JP2004333332A - Probe unit and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路や液晶パネル等の電子デバイスの電気的特性を検査するためのプローブユニット及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、櫛歯状に形成された導電体の先端部を電子デバイスの複数の電極に同時に接触させて電子デバイスの電気的特性を検査する方法が知られている。
特許文献1には、シリコンで形成された櫛歯状の導電体を用いた検査方法が記載されている。特許文献1に記載された櫛状の導電体では、プローブが検体の電極のピッチより狭いピッチで櫛歯状に配列されている。検体の電極のピッチより相当狭いピッチでプローブを配列することにより、電極のピッチが互いに異なる複数の検体に一種類のプローブユニットで対応できるようになり、汎用性が高くなる。
【0003】
特許文献2には、プローブが検体の電極のピッチより狭いピッチで櫛歯状に配列された導電体を複数重ねて使用することにより、2次元配列された検体の電極に全てのプローブを同時に接触させて検体の電気的特性を検査する方法が開示されている。
【0004】
特許文献3、4、5には、先端が不揃いのプローブが櫛歯状に配列された櫛状の導電体を用いた検査方法が記載されている。特許文献3、4、5に記載された櫛状の導電体のプローブは、検体の電極と一対一に対応するように配列されている。
【0005】
【特許文献1】
特開昭58−83271号公報
【0006】
【特許文献2】
特開平10−274662号公報
【0007】
【特許文献3】
特開平7−199219号公報
【0008】
【特許文献4】
特開平10−206464号公報
【0009】
【特許文献5】
特開平10−288629号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1、2に記載された櫛状の導電体では、検体の電極のピッチより狭いピッチの微細なプローブが必要になるため、プローブユニットの製造コストが増大し、歩留まりが低減するという問題がある。
【0011】
特許文献3、4、5に記載された検査方法では、プローブと検体を一対一に対応させるため、導電体に配列するプローブと検体の電極とを高精度に位置合わせしなければならない。また、プローブをオーバードライブさせたときに、電極の頂面からプローブが脱落するおそれがある。特にフレキシブルプリント基板、TAB基板、液晶基板、ガラスエポキシ基板等は、基板表面の凹凸やうねりが大きいためオーバードライブを大きく設定する必要があるので、プローブが電極の頂面から脱落するおそれが増大する。また、プローブが微細になると、オーバードライブさせたときに検体の電極とプローブとに作用する圧力が小さくなるため、検体の電極とプローブとを確実に接触させることが困難になる。また、プローブが微細になると、プローブの電気抵抗が大きくなる。
【0012】
本発明は、これらの問題を解決するために創作されたものであって、検体の電極の頂面からプローブが脱落することを防止できるプローブユニット及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係るプローブユニットは、基部と、各基端が前記基部で一体に連結された複数のプローブとを有する櫛状のプローブシートを備えるプローブユニットであって、前記プローブが先端部で拡幅していることを特徴とする。プローブの先端部を拡幅させることにより、検体の電極の頂面からプローブが脱落することを防止できる。
【0014】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、複数のプローブの先端を複数のプローブの配列方向に不揃いにすることにより、各プローブの中心軸線のピッチ(以下、各プローブの中心軸線のピッチを単にプローブのピッチというものとする。)を大きくすることなくプローブの先端部を拡幅することができる。このため、隣り合うプローブの配列方向の最小距離を小さくすることができる。したがって、平行線状に細長い電極が複数設けられた検体に対し、各プローブのピッチを小さくすることなく汎用性を高めることができる。尚、複数のプローブの先端が複数のプローブの配列方向に不揃いである状態とは、各プローブの先端を最短距離で連結している仮想線の少なくとも一部がジグザグに曲がっている状態をいう。
【0015】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの先端部にドーム状の突部を形成することにより、検体の電極にドーム状の突部を接触させることができる。すると、検体の電極がプローブの先端部によって荒らされることを防止できる。
【0016】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、複数のプローブシートをそれぞれのプローブが重ならないように積層することにより、各プローブシートのプローブのピッチより狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニットを構成できる。
【0017】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、前記プローブ間の配列方向の最小距離dをd≦0にすることにより、任意のピッチで電極が配列された検体の導通試験に利用可能にすることができる。
【0018】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの検体との接触部位を下地材より硬質の金属膜で被覆することにより、プローブの摩耗を抑制することができる。
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの検体との接触部位を下地材より体積抵抗率が小さい金属膜で被覆することにより、プローブの電気抵抗を低減することができる。
【0019】
上記目的を達成するため、本発明に係るプローブユニットの製造方法は、開口部を有するレジストを金属からなる犠牲層の表面上に形成するパターニング工程と、前記開口部に前記プローブシートをめっきにより形成するめっき工程と、前記レジストを除去する工程と、前記犠牲層を除去する工程と、を含むことを特徴とする。この方法により微細なプローブを高い寸法精度で形成することができる。
【0020】
さらに本発明に係るプローブユニットの製造方法では、基部に通孔を形成することにより、犠牲膜を除去する工程を実施する時間を短縮することができる。さらに、通孔を複数設けることにより効率をさらに上げることができる。また、位置決めのための通孔を別途又は兼用可能に基部に形成しておくことにより、高い位置精度を確保できる。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0022】
<プローブユニットの構成>
まず、本発明の実施例によるプローブユニットの基本構成について説明する。
図1及び図33は、本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【0023】
図1及び図33に示すように、プローブユニット1は、複数のプローブ10が配列されそのプローブ10の各基端14が基部20で一体的に連結されているプローブシートを備える。図1(A)、(B)、(C)に示すように複数のプローブ10が一つの電極50に接触するようにプローブ10のピッチを設定すると、検体5の種々の電極50のピッチに対して汎用性が高くなる。また、プローブ10のピッチが小さいほど電極50のピッチに対する汎用性が高まる。また、個々のプローブ10は他のプローブ10から独立して変形可能であるため、配列がうねっている複数の電極50に対しても各電極50にプローブ10を確実に接触させることができ、また表面に凹凸がある電極50に対してもプローブ10を確実に接触させることができる。また複数のプローブ10が一つの電極50に接触するため大きな接触面積でプローブ10と電極50が接続される。したがって、プローブユニット1と検体5との電気的接続が確実になる。
【0024】
複数のプローブ10は、先端部が他の部分よりも太く形成されたものと、基端から先端部まで同じ幅で直線状に形成されたものとが交互に配列されている。円形の先端部12は、直線状のプローブ10の先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠い位置に配列されている。すなわちプローブ10の先端部12は、プローブ10の配列方向に二列に不揃いに配列されている。プローブ10の先端部12の位置を不揃いにし、かつプローブ10の先端部12の幅を大きくすることにより、プローブ10の中心軸線間のピッチを大きくすることなく、プローブの配列方向におけるプローブ間の最小距離dを小さくすることができる。複数の細長い電極50が平行に配列された検体5に対してプローブユニット1が使用される場合、プローブの配列方向におけるプローブ間の最小距離dを小さくするほど電極50のピッチに対する汎用性が高くなり、d=0ならあらゆるピッチに対応可能になる。さらにd<0としてもよい。プローブ10の中心軸線間のピッチを小さくすることなく、電極50のピッチに対する汎用性を高くすることができるため、プローブユニット1の製造コストを低減し、歩留まりを増大させることができる。また、プローブ10の中心軸線間のピッチを小さくしてプローブ10を微細化しなければ、プローブ10と電極50との接触圧を大きくすることができるため、プローブ10と電極50とを確実に導通させることができる。なお、プローブ10が検査工程で変形し、プローブ10のピッチがずれたり、大きくなることがあっても、d<0としておけば、電極50に対して確実に導通させることができる。
【0025】
プローブシートは導電性材料からなり、厚さ5μm以上100μm以下、長さ200μm、幅12μm以上100μm以下に形成されている。プローブの検体5との接触部、すなわちプローブの先端部は、プローブの下地材より硬質の金属で被覆されていてもよい。プローブの検体5との接触部位を下地材より硬質の金属膜で被覆することにより、プローブの摩耗を抑制することができる。また、プローブの先端部は下地材より体積抵抗率の小さい金属で被覆されていてもよい。
プローブの検体5との接触部位を下地材より体積抵抗率の小さい金属膜で被覆することにより、プローブの電気抵抗を低減することができる。
【0026】
以下、本発明の実施例によるプローブユニットの具体的な構成について詳細に説明する。
【0027】
(第1の構成)
図2(A)、(B)、(C)に示す第1の構成では、プローブユニット1は、プローブ10の他の部分よりも太く円形に形成された先端部12を有するプローブ10と、基端14から先端部12まで同幅に連続的に形成された直線状のプローブ10とが交互に複数配列されたプローブシートからなる。円形の先端部12は、直線状のプローブ10の先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠い位置に配列されている。二種類のプローブ10は基部20で一体的に連結されている。
【0028】
(第2の構成)
図3(A)、(B)、(C)に示す第2の構成では、プローブ10の先端部12の形状と、基部20に通孔22が形成されている点について第1の構成と異なっている。具体的には第1の構成の円形の先端部12に替えて、L字形の先端部12がプローブ10に形成されている。基部20にはパンチングなどにより形成された円形の通孔22が複数配列されている。
【0029】
(第3の構成)
図4(A)、(B)、(C)に示す第3の構成では、プローブ10の先端部12の形状と、基部20に位置決め孔24が形成されている点について第2の構成と異なっている。具体的には第2の構成のL形の先端部12に替えて、長方形の先端部12がプローブ10に形成されている。基部20には通孔22に加えて、プローブユニット1をプローブベースに位置決めするための二つの位置決め孔24が形成されている。位置決め孔24の一方は円形でありプローブユニット1のx、y位置を確定するためのものであり、もう一方は角が丸まった四角形であり角度θを決定するためのものである。尚、位置決め孔は、プローブユニット1のx、y、θを確定できれば、例えば角形の通孔1つでもよい。
【0030】
(第4の構成)
図5(A)、(B)、(C)に示す第4の構成では、プローブ10の他の部分よりも太く長方形に形成された先端部12を有する複数のプローブ10が、その先端部12の位置をプローブ10の配列方向に対して一つずつ交互にずらし、二列に千鳥状に配列されている。基部20にはパンチングなどにより形成された円形の通孔22が複数配列されている。基部20にはさらに、プローブユニット1をプローブベースに位置決めするための四角形の位置決め孔24が二つ形成されている。一方は正方形で他方は長方形である。
【0031】
(第5の構成)
図6(A)、(B)、(C)に示す第5の構成では、プローブユニット1は、それぞれ大、小の長方形の先端部12を有する二種類のプローブ10が交互に配列されたプローブシートからなる。プローブ10は、大きな先端部12が小さな先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠く位置するように配列されている。大、小の先端部12はそれぞれプローブ10の他の部分よりも太く形成されている。各プローブ10の首部26は胴部18よりも細く形成されている。二種類のプローブ10の胴部18の長さは同じである。基部20の構成は第3の構成に準じる。
【0032】
(第6の構成)
図7(A)、(B)、(C)に示す第6の構成では、プローブユニット1は、それぞれ大、小の楕円形の先端部12を有する二種類のプローブ10が交互に配列されたプローブシートからなる。プローブ10は、大きな先端部12が小さな先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠く位置するように交互に配列されている。大、小の先端部12はそれぞれプローブ10の他の部分よりも太く形成されている。首部16は最も細く形成され、胴部18は首部16から基端部14に向かって徐々に拡幅されている。基部20の構成は第3の構成に準じる。
【0033】
(第7の構成)
図8(A)、(B)、(C)に示す第7の構成では、プローブ10の先端部12の形状について第3の構成と異なっている。具体的には第3の構成の長方形の先端部12に代えて、台形の先端部12が配列されている。その台形の先端部12は、一つずつ交互に天地反転して形成されている。
【0034】
(第8の構成)
図9(A)、(B)、(C)に示す第8の構成では、プローブ10の配列方法、ならびに基部20の位置決め孔24の形状について第4の構成と異なっている。具体的には長方形の先端部12を有する複数のプローブ10が、その先端部12の位置をプローブ10の配列方向に対して一つずつ順にずらし、三列に千鳥配列されている。基部20の二つの位置決め孔24の一方は、円形に形成され、もう一方は角が丸まった四角形に形成されている。
【0035】
(第9の構成)
図10(A)、(B)、(C)に示す第9の構成では、プローブの他の部分よりも太く円形に形成された先端部12を有するプローブ10が配列されている第1プローブシート2と、直線状のプローブ10が配列されている第2プローブシート3とが上下に積層されている。第1プローブシート2のプローブ10と第2プローブシート3のプローブ10とが重ならないように、第1プローブシート2が上部に、第2プローブシート3が下部に配置されている。第1プローブシート2のプローブ10は、第2プローブシート3のプローブ10よりも長く形成されている。各プローブシート2、3の基部20は、それぞれ第3の構成に準じて構成され、互いの通孔22及び位置決め孔24の位置を合わせて積層されている。
【0036】
(第10の構成)
図11(A)、(B)、(C)に示す第10の構成では、第1プローブシート2のプローブ10の先端部12の形状について第9の構成と異なっている。具体的には第9の構成の円形の先端部12に替えて、長方形の先端部12が第1プローブシート2のプローブ10に形成されている。
【0037】
(第11の構成)
図12(A)、(B)、(C)に示す第11の構成では、第1プローブシート2のプローブ10の先端部12の形状について第9及び第10の構成と異なっている。具体的には第9の構成の円形の先端部12、または第10の構成の長方形の先端部12に替えて、台形の先端部12が第1プローブシート2のプローブ10に形成されている。また図12(A)に示すように、その台形の先端部12は、一つおきに天地反転して形成されている。
【0038】
(第12の構成)
図13(A)、(B)、(C)に示す第12の構成では、それぞれプローブ10の他の部分よりも太く長方形に形成された先端部12を有するプローブ10が配列されている第1プローブシート2、第2プローブシート3及び第3プローブシート4が順に積層されている。各プローブシート2、3、4のそれぞれのプローブ10は重ならないように配列されている。最上層に配置された第1プローブシート2のプローブ10が最も長く、次いで中間に配置された第2プローブシート3のプローブ10が長く、最下層の第3プローブシード4のプローブ10が最も短く形成されている。各プローブシート2、3、4の基部20は、それぞれ第3の構成に準じて構成され、互いの通孔22及び位置決め孔の位置24を合わせて積層されている。
【0039】
第9から第12の構成によると、先端部12で拡幅したプローブ10を有する複数のプローブシートを、各プローブシートのプローブ10が互いに重ならないように積層していることにより、一つのプローブシートにおけるプローブのピッチより狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニット1を構成できる。したがって、各プローブシートのプローブ10を微細なピッチで配列する必要がなく、製造コストを低減でき、かつ歩留まりを向上させることができる。
【0040】
(第13の構成)
図14に示す第13の構成では、プローブユニット1は、各プローブ10に形成された円形の先端部12の頂面全体にドーム状の突部30が形成されているプローブシートからなる。プローブ10の先端部12はプローブ10の配列方向に不揃いに配列されている。
【0041】
(第14の構成)
図15に示す第14の構成では、プローブユニット1は、各プローブ10の先端部12が楕円形に形成されその楕円形の先端部12の頂面にドーム状の突部30が長さ方向及び幅方向に複数形成されているプローブシートからなる。各プローブ10の先端部12は、プローブ10の配列方向に不揃いに配列されている。
【0042】
(第15の構成)
図16に示す第15の構成では、突部30の形状及び配列方法について第14の構成と異なっている。具体的には、各プローブ10の楕円形の先端部12の頂面に、蒲鉾状の突部30がプローブ10の配列方向に複数形成されている。
【0043】
(第16の構成)
図17に示す第16の構成では、突部30の配列方法について第14の構成と異なっている。具体的には、複数のドーム状の突部30がプローブ10の先端部12の頂面全体にではなく先端部12両端に集中的に配列されている。これにより、プローブ10の先端部12が検体5の電極50から脱落するのを防止する。
【0044】
(第17の構成)
図18に示す第17の構成では、突部30の配列方法について第16の構成と異なっている。具体的には、三つのドーム状の突部30が各プローブ10の先端部12の頂面に三角形をなすように配列されている。この配列方法によっても、第16の構成と同じく、プローブ10の先端部12が検体5の電極50から脱落するのを防止することができる。
【0045】
(第18の構成)
図19に示す第18の構成では、突部30の形状について第16の構成と異なっている。具体的には、第18の構成のドーム状の突部30に替えて、蒲鉾状突部30がプローブ10の先端部12両端にそれぞれ配列されている。この配列方法によっても、第16及び第17の構成と同じく、プローブ10の電極50からの脱落を防止できる。
【0046】
第14から第18の構成によると、先端部12にドーム状または蒲鉾状の突部30が形成されていることにより、突部30の曲面を検体5の電極50と接触させることができ、電極50を傷つけないという利点がある。
【0047】
(第19の構成)
図20に示す第19の構成では、四つのプローブシートがそれぞれのプローブ10を互いに内側に向けて連結され、内側に通孔のある正方形のプローブユニット1を構成している。そのプローブユニット1の四隅にはそれぞれ二つの位置決め孔24が形成されている。なお図20において、他の部分より太く形成された先端部の図示は省略している。
【0048】
図21は、本実施例のプローブユニット1と従来のプローブユニット6とを検体5の電極50に接触させた状態を示す図である。図21(A)は従来のプローブユニット6を検体5の電極50に接触させた状態を示す平面図であり、図21(B)は図21(A)のa−a線断面図である。図21(C)は本実施例のプローブユニット1を検体5の電極50に接触させた状態を示す平面図であり、図21(D)は図21(C)のb−b線断面図であり、図21(E)は図21(C)のc−c線断面図である。なおこの図では、第四の構成によるプローブユニット1を例示し、通孔22及び位置決め孔24は図示を省略している。
【0049】
図21に示すように、プローブユニットのプローブのピッチと検体5の電極50のピッチとが一致しない場合でも、本実施例のプローブユニット1はプローブ10が先端部12で拡幅していることにより、従来のプローブユニット6よりも電極50との接触面積を向上できる。また検体5の電極50はAuめっきされたCu配線などからなるが、Cu配線は一般的にウェットエッチング加工されるため線幅がばらつき易く、図21(B)、(D)、(E)に示すように頂面に向かって細る場合がある。本実施例のプローブユニット1は、電極50との接触面積が大きいことにより、図21(D)、(E)に示すように細った電極50に対しても確実に接触可能であり、オーバードライブを大きくかけても従来のプローブユニット6のように配線から落下することなく、安定して接触した状態を保つ。
また、複数のプローブ10の先端部12を複数のプローブ10の配列方向にずらして配列することにより、図21に示すような一次元に配列された電極50ではなく二次元に配列された電極とも複数のプローブ10を同時に接触させることができる。
【0050】
<プローブユニットの製造方法>
以下、プローブユニット1の製造方法の実施例を説明する。
【0051】
(第1の製造方法)
図22及び図23は、第1の製造方法を示す図である。図22(A1)から(A4)及び図23(A5)から(A7)は平面図であり、図22(B1)から(B4)及び図23(B5)から(B7)は図22(A1)のa−a線断面に対応した断面図である。
【0052】
はじめに図22(A1)、(B1)に示すように、基板70の一方の表面全体に金属からなる犠牲層72を形成する。具体的には例えば銅などをスパッタすることにより犠牲層72を形成する。
次に図22(A2)、(B2)に示すように、プローブ10の下地となるめっきシード層74を犠牲層72上に形成する。めっきシード層74には例えばTiやNi−Feを用いる。尚、メッキシード層の密着性を向上させる目的で、Tiをスパッタした後にNiやNi−Feをスパッタしてもよい。
【0053】
次に図22(A3)、(B3)に示すように、めっきシード層74上にフォトレジストを塗布し、所定形状のマスクを用いて露光してから現像し、めっきをする部分に開口部76を有するレジスト膜78を形成する。
次に図22(A4)、(B4)に示すように、開口部76から露出するめっきシード層74上をめっきすることにより、プローブ10及び基部20となるめっき層80を形成する。めっきに使用する材料は、例えばNi−Feなどである。
【0054】
次に図23(A5)、(B5)に示すように、例えばNMP(N−メチル−2−ピロリドン)等の薬剤を用いてレジスト膜78を除去する。
次に図23(A6)、(B6)に示すように、レジスト膜78の除去によって露出しためっきシード層74を、例えばミリングにより除去する。
【0055】
次に図23(A7)、(B7)に示すように、めっきシード層74と基板70との間にある犠牲層72を除去する。例えば犠牲層72が銅からなる場合、銅を溶解するエッチング液などを用いて犠牲層72を溶解する。犠牲層72を溶解することにより、基板70が剥離され、めっきシード層74及びめっき層80からなるプローブユニット1が得られる。
【0056】
なお、本製造方法において、基部20に通孔22を形成する工程を追加すると、犠牲層72を除去する時間を短縮することができる。また、めっき層80上の、少なくともプローブ10の電極50との接触部位、すなわちプローブ10の先端部12を含む領域にさらに金属層を形成してもよい。
【0057】
図24は、めっき層80上にさらに金属層82を形成する工程を追加した製造方法を示す図である。図24(A1)、(A2)は平面図、図24(B1)、(B2)は図22(A1)のA−A線断面に対応した断面図である。
図22(A4)、(B4)の工程後に、図24(A1)、(B1)に示すように、めっき層80より体積低効率が低い金属、またはめっき層80より硬質の金属をめっき層80上にめっきすることにより、金属層82をめっき層80上に形成する。例えばめっき層80より体積低効率が低い金属にはAu、Au−Cuなどを用い、めっき層80より硬質の金属にはPd、Rhなどを用いる。
【0058】
次に図23(A5)、(B5)及び図23(A6)、(B6)の工程を行うことにより、図24(A2)、(B2)に示すように、めっきシード層74、めっき層80及び金属層82からなるプローブユニット1が得られる。
なお、図24に示す製造方法では、めっき層80全面に金属層82を形成しているが、少なくともプローブ10の電極50との接触部位に金属層82を形成すればよい。
【0059】
(第2の製造方法)
図25から図27は、第2の製造方法を示す図である。図25(A1)から図25(A4)、図26(A5)から図26(A8)、図27(A9)及び図27(A10)は平面図である。図25(B1)から図25(B4)、図26(B5)から図26(B8)、図27(B9)及び図27(B10)は図25(A1)のA−A線断面に対応した断面図である。
【0060】
はじめに図25(A1)、(B1)に示すように、基板70の一方の表面全体に金属からなる犠牲層72を形成する。例えば銅などをスパッタすることにより犠牲層72を形成する。
次に図25(A2)、(B2)に示すように、プローブ10の先端部12の突部30を形成するための突部形成犠牲膜84を犠牲層72上に形成する。具体的には例えば、犠牲層72上面にフォトレジストを塗布した後プリベークし、所定形状のマスクを用いて露光してから現像を行うことにより、突部30の形状にパターニングされた突部形成犠牲膜84を形成する。突部形成犠牲膜84にはフォトレジストの他に例えばPSG、BSG、BPSGなどの低融点ガラス、Pb、Sn、Inなどの低融点金属を用いる。
【0061】
次に図25(A3)、(B3)に示すように、突部形成犠牲膜84を軟化させてフローした後硬化させることにより、突部形成犠牲膜84を滑らかな球面を有するドーム状にする。具体的には例えば、ベークにより犠牲膜84の軟化及び硬化を行う。ベークを行う前に、i線以上の長波長のUV光を突部形成犠牲膜84の少なくとも軟化させたい部分に照射することにより、軟化点を低くすることができる。
【0062】
次に、図25(A4)、(B4)、図26(A5)、(B5)から図26(A8)、(B8)及び図27(A9)、(B9)に示すように、第1の製造方法に準じて図22(A2)、(B2)から図23(A7)、(B7)の工程を行う。
最後に、図27(A10)、(B10)に示すように、例えばNMP(N−メチル−2−ピロリドン)等の薬剤を用いて突部形成犠牲膜84を除去する。
【0063】
この第2の製造方法を用いることにより、第13から第18の構成のような突部30が先端部12に形成されたプローブ10を有するプローブユニット1を作製することができる。
【0064】
<プローブユニットの使用例>
以下、プローブユニット1の使用例について説明する。
【0065】
(第1の使用例)
図28は、第1の使用例を示す断面図である。
図28に示す第1の使用例では、基部20をプローブベース40に接合し、その端部で位置決めして固定具42で係止することにより、プローブユニット1をプローブベース40に固定する。第1及び第2の構成のように基部20に位置決め孔24がない場合、基部20の端部で位置決めする方法によりプローブユニット1をプローブベース40に位置決めし、押え板43で基部を固定する。プローブユニット1は、銅線やフレキシブルプリント配線板(図示略)に接続されてさらに検査装置本体(図示略)の電気回路に接続される。フレキシブルプリント配線板が検査装置本体の昇降機能によって降下すると、プローブ10の先端部12が検体5の電極50に押し当てられる。尚、プローブベース40が金属等の導電性材料からなる場合は、プローブベースを介して配線取り出しをしてもよい。
【0066】
(第2の使用例)
図29は、第2の使用例を示す断面図である。
図29に示す第2の使用例では、基部20の位置決め方法において第1の使用例と異なっている。具体的には第3から第12の構成及び第19の構成のように基部20に位置決め孔24がある場合に適用され、まず基部20の固定具42でプローブユニット1をプローブベース40の所望の位置に設置した後、位置決め孔24に固定具42を係止し、さらに押え板43によりプローブユニット1をプローブベース40に固定する。かかる構成により、プローブユニットの交換後の位置調整が不要になるため、検査装置の停止時間を短縮し、スループットを上げることができる。
【0067】
(第3の使用例)
図30は、第3の使用例を示す断面図である。
図30に示す第3の使用例では、上下に分けられたプローブベース40a、40bの間にプローブユニット1を配置し、位置決め孔24に固定具42を締め付けてプローブユニット1をプローブベース40a、40bで押さえ付けることにより、プローブユニット1をプローブベース40内部に固定するとともに、プローブ10を湾曲させる。特に図20で示した一体型プローブの場合、基部20及びプローブ10を湾曲させることにより、プローブユニット1の相対位置精度を高めることができる。本使用例は、第3から第12の構成及び第19の構成のように基部20に位置決め孔24があるプローブユニット1に適用される。なお、検査装置本体への電気的接続の方法、ならびに検査装置本体の昇降機能を用いた検体の検査方法に関しては第1の使用例に準じる。
【0068】
(第4の使用例)
図31は、第4の使用例を示す断面図である。
図31に示す第4の使用例では、プローブ10が基部20で連結されたプローブシートを備える本実施例の連結型プローブユニット1に加えて独立配線型のプローブユニット7をさらに用いる。連結型プローブユニット1及び独立配線型プローブユニット7をそれぞれプローブベース40に固定してさらにプリント配線板44に固定し、複数のプローブカード8を構成する。連結型プローブユニット1は電気配線46によってプリント配線板44に接続され、独立配線型プローブユニット7はフレキシブルプリント配線板48によってプリント配線板44に接続される。連結型プローブユニット1と独立配線型のプローブユニット7が互いに独立して昇降可能である。図31(A)に示すように連結型プローブユニット1と独立配線型プローブユニット7をともに検体5の電極50に接触させて通電すれば、検体5の断線検査を行うことができる。図31(B)に示すように、連結型プローブユニット1を上昇させてプローブ10を電極50から離し、独立配線型プローブユニット7のみを接触させた状態で通電すれば、検体5のショート検査を行うことができる。
【0069】
(第5の使用例)
図32は、第5の使用例を示す断面図である。
図32に示す第5の使用例では、連結型プローブユニット1と独立配線型プローブユニット7で一つのプローブカード8を構成する点で第4の使用例と異なっている。具体的には、それぞれプローブベース40に固定された各プローブユニット1、7を一つの同じプリント配線板44に固定することにより、一つのプローブカード8を構成する。一つのプローブカード8に各プローブユニット1、7がともに設けられることにより、各プローブユニット1、7は昇降を同時に行う。図32(A)に示すように、プローブユニット1、7のプローブの先端の高さを変えておくことにより、プローブユニット1、7をともに検体5の電極50に接触させた状態で通電して検体5の断線検査を行うことができる。また、図32(B)に示すように、プローブユニット7のみを検体5の電極50に接触させた状態で通電すれば検体5の短絡検査を行うことができる。
【0070】
本実施例のプローブユニット1によると、プローブ10が先端部12で拡幅していることにより、検体5の電極50との接触面積を大きくすることができ、電極50からのプローブ10の脱落を防止し、検体5を確実に検査可能である。
複数のプローブ10の先端を複数のプローブ10の配列方向にずらして配列することにより、プローブ10の中心軸間のピッチを大きくすることなくプローブ10の先端部12を拡幅することができる。このため、隣り合うプローブの配列方向の最小距離を小さくすることができる。したがって、細長い電極が複数平行に設けられた検体に対し、各プローブ10の中心軸線のピッチを小さくすることなく汎用性を高めることができる。
【0071】
先端部12で拡幅し電極ピッチよりも大きいピッチで形成されたプローブ10を有する複数のプローブシートを、各プローブシートのプローブ10が互いに重ならないように積層することにより、一つのプローブシートにおけるプローブ10のピッチよりも狭いプローブ、すなわち電極ピッチと同等または電極ピッチよりも狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニット1を構成できる。これにより、一つのプローブシートにおけるプローブ10のピッチを小さくする必要がなく、製造コストを低減でき、かつ歩留まりを向上させることができる。さらにプローブ10のピッチを微細にする必要がないことにより、プローブ10の配線抵抗を低下させることができるとともに、電極50との接触面積を向上させることができ、検体5の断線検査や配線のボイド検査が容易である。
【0072】
プローブ10の先端部12に曲面を有する突部30を形成することにより、突部30の曲面を電極50に接触させることができ、電極50がプローブ10の先端部12によって損傷されることを防止できる。
また、本実施例の製造方法によると、微細なプローブ10を高精度に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【図2】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の構成を示す平面図(A)、図2(A)のa−a線断面図(B)、図2(A)のb−b線断面図(C)である。
【図3】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の構成を示す平面図(A)、図3(A)のa−a線断面図(B)、図3(A)のb−b線断面図(C)である。
【図4】本発明の実施例によるプローブユニットの第3の構成を示す平面図(A)、図4(A)のa−a線断面図(B)、図4(A)のb−b線断面図(C)である。
【図5】本発明の実施例によるプローブユニットの第4の構成を示す平面図(A)、図5(A)のa−a線断面図(B)、図5(A)のb−b線断面図(C)である。
【図6】本発明の実施例によるプローブユニットの第5の構成を示す平面図(A)、図6(A)のa−a線断面図(B)、図6(A)のb−b線断面図(C)である。
【図7】本発明の実施例によるプローブユニットの第6の構成を示す平面図(A)、図7(A)のa−a線断面図(B)、図7(A)のb−b線断面図(C)である。
【図8】本発明の実施例によるプローブユニットの第7の構成を示す平面図(A)、図8(A)のa−a線断面図(B)、図8(A)のb−b線断面図(C)である。
【図9】本発明の実施例によるプローブユニットの第8の構成を示す平面図(A)、図9(A)のa−a線断面図(B)、図9(A)のb−b線断面図(C)である。
【図10】本発明の実施例によるプローブユニットの第9の構成を示す平面図(A)、図10(A)のa−a線断面図(B)、図10(A)のb−b線断面図(C)である。
【図11】本発明の実施例によるプローブユニットの第10の構成を示す平面図(A)、図11(A)のa−a線断面図(B)、図11(A)のb−b線断面図(C)である。
【図12】本発明の実施例によるプローブユニットの第11の構成を示す平面図(A)、図12(A)のa−a線断面図(B)、図12(A)のb−b線断面図(C)である。
【図13】本発明の実施例によるプローブユニットの第12の構成を示す平面図(A)、図13(A)のa−a線断面図(B)、図13(A)のb−b線断面図(C)である。
【図14】本発明の実施例によるプローブユニットの第13の構成を示す斜視図である。
【図15】本発明の実施例によるプローブユニットの第14の構成を示す斜視図である。
【図16】本発明の実施例によるプローブユニットの第15の構成を示す斜視図である。
【図17】本発明の実施例によるプローブユニットの第16の構成を示す斜視図である。
【図18】本発明の実施例によるプローブユニットの第17の構成を示す斜視図である。
【図19】本発明の実施例によるプローブユニットの第18の構成を示す斜視図である。
【図20】本発明の実施例によるプローブユニットの第19の構成を示す平面図である。
【図21】従来のプローブユニットと検体との接触状態を示す平面図(A)、図21(A)のa−a線断面図(B)、ならびに本発明の実施例によるプローブユニットと検体との接触状態を示す平面図(C)、図21(C)のb−b線断面図(D)、図21(C)のc−c線断面図(E)である。
【図22】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図23】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図24】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図25】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図26】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図27】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図28】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の使用例を示す断面図である。
【図29】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の使用例を示す断面図である。
【図30】本発明の実施例によるプローブユニットの第3の使用例を示す断面図である。
【図31】本発明の実施例によるプローブユニットの第4の使用例を示す断面図である。
【図32】本発明の実施例によるプローブユニットの第5の使用例を示す断面図である。
【図33】本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【符号の説明】
1、6 プローブユニット
2 第1プローブシート
3 第2プローブシート
4 第3プローブシート
5 検体
10、60 プローブ
12 先端部
14 基端
20 基部
22 通孔
30 突部
50 電極
72 犠牲層
76 開口部
78 レジスト膜
80 めっき層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a probe unit for inspecting electrical characteristics of an electronic device such as a semiconductor integrated circuit and a liquid crystal panel, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a method of inspecting electrical characteristics of an electronic device by simultaneously contacting a tip portion of a comb-shaped conductor with a plurality of electrodes of the electronic device.
[0003]
In
[0004]
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-58-83271
[0006]
[Patent Document 2]
JP-A-10-274662
[0007]
[Patent Document 3]
JP-A-7-199219
[0008]
[Patent Document 4]
JP-A-10-206646
[0009]
[Patent Document 5]
JP-A-10-288629
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, the comb-shaped conductors described in
[0011]
In the inspection methods described in
[0012]
The present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to provide a probe unit capable of preventing a probe from dropping off from a top surface of an electrode of a specimen and a method of manufacturing the same.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a probe unit according to the present invention is a probe unit including a comb-shaped probe sheet having a base and a plurality of probes each having a base end integrally connected with the base, It is characterized in that the probe is widened at the tip. By widening the tip of the probe, the probe can be prevented from dropping off from the top surface of the sample electrode.
[0014]
Further, in the probe unit according to the present invention, the tips of the plurality of probes are made irregular in the arrangement direction of the plurality of probes, so that the pitch of the center axis of each probe (hereinafter, the pitch of the center axis of each probe is simply referred to as the pitch of the probe) ) Can be widened without increasing the size of the probe. For this reason, the minimum distance in the arrangement direction of adjacent probes can be reduced. Therefore, versatility can be improved without reducing the pitch of each probe for a sample provided with a plurality of electrodes elongated in parallel lines. Note that the state in which the tips of the plurality of probes are irregular in the arrangement direction of the plurality of probes refers to a state in which at least a part of a virtual line connecting the tips of the probes in the shortest distance is zigzag.
[0015]
Further, in the probe unit according to the present invention, by forming the dome-shaped protrusion at the tip of the probe, the dome-shaped protrusion can be brought into contact with the electrode of the specimen. Then, the electrode of the specimen can be prevented from being roughened by the tip of the probe.
[0016]
Further, in the probe unit according to the present invention, by stacking a plurality of probe sheets so that the probes do not overlap each other, a probe unit in which probes are arranged at a pitch smaller than the pitch of the probes on each probe sheet can be configured.
[0017]
Further, in the probe unit according to the present invention, by setting the minimum distance d between the probes in the arrangement direction to be d ≦ 0, the probe unit can be used for a continuity test of a specimen having electrodes arranged at an arbitrary pitch.
[0018]
Further, in the probe unit according to the present invention, the probe can be suppressed from being worn by covering the contact portion of the probe with the specimen with a metal film harder than the base material.
Further, in the probe unit according to the present invention, the electrical resistance of the probe can be reduced by covering the contact portion of the probe with the specimen with a metal film having a smaller volume resistivity than the base material.
[0019]
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a probe unit according to the present invention includes a patterning step of forming a resist having an opening on the surface of a sacrificial layer made of metal, and forming the probe sheet in the opening by plating. And a step of removing the resist, and a step of removing the sacrificial layer. With this method, a fine probe can be formed with high dimensional accuracy.
[0020]
Further, in the method of manufacturing a probe unit according to the present invention, by forming the through hole in the base, the time for performing the step of removing the sacrificial film can be reduced. Further, the efficiency can be further improved by providing a plurality of through holes. In addition, by forming a through hole for positioning separately or in the base so that it can be shared, high positional accuracy can be ensured.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0022]
<Configuration of probe unit>
First, a basic configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention will be described.
1 and 33 are plan views showing the correspondence between the
[0023]
As shown in FIG. 1 and FIG. 33, the
[0024]
The plurality of
[0025]
The probe sheet is made of a conductive material and has a thickness of 5 μm to 100 μm, a length of 200 μm, and a width of 12 μm to 100 μm. A contact portion of the probe with the
The electrical resistance of the probe can be reduced by covering the contact portion of the probe with the
[0026]
Hereinafter, a specific configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention will be described in detail.
[0027]
(First configuration)
In the first configuration shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C, the
[0028]
(Second configuration)
The second configuration shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C differs from the first configuration in the shape of the
[0029]
(Third configuration)
The third configuration shown in FIGS. 4A, 4B, and 4C differs from the second configuration in that the shape of the
[0030]
(Fourth configuration)
In the fourth configuration shown in FIGS. 5A, 5B, and 5C, a plurality of
[0031]
(Fifth configuration)
In the fifth configuration shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C, the
[0032]
(Sixth configuration)
In the sixth configuration shown in FIGS. 7A, 7B, and 7C, the
[0033]
(Seventh configuration)
In the seventh configuration shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C, the shape of the
[0034]
(Eighth configuration)
The eighth configuration shown in FIGS. 9A, 9B, and 9C differs from the fourth configuration in the method of arranging the
[0035]
(Ninth configuration)
In the ninth configuration shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C, the first probe sheet on which the
[0036]
(Tenth configuration)
In the tenth configuration shown in FIGS. 11A, 11B, and 11C, the shape of the
[0037]
(Eleventh configuration)
In the eleventh configuration shown in FIGS. 12A, 12B, and 12C, the shape of the
[0038]
(Twelfth configuration)
In the twelfth configuration shown in FIGS. 13A, 13B, and 13C, the first configuration in which the
[0039]
According to the ninth to twelfth configurations, a plurality of probe sheets having the
[0040]
(Thirteenth configuration)
In the thirteenth configuration shown in FIG. 14, the
[0041]
(14th configuration)
In the fourteenth configuration shown in FIG. 15, the
[0042]
(Fifteenth configuration)
The fifteenth configuration shown in FIG. 16 differs from the fourteenth configuration in the shape and arrangement method of the
[0043]
(Sixteenth configuration)
The sixteenth configuration shown in FIG. 17 differs from the fourteenth configuration in the method of arranging the
[0044]
(Seventeenth configuration)
The seventeenth configuration shown in FIG. 18 differs from the sixteenth configuration in the method of arranging the
[0045]
(Eighteenth configuration)
The eighteenth configuration shown in FIG. 19 differs from the sixteenth configuration in the shape of the
[0046]
According to the fourteenth to eighteenth configurations, the curved surface of the
[0047]
(19th configuration)
In the nineteenth configuration shown in FIG. 20, four probe sheets connect the
[0048]
FIG. 21 is a diagram showing a state in which the
[0049]
As shown in FIG. 21, even when the pitch of the probe of the probe unit does not match the pitch of the
In addition, by arranging the
[0050]
<Method of manufacturing probe unit>
Hereinafter, an embodiment of the method of manufacturing the
[0051]
(First manufacturing method)
FIG. 22 and FIG. 23 are views showing the first manufacturing method. FIGS. 22 (A1) to (A4) and FIGS. 23 (A5) to (A7) are plan views, and FIGS. 22 (B1) to (B4) and FIGS. 23 (B5) to (B7) are FIGS. 22 (A1). FIG. 4 is a cross-sectional view corresponding to a cross section taken along line aa of FIG.
[0052]
First, as shown in FIGS. 22A1 and 22B1, a
Next, as shown in FIGS. 22 (A2) and (B2), a
[0053]
Next, as shown in FIGS. 22 (A3) and (B3), a photoresist is applied on the
Next, as shown in FIGS. 22A and 22B, the
[0054]
Next, as shown in FIGS. 23A5 and 23B5, the resist
Next, as shown in FIGS. 23A and 23B, the
[0055]
Next, as shown in FIGS. 23A and 23B, the
[0056]
In the present manufacturing method, if a step of forming the through
[0057]
FIG. 24 is a diagram illustrating a manufacturing method in which a step of further forming a
After the steps of FIGS. 22 (A4) and (B4), as shown in FIGS. 24 (A1) and (B1), a metal having a lower volume efficiency than the
[0058]
Next, by performing the steps of FIGS. 23 (A5) and (B5) and FIGS. 23 (A6) and (B6), as shown in FIGS. 24 (A2) and (B2), the
In the manufacturing method shown in FIG. 24, the
[0059]
(Second manufacturing method)
FIG. 25 to FIG. 27 are views showing the second manufacturing method. FIGS. 25 (A1) to 25 (A4), FIGS. 26 (A5) to 26 (A8), 27 (A9) and 27 (A10) are plan views. FIGS. 25 (B1) to 25 (B4), FIGS. 26 (B5) to 26 (B8), 27 (B9) and 27 (B10) correspond to the cross section taken along the line AA of FIG. 25 (A1). It is sectional drawing.
[0060]
First, as shown in FIGS. 25A1 and 25B1, a
Next, as shown in FIGS. 25 (A2) and (B2), a protrusion forming
[0061]
Next, as shown in FIGS. 25 (A3) and (B3), the projection-forming
[0062]
Next, as shown in FIGS. 25 (A4), (B4), FIGS. 26 (A5), (B5) to FIGS. 26 (A8), (B8) and FIGS. 27 (A9), (B9), the first The steps of FIGS. 22 (A2) and (B2) to FIGS. 23 (A7) and (B7) are performed according to the manufacturing method.
Finally, as shown in FIGS. 27A and 27B, the protrusion-forming
[0063]
By using the second manufacturing method, it is possible to manufacture the
[0064]
<Example of using probe unit>
Hereinafter, a usage example of the
[0065]
(First usage example)
FIG. 28 is a cross-sectional view showing a first usage example.
In the first usage example shown in FIG. 28, the
[0066]
(Second use example)
FIG. 29 is a cross-sectional view showing a second usage example.
The second use example shown in FIG. 29 differs from the first use example in the method of positioning the
[0067]
(Third use example)
FIG. 30 is a cross-sectional view showing a third usage example.
In the third usage example shown in FIG. 30, the
[0068]
(Fourth usage example)
FIG. 31 is a cross-sectional view showing a fourth usage example.
In the fourth usage example shown in FIG. 31, the independent wiring
[0069]
(Fifth usage example)
FIG. 32 is a sectional view showing a fifth usage example.
The fifth usage example shown in FIG. 32 is different from the fourth usage example in that one
[0070]
According to the
By arranging the tips of the plurality of
[0071]
By laminating a plurality of probe sheets each having a
[0072]
By forming the protruding
Further, according to the manufacturing method of this embodiment, the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a correspondence between a
2A is a plan view showing a first configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 2A, and FIG. It is a line sectional view (C).
3A is a plan view showing a second configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line aa of FIG. 3A, and FIG. It is a line sectional view (C).
4A is a plan view showing a third configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 4B is a sectional view taken along line aa of FIG. 4A, and FIG. It is a line sectional view (C).
5A is a plan view showing a fourth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 5B is a sectional view taken along line aa of FIG. 5A, and FIG. It is a line sectional view (C).
6A is a plan view showing a fifth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 6A, and FIG. It is a line sectional view (C).
7A is a plan view showing a sixth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line aa of FIG. 7A, and FIG. It is a line sectional view (C).
8A is a plan view illustrating a seventh configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 8A, and FIG. It is a line sectional view (C).
9A is a plan view showing an eighth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 9A, and FIG. It is a line sectional view (C).
10A is a plan view showing a ninth configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 10A, and FIG. It is a line sectional view (C).
11A is a plan view showing a tenth configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 11B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 11A, and FIG. It is a line sectional view (C).
12A is a plan view showing an eleventh configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 12A, and FIG. It is a line sectional view (C).
13A is a plan view showing a twelfth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 13B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 13A, and FIG. It is a line sectional view (C).
FIG. 14 is a perspective view showing a thirteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a perspective view showing a fourteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a perspective view showing a fifteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a perspective view showing a sixteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a perspective view showing a seventeenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 19 is a perspective view showing an eighteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 20 is a plan view showing a nineteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
21A is a plan view showing a conventional contact state between a probe unit and a sample, FIG. 21B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 21A, and FIG. 21C is a plan view showing the contact state, FIG. 21C is a sectional view taken along line bb of FIG. 21C, and FIG. 21C is a sectional view taken along line cc of FIG. 21C.
FIG. 22 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a first method of manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 23 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a first method of manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 24A and 24B are a plan view and a sectional view showing a first method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention; FIGS.
FIG. 25 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a second method of manufacturing the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIGS. 26A and 26B are a plan view and a cross-sectional view showing a second method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 27 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a second method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 28 is a sectional view showing a first usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 29 is a sectional view showing a second use example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 30 is a sectional view showing a third use example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 31 is a sectional view showing a fourth usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 32 is a sectional view showing a fifth usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 33 is a plan view showing the correspondence between the
[Explanation of symbols]
1, 6 probe unit
2 First probe sheet
3 Second probe sheet
4 Third probe sheet
5 samples
10, 60 probes
12 Tip
14 Base end
20 base
22 through hole
30 protrusion
50 electrodes
72 Sacrificial layer
76 opening
78 Resist film
80 Plating layer
Claims (7)
前記プローブが先端部で拡幅していることを特徴とするプローブユニット。A probe unit including a base portion and a comb-shaped probe sheet having a plurality of probes whose base ends are integrally connected at the base portion,
A probe unit, wherein the probe has a widened end portion.
前記開口部に前記プローブシートをめっきにより形成するめっき工程と、
前記レジストを除去する工程と、
前記犠牲層を除去する工程と、を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のプローブユニットの製造方法。Patterning step of forming a resist having an opening on the surface of the sacrificial layer made of metal,
A plating step of forming the probe sheet in the opening by plating;
Removing the resist;
The method according to claim 1, further comprising: removing the sacrificial layer.
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