JP2004327195A - 有機elパネル及びその製造方法 - Google Patents
有機elパネル及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004327195A JP2004327195A JP2003119395A JP2003119395A JP2004327195A JP 2004327195 A JP2004327195 A JP 2004327195A JP 2003119395 A JP2003119395 A JP 2003119395A JP 2003119395 A JP2003119395 A JP 2003119395A JP 2004327195 A JP2004327195 A JP 2004327195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- panel
- irregular reflection
- electrode
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 80
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 16
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- -1 polyphenylenevinylene Polymers 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 4
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- OMWXYAYKNVNUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis[2-(2-methylphenyl)ethenyl]benzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1C OMWXYAYKNVNUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N chlorine peroxide Inorganic materials ClOOCl MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N dioxidochlorine(.) Chemical compound O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002972 p-tolylamino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01K—ANIMAL HUSBANDRY; AVICULTURE; APICULTURE; PISCICULTURE; FISHING; REARING OR BREEDING ANIMALS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; NEW BREEDS OF ANIMALS
- A01K7/00—Watering equipment for stock or game
- A01K7/02—Automatic devices ; Medication dispensers
- A01K7/025—Water tanks
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental Sciences (AREA)
- Animal Husbandry (AREA)
- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【課題】パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されることによる表示性能の劣化を防止する。
【解決手段】支持基板11の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタ18を設け、支持基板11の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一の電極12及び第二の電極14とこの第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層13を有する有機EL素子を形成し、支持基板11の他方の面にこの有機EL素子を封止するための封止凹部15Aを形成した封止部材15を接着剤16によって貼り合わせる。封止凹部15Aにおける斜面aが粗面になって乱反射部が形成されるが、この斜面aを覆うように、支持基板11の他方の面上に第二の電極14の延出部14Aを設けて乱反射防止手段を形成する。
【選択図】 図2
【解決手段】支持基板11の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタ18を設け、支持基板11の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一の電極12及び第二の電極14とこの第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層13を有する有機EL素子を形成し、支持基板11の他方の面にこの有機EL素子を封止するための封止凹部15Aを形成した封止部材15を接着剤16によって貼り合わせる。封止凹部15Aにおける斜面aが粗面になって乱反射部が形成されるが、この斜面aを覆うように、支持基板11の他方の面上に第二の電極14の延出部14Aを設けて乱反射防止手段を形成する。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機EL(Electroluminescence)パネル及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
有機ELパネルは、支持基板上に第一電極を形成し、その上に有機化合物からなる発光層を含む有機層を形成し、その上に第二電極を形成してなる有機EL素子を基本構成としており、この有機EL素子を単位面発光要素として平面基板上に配列させたものである。
【0003】
この有機ELパネルにおいては、前述した第一電極,第二電極の一方をITO等からなる透明電極にすると共に他方をAl,Mg等からなる光反射性の金属電極にして、透明電極側から発光層等で発光した光を取り出すようにしており、透明な支持基板上の第一電極を透明電極にして支持基板側から光を取り出すボトムエミッション方式と支持基板上の第一電極を金属電極にすると共に第二電極を透明電極として第二電極側から光を取り出すトップエミッション方式が考えられている。
【0004】
このような有機ELパネルにおいては、発光層等で発光した光を有効に透明電極側から出射させるために、透明電極と対向して設けられる金属電極を高反射率にして発光輝度を高めることが行われている。ところが、外部からパネル内に入射した光に対しても金属電極が高反射率のミラーになってこれを反射するので、この外部入射光によって、非発光時には外界の景色が写ってしまい、また発光時にはコントラストが低下したり黒色が表現できない等の状態になり、表示性能が低下してしまうことが問題になっている。
【0005】
この問題に対処する有効策として、下記の特許文献1,2に記載されるような技術が提案されている。これは、有機ELパネルの光出射面に円偏光板からなる光学フィルタを設けるものである。これによると、外部から入射し円偏光板を通過した光は右又は左の円偏光になるが、パネル内の金属電極でこの円偏光が反射される際に円偏光の方向が反転されることになるので、外部から入射してパネル内の金属電極で反射されて戻される光は円偏光板で遮断されて外部に出射されないことになる。
【0006】
一方、有機ELパネルは、前述の有機層及び電極が外気に曝されると特性が劣化することが知られている。これは、有機層と電極との界面に水分が浸入することにより、電子の注入が妨げられ、非発光領域が発生したり、電極が腐食する現象によるもので、有機EL素子の安定性及び耐久性を高めるためには、有機EL素子を外気から遮断する封止技術が不可欠となっている。この封止技術に関しては、電極及び有機層が形成された支持基板上に、この電極及び有機層を覆う封止部材を接着剤を介して貼り合わせる手段が一般に採用されている。
【0007】
図1は、従来の封止部材を備えた有機ELパネルを示す説明図である。有機ELパネル1は、支持基板2の一面に、透明電極からなる第一電極3と発光層を含む有機層4と金属電極からなる第二電極5が積層された有機EL素子が形成されており、この有機EL素子が支持基板2の一面に接着剤6によって貼り付けられた封止部材7によって封止されている。また、支持基板2の他面には前述の円偏光板からなる光学フィルタ8が設けられている。
【0008】
ここで封止部材7としては、ガラス製基板が用いられることが多くなっており、平坦なガラス基板をスペーサ含有の接着剤6で貼り付ける場合もあるが、一般には、図1に示すように、封止部材7の片面側に封止凹部7Aによる封止空間を形成して、その封止凹部7Aにおける底面に乾燥剤9を設けている。このような封止凹部7Aは、通常、研磨材によるサンドブラスト処理或いは薬液によるエッチング処理によって形成されているが、このような形成方法では封止凹部7Aにおける斜面aは粗面になってそこに乱反射部が形成されることになる。
【0009】
【特許文献1】
特開平8−321381号公報
特開平9−127885号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の有機ELパネル1においては、外部からの光L01が光学フィルタ8を通過してパネル内に入射すると右又は左方向の円偏光L02になり、これが金属電極からなる第二電極5で鏡面反射されると方向が逆の円偏光L03になる。したがって、前述したように外部から入射して第二電極5で反射した光は光学フィルタ8で遮断されて外部に出射されない。しかしながら、前述したようにパネル内に乱反射部が形成されていると、外部からの光L11が光学フィルタ8を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L12になっても、これが乱反射部で反射されて偏波面の乱れた光L13になるので、光学フィルタ8を通過する反射光L14が生じて、部分的に光学フィルタ8が有効に機能しない箇所が生じる。
【0011】
したがって、発光時にはパネルの周辺部等で反射光が出射されてコントラストの低下を招くことになり、また非発光時には外部景色が写し出される現象が生じて表示性能が劣化するという問題が生じる。
【0012】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されることによる表示性能の劣化を防止することが本発明の目的である。
【0013】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明は以下の独立請求項における構成を少なくとも具備するものである。
【0014】
[請求項1]支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルであって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けたことを特徴とする有機ELパネル。
【0015】
[請求項6]支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルの製造方法であって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図2は本発明の一実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。まず、本発明の実施形態に係る有機ELパネル10の基本構成を説明すると、支持基板11の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタ18を設け、支持基板11の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一の電極12及び第二の電極14とこの第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層13を有する有機EL素子を形成し、支持基板11の他方の面にこの有機EL素子を封止するための封止凹部15Aを形成した封止部材15を接着剤16によって貼り合わせた構成をしている。以下に示す実施形態では、支持基板11側を光出射面にするボトムエミッション方式を例にするが本発明はこれに限定されるものではない。
【0017】
そして、封止部材15に形成された封止凹部15Aの底面には乾燥剤17が取り付けられており、この封止凹部15Aにおける斜面aが粗面になって乱反射部が形成されている。このような乱反射部は、前述した斜面aによるものだけでなく、各種の形成過程でパネル内に形成されることがある。以下の各実施形態は、パネル内に入射される外部入射光がこのような乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を有するものであって、これによって、外部入射光が乱反射部で反射されて光学フィルタ18を通過して出射してしまう事態が無くなり、光学フィルタ18の機能を支持基板全面で確保して、有機ELパネルの表示性能劣化を防止することができる。
【0018】
個々の実施形態の特徴を以下に説明する。以下の説明では、斜面aによる乱反射部を例にして説明しているが、他の乱反射部に対しても同様に対処することができる。図2に示す実施形態では、封止凹部15Aにおける斜面aを覆うように、支持基板11の他方の面上に光反射性の電極からなる第二の電極14の延出部14Aを設けて乱反射防止手段を形成している。
【0019】
図2の実施形態では、第二の電極14の延出部を設けたが、透明電極からなる第一の電極12の延出部を設けて、その表面に光反射性の材料を積層するようにしてもよい。
【0020】
これらの実施形態によると、外部からの光L21が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L22になるが、これが斜面aによって形成される乱反射部に至ることはなくなり、全て第二の電極14等の反射面で反射されることになる。したがって、円偏光L22は、第二の電極14等の反射面で反射されることで逆向きの円偏光L23になり、これが光学フィルタ18によって遮断されるので反射光が外部に出射されることはなくなる。
【0021】
図3は本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。同一の部分には同一の符号を付して一部重複した説明を省略する。この実施形態に係る有機ELパネル20は、基本構成は前述した有機EL素子10と同様であるが、乱反射防止手段として、斜面aを光出射側に向けないようにして根本的な解決を図っている。つまり、封止凹部15Aにおける斜面aを支持基板11側に向けないようにするために、封止凹部15Aの底面に切り込み部15Bを形成しており、これによって斜面aと底面との角度を垂直より鋭角にしている。
【0022】
これによっても、外部からの光L31が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L32になるが、これが斜面aによって形成される乱反射部で反射されることはなくなり、封止凹部15Aの底面又は第二の電極14の反射面で反射されることになる。したがって、円偏光L32は、封止凹部15Aの底面等で反射されることで逆向きの円偏光L33になり、これが光学フィルタ18によって遮断されるので反射光が外部に出射されることはなくなる。
【0023】
図4は本発明の更に他の実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。同一の部分には同一の符号を付して一部重複した説明を省略する。この実施形態に係る有機ELパネル30は、基本構成は前述した有機EL素子10,20と同様であるが、乱反射防止手段として、斜面aによって形成される乱反射部に対向する支持基板11の表面に遮光部31を形成することで、更に根本的な解決を図っている。つまり、封止凹部15Aにおける斜面aに向けて外部からの光が入射しないように遮光部31を設けるものであり、これによっても、外部からの光が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して斜面aによって形成される乱反射部に至ることはなくなり、パネル内部での乱反射光が外部に出射されることはなくなる。遮光部31は、シール部材によって形成することができ、光吸収性の色に着色したものを用いるが、好ましくは、可視光領域の全波長を均一に吸収できる略黒色又は略灰色等で形成することができる。
【0024】
このような有機ELパネル10,20,30の製造方法を説明する。先ず、素子形成工程として、支持基板11上に、第一の電極12,有機層13,第二の電極14を積層した有機EL素子を形成して、一対の電極間に少なくとも発光層を含む有機層13を挟持してなる有機EL素子を形成する。ここでは、有機EL素子の形成に一般に採用される周知の成膜工程及びパターン形成工程が採用される。また一方で、封止部材15に対して、サンドブラスト処理又はエッチング処理等によって封止凹部15Aを形成し、この封止凹部15Aの底面に乾燥剤17を取り付ける。そして、支持基板11上に接着剤16によって封止部材15を貼り合わせてパネル形成がなされることになる。
【0025】
このような製造工程において、図2に示す実施形態では、素子形成工程における第二の電極14を成膜する工程で前述した延出部14Aが形成されることになり(第一の電極12に延出部を設ける場合は第一の電極12の形成時に延出部が形成される。)、図3に示す実施形態では、封止部材15の形成工程で封止凹部15Aの加工時に前述した切り込み部15Bが形成されることになる。また、図4に示す実施形態では、支持基板11の形成工程或いは最終的な貼り合わせ工程の後に、支持基板11の表面に前述した遮光部31が形成されることになる。
【0026】
前述した有機ELパネル10,20,30の各構成部材及びパネル製造方法をより具体的に説明すると以下のとおりである。
【0027】
(a)支持基板;
支持基板11としては、透明性を有する平板状、フィルム状のものが好ましく、材質としてはガラス又はプラスチックを用いることができる。
【0028】
(b)光学フィルタ;
光学フィルタ18の一例としては、直線偏光板と1/4λ偏光板とで構成し、1/4λ偏光板は広波長範囲でほぼ1/4波長の位相差が得られるように複数の複屈折板を貼り合わせることによって形成される。そして、1/4λ偏光板が直線偏光板の偏光軸に対して45度若しくはそれと同等の交差角の偏光軸を有していることで、外部からの入射光がこの光学フィルタ18によって右又は左円偏光になる。
【0029】
(c)電極;
支持基板11側から光を取り出す方式(ボトム・エミッション方式)を前提とする場合には、第一の電極12を透明電極からなる陽極、第二の電極14を光反射性の金属電極からなる陰極にすることができるが、基本的には何れを陽極又は陰極にしても構わない(陽極は陰極より仕事関数の高い材料で構成される。)。
【0030】
適用される陽極材料としては、酸化インジウム(In2O3),ITO,IZO等の透明電極、陰極よりも仕事関数が高いCr,Mo,Ni,Pt等の金属膜を用いて、蒸着,スパッタリング等の成膜方法で形成することができる。
【0031】
陰極としては、仕事関数の小さい金属、金属酸化物、金属フッ化物、合金等、具体的には、Al,In,Mg等の単層構造、LiO2/Al等の積層構造を用いて、蒸着,スパッタリング等の成膜方法で形成することができる。また、金属の外に、ドープされたポリアニリンやドープされたポリフェニレンビニレン等の非晶質半導体、Cr2O3,NiO,Mn2O5等の酸化物が使用できる。第一、第二の電極を共に透明な材料により形成した場合には、光出射側と反対の電極側に反射膜を設けた構成にすることもできる。
【0032】
第二の電極14を光反射性の電極にして、これを用いて延出部14Aを形成する場合には、この延出部14Aで外光(白色光)を反射するものであるから、色が付いていない可視光領域全域を反射する銀色の膜が最適である。
【0033】
また、第一の電極12を透明電極にして、これを用いて延出部(図示していない)を形成する場合には、延出部の上にCr等の銀色膜を積層して反射面を形成することができる。
【0034】
(d)有機層;
有機層13は、第一の電極12を陽極、第二の電極14を陰極とした場合には、正孔輸送層/発光層/電子輸送層の積層構成が一般的であるが、発光層,正孔輸送層,電子輸送層はそれぞれ1層だけでなく複数層積層して設けてもよく、正孔輸送層,電子輸送層についてはどちらかの層を省略しても、両方の層を省略して発光層のみにしても構わない。また、有機層13としては、正孔注入層,電子注入層,正孔障壁層,電子障壁層等の有機機能層を用途に応じて挿入することができる。
【0035】
有機層13の材料は、有機EL素子の用途に合わせて適宜選択可能である。以下に例を示すがこれらに限定されるものではない。
【0036】
正孔輸送層としては、正孔移動度が高い機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビフェニル(NPB)等の芳香族第三アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−[4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベンゼン等のスチルベン化合物や、トリアゾール誘導体、スチリルアミン化合物等の有機材料が用いられる。また、ポリカーボネート等の高分子中に低分子の正孔輸送用の有機材料を分散させた、高分子分散系の材料も使用できる。
【0037】
発光層は、公知の発光材料が使用可能であり、具体例としては、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル(DPVBi)等の芳香族ジメチリディン化合物、1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼン等のスチリルベンゼン化合物、3−(4−ビフェニル)−4−フェニル−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)等のトリアゾール誘導体、アントラキノン誘導体、フルオレノン誘導体等の蛍光性有機材料、(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体(Alq3)等の蛍光性有機金属化合物、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)系、ポリフルオレン系、ポリビニルカルバゾール(PVK)系等の高分子材料、白金錯体やイリジウム錯体等の三重項励起子からのりん光を発光に利用できる有機材料(特表2001−520450)を使用できる。上述したような発光材料のみから構成したものでもよいし、正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)または発光性ドーパント等が含有されてもよい。また、これらが高分子材料又は無機材料中に分散されてもよい。
【0038】
電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体等の有機材料、8−キノリノール誘導体の金属錯体、メタルフタロシアニン等が使用できる。
【0039】
上記の正孔輸送層、発光層、電子輸送層は、スピンコーティング法、ディッピング法等の塗布法、インクジェット法、スクリーン印刷法等の印刷法等のウェットプロセス、又は、蒸着法、レーザ転写法等のドライプロセスで形成することができる。
【0040】
(e)封止部材;
封止部材15の材質は特に拘らないが、好ましくは、ガラスで形成される。封止部材15は支持基板11上に形成された有機EL素子の配列(有機EL素子は単数でも複数でもよい)に対応して封止凹部15Aが形成される。この封止凹部15Aには乾燥剤が装填されるポケット部を形成した2段堀り込み型であってもよい。
【0041】
封止凹部15Aの形成は、ガラス製の平板に対してはプレス,エッチング,ブラスト処理等の加工によって形成され、樹脂製のものに対しては型成形等によって形成される。
【0042】
前述したように乱反射部の一例としては、封止凹部15Aを加工することによって形成される。例えば、サンドブラスト処理の場合には、ドライフィルムレジスト(DFR)を封止部材15上に形成し、フォトマスクにて封止凹部15A形成部をマスクし、封止凹部15A以外の部分にUV光を照射しDFRを露光・現像処理する。ついで、研磨材にてサンドブラストして封止凹部15Aを形成するが、封止凹部15Aの斜面aの表面が粗面となるためパネル内部に乱反射部が形成されることになる。また、ウエットエッチング処理の場合には、前述したDFRの露光・現像処理によって封止凹部15Aが開口するレジストパターンを形成する。ついて、薬液のフッ素酸にてエッチングして封止凹部15Aを形成するが、封止凹部15Aの斜面a付近の底部表面が薬液にて粗面となるので前述の乱反射部が形成されることになる。
【0043】
封止凹部15Aの底面に取り付けられる乾燥剤17としては、ゼオライト,シリカゲル,カーボン,カーボンナノチューブ等の物理的乾燥剤、アルカリ金属酸化物,金属ハロゲン化物,過酸化塩素等の化学的乾燥剤、有機金属錯体をトルエン,キシレン,脂肪族有機溶剤等の石油系溶媒に溶解した乾燥剤、これらの乾燥剤粒子を透明性を有するポリエチレン,ポリイソプレン,ポリビニルシンナエート等のバインダに分散させた乾燥剤等により形成することができる。
【0044】
(f)接着剤;
接着剤16は、熱硬化型、化学硬化型(ニ液混合)、光(紫外線)硬化型等の接着剤を使用し、材料としてアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリオレフィン等を用いることができる。特に、紫外線硬化型のエポキシ樹脂の使用が好ましい。このような接着剤に、1〜100μmの粒径のスペーサ(ガラスやプラスチックのスペーサが好ましい)を適量混合(0.1〜0.5重量%ほど)し、ディスペンサー等を使用して塗布する。
【0045】
(g)有機ELパネルの各種方式について;
有機EL素子は、単一の有機EL素子を形成するものであってもよいし、所望のパターン構造を有して複数の画素を構成するものであってもよい。
【0046】
そして、後者の場合には、その表示方式は、単色発光でも2色以上の複数色発光でもよく、特に複数色発光の有機ELパネルを実現するためには、RGBに対応した3種類の発光機能層を形成する方式を含む2色以上の発光機能層を形成する方式(塗り分け方式)、白色や青色等の単色の発光機能層にカラーフィルタや蛍光材料による色変換層を組み合わせた方式(CF方式、CCM方式)、単色の発光機能層の発光エリアに電磁波を照射する等して複数発光を実現する方式(フォトブリーチング方式)等により構成できる。また、有機EL素子の駆動方式は、パッシブ駆動方式又はアクティブ駆動方式のいずれでもよい。
【0047】
(h)製造方法;
実施形態に係る有機ELパネル10,20,30は、透明な平板ガラス製の支持基板11上に有機EL素子を形成する素子形成工程、封止部材15の形成工程、封止部材15と支持基板11とを接着剤16を介して貼り合わせる封止工程とを経て製造される。
【0048】
素子形成工程は、前述のパッシブ駆動方式のパネル製造を例にすると、支持基板11上に陽極としてITO等の第一の電極12を蒸着、スパッタリング等の方法で薄膜として形成し、フォトリソグラフィ等によってストライプ状にパターニングする。次に、スピンコーティング法,ディッピング法等の塗布法,インクジェット法,スクリーン印刷法等の印刷法等のウェットプロセス、又は、蒸着法、レーザ転写法等のドライプロセスで有機層を形成する。一例としては、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の各材料を蒸着にて順次積層し、最後に、第一の電極12に直交するようにストライプ状に形成した陰極としての第二の電極14を形成し、第一の電極12と第二の電極14とでマトリックスを形成する。第二の電極14はストライプパターンのマスクを用いた蒸着やスパッタリング等の方法で形成される。
【0049】
封止部材15の形成工程は、ガラス製の封止部材15にプレス成形、エッチング、ブラスト処理等の加工によって封止凹部15Aを形成した後、封止凹部15Aの底面に乾燥剤17を粘着剤等による付着させ、場合によっては、布、紙または合成樹脂からなる通気性シートにて乾燥剤17を覆って固定する。
【0050】
封止工程は、例えば、紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤16に、1〜100μmの粒径のスペーサ(ガラスやプラスチックのスペーサが好ましい)を適量混合(0.1〜0.5重量%ほど)し、これを支持基板11上における封止部材15の接着面に該当する場所にディスペンサー等を使用し塗布する。次いで、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で、封止部材15と支持基板11とを接着剤16を介して当接させる。その後、紫外線を支持基板11側(または封止部材15側)から接着剤16に照射して、これを硬化させる。このようにして、封止部材15と支持基板11との封止空間にアルゴンガス等の不活性ガスを封じこめた状態で有機EL素子を封止する。
【0051】
このような実施形態の有機ELパネル及びその製造方法によると、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されることがなくなるので、光学フィルタ18の機能をこのフィルタが設けられたパネル全面で発揮させることができる。したがって、非発光時に外界の景色が写ってしまうという不具合や、発光時にコントラストが低下したり黒色が表現できない等の状態になるといった不具合が無くなり、外部入射光による表示性能の劣化をほぼ完全に防止することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の説明図である。
【図2】本発明の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【図3】本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【図4】本発明の更に他の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【符号の説明】
10,20,30 有機ELパネル
11 支持基板
12 第一の電極
13 有機層
14 第二の電極 14A 延出部
15 封止部材 15A 封止凹部 15B 切り込み部
16 接着剤
17 乾燥剤
18 光学フィルタ
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機EL(Electroluminescence)パネル及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
有機ELパネルは、支持基板上に第一電極を形成し、その上に有機化合物からなる発光層を含む有機層を形成し、その上に第二電極を形成してなる有機EL素子を基本構成としており、この有機EL素子を単位面発光要素として平面基板上に配列させたものである。
【0003】
この有機ELパネルにおいては、前述した第一電極,第二電極の一方をITO等からなる透明電極にすると共に他方をAl,Mg等からなる光反射性の金属電極にして、透明電極側から発光層等で発光した光を取り出すようにしており、透明な支持基板上の第一電極を透明電極にして支持基板側から光を取り出すボトムエミッション方式と支持基板上の第一電極を金属電極にすると共に第二電極を透明電極として第二電極側から光を取り出すトップエミッション方式が考えられている。
【0004】
このような有機ELパネルにおいては、発光層等で発光した光を有効に透明電極側から出射させるために、透明電極と対向して設けられる金属電極を高反射率にして発光輝度を高めることが行われている。ところが、外部からパネル内に入射した光に対しても金属電極が高反射率のミラーになってこれを反射するので、この外部入射光によって、非発光時には外界の景色が写ってしまい、また発光時にはコントラストが低下したり黒色が表現できない等の状態になり、表示性能が低下してしまうことが問題になっている。
【0005】
この問題に対処する有効策として、下記の特許文献1,2に記載されるような技術が提案されている。これは、有機ELパネルの光出射面に円偏光板からなる光学フィルタを設けるものである。これによると、外部から入射し円偏光板を通過した光は右又は左の円偏光になるが、パネル内の金属電極でこの円偏光が反射される際に円偏光の方向が反転されることになるので、外部から入射してパネル内の金属電極で反射されて戻される光は円偏光板で遮断されて外部に出射されないことになる。
【0006】
一方、有機ELパネルは、前述の有機層及び電極が外気に曝されると特性が劣化することが知られている。これは、有機層と電極との界面に水分が浸入することにより、電子の注入が妨げられ、非発光領域が発生したり、電極が腐食する現象によるもので、有機EL素子の安定性及び耐久性を高めるためには、有機EL素子を外気から遮断する封止技術が不可欠となっている。この封止技術に関しては、電極及び有機層が形成された支持基板上に、この電極及び有機層を覆う封止部材を接着剤を介して貼り合わせる手段が一般に採用されている。
【0007】
図1は、従来の封止部材を備えた有機ELパネルを示す説明図である。有機ELパネル1は、支持基板2の一面に、透明電極からなる第一電極3と発光層を含む有機層4と金属電極からなる第二電極5が積層された有機EL素子が形成されており、この有機EL素子が支持基板2の一面に接着剤6によって貼り付けられた封止部材7によって封止されている。また、支持基板2の他面には前述の円偏光板からなる光学フィルタ8が設けられている。
【0008】
ここで封止部材7としては、ガラス製基板が用いられることが多くなっており、平坦なガラス基板をスペーサ含有の接着剤6で貼り付ける場合もあるが、一般には、図1に示すように、封止部材7の片面側に封止凹部7Aによる封止空間を形成して、その封止凹部7Aにおける底面に乾燥剤9を設けている。このような封止凹部7Aは、通常、研磨材によるサンドブラスト処理或いは薬液によるエッチング処理によって形成されているが、このような形成方法では封止凹部7Aにおける斜面aは粗面になってそこに乱反射部が形成されることになる。
【0009】
【特許文献1】
特開平8−321381号公報
特開平9−127885号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の有機ELパネル1においては、外部からの光L01が光学フィルタ8を通過してパネル内に入射すると右又は左方向の円偏光L02になり、これが金属電極からなる第二電極5で鏡面反射されると方向が逆の円偏光L03になる。したがって、前述したように外部から入射して第二電極5で反射した光は光学フィルタ8で遮断されて外部に出射されない。しかしながら、前述したようにパネル内に乱反射部が形成されていると、外部からの光L11が光学フィルタ8を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L12になっても、これが乱反射部で反射されて偏波面の乱れた光L13になるので、光学フィルタ8を通過する反射光L14が生じて、部分的に光学フィルタ8が有効に機能しない箇所が生じる。
【0011】
したがって、発光時にはパネルの周辺部等で反射光が出射されてコントラストの低下を招くことになり、また非発光時には外部景色が写し出される現象が生じて表示性能が劣化するという問題が生じる。
【0012】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されることによる表示性能の劣化を防止することが本発明の目的である。
【0013】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明は以下の独立請求項における構成を少なくとも具備するものである。
【0014】
[請求項1]支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルであって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けたことを特徴とする有機ELパネル。
【0015】
[請求項6]支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルの製造方法であって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図2は本発明の一実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。まず、本発明の実施形態に係る有機ELパネル10の基本構成を説明すると、支持基板11の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタ18を設け、支持基板11の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一の電極12及び第二の電極14とこの第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層13を有する有機EL素子を形成し、支持基板11の他方の面にこの有機EL素子を封止するための封止凹部15Aを形成した封止部材15を接着剤16によって貼り合わせた構成をしている。以下に示す実施形態では、支持基板11側を光出射面にするボトムエミッション方式を例にするが本発明はこれに限定されるものではない。
【0017】
そして、封止部材15に形成された封止凹部15Aの底面には乾燥剤17が取り付けられており、この封止凹部15Aにおける斜面aが粗面になって乱反射部が形成されている。このような乱反射部は、前述した斜面aによるものだけでなく、各種の形成過程でパネル内に形成されることがある。以下の各実施形態は、パネル内に入射される外部入射光がこのような乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を有するものであって、これによって、外部入射光が乱反射部で反射されて光学フィルタ18を通過して出射してしまう事態が無くなり、光学フィルタ18の機能を支持基板全面で確保して、有機ELパネルの表示性能劣化を防止することができる。
【0018】
個々の実施形態の特徴を以下に説明する。以下の説明では、斜面aによる乱反射部を例にして説明しているが、他の乱反射部に対しても同様に対処することができる。図2に示す実施形態では、封止凹部15Aにおける斜面aを覆うように、支持基板11の他方の面上に光反射性の電極からなる第二の電極14の延出部14Aを設けて乱反射防止手段を形成している。
【0019】
図2の実施形態では、第二の電極14の延出部を設けたが、透明電極からなる第一の電極12の延出部を設けて、その表面に光反射性の材料を積層するようにしてもよい。
【0020】
これらの実施形態によると、外部からの光L21が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L22になるが、これが斜面aによって形成される乱反射部に至ることはなくなり、全て第二の電極14等の反射面で反射されることになる。したがって、円偏光L22は、第二の電極14等の反射面で反射されることで逆向きの円偏光L23になり、これが光学フィルタ18によって遮断されるので反射光が外部に出射されることはなくなる。
【0021】
図3は本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。同一の部分には同一の符号を付して一部重複した説明を省略する。この実施形態に係る有機ELパネル20は、基本構成は前述した有機EL素子10と同様であるが、乱反射防止手段として、斜面aを光出射側に向けないようにして根本的な解決を図っている。つまり、封止凹部15Aにおける斜面aを支持基板11側に向けないようにするために、封止凹部15Aの底面に切り込み部15Bを形成しており、これによって斜面aと底面との角度を垂直より鋭角にしている。
【0022】
これによっても、外部からの光L31が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して右又は左方向の円偏光L32になるが、これが斜面aによって形成される乱反射部で反射されることはなくなり、封止凹部15Aの底面又は第二の電極14の反射面で反射されることになる。したがって、円偏光L32は、封止凹部15Aの底面等で反射されることで逆向きの円偏光L33になり、これが光学フィルタ18によって遮断されるので反射光が外部に出射されることはなくなる。
【0023】
図4は本発明の更に他の実施形態に係る有機ELパネルを示す説明図である。同一の部分には同一の符号を付して一部重複した説明を省略する。この実施形態に係る有機ELパネル30は、基本構成は前述した有機EL素子10,20と同様であるが、乱反射防止手段として、斜面aによって形成される乱反射部に対向する支持基板11の表面に遮光部31を形成することで、更に根本的な解決を図っている。つまり、封止凹部15Aにおける斜面aに向けて外部からの光が入射しないように遮光部31を設けるものであり、これによっても、外部からの光が光学フィルタ18を通過してパネル内に入射して斜面aによって形成される乱反射部に至ることはなくなり、パネル内部での乱反射光が外部に出射されることはなくなる。遮光部31は、シール部材によって形成することができ、光吸収性の色に着色したものを用いるが、好ましくは、可視光領域の全波長を均一に吸収できる略黒色又は略灰色等で形成することができる。
【0024】
このような有機ELパネル10,20,30の製造方法を説明する。先ず、素子形成工程として、支持基板11上に、第一の電極12,有機層13,第二の電極14を積層した有機EL素子を形成して、一対の電極間に少なくとも発光層を含む有機層13を挟持してなる有機EL素子を形成する。ここでは、有機EL素子の形成に一般に採用される周知の成膜工程及びパターン形成工程が採用される。また一方で、封止部材15に対して、サンドブラスト処理又はエッチング処理等によって封止凹部15Aを形成し、この封止凹部15Aの底面に乾燥剤17を取り付ける。そして、支持基板11上に接着剤16によって封止部材15を貼り合わせてパネル形成がなされることになる。
【0025】
このような製造工程において、図2に示す実施形態では、素子形成工程における第二の電極14を成膜する工程で前述した延出部14Aが形成されることになり(第一の電極12に延出部を設ける場合は第一の電極12の形成時に延出部が形成される。)、図3に示す実施形態では、封止部材15の形成工程で封止凹部15Aの加工時に前述した切り込み部15Bが形成されることになる。また、図4に示す実施形態では、支持基板11の形成工程或いは最終的な貼り合わせ工程の後に、支持基板11の表面に前述した遮光部31が形成されることになる。
【0026】
前述した有機ELパネル10,20,30の各構成部材及びパネル製造方法をより具体的に説明すると以下のとおりである。
【0027】
(a)支持基板;
支持基板11としては、透明性を有する平板状、フィルム状のものが好ましく、材質としてはガラス又はプラスチックを用いることができる。
【0028】
(b)光学フィルタ;
光学フィルタ18の一例としては、直線偏光板と1/4λ偏光板とで構成し、1/4λ偏光板は広波長範囲でほぼ1/4波長の位相差が得られるように複数の複屈折板を貼り合わせることによって形成される。そして、1/4λ偏光板が直線偏光板の偏光軸に対して45度若しくはそれと同等の交差角の偏光軸を有していることで、外部からの入射光がこの光学フィルタ18によって右又は左円偏光になる。
【0029】
(c)電極;
支持基板11側から光を取り出す方式(ボトム・エミッション方式)を前提とする場合には、第一の電極12を透明電極からなる陽極、第二の電極14を光反射性の金属電極からなる陰極にすることができるが、基本的には何れを陽極又は陰極にしても構わない(陽極は陰極より仕事関数の高い材料で構成される。)。
【0030】
適用される陽極材料としては、酸化インジウム(In2O3),ITO,IZO等の透明電極、陰極よりも仕事関数が高いCr,Mo,Ni,Pt等の金属膜を用いて、蒸着,スパッタリング等の成膜方法で形成することができる。
【0031】
陰極としては、仕事関数の小さい金属、金属酸化物、金属フッ化物、合金等、具体的には、Al,In,Mg等の単層構造、LiO2/Al等の積層構造を用いて、蒸着,スパッタリング等の成膜方法で形成することができる。また、金属の外に、ドープされたポリアニリンやドープされたポリフェニレンビニレン等の非晶質半導体、Cr2O3,NiO,Mn2O5等の酸化物が使用できる。第一、第二の電極を共に透明な材料により形成した場合には、光出射側と反対の電極側に反射膜を設けた構成にすることもできる。
【0032】
第二の電極14を光反射性の電極にして、これを用いて延出部14Aを形成する場合には、この延出部14Aで外光(白色光)を反射するものであるから、色が付いていない可視光領域全域を反射する銀色の膜が最適である。
【0033】
また、第一の電極12を透明電極にして、これを用いて延出部(図示していない)を形成する場合には、延出部の上にCr等の銀色膜を積層して反射面を形成することができる。
【0034】
(d)有機層;
有機層13は、第一の電極12を陽極、第二の電極14を陰極とした場合には、正孔輸送層/発光層/電子輸送層の積層構成が一般的であるが、発光層,正孔輸送層,電子輸送層はそれぞれ1層だけでなく複数層積層して設けてもよく、正孔輸送層,電子輸送層についてはどちらかの層を省略しても、両方の層を省略して発光層のみにしても構わない。また、有機層13としては、正孔注入層,電子注入層,正孔障壁層,電子障壁層等の有機機能層を用途に応じて挿入することができる。
【0035】
有機層13の材料は、有機EL素子の用途に合わせて適宜選択可能である。以下に例を示すがこれらに限定されるものではない。
【0036】
正孔輸送層としては、正孔移動度が高い機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、銅フタロシアニン等のポルフィリン化合物、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビフェニル(NPB)等の芳香族第三アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−[4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベンゼン等のスチルベン化合物や、トリアゾール誘導体、スチリルアミン化合物等の有機材料が用いられる。また、ポリカーボネート等の高分子中に低分子の正孔輸送用の有機材料を分散させた、高分子分散系の材料も使用できる。
【0037】
発光層は、公知の発光材料が使用可能であり、具体例としては、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)−ビフェニル(DPVBi)等の芳香族ジメチリディン化合物、1,4−ビス(2−メチルスチリル)ベンゼン等のスチリルベンゼン化合物、3−(4−ビフェニル)−4−フェニル−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)等のトリアゾール誘導体、アントラキノン誘導体、フルオレノン誘導体等の蛍光性有機材料、(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体(Alq3)等の蛍光性有機金属化合物、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)系、ポリフルオレン系、ポリビニルカルバゾール(PVK)系等の高分子材料、白金錯体やイリジウム錯体等の三重項励起子からのりん光を発光に利用できる有機材料(特表2001−520450)を使用できる。上述したような発光材料のみから構成したものでもよいし、正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)または発光性ドーパント等が含有されてもよい。また、これらが高分子材料又は無機材料中に分散されてもよい。
【0038】
電子輸送層は、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。具体例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体等の有機材料、8−キノリノール誘導体の金属錯体、メタルフタロシアニン等が使用できる。
【0039】
上記の正孔輸送層、発光層、電子輸送層は、スピンコーティング法、ディッピング法等の塗布法、インクジェット法、スクリーン印刷法等の印刷法等のウェットプロセス、又は、蒸着法、レーザ転写法等のドライプロセスで形成することができる。
【0040】
(e)封止部材;
封止部材15の材質は特に拘らないが、好ましくは、ガラスで形成される。封止部材15は支持基板11上に形成された有機EL素子の配列(有機EL素子は単数でも複数でもよい)に対応して封止凹部15Aが形成される。この封止凹部15Aには乾燥剤が装填されるポケット部を形成した2段堀り込み型であってもよい。
【0041】
封止凹部15Aの形成は、ガラス製の平板に対してはプレス,エッチング,ブラスト処理等の加工によって形成され、樹脂製のものに対しては型成形等によって形成される。
【0042】
前述したように乱反射部の一例としては、封止凹部15Aを加工することによって形成される。例えば、サンドブラスト処理の場合には、ドライフィルムレジスト(DFR)を封止部材15上に形成し、フォトマスクにて封止凹部15A形成部をマスクし、封止凹部15A以外の部分にUV光を照射しDFRを露光・現像処理する。ついで、研磨材にてサンドブラストして封止凹部15Aを形成するが、封止凹部15Aの斜面aの表面が粗面となるためパネル内部に乱反射部が形成されることになる。また、ウエットエッチング処理の場合には、前述したDFRの露光・現像処理によって封止凹部15Aが開口するレジストパターンを形成する。ついて、薬液のフッ素酸にてエッチングして封止凹部15Aを形成するが、封止凹部15Aの斜面a付近の底部表面が薬液にて粗面となるので前述の乱反射部が形成されることになる。
【0043】
封止凹部15Aの底面に取り付けられる乾燥剤17としては、ゼオライト,シリカゲル,カーボン,カーボンナノチューブ等の物理的乾燥剤、アルカリ金属酸化物,金属ハロゲン化物,過酸化塩素等の化学的乾燥剤、有機金属錯体をトルエン,キシレン,脂肪族有機溶剤等の石油系溶媒に溶解した乾燥剤、これらの乾燥剤粒子を透明性を有するポリエチレン,ポリイソプレン,ポリビニルシンナエート等のバインダに分散させた乾燥剤等により形成することができる。
【0044】
(f)接着剤;
接着剤16は、熱硬化型、化学硬化型(ニ液混合)、光(紫外線)硬化型等の接着剤を使用し、材料としてアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリオレフィン等を用いることができる。特に、紫外線硬化型のエポキシ樹脂の使用が好ましい。このような接着剤に、1〜100μmの粒径のスペーサ(ガラスやプラスチックのスペーサが好ましい)を適量混合(0.1〜0.5重量%ほど)し、ディスペンサー等を使用して塗布する。
【0045】
(g)有機ELパネルの各種方式について;
有機EL素子は、単一の有機EL素子を形成するものであってもよいし、所望のパターン構造を有して複数の画素を構成するものであってもよい。
【0046】
そして、後者の場合には、その表示方式は、単色発光でも2色以上の複数色発光でもよく、特に複数色発光の有機ELパネルを実現するためには、RGBに対応した3種類の発光機能層を形成する方式を含む2色以上の発光機能層を形成する方式(塗り分け方式)、白色や青色等の単色の発光機能層にカラーフィルタや蛍光材料による色変換層を組み合わせた方式(CF方式、CCM方式)、単色の発光機能層の発光エリアに電磁波を照射する等して複数発光を実現する方式(フォトブリーチング方式)等により構成できる。また、有機EL素子の駆動方式は、パッシブ駆動方式又はアクティブ駆動方式のいずれでもよい。
【0047】
(h)製造方法;
実施形態に係る有機ELパネル10,20,30は、透明な平板ガラス製の支持基板11上に有機EL素子を形成する素子形成工程、封止部材15の形成工程、封止部材15と支持基板11とを接着剤16を介して貼り合わせる封止工程とを経て製造される。
【0048】
素子形成工程は、前述のパッシブ駆動方式のパネル製造を例にすると、支持基板11上に陽極としてITO等の第一の電極12を蒸着、スパッタリング等の方法で薄膜として形成し、フォトリソグラフィ等によってストライプ状にパターニングする。次に、スピンコーティング法,ディッピング法等の塗布法,インクジェット法,スクリーン印刷法等の印刷法等のウェットプロセス、又は、蒸着法、レーザ転写法等のドライプロセスで有機層を形成する。一例としては、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の各材料を蒸着にて順次積層し、最後に、第一の電極12に直交するようにストライプ状に形成した陰極としての第二の電極14を形成し、第一の電極12と第二の電極14とでマトリックスを形成する。第二の電極14はストライプパターンのマスクを用いた蒸着やスパッタリング等の方法で形成される。
【0049】
封止部材15の形成工程は、ガラス製の封止部材15にプレス成形、エッチング、ブラスト処理等の加工によって封止凹部15Aを形成した後、封止凹部15Aの底面に乾燥剤17を粘着剤等による付着させ、場合によっては、布、紙または合成樹脂からなる通気性シートにて乾燥剤17を覆って固定する。
【0050】
封止工程は、例えば、紫外線硬化型エポキシ樹脂製の接着剤16に、1〜100μmの粒径のスペーサ(ガラスやプラスチックのスペーサが好ましい)を適量混合(0.1〜0.5重量%ほど)し、これを支持基板11上における封止部材15の接着面に該当する場所にディスペンサー等を使用し塗布する。次いで、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で、封止部材15と支持基板11とを接着剤16を介して当接させる。その後、紫外線を支持基板11側(または封止部材15側)から接着剤16に照射して、これを硬化させる。このようにして、封止部材15と支持基板11との封止空間にアルゴンガス等の不活性ガスを封じこめた状態で有機EL素子を封止する。
【0051】
このような実施形態の有機ELパネル及びその製造方法によると、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されることがなくなるので、光学フィルタ18の機能をこのフィルタが設けられたパネル全面で発揮させることができる。したがって、非発光時に外界の景色が写ってしまうという不具合や、発光時にコントラストが低下したり黒色が表現できない等の状態になるといった不具合が無くなり、外部入射光による表示性能の劣化をほぼ完全に防止することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の説明図である。
【図2】本発明の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【図3】本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【図4】本発明の更に他の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
【符号の説明】
10,20,30 有機ELパネル
11 支持基板
12 第一の電極
13 有機層
14 第二の電極 14A 延出部
15 封止部材 15A 封止凹部 15B 切り込み部
16 接着剤
17 乾燥剤
18 光学フィルタ
Claims (10)
- 支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルであって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けたことを特徴とする有機ELパネル。
- 前記乱反射防止手段として、前記支持基板の他方の面上に前記乱反射部を覆うように光反射性の電極からなる前記第一又は第二の電極の延出部を設けたことを特徴とする請求項1に記載された有機ELパネル。
- 前記乱反射防止手段として、前記支持基板の他方の面上に前記乱反射部を覆うように透明電極からなる前記第一又は第二の電極の延出部を設け、該延出部の表面に光反射性の材料を積層したことを特徴とする請求項1に記載された有機ELパネル。
- 前記乱反射防止手段として、前記封止凹部の底面に、前記乱反射部となる前記封止凹部の斜面を前記支持基板側に向けない切り込み部を形成したことを特徴とする請求項1に記載された有機ELパネル。
- 前記乱反射防止手段として、前記乱反射部に対向する前記支持基板の表面に遮光部を形成したことを特徴とする請求項1に記載された有機ELパネル。
- 支持基板の一方の面に円偏光板からなる光学フィルタを設け、前記支持基板の他方の面に、少なくとも一方が透明電極からなる第一及び第二の電極と該第一,第二の電極間に挟持されて少なくとも発光層を含む有機層とを有する有機EL素子を形成し、前記他方の面に前記有機EL素子を封止するための封止凹部を形成した封止部材を貼り合わせた有機ELパネルの製造方法であって、パネル内に入射される外部入射光がパネル内の乱反射部によって反射されるのを防止する乱反射防止手段を設けることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
- 前記有機EL素子の形成工程で、前記乱反射防止手段として、前記支持基板の他方の面上に前記乱反射部を覆うように光反射性の電極からなる前記第一又は第二の電極の延出部を設けることを特徴とする請求項6に記載された有機ELパネルの製造方法。
- 前記有機EL素子の形成工程で、前記乱反射防止手段として、前記支持基板の他方の面上に前記乱反射部を覆うように透明電極からなる前記第一又は第二の電極の延出部を設け、該延出部の表面に光反射性の材料を積層したことを特徴とする請求項6に記載された有機ELパネルの製造方法。
- 前記封止部材の形成工程で、前記乱反射防止手段として、前記封止凹部の底面に、前記乱反射部となる前記封止凹部の斜面を前記支持基板側に向けない切り込み部を形成することを特徴とする請求項6に記載された有機ELパネルの製造方法。
- 前記乱反射防止手段として、前記乱反射部に対向する前記支持基板の表面に遮光部を形成することを特徴とする請求項6に記載された有機ELパネルの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003119395A JP2004327195A (ja) | 2003-04-24 | 2003-04-24 | 有機elパネル及びその製造方法 |
TW093110557A TWI256268B (en) | 2003-04-24 | 2004-04-15 | Organic EL display panel and method of manufacturing the same |
KR1020040026574A KR20040092420A (ko) | 2003-04-24 | 2004-04-19 | 유기 전계 발광 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
CNB2004100310875A CN100442572C (zh) | 2003-04-24 | 2004-04-20 | 有机电致发光面板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003119395A JP2004327195A (ja) | 2003-04-24 | 2003-04-24 | 有機elパネル及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004327195A true JP2004327195A (ja) | 2004-11-18 |
Family
ID=33498628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003119395A Pending JP2004327195A (ja) | 2003-04-24 | 2003-04-24 | 有機elパネル及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004327195A (ja) |
KR (1) | KR20040092420A (ja) |
CN (1) | CN100442572C (ja) |
TW (1) | TWI256268B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009020141A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
JP2009037183A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
WO2009141903A1 (ja) | 2008-05-21 | 2009-11-26 | パイオニア株式会社 | 有機発光素子 |
US7791272B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-emitting device comprising protective layer with irregular surface |
US8884846B2 (en) | 2007-02-28 | 2014-11-11 | Japan Display Inc. | Organic EL display device |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1940202B1 (en) * | 2005-09-22 | 2013-05-01 | Panasonic Corporation | Organic light emitting element and its fabrication method |
CN100449774C (zh) * | 2006-06-20 | 2009-01-07 | 友达光电股份有限公司 | 反射式有机电致发光面板与显示器 |
JP4609529B2 (ja) * | 2008-06-11 | 2011-01-12 | ソニー株式会社 | 偏光板、表示装置および電子機器 |
KR20140144752A (ko) * | 2012-01-19 | 2014-12-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
TWI556425B (zh) | 2014-07-21 | 2016-11-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板畫素單元及包含其之顯示面板 |
CN104485348A (zh) * | 2014-12-25 | 2015-04-01 | 信利半导体有限公司 | 一种oled显示器 |
JP6722992B2 (ja) * | 2015-09-29 | 2020-07-15 | 住友化学株式会社 | 有機電子デバイスの製造方法及び封止部材の製造方法 |
CN110444686B (zh) * | 2019-08-14 | 2022-07-01 | 苏州清越光电科技股份有限公司 | 显示面板及其制备方法和显示装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010023412A (ko) * | 1998-06-30 | 2001-03-26 | 나가이 아츠오 | 전계발광 디스플레이 |
JP2001057474A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-02-27 | Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk | 有機el表示装置 |
JP2003108019A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-04-11 | Sharp Corp | 自発光型画像表示装置 |
-
2003
- 2003-04-24 JP JP2003119395A patent/JP2004327195A/ja active Pending
-
2004
- 2004-04-15 TW TW093110557A patent/TWI256268B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-19 KR KR1020040026574A patent/KR20040092420A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-04-20 CN CNB2004100310875A patent/CN100442572C/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7791272B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-emitting device comprising protective layer with irregular surface |
US8884846B2 (en) | 2007-02-28 | 2014-11-11 | Japan Display Inc. | Organic EL display device |
JP2009020141A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
JP2009037183A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Seiko Epson Corp | 表示装置および電子機器 |
WO2009141903A1 (ja) | 2008-05-21 | 2009-11-26 | パイオニア株式会社 | 有機発光素子 |
US8502208B2 (en) | 2008-05-21 | 2013-08-06 | Pioneer Corporation | Organic light-emitting device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1541031A (zh) | 2004-10-27 |
TW200423797A (en) | 2004-11-01 |
KR20040092420A (ko) | 2004-11-03 |
TWI256268B (en) | 2006-06-01 |
CN100442572C (zh) | 2008-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7250721B2 (en) | Organic EL element and organic EL display panel | |
US8288784B2 (en) | Organic light emitting display device | |
US7671528B2 (en) | Display apparatus with circularly polarizing member and a resonator assembly for attenuating external light | |
US20060128252A1 (en) | Organic electroluminescent panel and method for fabricating the same | |
JP2003115377A (ja) | 発光素子、その製造方法およびこれを用いた表示装置 | |
US20070120453A1 (en) | Full-color electroluminescent display device and method of fabricating the same | |
JP2007115419A (ja) | 有機発光素子 | |
JP2007164123A (ja) | 色変換機能付カラーフィルタ、有機elディスプレイおよびその製造方法 | |
JP2008108706A (ja) | 表示装置 | |
JP2004327195A (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
WO2004061995A1 (en) | Laser patterning of encapsulated organic light emitting diodes | |
JP2004348971A (ja) | 有機el表示パネル及びその製造方法 | |
JP2006004721A (ja) | トップエミッション型有機el素子 | |
KR20090128237A (ko) | 유기 발광 디스플레이 장치 | |
US7294439B2 (en) | Color-converting filter and manufacturing method | |
JP2004296202A (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
WO2013094645A1 (ja) | 光学基板およびその製造方法、発光素子、液晶素子、表示装置、液晶装置および照明装置 | |
JP2005079014A (ja) | 発光装置 | |
JP2012160603A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス発光装置 | |
JP2004103519A (ja) | 色変換カラーフィルタ基板およびこれを用いた有機カラーディスプレイ | |
JP2004311246A (ja) | 有機elパネル及びその製造方法 | |
US6881525B2 (en) | Method of manufacturing color-converting filter | |
JP2004303425A (ja) | 有機elパネル及びその形成方法 | |
WO2022168224A1 (ja) | 表示装置 | |
JP2004241247A (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081128 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090403 |