JP2004333332A - Probe unit and its manufacturing method - Google Patents

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敦夫 服部
Shuichi Sawada
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a prove unit and its manufacturing method which prevents a probe from dropping from electrodes of a sample under test. <P>SOLUTION: The probe unit comprises a base 20 and a comb-like probe sheet having a plurality of probes 10 connected at their base ends in one body by the base 20. The probe 10 is expanded at the top end 12 and this expanding prevents the probe 10 from dropping from the top face of an electrode 50 of a sample 5 under test. The top ends of the plurality of probes 10 are made uneven along the arranging line of the probes 10 to allow the top end 12 of the probe 10 to be expanded, without increasing the pitch of the center axial line of each probe 10. This allows the minimum gap between the adjacent probes 10 to be reduced in their arranging direction. Thus the availability is raised for the sample 5 having a plurality of thin and long electrodes 50 like parallel lines, without reducing the pitch of each probe 10. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路や液晶パネル等の電子デバイスの電気的特性を検査するためのプローブユニット及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、櫛歯状に形成された導電体の先端部を電子デバイスの複数の電極に同時に接触させて電子デバイスの電気的特性を検査する方法が知られている。
特許文献1には、シリコンで形成された櫛歯状の導電体を用いた検査方法が記載されている。特許文献1に記載された櫛状の導電体では、プローブが検体の電極のピッチより狭いピッチで櫛歯状に配列されている。検体の電極のピッチより相当狭いピッチでプローブを配列することにより、電極のピッチが互いに異なる複数の検体に一種類のプローブユニットで対応できるようになり、汎用性が高くなる。
【0003】
特許文献2には、プローブが検体の電極のピッチより狭いピッチで櫛歯状に配列された導電体を複数重ねて使用することにより、2次元配列された検体の電極に全てのプローブを同時に接触させて検体の電気的特性を検査する方法が開示されている。
【0004】
特許文献3、4、5には、先端が不揃いのプローブが櫛歯状に配列された櫛状の導電体を用いた検査方法が記載されている。特許文献3、4、5に記載された櫛状の導電体のプローブは、検体の電極と一対一に対応するように配列されている。
【0005】
【特許文献1】
特開昭58−83271号公報
【0006】
【特許文献2】
特開平10−274662号公報
【0007】
【特許文献3】
特開平7−199219号公報
【0008】
【特許文献4】
特開平10−206464号公報
【0009】
【特許文献5】
特開平10−288629号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1、2に記載された櫛状の導電体では、検体の電極のピッチより狭いピッチの微細なプローブが必要になるため、プローブユニットの製造コストが増大し、歩留まりが低減するという問題がある。
【0011】
特許文献3、4、5に記載された検査方法では、プローブと検体を一対一に対応させるため、導電体に配列するプローブと検体の電極とを高精度に位置合わせしなければならない。また、プローブをオーバードライブさせたときに、電極の頂面からプローブが脱落するおそれがある。特にフレキシブルプリント基板、TAB基板、液晶基板、ガラスエポキシ基板等は、基板表面の凹凸やうねりが大きいためオーバードライブを大きく設定する必要があるので、プローブが電極の頂面から脱落するおそれが増大する。また、プローブが微細になると、オーバードライブさせたときに検体の電極とプローブとに作用する圧力が小さくなるため、検体の電極とプローブとを確実に接触させることが困難になる。また、プローブが微細になると、プローブの電気抵抗が大きくなる。
【0012】
本発明は、これらの問題を解決するために創作されたものであって、検体の電極の頂面からプローブが脱落することを防止できるプローブユニット及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係るプローブユニットは、基部と、各基端が前記基部で一体に連結された複数のプローブとを有する櫛状のプローブシートを備えるプローブユニットであって、前記プローブが先端部で拡幅していることを特徴とする。プローブの先端部を拡幅させることにより、検体の電極の頂面からプローブが脱落することを防止できる。
【0014】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、複数のプローブの先端を複数のプローブの配列方向に不揃いにすることにより、各プローブの中心軸線のピッチ(以下、各プローブの中心軸線のピッチを単にプローブのピッチというものとする。)を大きくすることなくプローブの先端部を拡幅することができる。このため、隣り合うプローブの配列方向の最小距離を小さくすることができる。したがって、平行線状に細長い電極が複数設けられた検体に対し、各プローブのピッチを小さくすることなく汎用性を高めることができる。尚、複数のプローブの先端が複数のプローブの配列方向に不揃いである状態とは、各プローブの先端を最短距離で連結している仮想線の少なくとも一部がジグザグに曲がっている状態をいう。
【0015】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの先端部にドーム状の突部を形成することにより、検体の電極にドーム状の突部を接触させることができる。すると、検体の電極がプローブの先端部によって荒らされることを防止できる。
【0016】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、複数のプローブシートをそれぞれのプローブが重ならないように積層することにより、各プローブシートのプローブのピッチより狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニットを構成できる。
【0017】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、前記プローブ間の配列方向の最小距離dをd≦0にすることにより、任意のピッチで電極が配列された検体の導通試験に利用可能にすることができる。
【0018】
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの検体との接触部位を下地材より硬質の金属膜で被覆することにより、プローブの摩耗を抑制することができる。
さらに本発明に係るプローブユニットでは、プローブの検体との接触部位を下地材より体積抵抗率が小さい金属膜で被覆することにより、プローブの電気抵抗を低減することができる。
【0019】
上記目的を達成するため、本発明に係るプローブユニットの製造方法は、開口部を有するレジストを金属からなる犠牲層の表面上に形成するパターニング工程と、前記開口部に前記プローブシートをめっきにより形成するめっき工程と、前記レジストを除去する工程と、前記犠牲層を除去する工程と、を含むことを特徴とする。この方法により微細なプローブを高い寸法精度で形成することができる。
【0020】
さらに本発明に係るプローブユニットの製造方法では、基部に通孔を形成することにより、犠牲膜を除去する工程を実施する時間を短縮することができる。さらに、通孔を複数設けることにより効率をさらに上げることができる。また、位置決めのための通孔を別途又は兼用可能に基部に形成しておくことにより、高い位置精度を確保できる。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0022】
<プローブユニットの構成>
まず、本発明の実施例によるプローブユニットの基本構成について説明する。
図1及び図33は、本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【0023】
図1及び図33に示すように、プローブユニット1は、複数のプローブ10が配列されそのプローブ10の各基端14が基部20で一体的に連結されているプローブシートを備える。図1(A)、(B)、(C)に示すように複数のプローブ10が一つの電極50に接触するようにプローブ10のピッチを設定すると、検体5の種々の電極50のピッチに対して汎用性が高くなる。また、プローブ10のピッチが小さいほど電極50のピッチに対する汎用性が高まる。また、個々のプローブ10は他のプローブ10から独立して変形可能であるため、配列がうねっている複数の電極50に対しても各電極50にプローブ10を確実に接触させることができ、また表面に凹凸がある電極50に対してもプローブ10を確実に接触させることができる。また複数のプローブ10が一つの電極50に接触するため大きな接触面積でプローブ10と電極50が接続される。したがって、プローブユニット1と検体5との電気的接続が確実になる。
【0024】
複数のプローブ10は、先端部が他の部分よりも太く形成されたものと、基端から先端部まで同じ幅で直線状に形成されたものとが交互に配列されている。円形の先端部12は、直線状のプローブ10の先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠い位置に配列されている。すなわちプローブ10の先端部12は、プローブ10の配列方向に二列に不揃いに配列されている。プローブ10の先端部12の位置を不揃いにし、かつプローブ10の先端部12の幅を大きくすることにより、プローブ10の中心軸線間のピッチを大きくすることなく、プローブの配列方向におけるプローブ間の最小距離dを小さくすることができる。複数の細長い電極50が平行に配列された検体5に対してプローブユニット1が使用される場合、プローブの配列方向におけるプローブ間の最小距離dを小さくするほど電極50のピッチに対する汎用性が高くなり、d=0ならあらゆるピッチに対応可能になる。さらにd<0としてもよい。プローブ10の中心軸線間のピッチを小さくすることなく、電極50のピッチに対する汎用性を高くすることができるため、プローブユニット1の製造コストを低減し、歩留まりを増大させることができる。また、プローブ10の中心軸線間のピッチを小さくしてプローブ10を微細化しなければ、プローブ10と電極50との接触圧を大きくすることができるため、プローブ10と電極50とを確実に導通させることができる。なお、プローブ10が検査工程で変形し、プローブ10のピッチがずれたり、大きくなることがあっても、d<0としておけば、電極50に対して確実に導通させることができる。
【0025】
プローブシートは導電性材料からなり、厚さ5μm以上100μm以下、長さ200μm、幅12μm以上100μm以下に形成されている。プローブの検体5との接触部、すなわちプローブの先端部は、プローブの下地材より硬質の金属で被覆されていてもよい。プローブの検体5との接触部位を下地材より硬質の金属膜で被覆することにより、プローブの摩耗を抑制することができる。また、プローブの先端部は下地材より体積抵抗率の小さい金属で被覆されていてもよい。
プローブの検体5との接触部位を下地材より体積抵抗率の小さい金属膜で被覆することにより、プローブの電気抵抗を低減することができる。
【0026】
以下、本発明の実施例によるプローブユニットの具体的な構成について詳細に説明する。
【0027】
(第1の構成)
図2(A)、(B)、(C)に示す第1の構成では、プローブユニット1は、プローブ10の他の部分よりも太く円形に形成された先端部12を有するプローブ10と、基端14から先端部12まで同幅に連続的に形成された直線状のプローブ10とが交互に複数配列されたプローブシートからなる。円形の先端部12は、直線状のプローブ10の先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠い位置に配列されている。二種類のプローブ10は基部20で一体的に連結されている。
【0028】
(第2の構成)
図3(A)、(B)、(C)に示す第2の構成では、プローブ10の先端部12の形状と、基部20に通孔22が形成されている点について第1の構成と異なっている。具体的には第1の構成の円形の先端部12に替えて、L字形の先端部12がプローブ10に形成されている。基部20にはパンチングなどにより形成された円形の通孔22が複数配列されている。
【0029】
(第3の構成)
図4(A)、(B)、(C)に示す第3の構成では、プローブ10の先端部12の形状と、基部20に位置決め孔24が形成されている点について第2の構成と異なっている。具体的には第2の構成のL形の先端部12に替えて、長方形の先端部12がプローブ10に形成されている。基部20には通孔22に加えて、プローブユニット1をプローブベースに位置決めするための二つの位置決め孔24が形成されている。位置決め孔24の一方は円形でありプローブユニット1のx、y位置を確定するためのものであり、もう一方は角が丸まった四角形であり角度θを決定するためのものである。尚、位置決め孔は、プローブユニット1のx、y、θを確定できれば、例えば角形の通孔1つでもよい。
【0030】
(第4の構成)
図5(A)、(B)、(C)に示す第4の構成では、プローブ10の他の部分よりも太く長方形に形成された先端部12を有する複数のプローブ10が、その先端部12の位置をプローブ10の配列方向に対して一つずつ交互にずらし、二列に千鳥状に配列されている。基部20にはパンチングなどにより形成された円形の通孔22が複数配列されている。基部20にはさらに、プローブユニット1をプローブベースに位置決めするための四角形の位置決め孔24が二つ形成されている。一方は正方形で他方は長方形である。
【0031】
(第5の構成)
図6(A)、(B)、(C)に示す第5の構成では、プローブユニット1は、それぞれ大、小の長方形の先端部12を有する二種類のプローブ10が交互に配列されたプローブシートからなる。プローブ10は、大きな先端部12が小さな先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠く位置するように配列されている。大、小の先端部12はそれぞれプローブ10の他の部分よりも太く形成されている。各プローブ10の首部26は胴部18よりも細く形成されている。二種類のプローブ10の胴部18の長さは同じである。基部20の構成は第3の構成に準じる。
【0032】
(第6の構成)
図7(A)、(B)、(C)に示す第6の構成では、プローブユニット1は、それぞれ大、小の楕円形の先端部12を有する二種類のプローブ10が交互に配列されたプローブシートからなる。プローブ10は、大きな先端部12が小さな先端部12よりもプローブ10の長さ方向に基部20から遠く位置するように交互に配列されている。大、小の先端部12はそれぞれプローブ10の他の部分よりも太く形成されている。首部16は最も細く形成され、胴部18は首部16から基端部14に向かって徐々に拡幅されている。基部20の構成は第3の構成に準じる。
【0033】
(第7の構成)
図8(A)、(B)、(C)に示す第7の構成では、プローブ10の先端部12の形状について第3の構成と異なっている。具体的には第3の構成の長方形の先端部12に代えて、台形の先端部12が配列されている。その台形の先端部12は、一つずつ交互に天地反転して形成されている。
【0034】
(第8の構成)
図9(A)、(B)、(C)に示す第8の構成では、プローブ10の配列方法、ならびに基部20の位置決め孔24の形状について第4の構成と異なっている。具体的には長方形の先端部12を有する複数のプローブ10が、その先端部12の位置をプローブ10の配列方向に対して一つずつ順にずらし、三列に千鳥配列されている。基部20の二つの位置決め孔24の一方は、円形に形成され、もう一方は角が丸まった四角形に形成されている。
【0035】
(第9の構成)
図10(A)、(B)、(C)に示す第9の構成では、プローブの他の部分よりも太く円形に形成された先端部12を有するプローブ10が配列されている第1プローブシート2と、直線状のプローブ10が配列されている第2プローブシート3とが上下に積層されている。第1プローブシート2のプローブ10と第2プローブシート3のプローブ10とが重ならないように、第1プローブシート2が上部に、第2プローブシート3が下部に配置されている。第1プローブシート2のプローブ10は、第2プローブシート3のプローブ10よりも長く形成されている。各プローブシート2、3の基部20は、それぞれ第3の構成に準じて構成され、互いの通孔22及び位置決め孔24の位置を合わせて積層されている。
【0036】
(第10の構成)
図11(A)、(B)、(C)に示す第10の構成では、第1プローブシート2のプローブ10の先端部12の形状について第9の構成と異なっている。具体的には第9の構成の円形の先端部12に替えて、長方形の先端部12が第1プローブシート2のプローブ10に形成されている。
【0037】
(第11の構成)
図12(A)、(B)、(C)に示す第11の構成では、第1プローブシート2のプローブ10の先端部12の形状について第9及び第10の構成と異なっている。具体的には第9の構成の円形の先端部12、または第10の構成の長方形の先端部12に替えて、台形の先端部12が第1プローブシート2のプローブ10に形成されている。また図12(A)に示すように、その台形の先端部12は、一つおきに天地反転して形成されている。
【0038】
(第12の構成)
図13(A)、(B)、(C)に示す第12の構成では、それぞれプローブ10の他の部分よりも太く長方形に形成された先端部12を有するプローブ10が配列されている第1プローブシート2、第2プローブシート3及び第3プローブシート4が順に積層されている。各プローブシート2、3、4のそれぞれのプローブ10は重ならないように配列されている。最上層に配置された第1プローブシート2のプローブ10が最も長く、次いで中間に配置された第2プローブシート3のプローブ10が長く、最下層の第3プローブシード4のプローブ10が最も短く形成されている。各プローブシート2、3、4の基部20は、それぞれ第3の構成に準じて構成され、互いの通孔22及び位置決め孔の位置24を合わせて積層されている。
【0039】
第9から第12の構成によると、先端部12で拡幅したプローブ10を有する複数のプローブシートを、各プローブシートのプローブ10が互いに重ならないように積層していることにより、一つのプローブシートにおけるプローブのピッチより狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニット1を構成できる。したがって、各プローブシートのプローブ10を微細なピッチで配列する必要がなく、製造コストを低減でき、かつ歩留まりを向上させることができる。
【0040】
(第13の構成)
図14に示す第13の構成では、プローブユニット1は、各プローブ10に形成された円形の先端部12の頂面全体にドーム状の突部30が形成されているプローブシートからなる。プローブ10の先端部12はプローブ10の配列方向に不揃いに配列されている。
【0041】
(第14の構成)
図15に示す第14の構成では、プローブユニット1は、各プローブ10の先端部12が楕円形に形成されその楕円形の先端部12の頂面にドーム状の突部30が長さ方向及び幅方向に複数形成されているプローブシートからなる。各プローブ10の先端部12は、プローブ10の配列方向に不揃いに配列されている。
【0042】
(第15の構成)
図16に示す第15の構成では、突部30の形状及び配列方法について第14の構成と異なっている。具体的には、各プローブ10の楕円形の先端部12の頂面に、蒲鉾状の突部30がプローブ10の配列方向に複数形成されている。
【0043】
(第16の構成)
図17に示す第16の構成では、突部30の配列方法について第14の構成と異なっている。具体的には、複数のドーム状の突部30がプローブ10の先端部12の頂面全体にではなく先端部12両端に集中的に配列されている。これにより、プローブ10の先端部12が検体5の電極50から脱落するのを防止する。
【0044】
(第17の構成)
図18に示す第17の構成では、突部30の配列方法について第16の構成と異なっている。具体的には、三つのドーム状の突部30が各プローブ10の先端部12の頂面に三角形をなすように配列されている。この配列方法によっても、第16の構成と同じく、プローブ10の先端部12が検体5の電極50から脱落するのを防止することができる。
【0045】
(第18の構成)
図19に示す第18の構成では、突部30の形状について第16の構成と異なっている。具体的には、第18の構成のドーム状の突部30に替えて、蒲鉾状突部30がプローブ10の先端部12両端にそれぞれ配列されている。この配列方法によっても、第16及び第17の構成と同じく、プローブ10の電極50からの脱落を防止できる。
【0046】
第14から第18の構成によると、先端部12にドーム状または蒲鉾状の突部30が形成されていることにより、突部30の曲面を検体5の電極50と接触させることができ、電極50を傷つけないという利点がある。
【0047】
(第19の構成)
図20に示す第19の構成では、四つのプローブシートがそれぞれのプローブ10を互いに内側に向けて連結され、内側に通孔のある正方形のプローブユニット1を構成している。そのプローブユニット1の四隅にはそれぞれ二つの位置決め孔24が形成されている。なお図20において、他の部分より太く形成された先端部の図示は省略している。
【0048】
図21は、本実施例のプローブユニット1と従来のプローブユニット6とを検体5の電極50に接触させた状態を示す図である。図21(A)は従来のプローブユニット6を検体5の電極50に接触させた状態を示す平面図であり、図21(B)は図21(A)のa−a線断面図である。図21(C)は本実施例のプローブユニット1を検体5の電極50に接触させた状態を示す平面図であり、図21(D)は図21(C)のb−b線断面図であり、図21(E)は図21(C)のc−c線断面図である。なおこの図では、第四の構成によるプローブユニット1を例示し、通孔22及び位置決め孔24は図示を省略している。
【0049】
図21に示すように、プローブユニットのプローブのピッチと検体5の電極50のピッチとが一致しない場合でも、本実施例のプローブユニット1はプローブ10が先端部12で拡幅していることにより、従来のプローブユニット6よりも電極50との接触面積を向上できる。また検体5の電極50はAuめっきされたCu配線などからなるが、Cu配線は一般的にウェットエッチング加工されるため線幅がばらつき易く、図21(B)、(D)、(E)に示すように頂面に向かって細る場合がある。本実施例のプローブユニット1は、電極50との接触面積が大きいことにより、図21(D)、(E)に示すように細った電極50に対しても確実に接触可能であり、オーバードライブを大きくかけても従来のプローブユニット6のように配線から落下することなく、安定して接触した状態を保つ。
また、複数のプローブ10の先端部12を複数のプローブ10の配列方向にずらして配列することにより、図21に示すような一次元に配列された電極50ではなく二次元に配列された電極とも複数のプローブ10を同時に接触させることができる。
【0050】
<プローブユニットの製造方法>
以下、プローブユニット1の製造方法の実施例を説明する。
【0051】
(第1の製造方法)
図22及び図23は、第1の製造方法を示す図である。図22(A1)から(A4)及び図23(A5)から(A7)は平面図であり、図22(B1)から(B4)及び図23(B5)から(B7)は図22(A1)のa−a線断面に対応した断面図である。
【0052】
はじめに図22(A1)、(B1)に示すように、基板70の一方の表面全体に金属からなる犠牲層72を形成する。具体的には例えば銅などをスパッタすることにより犠牲層72を形成する。
次に図22(A2)、(B2)に示すように、プローブ10の下地となるめっきシード層74を犠牲層72上に形成する。めっきシード層74には例えばTiやNi−Feを用いる。尚、メッキシード層の密着性を向上させる目的で、Tiをスパッタした後にNiやNi−Feをスパッタしてもよい。
【0053】
次に図22(A3)、(B3)に示すように、めっきシード層74上にフォトレジストを塗布し、所定形状のマスクを用いて露光してから現像し、めっきをする部分に開口部76を有するレジスト膜78を形成する。
次に図22(A4)、(B4)に示すように、開口部76から露出するめっきシード層74上をめっきすることにより、プローブ10及び基部20となるめっき層80を形成する。めっきに使用する材料は、例えばNi−Feなどである。
【0054】
次に図23(A5)、(B5)に示すように、例えばNMP(N−メチル−2−ピロリドン)等の薬剤を用いてレジスト膜78を除去する。
次に図23(A6)、(B6)に示すように、レジスト膜78の除去によって露出しためっきシード層74を、例えばミリングにより除去する。
【0055】
次に図23(A7)、(B7)に示すように、めっきシード層74と基板70との間にある犠牲層72を除去する。例えば犠牲層72が銅からなる場合、銅を溶解するエッチング液などを用いて犠牲層72を溶解する。犠牲層72を溶解することにより、基板70が剥離され、めっきシード層74及びめっき層80からなるプローブユニット1が得られる。
【0056】
なお、本製造方法において、基部20に通孔22を形成する工程を追加すると、犠牲層72を除去する時間を短縮することができる。また、めっき層80上の、少なくともプローブ10の電極50との接触部位、すなわちプローブ10の先端部12を含む領域にさらに金属層を形成してもよい。
【0057】
図24は、めっき層80上にさらに金属層82を形成する工程を追加した製造方法を示す図である。図24(A1)、(A2)は平面図、図24(B1)、(B2)は図22(A1)のA−A線断面に対応した断面図である。
図22(A4)、(B4)の工程後に、図24(A1)、(B1)に示すように、めっき層80より体積低効率が低い金属、またはめっき層80より硬質の金属をめっき層80上にめっきすることにより、金属層82をめっき層80上に形成する。例えばめっき層80より体積低効率が低い金属にはAu、Au−Cuなどを用い、めっき層80より硬質の金属にはPd、Rhなどを用いる。
【0058】
次に図23(A5)、(B5)及び図23(A6)、(B6)の工程を行うことにより、図24(A2)、(B2)に示すように、めっきシード層74、めっき層80及び金属層82からなるプローブユニット1が得られる。
なお、図24に示す製造方法では、めっき層80全面に金属層82を形成しているが、少なくともプローブ10の電極50との接触部位に金属層82を形成すればよい。
【0059】
(第2の製造方法)
図25から図27は、第2の製造方法を示す図である。図25(A1)から図25(A4)、図26(A5)から図26(A8)、図27(A9)及び図27(A10)は平面図である。図25(B1)から図25(B4)、図26(B5)から図26(B8)、図27(B9)及び図27(B10)は図25(A1)のA−A線断面に対応した断面図である。
【0060】
はじめに図25(A1)、(B1)に示すように、基板70の一方の表面全体に金属からなる犠牲層72を形成する。例えば銅などをスパッタすることにより犠牲層72を形成する。
次に図25(A2)、(B2)に示すように、プローブ10の先端部12の突部30を形成するための突部形成犠牲膜84を犠牲層72上に形成する。具体的には例えば、犠牲層72上面にフォトレジストを塗布した後プリベークし、所定形状のマスクを用いて露光してから現像を行うことにより、突部30の形状にパターニングされた突部形成犠牲膜84を形成する。突部形成犠牲膜84にはフォトレジストの他に例えばPSG、BSG、BPSGなどの低融点ガラス、Pb、Sn、Inなどの低融点金属を用いる。
【0061】
次に図25(A3)、(B3)に示すように、突部形成犠牲膜84を軟化させてフローした後硬化させることにより、突部形成犠牲膜84を滑らかな球面を有するドーム状にする。具体的には例えば、ベークにより犠牲膜84の軟化及び硬化を行う。ベークを行う前に、i線以上の長波長のUV光を突部形成犠牲膜84の少なくとも軟化させたい部分に照射することにより、軟化点を低くすることができる。
【0062】
次に、図25(A4)、(B4)、図26(A5)、(B5)から図26(A8)、(B8)及び図27(A9)、(B9)に示すように、第1の製造方法に準じて図22(A2)、(B2)から図23(A7)、(B7)の工程を行う。
最後に、図27(A10)、(B10)に示すように、例えばNMP(N−メチル−2−ピロリドン)等の薬剤を用いて突部形成犠牲膜84を除去する。
【0063】
この第2の製造方法を用いることにより、第13から第18の構成のような突部30が先端部12に形成されたプローブ10を有するプローブユニット1を作製することができる。
【0064】
<プローブユニットの使用例>
以下、プローブユニット1の使用例について説明する。
【0065】
(第1の使用例)
図28は、第1の使用例を示す断面図である。
図28に示す第1の使用例では、基部20をプローブベース40に接合し、その端部で位置決めして固定具42で係止することにより、プローブユニット1をプローブベース40に固定する。第1及び第2の構成のように基部20に位置決め孔24がない場合、基部20の端部で位置決めする方法によりプローブユニット1をプローブベース40に位置決めし、押え板43で基部を固定する。プローブユニット1は、銅線やフレキシブルプリント配線板(図示略)に接続されてさらに検査装置本体(図示略)の電気回路に接続される。フレキシブルプリント配線板が検査装置本体の昇降機能によって降下すると、プローブ10の先端部12が検体5の電極50に押し当てられる。尚、プローブベース40が金属等の導電性材料からなる場合は、プローブベースを介して配線取り出しをしてもよい。
【0066】
(第2の使用例)
図29は、第2の使用例を示す断面図である。
図29に示す第2の使用例では、基部20の位置決め方法において第1の使用例と異なっている。具体的には第3から第12の構成及び第19の構成のように基部20に位置決め孔24がある場合に適用され、まず基部20の固定具42でプローブユニット1をプローブベース40の所望の位置に設置した後、位置決め孔24に固定具42を係止し、さらに押え板43によりプローブユニット1をプローブベース40に固定する。かかる構成により、プローブユニットの交換後の位置調整が不要になるため、検査装置の停止時間を短縮し、スループットを上げることができる。
【0067】
(第3の使用例)
図30は、第3の使用例を示す断面図である。
図30に示す第3の使用例では、上下に分けられたプローブベース40a、40bの間にプローブユニット1を配置し、位置決め孔24に固定具42を締め付けてプローブユニット1をプローブベース40a、40bで押さえ付けることにより、プローブユニット1をプローブベース40内部に固定するとともに、プローブ10を湾曲させる。特に図20で示した一体型プローブの場合、基部20及びプローブ10を湾曲させることにより、プローブユニット1の相対位置精度を高めることができる。本使用例は、第3から第12の構成及び第19の構成のように基部20に位置決め孔24があるプローブユニット1に適用される。なお、検査装置本体への電気的接続の方法、ならびに検査装置本体の昇降機能を用いた検体の検査方法に関しては第1の使用例に準じる。
【0068】
(第4の使用例)
図31は、第4の使用例を示す断面図である。
図31に示す第4の使用例では、プローブ10が基部20で連結されたプローブシートを備える本実施例の連結型プローブユニット1に加えて独立配線型のプローブユニット7をさらに用いる。連結型プローブユニット1及び独立配線型プローブユニット7をそれぞれプローブベース40に固定してさらにプリント配線板44に固定し、複数のプローブカード8を構成する。連結型プローブユニット1は電気配線46によってプリント配線板44に接続され、独立配線型プローブユニット7はフレキシブルプリント配線板48によってプリント配線板44に接続される。連結型プローブユニット1と独立配線型のプローブユニット7が互いに独立して昇降可能である。図31(A)に示すように連結型プローブユニット1と独立配線型プローブユニット7をともに検体5の電極50に接触させて通電すれば、検体5の断線検査を行うことができる。図31(B)に示すように、連結型プローブユニット1を上昇させてプローブ10を電極50から離し、独立配線型プローブユニット7のみを接触させた状態で通電すれば、検体5のショート検査を行うことができる。
【0069】
(第5の使用例)
図32は、第5の使用例を示す断面図である。
図32に示す第5の使用例では、連結型プローブユニット1と独立配線型プローブユニット7で一つのプローブカード8を構成する点で第4の使用例と異なっている。具体的には、それぞれプローブベース40に固定された各プローブユニット1、7を一つの同じプリント配線板44に固定することにより、一つのプローブカード8を構成する。一つのプローブカード8に各プローブユニット1、7がともに設けられることにより、各プローブユニット1、7は昇降を同時に行う。図32(A)に示すように、プローブユニット1、7のプローブの先端の高さを変えておくことにより、プローブユニット1、7をともに検体5の電極50に接触させた状態で通電して検体5の断線検査を行うことができる。また、図32(B)に示すように、プローブユニット7のみを検体5の電極50に接触させた状態で通電すれば検体5の短絡検査を行うことができる。
【0070】
本実施例のプローブユニット1によると、プローブ10が先端部12で拡幅していることにより、検体5の電極50との接触面積を大きくすることができ、電極50からのプローブ10の脱落を防止し、検体5を確実に検査可能である。
複数のプローブ10の先端を複数のプローブ10の配列方向にずらして配列することにより、プローブ10の中心軸間のピッチを大きくすることなくプローブ10の先端部12を拡幅することができる。このため、隣り合うプローブの配列方向の最小距離を小さくすることができる。したがって、細長い電極が複数平行に設けられた検体に対し、各プローブ10の中心軸線のピッチを小さくすることなく汎用性を高めることができる。
【0071】
先端部12で拡幅し電極ピッチよりも大きいピッチで形成されたプローブ10を有する複数のプローブシートを、各プローブシートのプローブ10が互いに重ならないように積層することにより、一つのプローブシートにおけるプローブ10のピッチよりも狭いプローブ、すなわち電極ピッチと同等または電極ピッチよりも狭いピッチでプローブが配列されたプローブユニット1を構成できる。これにより、一つのプローブシートにおけるプローブ10のピッチを小さくする必要がなく、製造コストを低減でき、かつ歩留まりを向上させることができる。さらにプローブ10のピッチを微細にする必要がないことにより、プローブ10の配線抵抗を低下させることができるとともに、電極50との接触面積を向上させることができ、検体5の断線検査や配線のボイド検査が容易である。
【0072】
プローブ10の先端部12に曲面を有する突部30を形成することにより、突部30の曲面を電極50に接触させることができ、電極50がプローブ10の先端部12によって損傷されることを防止できる。
また、本実施例の製造方法によると、微細なプローブ10を高精度に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【図2】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の構成を示す平面図(A)、図2(A)のa−a線断面図(B)、図2(A)のb−b線断面図(C)である。
【図3】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の構成を示す平面図(A)、図3(A)のa−a線断面図(B)、図3(A)のb−b線断面図(C)である。
【図4】本発明の実施例によるプローブユニットの第3の構成を示す平面図(A)、図4(A)のa−a線断面図(B)、図4(A)のb−b線断面図(C)である。
【図5】本発明の実施例によるプローブユニットの第4の構成を示す平面図(A)、図5(A)のa−a線断面図(B)、図5(A)のb−b線断面図(C)である。
【図6】本発明の実施例によるプローブユニットの第5の構成を示す平面図(A)、図6(A)のa−a線断面図(B)、図6(A)のb−b線断面図(C)である。
【図7】本発明の実施例によるプローブユニットの第6の構成を示す平面図(A)、図7(A)のa−a線断面図(B)、図7(A)のb−b線断面図(C)である。
【図8】本発明の実施例によるプローブユニットの第7の構成を示す平面図(A)、図8(A)のa−a線断面図(B)、図8(A)のb−b線断面図(C)である。
【図9】本発明の実施例によるプローブユニットの第8の構成を示す平面図(A)、図9(A)のa−a線断面図(B)、図9(A)のb−b線断面図(C)である。
【図10】本発明の実施例によるプローブユニットの第9の構成を示す平面図(A)、図10(A)のa−a線断面図(B)、図10(A)のb−b線断面図(C)である。
【図11】本発明の実施例によるプローブユニットの第10の構成を示す平面図(A)、図11(A)のa−a線断面図(B)、図11(A)のb−b線断面図(C)である。
【図12】本発明の実施例によるプローブユニットの第11の構成を示す平面図(A)、図12(A)のa−a線断面図(B)、図12(A)のb−b線断面図(C)である。
【図13】本発明の実施例によるプローブユニットの第12の構成を示す平面図(A)、図13(A)のa−a線断面図(B)、図13(A)のb−b線断面図(C)である。
【図14】本発明の実施例によるプローブユニットの第13の構成を示す斜視図である。
【図15】本発明の実施例によるプローブユニットの第14の構成を示す斜視図である。
【図16】本発明の実施例によるプローブユニットの第15の構成を示す斜視図である。
【図17】本発明の実施例によるプローブユニットの第16の構成を示す斜視図である。
【図18】本発明の実施例によるプローブユニットの第17の構成を示す斜視図である。
【図19】本発明の実施例によるプローブユニットの第18の構成を示す斜視図である。
【図20】本発明の実施例によるプローブユニットの第19の構成を示す平面図である。
【図21】従来のプローブユニットと検体との接触状態を示す平面図(A)、図21(A)のa−a線断面図(B)、ならびに本発明の実施例によるプローブユニットと検体との接触状態を示す平面図(C)、図21(C)のb−b線断面図(D)、図21(C)のc−c線断面図(E)である。
【図22】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図23】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図24】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図25】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図26】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図27】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の製造方法を示す平面図(A)、断面図(B)である。
【図28】本発明の実施例によるプローブユニットの第1の使用例を示す断面図である。
【図29】本発明の実施例によるプローブユニットの第2の使用例を示す断面図である。
【図30】本発明の実施例によるプローブユニットの第3の使用例を示す断面図である。
【図31】本発明の実施例によるプローブユニットの第4の使用例を示す断面図である。
【図32】本発明の実施例によるプローブユニットの第5の使用例を示す断面図である。
【図33】本発明の一実施例によるプローブユニット1と検体5との対応関係を示す平面図である。
【符号の説明】
1、6 プローブユニット
2 第1プローブシート
3 第2プローブシート
4 第3プローブシート
5 検体
10、60 プローブ
12 先端部
14 基端
20 基部
22 通孔
30 突部
50 電極
72 犠牲層
76 開口部
78 レジスト膜
80 めっき層
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a probe unit for inspecting electrical characteristics of an electronic device such as a semiconductor integrated circuit and a liquid crystal panel, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a method of inspecting electrical characteristics of an electronic device by simultaneously contacting a tip portion of a comb-shaped conductor with a plurality of electrodes of the electronic device.
Patent Document 1 describes an inspection method using a comb-shaped conductor made of silicon. In the comb-shaped conductor described in Patent Document 1, the probes are arranged in a comb-tooth shape at a pitch smaller than the pitch of the electrodes of the sample. By arranging the probes at a pitch considerably smaller than the pitch of the electrodes of the sample, a plurality of samples having different electrode pitches can be handled by one type of probe unit, and the versatility is improved.
[0003]
In Patent Document 2, all probes are simultaneously brought into contact with two-dimensionally arranged sample electrodes by using a plurality of conductors arranged in a comb shape at a pitch narrower than the pitch of the sample electrodes. A method of inspecting the electrical characteristics of a specimen by performing the test is disclosed.
[0004]
Patent Literatures 3, 4, and 5 describe an inspection method using a comb-shaped conductor in which probes having irregular tips are arranged in a comb-tooth shape. The comb-shaped conductor probes described in Patent Documents 3, 4, and 5 are arranged so as to correspond one-to-one with the electrodes of the specimen.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-58-83271
[0006]
[Patent Document 2]
JP-A-10-274662
[0007]
[Patent Document 3]
JP-A-7-199219
[0008]
[Patent Document 4]
JP-A-10-206646
[0009]
[Patent Document 5]
JP-A-10-288629
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, the comb-shaped conductors described in Patent Literatures 1 and 2 require a fine probe having a pitch smaller than the pitch of the electrodes of the sample, so that the manufacturing cost of the probe unit increases and the yield decreases. There's a problem.
[0011]
In the inspection methods described in Patent Documents 3, 4, and 5, in order to make the probe and the sample correspond one-to-one, the probe arranged on the conductor and the electrode of the sample must be aligned with high accuracy. Further, when the probe is overdriven, the probe may fall off from the top surface of the electrode. In particular, a flexible printed board, a TAB board, a liquid crystal board, a glass epoxy board, and the like have a large overdrive because of large irregularities and undulations on the board surface, so that the possibility of the probe falling off from the top surface of the electrode increases. . Further, when the probe becomes fine, the pressure acting on the sample electrode and the probe when overdriven is reduced, so that it is difficult to reliably contact the sample electrode and the probe. Further, as the probe becomes finer, the electric resistance of the probe increases.
[0012]
The present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to provide a probe unit capable of preventing a probe from dropping off from a top surface of an electrode of a specimen and a method of manufacturing the same.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a probe unit according to the present invention is a probe unit including a comb-shaped probe sheet having a base and a plurality of probes each having a base end integrally connected with the base, It is characterized in that the probe is widened at the tip. By widening the tip of the probe, the probe can be prevented from dropping off from the top surface of the sample electrode.
[0014]
Further, in the probe unit according to the present invention, the tips of the plurality of probes are made irregular in the arrangement direction of the plurality of probes, so that the pitch of the center axis of each probe (hereinafter, the pitch of the center axis of each probe is simply referred to as the pitch of the probe) ) Can be widened without increasing the size of the probe. For this reason, the minimum distance in the arrangement direction of adjacent probes can be reduced. Therefore, versatility can be improved without reducing the pitch of each probe for a sample provided with a plurality of electrodes elongated in parallel lines. Note that the state in which the tips of the plurality of probes are irregular in the arrangement direction of the plurality of probes refers to a state in which at least a part of a virtual line connecting the tips of the probes in the shortest distance is zigzag.
[0015]
Further, in the probe unit according to the present invention, by forming the dome-shaped protrusion at the tip of the probe, the dome-shaped protrusion can be brought into contact with the electrode of the specimen. Then, the electrode of the specimen can be prevented from being roughened by the tip of the probe.
[0016]
Further, in the probe unit according to the present invention, by stacking a plurality of probe sheets so that the probes do not overlap each other, a probe unit in which probes are arranged at a pitch smaller than the pitch of the probes on each probe sheet can be configured.
[0017]
Further, in the probe unit according to the present invention, by setting the minimum distance d between the probes in the arrangement direction to be d ≦ 0, the probe unit can be used for a continuity test of a specimen having electrodes arranged at an arbitrary pitch.
[0018]
Further, in the probe unit according to the present invention, the probe can be suppressed from being worn by covering the contact portion of the probe with the specimen with a metal film harder than the base material.
Further, in the probe unit according to the present invention, the electrical resistance of the probe can be reduced by covering the contact portion of the probe with the specimen with a metal film having a smaller volume resistivity than the base material.
[0019]
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a probe unit according to the present invention includes a patterning step of forming a resist having an opening on the surface of a sacrificial layer made of metal, and forming the probe sheet in the opening by plating. And a step of removing the resist, and a step of removing the sacrificial layer. With this method, a fine probe can be formed with high dimensional accuracy.
[0020]
Further, in the method of manufacturing a probe unit according to the present invention, by forming the through hole in the base, the time for performing the step of removing the sacrificial film can be reduced. Further, the efficiency can be further improved by providing a plurality of through holes. In addition, by forming a through hole for positioning separately or in the base so that it can be shared, high positional accuracy can be ensured.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0022]
<Configuration of probe unit>
First, a basic configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention will be described.
1 and 33 are plan views showing the correspondence between the probe unit 1 and the specimen 5 according to one embodiment of the present invention.
[0023]
As shown in FIG. 1 and FIG. 33, the probe unit 1 includes a probe sheet in which a plurality of probes 10 are arranged and each base end 14 of the probes 10 is integrally connected at a base 20. As shown in FIGS. 1A, 1B, and 1C, when the pitch of the probes 10 is set so that the plurality of probes 10 are in contact with one electrode 50, the pitch of the various electrodes 50 of the sample 5 is Versatility. In addition, the smaller the pitch of the probe 10 is, the higher the versatility with respect to the pitch of the electrode 50 is. Further, since the individual probes 10 can be deformed independently of the other probes 10, the probes 10 can be surely brought into contact with each of the electrodes 50 even with respect to the plurality of electrodes 50 having an undulating arrangement. The probe 10 can be reliably brought into contact with the electrode 50 having unevenness on the surface. Further, since the plurality of probes 10 contact one electrode 50, the probe 10 and the electrode 50 are connected with a large contact area. Therefore, the electrical connection between the probe unit 1 and the sample 5 is ensured.
[0024]
The plurality of probes 10 are alternately arranged such that the tip portions are formed thicker than other portions, and the probes 10 are formed linearly with the same width from the base end to the tip portion. The circular tip 12 is arranged at a position farther from the base 20 in the longitudinal direction of the probe 10 than the tip 12 of the linear probe 10. That is, the distal ends 12 of the probes 10 are arranged in two rows in the direction in which the probes 10 are arranged. By making the positions of the tips 12 of the probes 10 uneven and increasing the width of the tips 12 of the probes 10, the minimum distance between the probes in the probe arrangement direction can be obtained without increasing the pitch between the center axes of the probes 10. The distance d can be reduced. When the probe unit 1 is used for a specimen 5 in which a plurality of elongated electrodes 50 are arranged in parallel, the versatility with respect to the pitch of the electrodes 50 increases as the minimum distance d between the probes in the probe arrangement direction decreases. , D = 0, it is possible to correspond to any pitch. Further, d <0 may be set. Since the versatility with respect to the pitch of the electrodes 50 can be increased without reducing the pitch between the central axes of the probes 10, the manufacturing cost of the probe unit 1 can be reduced and the yield can be increased. In addition, if the pitch between the center axes of the probes 10 is not reduced and the probe 10 is not miniaturized, the contact pressure between the probe 10 and the electrode 50 can be increased, so that the probe 10 and the electrode 50 are reliably conducted. be able to. In addition, even if the probe 10 is deformed in the inspection process and the pitch of the probe 10 is shifted or becomes large, if d <0, conduction to the electrode 50 can be ensured.
[0025]
The probe sheet is made of a conductive material and has a thickness of 5 μm to 100 μm, a length of 200 μm, and a width of 12 μm to 100 μm. A contact portion of the probe with the specimen 5, that is, a tip portion of the probe may be coated with a metal harder than a base material of the probe. By covering the contact portion of the probe with the specimen 5 with a metal film harder than the base material, the wear of the probe can be suppressed. Further, the tip of the probe may be coated with a metal having a smaller volume resistivity than the base material.
The electrical resistance of the probe can be reduced by covering the contact portion of the probe with the specimen 5 with a metal film having a smaller volume resistivity than the base material.
[0026]
Hereinafter, a specific configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention will be described in detail.
[0027]
(First configuration)
In the first configuration shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C, the probe unit 1 includes a probe 10 having a tip portion 12 that is formed thicker and circular than other portions of the probe 10, and a base unit. It is composed of a probe sheet in which a plurality of linear probes 10 continuously formed in the same width from the end 14 to the distal end portion 12 are alternately arranged. The circular tip 12 is arranged at a position farther from the base 20 in the longitudinal direction of the probe 10 than the tip 12 of the linear probe 10. The two types of probes 10 are integrally connected at a base 20.
[0028]
(Second configuration)
The second configuration shown in FIGS. 3A, 3B, and 3C differs from the first configuration in the shape of the distal end 12 of the probe 10 and the point that the through hole 22 is formed in the base 20. ing. Specifically, an L-shaped tip 12 is formed on the probe 10 instead of the circular tip 12 of the first configuration. The base 20 has a plurality of circular through holes 22 formed by punching or the like.
[0029]
(Third configuration)
The third configuration shown in FIGS. 4A, 4B, and 4C differs from the second configuration in that the shape of the distal end portion 12 of the probe 10 and the positioning hole 24 is formed in the base portion 20. ing. Specifically, a rectangular tip 12 is formed on the probe 10 instead of the L-shaped tip 12 of the second configuration. In addition to the through hole 22, two positioning holes 24 for positioning the probe unit 1 on the probe base are formed in the base portion 20. One of the positioning holes 24 is circular and is used to determine the x and y positions of the probe unit 1, and the other is a square with rounded corners and is used to determine the angle θ. The positioning hole may be, for example, one rectangular through-hole as long as x, y, and θ of the probe unit 1 can be determined.
[0030]
(Fourth configuration)
In the fourth configuration shown in FIGS. 5A, 5B, and 5C, a plurality of probes 10 each having a distal end portion 12 formed in a rectangle that is thicker and thicker than other portions of the probe 10 are used. Are alternately shifted one by one in the arrangement direction of the probes 10, and are arranged in two rows in a staggered manner. The base 20 has a plurality of circular through holes 22 formed by punching or the like. The base 20 further has two rectangular positioning holes 24 for positioning the probe unit 1 on the probe base. One is square and the other is rectangular.
[0031]
(Fifth configuration)
In the fifth configuration shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C, the probe unit 1 has a probe in which two types of probes 10 having large and small rectangular tips 12 are alternately arranged. Consists of sheets. The probes 10 are arranged such that the large tip 12 is located farther from the base 20 in the longitudinal direction of the probe 10 than the small tip 12. Each of the large and small tip portions 12 is formed thicker than the other portions of the probe 10. The neck 26 of each probe 10 is formed thinner than the body 18. The lengths of the body portions 18 of the two types of probes 10 are the same. The configuration of the base 20 conforms to the third configuration.
[0032]
(Sixth configuration)
In the sixth configuration shown in FIGS. 7A, 7B, and 7C, the probe unit 1 has two types of probes 10 having large and small elliptical tips 12, which are alternately arranged. Consists of a probe sheet. The probes 10 are alternately arranged such that the large distal ends 12 are located farther from the base 20 in the longitudinal direction of the probe 10 than the small distal ends 12. Each of the large and small tip portions 12 is formed thicker than the other portions of the probe 10. The neck portion 16 is formed to be the thinnest, and the body portion 18 is gradually widened from the neck portion 16 toward the base end portion 14. The configuration of the base 20 conforms to the third configuration.
[0033]
(Seventh configuration)
In the seventh configuration shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C, the shape of the distal end portion 12 of the probe 10 is different from the third configuration. Specifically, trapezoidal tips 12 are arranged in place of the rectangular tips 12 of the third configuration. The trapezoidal tips 12 are alternately inverted one by one.
[0034]
(Eighth configuration)
The eighth configuration shown in FIGS. 9A, 9B, and 9C differs from the fourth configuration in the method of arranging the probes 10 and the shape of the positioning holes 24 in the base 20. Specifically, a plurality of probes 10 each having a rectangular tip 12 are staggered in three rows by shifting the positions of the tips 12 one by one in the arrangement direction of the probes 10. One of the two positioning holes 24 of the base 20 is formed in a circular shape, and the other is formed in a square shape with rounded corners.
[0035]
(Ninth configuration)
In the ninth configuration shown in FIGS. 10A, 10B, and 10C, the first probe sheet on which the probes 10 each having the tip 12 formed in a circular shape that is thicker than other portions of the probe is arranged. 2 and a second probe sheet 3 on which linear probes 10 are arranged are vertically stacked. The first probe sheet 2 is arranged at the upper part and the second probe sheet 3 is arranged at the lower part so that the probes 10 of the first probe sheet 2 and the probes 10 of the second probe sheet 3 do not overlap. The probes 10 of the first probe sheet 2 are formed longer than the probes 10 of the second probe sheet 3. The bases 20 of the probe sheets 2 and 3 are configured according to the third configuration, respectively, and are stacked so that the positions of the through holes 22 and the positioning holes 24 are aligned.
[0036]
(Tenth configuration)
In the tenth configuration shown in FIGS. 11A, 11B, and 11C, the shape of the distal end portion 12 of the probe 10 of the first probe sheet 2 is different from the ninth configuration. Specifically, instead of the circular tip 12 of the ninth configuration, a rectangular tip 12 is formed on the probe 10 of the first probe sheet 2.
[0037]
(Eleventh configuration)
In the eleventh configuration shown in FIGS. 12A, 12B, and 12C, the shape of the tip 12 of the probe 10 of the first probe sheet 2 is different from the ninth and tenth configurations. Specifically, a trapezoidal tip 12 is formed on the probe 10 of the first probe sheet 2 instead of the circular tip 12 of the ninth configuration or the rectangular tip 12 of the tenth configuration. Further, as shown in FIG. 12A, the tip portions 12 of the trapezoid are formed upside down every other.
[0038]
(Twelfth configuration)
In the twelfth configuration shown in FIGS. 13A, 13B, and 13C, the first configuration in which the probes 10 each having the distal end portion 12 formed in a rectangle that is thicker than the other portions of the probe 10 is arranged. The probe sheet 2, the second probe sheet 3, and the third probe sheet 4 are sequentially stacked. The respective probes 10 of the respective probe sheets 2, 3, 4 are arranged so as not to overlap. The probe 10 of the first probe sheet 2 arranged at the uppermost layer is the longest, the probe 10 of the second probe sheet 3 arranged at the middle is the longest, and the probe 10 of the third probe seed 4 at the bottom layer is the shortest. Have been. The bases 20 of the probe sheets 2, 3, and 4 are each configured according to the third configuration, and are stacked so that the positions of the through holes 22 and the positioning holes 24 are aligned.
[0039]
According to the ninth to twelfth configurations, a plurality of probe sheets having the probes 10 widened at the distal end portion 12 are stacked so that the probes 10 of the respective probe sheets do not overlap each other, so that one probe sheet can be used. The probe unit 1 in which probes are arranged at a pitch smaller than the pitch of the probes can be configured. Therefore, it is not necessary to arrange the probes 10 of each probe sheet at a fine pitch, so that the manufacturing cost can be reduced and the yield can be improved.
[0040]
(Thirteenth configuration)
In the thirteenth configuration shown in FIG. 14, the probe unit 1 is composed of a probe sheet in which a dome-shaped protrusion 30 is formed on the entire top surface of the circular tip 12 formed on each probe 10. The tips 12 of the probes 10 are arranged irregularly in the arrangement direction of the probes 10.
[0041]
(14th configuration)
In the fourteenth configuration shown in FIG. 15, the probe unit 1 is configured such that the distal end 12 of each probe 10 is formed in an elliptical shape, and a dome-shaped protrusion 30 is formed on the top surface of the elliptical distal end 12 in the length direction. It consists of a plurality of probe sheets formed in the width direction. The tips 12 of the probes 10 are arranged irregularly in the arrangement direction of the probes 10.
[0042]
(Fifteenth configuration)
The fifteenth configuration shown in FIG. 16 differs from the fourteenth configuration in the shape and arrangement method of the protrusions 30. Specifically, on the top surface of the elliptical tip portion 12 of each probe 10, a plurality of semicylindrical protrusions 30 are formed in the arrangement direction of the probes 10.
[0043]
(Sixteenth configuration)
The sixteenth configuration shown in FIG. 17 differs from the fourteenth configuration in the method of arranging the protrusions 30. Specifically, a plurality of dome-shaped protrusions 30 are arranged not on the entire top surface of the distal end portion 12 of the probe 10 but intensively on both ends of the distal end portion 12. This prevents the tip 12 of the probe 10 from falling off the electrode 50 of the sample 5.
[0044]
(Seventeenth configuration)
The seventeenth configuration shown in FIG. 18 differs from the sixteenth configuration in the method of arranging the protrusions 30. Specifically, three dome-shaped protrusions 30 are arranged on the top surface of the tip 12 of each probe 10 so as to form a triangle. According to this arrangement method, similarly to the sixteenth configuration, it is possible to prevent the distal end portion 12 of the probe 10 from falling off from the electrode 50 of the sample 5.
[0045]
(Eighteenth configuration)
The eighteenth configuration shown in FIG. 19 differs from the sixteenth configuration in the shape of the projection 30. Specifically, instead of the dome-shaped protrusion 30 of the eighteenth configuration, the tub-shaped protrusions 30 are arranged at both ends of the distal end portion 12 of the probe 10. According to this arrangement method, similarly to the sixteenth and seventeenth configurations, the probe 10 can be prevented from falling off from the electrode 50.
[0046]
According to the fourteenth to eighteenth configurations, the curved surface of the projection 30 can be brought into contact with the electrode 50 of the sample 5 by forming the dome-shaped or semicylindrical projection 30 at the tip end portion 12. There is an advantage of not damaging 50.
[0047]
(19th configuration)
In the nineteenth configuration shown in FIG. 20, four probe sheets connect the respective probes 10 to each other inward, and constitute a square probe unit 1 having a through hole on the inside. Two positioning holes 24 are formed at four corners of the probe unit 1, respectively. In FIG. 20, illustration of a tip portion formed thicker than other portions is omitted.
[0048]
FIG. 21 is a diagram showing a state in which the probe unit 1 of the present embodiment and the conventional probe unit 6 are brought into contact with the electrode 50 of the sample 5. FIG. 21A is a plan view showing a state in which the conventional probe unit 6 is brought into contact with the electrode 50 of the sample 5, and FIG. 21B is a sectional view taken along line aa of FIG. FIG. 21C is a plan view showing a state in which the probe unit 1 of the present embodiment is brought into contact with the electrode 50 of the sample 5, and FIG. 21D is a sectional view taken along the line bb of FIG. 21C. FIG. 21E is a cross-sectional view taken along line cc of FIG. 21C. In this figure, the probe unit 1 according to the fourth configuration is illustrated, and the illustration of the through holes 22 and the positioning holes 24 is omitted.
[0049]
As shown in FIG. 21, even when the pitch of the probe of the probe unit does not match the pitch of the electrode 50 of the sample 5, the probe unit 1 of the present embodiment has the The contact area with the electrode 50 can be improved as compared with the conventional probe unit 6. The electrode 50 of the sample 5 is made of Au-plated Cu wiring or the like. However, the Cu wiring is generally wet-etched, so that the line width is liable to vary, as shown in FIGS. 21 (B), (D) and (E). It may taper towards the top as shown. Since the probe unit 1 of this embodiment has a large contact area with the electrode 50, the probe unit 1 can surely contact the thin electrode 50 as shown in FIGS. Even if the distance is increased, the contact state is stably maintained without dropping from the wiring unlike the conventional probe unit 6.
In addition, by arranging the tip portions 12 of the plurality of probes 10 so as to be shifted in the direction in which the plurality of probes 10 are arranged, not only the electrodes 50 arranged one-dimensionally as shown in FIG. A plurality of probes 10 can be contacted simultaneously.
[0050]
<Method of manufacturing probe unit>
Hereinafter, an embodiment of the method of manufacturing the probe unit 1 will be described.
[0051]
(First manufacturing method)
FIG. 22 and FIG. 23 are views showing the first manufacturing method. FIGS. 22 (A1) to (A4) and FIGS. 23 (A5) to (A7) are plan views, and FIGS. 22 (B1) to (B4) and FIGS. 23 (B5) to (B7) are FIGS. 22 (A1). FIG. 4 is a cross-sectional view corresponding to a cross section taken along line aa of FIG.
[0052]
First, as shown in FIGS. 22A1 and 22B1, a sacrificial layer 72 made of metal is formed on one entire surface of the substrate 70. Specifically, the sacrificial layer 72 is formed by, for example, sputtering copper or the like.
Next, as shown in FIGS. 22 (A2) and (B2), a plating seed layer 74 serving as a base of the probe 10 is formed on the sacrificial layer 72. For example, Ti or Ni—Fe is used for the plating seed layer 74. For the purpose of improving the adhesion of the plating seed layer, Ni or Ni-Fe may be sputtered after sputtering Ti.
[0053]
Next, as shown in FIGS. 22 (A3) and (B3), a photoresist is applied on the plating seed layer 74, exposed using a mask having a predetermined shape, developed, and an opening 76 is formed in a portion to be plated. Is formed.
Next, as shown in FIGS. 22A and 22B, the plating layer 80 serving as the probe 10 and the base 20 is formed by plating the plating seed layer 74 exposed from the opening 76. The material used for plating is, for example, Ni-Fe.
[0054]
Next, as shown in FIGS. 23A5 and 23B5, the resist film 78 is removed using a chemical such as NMP (N-methyl-2-pyrrolidone).
Next, as shown in FIGS. 23A and 23B, the plating seed layer 74 exposed by removing the resist film 78 is removed by, for example, milling.
[0055]
Next, as shown in FIGS. 23A and 23B, the sacrificial layer 72 between the plating seed layer 74 and the substrate 70 is removed. For example, when the sacrifice layer 72 is made of copper, the sacrifice layer 72 is dissolved using an etching solution that dissolves copper. By dissolving the sacrificial layer 72, the substrate 70 is peeled off, and the probe unit 1 including the plating seed layer 74 and the plating layer 80 is obtained.
[0056]
In the present manufacturing method, if a step of forming the through hole 22 in the base 20 is added, the time for removing the sacrificial layer 72 can be reduced. Further, a metal layer may be further formed on the plating layer 80 at least at a contact portion of the probe 10 with the electrode 50, that is, a region including the tip 12 of the probe 10.
[0057]
FIG. 24 is a diagram illustrating a manufacturing method in which a step of further forming a metal layer 82 on the plating layer 80 is added. 24 (A1) and (A2) are plan views, and FIGS. 24 (B1) and (B2) are cross-sectional views corresponding to the cross section taken along line AA of FIG. 22 (A1).
After the steps of FIGS. 22 (A4) and (B4), as shown in FIGS. 24 (A1) and (B1), a metal having a lower volume efficiency than the plating layer 80, or a metal harder than the plating layer 80 is plated. By plating on the upper surface, the metal layer 82 is formed on the plating layer 80. For example, Au, Au-Cu, or the like is used for a metal having lower volume efficiency than the plating layer 80, and Pd, Rh, or the like is used for a metal harder than the plating layer 80.
[0058]
Next, by performing the steps of FIGS. 23 (A5) and (B5) and FIGS. 23 (A6) and (B6), as shown in FIGS. 24 (A2) and (B2), the plating seed layer 74 and the plating layer 80 are formed. And a probe unit 1 including the metal layer 82.
In the manufacturing method shown in FIG. 24, the metal layer 82 is formed on the entire surface of the plating layer 80. However, the metal layer 82 may be formed at least on the contact portion of the probe 10 with the electrode 50.
[0059]
(Second manufacturing method)
FIG. 25 to FIG. 27 are views showing the second manufacturing method. FIGS. 25 (A1) to 25 (A4), FIGS. 26 (A5) to 26 (A8), 27 (A9) and 27 (A10) are plan views. FIGS. 25 (B1) to 25 (B4), FIGS. 26 (B5) to 26 (B8), 27 (B9) and 27 (B10) correspond to the cross section taken along the line AA of FIG. 25 (A1). It is sectional drawing.
[0060]
First, as shown in FIGS. 25A1 and 25B1, a sacrificial layer 72 made of metal is formed on one entire surface of the substrate 70. For example, the sacrificial layer 72 is formed by sputtering copper or the like.
Next, as shown in FIGS. 25 (A2) and (B2), a protrusion forming sacrificial film 84 for forming the protrusion 30 of the distal end portion 12 of the probe 10 is formed on the sacrificial layer 72. Specifically, for example, a photoresist is applied to the upper surface of the sacrificial layer 72, prebaked, exposed using a mask having a predetermined shape, and then developed, so that the sacrificial portion formed in the shape of the projecting portion 30 is formed. A film 84 is formed. In addition to the photoresist, for example, a low-melting glass such as PSG, BSG, or BPSG, or a low-melting metal such as Pb, Sn, or In is used for the protrusion-forming sacrificial film 84.
[0061]
Next, as shown in FIGS. 25 (A3) and (B3), the projection-forming sacrificial film 84 is softened and then hardened after flowing, so that the projection-forming sacrificial film 84 is formed into a dome shape having a smooth spherical surface. . Specifically, for example, the sacrificial film 84 is softened and hardened by baking. Before baking, the softening point can be lowered by irradiating at least the portion of the sacrificial film 84 to be softened with UV light having a longer wavelength than i-line.
[0062]
Next, as shown in FIGS. 25 (A4), (B4), FIGS. 26 (A5), (B5) to FIGS. 26 (A8), (B8) and FIGS. 27 (A9), (B9), the first The steps of FIGS. 22 (A2) and (B2) to FIGS. 23 (A7) and (B7) are performed according to the manufacturing method.
Finally, as shown in FIGS. 27A and 27B, the protrusion-forming sacrificial film 84 is removed using a chemical such as NMP (N-methyl-2-pyrrolidone).
[0063]
By using the second manufacturing method, it is possible to manufacture the probe unit 1 having the probe 10 in which the protrusion 30 is formed at the distal end portion 12 as in the thirteenth to eighteenth configurations.
[0064]
<Example of using probe unit>
Hereinafter, a usage example of the probe unit 1 will be described.
[0065]
(First usage example)
FIG. 28 is a cross-sectional view showing a first usage example.
In the first usage example shown in FIG. 28, the probe unit 1 is fixed to the probe base 40 by joining the base 20 to the probe base 40, positioning the end at the end thereof, and locking the fixture with the fixture 42. When the positioning hole 24 is not provided in the base 20 as in the first and second configurations, the probe unit 1 is positioned on the probe base 40 by a method of positioning at the end of the base 20, and the base is fixed by the holding plate 43. The probe unit 1 is connected to a copper wire or a flexible printed wiring board (not shown), and further connected to an electric circuit of an inspection apparatus main body (not shown). When the flexible printed wiring board is lowered by the elevating function of the inspection apparatus main body, the tip 12 of the probe 10 is pressed against the electrode 50 of the sample 5. When the probe base 40 is made of a conductive material such as a metal, the wiring may be taken out via the probe base.
[0066]
(Second use example)
FIG. 29 is a cross-sectional view showing a second usage example.
The second use example shown in FIG. 29 differs from the first use example in the method of positioning the base 20. Specifically, the present invention is applied to the case where the positioning hole 24 is provided in the base 20 as in the third to twelfth configurations and the nineteenth configuration. First, the probe unit 1 is fixed to the probe base 40 by the fixture 42 of the base 20. After being set at the position, the fixture 42 is locked in the positioning hole 24, and the probe unit 1 is fixed to the probe base 40 by the pressing plate 43. With such a configuration, the position adjustment after the replacement of the probe unit becomes unnecessary, so that the stopping time of the inspection apparatus can be reduced, and the throughput can be increased.
[0067]
(Third use example)
FIG. 30 is a cross-sectional view showing a third usage example.
In the third usage example shown in FIG. 30, the probe unit 1 is arranged between the upper and lower probe bases 40a and 40b, and the fixture 42 is fastened to the positioning holes 24 to connect the probe unit 1 to the probe bases 40a and 40b. By pressing down, the probe unit 1 is fixed inside the probe base 40 and the probe 10 is bent. In particular, in the case of the integrated probe shown in FIG. 20, the relative position accuracy of the probe unit 1 can be improved by bending the base 20 and the probe 10. This usage example is applied to the probe unit 1 having the positioning hole 24 in the base 20 as in the third to twelfth configurations and the nineteenth configuration. The method for electrical connection to the test apparatus main body and the method for testing a sample using the lifting / lowering function of the test apparatus main body conform to the first use example.
[0068]
(Fourth usage example)
FIG. 31 is a cross-sectional view showing a fourth usage example.
In the fourth usage example shown in FIG. 31, the independent wiring type probe unit 7 is further used in addition to the connection type probe unit 1 of the present example having the probe sheet in which the probe 10 is connected at the base 20. The connection type probe unit 1 and the independent wiring type probe unit 7 are respectively fixed to the probe base 40 and further fixed to the printed wiring board 44 to form a plurality of probe cards 8. The connection type probe unit 1 is connected to the printed wiring board 44 by the electric wiring 46, and the independent wiring type probe unit 7 is connected to the printed wiring board 44 by the flexible printed wiring board 48. The connection type probe unit 1 and the independent wiring type probe unit 7 can be raised and lowered independently of each other. As shown in FIG. 31A, if both the connection type probe unit 1 and the independent wiring type probe unit 7 are brought into contact with the electrode 50 of the sample 5 and energized, the disconnection test of the sample 5 can be performed. As shown in FIG. 31 (B), when the connection type probe unit 1 is raised to separate the probe 10 from the electrode 50 and energized while only the independent wiring type probe unit 7 is in contact, short-circuit inspection of the sample 5 can be performed. It can be carried out.
[0069]
(Fifth usage example)
FIG. 32 is a sectional view showing a fifth usage example.
The fifth usage example shown in FIG. 32 is different from the fourth usage example in that one probe card 8 is configured by the connection type probe unit 1 and the independent wiring type probe unit 7. Specifically, one probe card 8 is configured by fixing the respective probe units 1 and 7 fixed to the probe base 40 to one and the same printed wiring board 44. By providing both the probe units 1 and 7 on one probe card 8, the probe units 1 and 7 simultaneously move up and down. As shown in FIG. 32 (A), by changing the heights of the tips of the probes of the probe units 1 and 7, power is supplied while the probe units 1 and 7 are both in contact with the electrode 50 of the sample 5. The disconnection test of the specimen 5 can be performed. Further, as shown in FIG. 32 (B), if only the probe unit 7 is brought into contact with the electrode 50 of the sample 5 and energized, the short-circuit test of the sample 5 can be performed.
[0070]
According to the probe unit 1 of the present embodiment, since the probe 10 is widened at the distal end portion 12, the contact area of the sample 5 with the electrode 50 can be increased, and the probe 10 can be prevented from falling off from the electrode 50. Thus, the specimen 5 can be reliably tested.
By arranging the tips of the plurality of probes 10 so as to be shifted in the arrangement direction of the plurality of probes 10, the width of the tip 12 of the probe 10 can be increased without increasing the pitch between the center axes of the probes 10. For this reason, the minimum distance in the arrangement direction of adjacent probes can be reduced. Therefore, versatility can be improved for a sample in which a plurality of elongated electrodes are provided in parallel without reducing the pitch of the central axis of each probe 10.
[0071]
By laminating a plurality of probe sheets each having a probe 10 formed at a pitch larger than the electrode pitch by widening at the distal end portion 12 so that the probes 10 of the respective probe sheets do not overlap each other, the probe 10 in one probe sheet is stacked. The probe unit 1 in which probes are arranged at a pitch smaller than the pitch of the electrodes, that is, at a pitch equal to or smaller than the electrode pitch can be configured. Accordingly, it is not necessary to reduce the pitch of the probes 10 in one probe sheet, so that the manufacturing cost can be reduced and the yield can be improved. Furthermore, since it is not necessary to make the pitch of the probe 10 fine, the wiring resistance of the probe 10 can be reduced, and the contact area with the electrode 50 can be improved. Inspection is easy.
[0072]
By forming the protruding portion 30 having a curved surface on the distal end portion 12 of the probe 10, the curved surface of the protruding portion 30 can be brought into contact with the electrode 50, and the electrode 50 is prevented from being damaged by the distal end portion 12 of the probe 10. it can.
Further, according to the manufacturing method of this embodiment, the fine probe 10 can be formed with high accuracy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a correspondence between a probe unit 1 and a specimen 5 according to an embodiment of the present invention.
2A is a plan view showing a first configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 2A, and FIG. It is a line sectional view (C).
3A is a plan view showing a second configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line aa of FIG. 3A, and FIG. It is a line sectional view (C).
4A is a plan view showing a third configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 4B is a sectional view taken along line aa of FIG. 4A, and FIG. It is a line sectional view (C).
5A is a plan view showing a fourth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 5B is a sectional view taken along line aa of FIG. 5A, and FIG. It is a line sectional view (C).
6A is a plan view showing a fifth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 6A, and FIG. It is a line sectional view (C).
7A is a plan view showing a sixth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line aa of FIG. 7A, and FIG. It is a line sectional view (C).
8A is a plan view illustrating a seventh configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 8A, and FIG. It is a line sectional view (C).
9A is a plan view showing an eighth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 9A, and FIG. It is a line sectional view (C).
10A is a plan view showing a ninth configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 10A, and FIG. It is a line sectional view (C).
11A is a plan view showing a tenth configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 11B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 11A, and FIG. It is a line sectional view (C).
12A is a plan view showing an eleventh configuration of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 12A, and FIG. It is a line sectional view (C).
13A is a plan view showing a twelfth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention, FIG. 13B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 13A, and FIG. It is a line sectional view (C).
FIG. 14 is a perspective view showing a thirteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a perspective view showing a fourteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a perspective view showing a fifteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a perspective view showing a sixteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a perspective view showing a seventeenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 19 is a perspective view showing an eighteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 20 is a plan view showing a nineteenth configuration of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
21A is a plan view showing a conventional contact state between a probe unit and a sample, FIG. 21B is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 21A, and FIG. 21C is a plan view showing the contact state, FIG. 21C is a sectional view taken along line bb of FIG. 21C, and FIG. 21C is a sectional view taken along line cc of FIG. 21C.
FIG. 22 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a first method of manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 23 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a first method of manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 24A and 24B are a plan view and a sectional view showing a first method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention; FIGS.
FIG. 25 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a second method of manufacturing the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIGS. 26A and 26B are a plan view and a cross-sectional view showing a second method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 27 is a plan view (A) and a cross-sectional view (B) showing a second method for manufacturing a probe unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 28 is a sectional view showing a first usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 29 is a sectional view showing a second use example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 30 is a sectional view showing a third use example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 31 is a sectional view showing a fourth usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 32 is a sectional view showing a fifth usage example of the probe unit according to the embodiment of the present invention.
FIG. 33 is a plan view showing the correspondence between the probe unit 1 and the sample 5 according to one embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1, 6 probe unit
2 First probe sheet
3 Second probe sheet
4 Third probe sheet
5 samples
10, 60 probes
12 Tip
14 Base end
20 base
22 through hole
30 protrusion
50 electrodes
72 Sacrificial layer
76 opening
78 Resist film
80 Plating layer

Claims (7)

基部と、各基端が前記基部で一体に連結された複数のプローブとを有する櫛状のプローブシートを備えるプローブユニットであって、
前記プローブが先端部で拡幅していることを特徴とするプローブユニット。
A probe unit including a base portion and a comb-shaped probe sheet having a plurality of probes whose base ends are integrally connected at the base portion,
A probe unit, wherein the probe has a widened end portion.
前記複数のプローブの先端が前記複数のプローブの配列方向に不揃いであることを特徴とする請求項1に記載のプローブユニット。The probe unit according to claim 1, wherein tips of the plurality of probes are irregular in an arrangement direction of the plurality of probes. 前記プローブの先端部にドーム状の突部を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のプローブユニット。The probe unit according to claim 1, further comprising a dome-shaped protrusion at a tip end of the probe. 複数の前記プローブシートがそれぞれの前記プローブが重ならないように積層されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のプローブユニット。The probe unit according to any one of claims 1 to 3, wherein a plurality of the probe sheets are stacked so that the probes do not overlap with each other. 前記プローブ間の配列方向の最小距離dがd≦0であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のプローブユニット。The probe unit according to claim 1, wherein a minimum distance d between the probes in the arrangement direction is d ≦ 0. 前記基部に複数の通孔が形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のプローブユニット。The probe unit according to claim 1, wherein a plurality of through holes are formed in the base. 開口部を有するレジストを金属からなる犠牲層の表面上に形成するパターニング工程と、
前記開口部に前記プローブシートをめっきにより形成するめっき工程と、
前記レジストを除去する工程と、
前記犠牲層を除去する工程と、を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のプローブユニットの製造方法。
Patterning step of forming a resist having an opening on the surface of the sacrificial layer made of metal,
A plating step of forming the probe sheet in the opening by plating;
Removing the resist;
The method according to claim 1, further comprising: removing the sacrificial layer.
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