｇ／ｃｍ^２の圧力を印加（面押し）して焼成したもの、をそれぞれ用意し、また、▲４▼参考例として密度２．４７ｇ／ｃｍ^３のセラミックシートを用い、それぞれの主面の全体に導電ペーストが形成されたメタライズシート体を焼成して作製したものを用意した。なお、セラミックシートはアルミナを主成分とし、導電ペーストはＷ（タングステン）を主成分とする。
【００３２】
また、焼成の際に用いる焼成用シートは、密度２．４７ｇ／ｃｍ^３のセラミックシートのそれぞれの主面全体に、メタライズシート体に用いたのと同一の導電ペーストが形成されたものである。
【００３３】
以上のようにして得られた実施例及び比較例１〜４（それぞれ▲１▼〜▲４▼の４種類を有する）のセラミック配線基板に対して、第二主面における反り量を表面粗さ計にて測定した。測定は、それぞれについて４０個の製品に対して行った。なお、「反り量」とは、表面高さプロファイルによって定義される最大の表面高さ差とする。また、測定は、図５の第一主面１１側を表す図で説明すると（実際に測定が行われるのは第二主面１２側である）、セラミック配線基板１のフレームのおおよそ中央に沿って、図中のＡ→Ｂ→Ｃ→Ｄ→Ａの順に行われる。なお、セラミック配線基板１の形状は、具体的には、一辺の長さＷ１が１０ｍｍの正方形状で、その中心に一辺の長さＷ２が７ｍｍの正方形状の貫通孔を有する。また、フレーム幅Ｔは１．５ｍｍであり、厚さは０．５ｍｍである。
【００３４】
以上の測定によって得られた「反り量」にて、良否の判断を行った。また、反り量の良否の基準は、絶対値で２３μｍ以下である場合に「Ａ合格」、２３〜３０μｍである場合に「Ｂ合格」とし、３０μｍを超えてしまった場合を「不合格」とした。そして、それぞれの歩留まりを図中に示している。図６及び７には、反り量が平均値（図中に示す）近傍の値を示す製品についての表面高さプロファイルを示す。なお、測定値は、それぞれの測定点Ａ〜Ｄの位置を基準（０）としている。
【００３５】
実施例では、▲１▼が合格８６％（Ａ合格５７％、Ｂ合格２９％）、▲２▼が合格８７％（Ａ合格７０％、Ｂ合格１７％）であった。それに対し、焼成用シートを敷いた比較例１では、▲１▼が合格６％（Ａ合格５％、Ｂ合格１％）、▲２▼が合格１３％（Ａ合格１０％、Ｂ合格３％）であり、目砂を敷いた比較例２と焼成板に直に置いた比較例３は、▲１▼及び▲２▼とも合格が０であり、焼成板に直に逆向き（第一主面側を下）においた比較例４では、▲１▼が合格２％（Ｂ合格２％）、▲２▼が合格１４％（Ａ合格７％、Ｂ合格７％）であった。これらの結果から明らかなように、セラミックシートと、そのそれぞれの主面全体に導電ペーストが形成された一対の焼成用シートにより、メタライズシート体を、それぞれの主面全体に密着するよう挟んだ状態（サンドイッチ状態）で焼成する本発明の製造方法を用いると、製品の歩留まりが格段に向上することがわかる。
【００３６】
また、実施例において、面押しを行った▲３▼は合格９５％（Ａ合格７９％、Ｂ合格１６％）と、実施例▲１▼及び▲２▼よりも歩留まりが向上しており、面押しが反りの発生をさらに低減させていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図１】セラミック配線基板の断面構造を模式的に表す図
【図２】放熱板（ヒートシンク）が備え付けられたセラミック配線基板の斜視図
【図３】セラミック層が複数層形成され、その間に層間導電層が形成されたセラミック配線基板の断面構造を模式的に表す図
【図４】セラミック配線基板の製造工程を説明する図
【図５】セラミック配線基板の第一主表面を模式的に表す図
【図６】実施例及び比較例１、２における表面高さプロファイル
【図７】比較例３、４における表面高さプロファイル
【符号の説明】
１セラミック配線基板
２セラミック層
３１、３２導電層
４接着材
５放熱板（ヒートシンク）
１０放熱板付セラミック配線基板
１０２セラミックシート（セラミックグリーンシート）
１３１、１３２導電ペースト層
１０１メタライズシート体
１０１´ メタライズシート大板
２０１焼成用シート
２０２セラミックシート（セラミックグリーンシート）
２０３導電ペースト層

Claims

セラミック層及び導電層にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層が露出したセラミック配線基板の製造方法であって、
前記セラミック層となる第一セラミックシートと、該第一セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された前記導電層となる第一導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面に該第一導電ペーストが露出したメタライズシート体を形成し、
当該メタライズシート体を、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シートによって挟んだ状態で焼成することにより、前記セラミック配線基板を形成するとともに、
前記焼成用シートは、第二セラミックシートと、該第二セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された第二導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面の全体に該第二導電ペーストが露出してなり、少なくとも該第二導電ペーストが前記第一導電ペーストと同一の材料からなることを特徴とするセラミック配線基板の製造方法。
セラミック層及び導電層にて構成され、且つ、それぞれの主面に該導電層が露出したセラミック配線基板の製造方法であって、
前記セラミック層となる第一セラミックシートと、該第一セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された前記導電層となる第一導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面に該第一導電ペーストが露出したメタライズシート体を形成し、
当該メタライズシート体を、それぞれの主面全体に密着するよう配された一対の焼成用シートによって挟んだ状態で焼成することにより、前記セラミック配線基板を形成するとともに、
前記焼成用シートは、第二セラミックシートと、該第二セラミックシートのそれぞれの主面上に印刷された第二導電ペーストと、にて構成され、且つ、それぞれの主面の全体に該第二導電ペーストが露出してなり、少なくとも該第二導電ペーストが前記第一導電ペーストと異なる材料であって、前記第一導電ペーストの焼成収縮率を１としたときの焼成収縮率が０．９〜１．１の範囲にある材料からなることを特徴とするセラミック配線基板の製造方法。