JP2004309060A

JP2004309060A - 加熱調理器及びその制御方法

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Publication number: JP2004309060A
Application number: JP2003105287A
Authority: JP
Inventors: Hideko Tamura; 英子田村; Tomomi Uchiyama; 智美内山
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2003-04-09
Filing date: 2003-04-09
Publication date: 2004-11-04
Anticipated expiration: 2023-04-09
Also published as: JP3695658B2

Abstract

【課題】低電力でしかも小型の構成でありながら、加熱室に任意のタイミングで蒸気を供給することのできる加熱調理器を得る。
【解決手段】被加熱物を収容する加熱室１１に加熱源１３，１７，３５からの熱を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器１００において、加熱室１１内に設けられた蒸気発生部１５と、この蒸気発生部１５を加熱する蒸発部加熱ヒータと、蒸気発生部１５に水を供給する給水手段と、蒸気発生部１５から任意のタイミングで加熱室１１内への蒸気供給を可能とする蒸気供給操作手段とを設けた。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被加熱物を収容する加熱室に加熱源からの熱を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器に関し、特に、任意のタイミングで加熱室内への蒸気供給を可能とした改良技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
被加熱物を収容する加熱室をヒータにより加熱するとともに、この加熱室に蒸気を供給して加熱調理を行う加熱調理器がある（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
実開平７−３９７１４号公報
【０００４】
上記特許文献１に開示される加熱調理器は、電熱による加熱処理と並行して加熱室内に蒸気を充満させて、効率的な調理を実施可能にしている。また、この他にも蒸気発生機能に加えて高周波加熱機能を備えた加熱調理器もある。このような加熱調理器においては、電熱や高周波による加熱を適宜組み合わせて加熱調理することが可能となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような加熱調理器では、加熱室への蒸気供給は、加熱中に常時供給するか、又は供給しないかの択一的な選択方式となっている。また、一部の自動調理モードにおいて、所定のタイミングで所定量の蒸気が供給されるものもある。しかし、蒸気を加熱室へ供給するタイミングや供給量は、加熱調理器の操作者が、嗜好の差や調理材料の質的・量的な違いによって任意に微調整したい要求があり、また、自動調理においても、規定量の標準的な調理材料で且つ平均的な温湿環境下で最適となる設定値に基づいて調理されるため、必ずしも想定通りの調理が実施されるとは限らなかった。特に、フランスパンやスポンジケーキ等のパン調理時においては、調理の出来映えが蒸気供給タイミングに大きく左右されることがあり、自動化が困難となる面もあった。
【０００６】
さらに、肉や魚等を加熱するグリル加熱時においては、被加熱物の表面と内部とで温度差が大きくなる傾向にあり、表面が加熱過剰となる一方、内部が加熱不十分となる場合があった。そこで、蒸気を加熱室に供給することで、蒸気が有する潜熱、熱容量によって被加熱物の表面の焦げ付きを抑制したり、被加熱物の内部までムラなく加熱することができるが、実際には操作者の意思により必要なタイミングで蒸気供給を行うことができず、蒸気供給による十分な効果を得ることができなかった。
【０００７】
また、加熱室外部にボイラ等の蒸気供給源を設けた構成の加熱調理器があるが、この構成においては、調理前に予めボイラを予熱しておかなければならず、実際には調理前の準備時間が長く要されることになっている。また、加熱室外部から蒸気を供給ので、加熱部にスケール等が溜まり、衛生上問題を生じる上に、このスケールの清掃に分解等の手間が掛かり、使い勝手が良くなかった。
【０００８】
また、蒸気供給源の蒸気発生能力を高めて瞬時に蒸気供給可能な構成にすることも考えられるが、装置自体が大型化し、また、一般家庭用の加熱調理器に対してはコストダウンや省エネルギの観点から好ましくない。
【０００９】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、低電力でしかも小型の構成でありながら、加熱室に任意のタイミングで蒸気を供給することのできる加熱調理器を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係る請求項１記載の加熱調理器は、被加熱物を収容する加熱室に加熱源からの熱を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、加熱室内に設けられた蒸気発生部と、該蒸気発生部を加熱する蒸発部加熱ヒータと、前記蒸気発生部に水を供給する給水手段と、前記蒸気発生部から任意のタイミングで前記加熱室内への蒸気供給を可能とする蒸気供給操作手段とを備えた。
【００１１】
この加熱調理器では、蒸発部加熱ヒータの備えられた蒸気発生部が設けられることで、予熱の必要なボイラを用いずに蒸気供給が可能になり、任意のタイミングで加熱室内への蒸気の供給を可能とする蒸気供給操作手段が設けられることで、そのタイミングの制約がなくなる。これにより、低電力でしかも小型の構成で蒸気供給が可能になり、且つ任意のタイミングで蒸気の供給が可能となって、調理の自在性が高まる。
【００１２】
請求項２記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、押下により前記蒸発部加熱ヒータを加熱制御するとともに、前記給水手段により前記蒸気発生部へ水を供給するスイッチである。
【００１３】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段が一つのスイッチとなり、このスイッチが押下されることで、蒸発部加熱ヒータが加熱制御され、且つ同時に給水手段により蒸気発生部へ水が供給される。即ち、一つのスイッチによるワンタッチ操作で蒸気の発生が可能となり、加熱室への蒸気供給操作が極めて簡単となり、微妙な調理タイミングを逃がさなくできる。
【００１４】
請求項３記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、一回の押下により所定時間連続して蒸気供給を行うスイッチである。
【００１５】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段であるスイッチが、一回押下されると、所定時間のみ連続して蒸気が供給され、蒸気がワンタッチで簡便に供給可能となる。
【００１６】
請求項４記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、押下の度に蒸気供給開始と蒸気供給停止とが切り替わるスイッチである。
【００１７】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段であるスイッチが、押下の度に蒸気供給開始と蒸気供給停止とが切り替わり、任意期間の蒸気供給が簡単に行えるようになる。
【００１８】
請求項５記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、押下された後の一定期間のみ、蒸気供給時間の設定を行えるスイッチである。
【００１９】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段であるスイッチを押下した後の一定期間のみ、蒸気供給時間の設定を、例えば、つまみの回転操作やスイッチ押下操作の回数に応じて行うことで、簡単に任意の時間に設定できるようになる。
【００２０】
請求項６記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、押下している間だけ蒸気供給を行うスイッチである。
【００２１】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段であるスイッチが、押下されている間だけ蒸気供給が行われ、ワンタッチで任意期間の蒸気供給が簡単に行えるようになる。
【００２２】
請求項７記載の加熱調理器は、前記蒸気供給操作手段が、被加熱物の調理内容に応じた必要量の蒸気を供給する。
【００２３】
この加熱調理器では、蒸気供給操作手段によって、被加熱物の調理内容に応じた必要量の蒸気が供給される。即ち、自動調理では予め調理時間等が規定されているので、必要な蒸気量が既知となり、その分だけを供給すれば、供給不足や過剰な供給によるでき映えの劣化が少なくなり、無駄のない確実な調理が可能となる。
【００２４】
請求項８記載の加熱調理器は、前記加熱室の温度が所定温度以下であるときに、前記蒸気供給操作手段からの蒸気供給の要求を制限するための報知手段を備えた。
【００２５】
この加熱調理器では、加熱室の温度が所定温度以下であるときに、蒸気供給操作手段によって蒸気が供給されようとすると、報知手段が作動され、蒸気供給が制限可能となる。これにより、加熱室温度が低いにもかかわらず通常通りに蒸気が供給されて、加熱室内の結露が増大することが防止される。
【００２６】
請求項９記載の加熱調理器は、前記加熱室に蒸気を供給している間、蒸気供給中である旨の報知を行う報知手段を設けた。
【００２７】
この加熱調理器では、蒸発が供給されると、その旨が報知手段によって報知され、視認困難な蒸気供給状態が確実に把握可能となり、高温蒸気に対する安全性が高められる。
【００２８】
請求項１０記載の加熱調理器の制御方法は、請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、前記蒸気供給操作手段から蒸気供給の要求があり且つ前記加熱源への給電量と前記蒸発部加熱ヒータへの給電量との和が加熱調理器の定格電力を超える場合に、前記加熱源への給電量を制限して前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を優先して確保する。
【００２９】
この加熱調理器の制御方法では、蒸気供給操作手段から蒸気供給の要求があり且つ加熱源への給電量と蒸発部加熱ヒータへの給電量との和が加熱調理器の定格電力を超える場合に、加熱源への給電量が制限されて、蒸発部加熱ヒータへの給電量が優先して確保される。これにより、蒸気発生部が優先的に加熱され、加熱調理器の定格電力を超えない範囲で、蒸気の供給が確保されながら、加熱効果が最大限に高められる。なお、加熱源（ヒータ）は僅かな間、加熱のための給電を停止しても、加熱室内の温度や被加熱物の温度はそれほど変わらない。このことを利用して優先的に蒸気発生部を加熱し、より迅速な蒸気の発生を狙うものである。
【００３０】
請求項１１記載の加熱調理器の制御方法は、請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサを備え、該加熱室温度センサによる温度検出値に応じて前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を増減させる。
【００３１】
この加熱調理器の制御方法では、加熱室温度センサによって検出された加熱室の温度検出値に応じて、蒸発部加熱ヒータへの給電量が増減される。例えば加熱室の温度検出値が所定値より高い場合には蒸発部加熱ヒータへの給電量が増加され、加熱室の温度検出値が所定値より低い場合には蒸発部加熱ヒータへの給電量が低減され、加熱室の温度に応じた蒸気量が確保可能となる。これにより、蒸気量が通常より多く必要な加熱室の高温時に、蒸気供給量が増加され、蒸気量が通常より少なくてよい加熱室の低温時に、蒸気供給量が減少される。
【００３２】
請求項１２記載の加熱調理器の制御方法は、請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、被加熱物の温度を検出する被加熱物温度センサを備え、該被加熱物温度センサによる温度検出値に応じて前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を増減させる。
【００３３】
この加熱調理器の制御方法では、例えば被加熱物の表面温度が所定温度以上の場合に、蒸発部加熱ヒータへの給電量が増加される。これにより、被加熱物の表面温度は増加された蒸気によって上昇が抑止される一方、被加熱物の中心部温度は増加された蒸気からの熱供給量が増えて上昇し、内部の十分な加熱が可能となる。
【００３４】
請求項１３記載の加熱調理器の制御方法は、請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサと、被加熱物の温度を検出する被加熱物温度センサとを備え、前記加熱室温度センサと前記被加熱物温度センサの少なくも一方からの温度検出信号が出力されるまでは前記加熱室への蒸気供給を制限する。
【００３５】
この加熱調理器の制御方法では、加熱室温度センサ又は被加熱物温度センサの少なくも一方から所定の温度の検出信号が出力されるまでは蒸気の供給が制限され、加熱室の温度が低にもかかわらず、高い状態として水の供給が行われることが防止される。これにより、加熱室温度が低いにもかかわらず通常通りに蒸気が供給されて、加熱室内の結露が増大することが防止される。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る加熱調理器及びその制御方法の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係る加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は加熱調理器の制御ブロック図、図３は操作パネルのスイッチ配列例を示す正面図である。
【００３７】
図１〜図３に示すように、この加熱調理器１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に加熱源からの熱と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、図１に示すように、加熱源の一つである高周波を発生するマグネトロン（高周波発生部）１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５と、加熱室１１の上方に配置され予熱手段及び加熱源の一つである上部加熱ヒータ１７と、蒸気供給操作手段としての蒸気供給スイッチ１９（図３参照）とを基本構成要素として有する。
【００３８】
高周波発生部１３からの高周波は、回転駆動される電波撹拌用のスタラー羽根２３によって加熱室１１の全体に分散される。そして、蒸気発生部１５には、加熱室１１の側方に設けた給水タンク２７から水が供給される構成となっている。
【００３９】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面奥側で、少なくとも一方の隅部に設けてある。本実施形態においては、一例として奥側両隅に２基配置した構成を示しているが、片側に１基配置した構成であってもよい。加熱室１１の奥側側面には、サーミスタや赤外線センサ等の加熱室温度センサ３１が取り付けられ、加熱室１１の温度を測定する。また、加熱室１１の奥側背面には、赤外線センサ等の被加熱物温度センサ３２が取り付けられ、被加熱物の温度を測定する。
【００４０】
なお、本発明の加熱調理器１００には、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン３３や、加熱室１１内を循環する空気を加熱するコンベクションヒータ３５からなる室内気加熱部３７を取り付けてもよい。これら各部の動作は、マイクロプロセッサを備えてなる制御部３９からの制御指令により行われる。
【００４１】
また、開閉扉４１に設けられる図３に一例として示す操作パネル９１には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ９３、マニュアルモードの調理スイッチ９４、予め用意されている調理プログラムを選定する自動調理スイッチ９７、蒸気供給スイッチ１９等の種々の操作スイッチの他、蒸気供給状況を報知する報知手段９９の一つであるランプ９８が設けられている。
そして、制御部３９は、商用電源に接続される電源部４０から電力供給されており、高周波発生部１３、上部加熱ヒータ１７、蒸気発生部１５等の加熱電力が許容電力値を超えないように、各部への電力配分を制御している。
【００４２】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面には、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓４１ａ付きの開閉扉４１が開閉自在に取り付けられている。
【００４３】
高周波発生部１３は、加熱室１１の下側の空間に配置されており、加熱室１１底面の略中央の、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にスタラー羽根２３を設けてある。これら高周波発生部１３やスタラー羽根２３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の他の面側に設けることもできる。また、スタラー羽根２３の代わりにターンテーブルを備えた構成としてもよい。
【００４４】
蒸気発生部１５は、加熱により蒸気を発生する水溜凹所（加熱面）４５ａを有した加熱ブロック（金属ベース）４５を有する。
【００４５】
ここで、本加熱調理器１００における蒸気発生の基本原理を簡単に説明する。
図４に加熱調理器の蒸気発生の基本原理を表す説明図を示した。
これによれば、給水タンク２７に貯留された水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給される。給水管５１の中間部配管５１ａでは、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３からの発生熱が伝熱されることで、中間部配管５１ａ内の水が加熱される。そして、加熱された水の一部は、湯になる際に沸騰して気泡を発生し、急激に体積膨張する。このとき、給水管５１の給水タンク２７側の逆止弁４９は閉止され、給水タンク２７側への逆流が阻止される。従って、体積膨張した水は吐出側配管５５へ間欠的に供給される。これにより、吐出側配管５５内では水位が上昇し、上部に形成されたエア抜き孔５７から余分な蒸気が排出されると共に、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａに間欠的に供給される。
【００４６】
一方、水溜凹所４５ａもシーズヒータ５３により加熱されており、滴下された加熱水はここで蒸発して加熱室１１に供給される。つまり、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３の発熱により、水溜凹所４５ａへ加熱した水を供給すると共に、水溜凹所４５ａを加熱する構成となっている。このように、加熱された水が水溜凹所４５ａに供給されるので、蒸気発生を一層短時間で行うことができる。
【００４７】
上記の蒸気発生を実現するための具体的な構成例を、以下に詳細に説明する。
図５に加熱ブロックの外観斜視図を示した。（ａ）は上面側で（ｂ）は裏面側である。
加熱ブロック４５は、軽量で熱伝導性の高いアルミのダイキャスト成形品としている。加熱ブロック４５には、本体６１の内部に蒸発部加熱ヒータとしてＵ字形のシーズヒータ５３が埋設されており、このシーズヒータ５３に沿った上面側に水溜凹所４５ａが形成され、下面側に給水管５１の中間部配管５１ａを被覆する加熱部４５ｂが形成されている。これら水溜凹所４５ａ及び加熱部４５ｂはダイキャストにより一体に形成されており、接続面等が存在しないため、高効率でシーズヒータ５３の発熱を伝導可能にしている。
【００４８】
即ち、シーズヒータ５３の少なくとも一部が加熱ブロック４５内に埋設されて、蒸気発生部１５とシーズヒータ５３とが一体構造となることで、接続面等が存在せず、高効率でシーズヒータ５３の発熱が加熱ブロック４５に伝導され、水溜凹所４５ａでの高い蒸発効果が得られるようになる。また、加熱ブロック４５が、アルミダイキャストにより形成され、熱伝導性の高い金属材料で一体化されることで、シーズヒータ５３の熱が高効率で水溜凹所４５ａに伝熱可能となっている。
【００４９】
また、水溜凹所４５ａの下側に位置する収容穴６３には、温度を検知する蒸発皿温度センサとしてのサーミスタ６５が挿入されて、本体６１のシーズヒータ５３付近の温度を測定する。水溜凹所４５ａの一端側には開口孔６７が形成されて、前記吐出口５９（図４参照）からの水が水溜凹所４５ａ内に供給される。なお、シーズヒータ５３や加熱部４５ｂ等の形状や取り付け位置等は、必要とする加熱量や加熱調理器１００の筐体内への設置スペース等に応じて適宜変更され得るものである。なお、上記シーズヒータ５３は、線ヒータ、セラミックヒータ等の他種類のヒータであっても構わない。
【００５０】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面から蒸気を供給して加熱室１１内で効率良く蒸気拡散する構成となっている。加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａの表面は、珪酸（ＳｉＯ_２）等を含む親水材料で処理していることで、水が球状になることなく、大きな接触面積が確保でき、より多くの蒸気を発生させやすくしている。また、仮に汚れが付着しても簡単に除去できるようにしている。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて水溜凹所４５ａ底部に沈殿固着することがあるが、水溜凹所４５ａが加熱室１１内に開放されているため、水溜凹所４５ａを布等で拭き取るだけで、きれいにこのような汚れを払拭することができる。
【００５１】
ここで、図１に示す給水タンク２７から加熱ブロック４５までの給水経路を説明するため、図６に図１のＢ方向矢視図を示した。
前述の蒸気発生原理を説明した図４と同様であるが、給水タンク２７の水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給され、加熱ブロック４５の加熱部４５ｂで加熱されて吐出側配管５５に供給される。そして、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所へ間欠的に供給される。なお、給水管５１としては、特に伝熱を受ける加熱部４５ｂ周辺では、銅パイプ等の熱電導度の高い材質が好適に用いられる。上記給水タンク２７、逆止弁４９、給水管５１、加熱部４５ｂ、吐出側配管５５は、給水手段６９を構成している。
【００５２】
蒸気供給スイッチ１９は、押下によりシーズヒータ５３を加熱制御するとともに、給水手段６９により蒸気発生部１５へ水を供給する。なお、サーミスタ６５からの温度検出により水溜凹所４５ａが既に高温状態であると検知された場合には、シーズヒータ５３の加熱を省略してもよい。このように、蒸気供給操作手段が一つのスイッチ（蒸気供給スイッチ１９）として機能し、この蒸気供給スイッチ１９が押下されることで、シーズヒータ５３が加熱制御され、且つ同時に給水手段６９により水が供給される。即ち、一つのスイッチによるワンタッチ操作で蒸気の発生が可能となり、加熱室１１への蒸気供給操作が極めて簡単となり、微妙な調理タンミングを逃がさなくできる。
【００５３】
従って、加熱調理器１００では、予熱の必要なボイラ等を用いずに蒸気供給が可能になるとともに、任意のタイミングで、しかも応答性良く加熱室内への蒸気の供給を可能にすることができる。これにより、低電力でしかも小型の構成で蒸気供給が可能になるとともに、任意のタイミングで蒸気の供給が可能となって、調理の自在性を高めることができる。
【００５４】
ここで、蒸気供給スイッチ１９の種々の作動例を説明する。蒸気供給スイッチ１９は、基本的にワンタッチ操作で蒸気の発生が可能となるスイッチであるが、その詳細な作動例としては、次のバリエーションを挙げることができる。図７にはスイッチ操作に応じた作動例を（ａ）〜（ｃ）で示した。
蒸気供給スイッチ１９は、図７（ａ）に示すように、一回の押下により所定時間連続して蒸気供給を行うスイッチとすることができる。このような作動スイッチとすることで、一回押下されると、予め定めた所定時間ｔのみ連続して蒸気が供給され、蒸気がワンタッチで簡便に供給可能となる。
【００５５】
また、蒸気供給スイッチ１９は、図７（ｂ）に示すように、押下の度に蒸気供給開始と蒸気供給停止とが切り替わる作動スイッチとすることができる。このような作動スイッチとすることで、押下の度に蒸気供給開始と蒸気供給停止とが切り替わり、任意期間の蒸気供給が簡単に行えるようになる。
【００５６】
また、蒸気供給スイッチ１９は、図７（ｃ）に示すように、押下している間だけ蒸気供給を行う作動スイッチとすることができる。このような作動スイッチとすることで、押下されている間だけ蒸気供給が行われ、ワンタッチで任意期間の蒸気供給が簡単に行えるようになる。
【００５７】
この他にも、蒸気供給スイッチ１９を押下した後の一定期間のみ、蒸気供給時間の設定を行えるようにしてもよい。具体的には、蒸気供給スイッチ１９を押下すると、押下後の一定期間のみスイッチ押下の度に、１分、３分、５分等の蒸気供給時間が切り替わるようにし、選択的に設定できるようにする。或いは、蒸気供給スイッチ１９を押下してから一定期間を蒸気供給時間入力モードとして、操作パネル１９のつまみ９６（図３参照）を操作することにより、蒸気供給時間を任意に指定し、一定期間経過後に、この指定された蒸気供給時間が入力値として設定されるようにする。これによれば、蒸気供給時間を調理に応じた任意の時間に簡単に設定でき、使い勝手が向上する。
【００５８】
報知手段９９は、ＬＥＤやブザーを用いることで、視覚或いは音、又はその両方により報知が可能となっている。報知手段９９は、制御部３９の制御により、加熱室１１の温度が所定温度以下であるときに、蒸気供給スイッチ１９からの蒸気供給の要求を制限する報知を行うよう作動する。この場合、例えばＬＥＤを用いたときには点滅動作等により報知を行う。従って、例えば加熱室１１の温度が所定温度以下であるときに、蒸気供給スイッチ１９によって蒸気が供給されようとすると、報知手段９９が作動され、蒸気供給が制限可能となる。これにより、加熱室温度が低い場合に、加熱室温度が低いにもかかわらず通常通りに蒸気が供給されて、加熱室内の結露が増大することが防止される。
【００５９】
また、報知手段９９は、加熱室１１に蒸気を供給している間、蒸気供給中である旨の報知を行う。この場合、例えばＬＥＤを用いたときには点灯動作等により報知を行う。従って、蒸発が供給されると、その旨が報知手段９９によって報知され、加熱調理器１００の外観からは視認が困難な蒸気供給状態が確実に把握可能となり、高温蒸気に対する安全性が高められる。
【００６０】
次に、本発明に係る加熱調理器１００の作用を説明する。
本発明の加熱調理器１００を用いて、例えばグリル加熱を行いながら蒸気供給も行うには、被加熱物を加熱室１１内に置き、開閉扉４１を閉じ、操作パネル９１に備わる各種のスイッチを操作して、所望の加熱モードを設定した後、スタートスイッチ９３を押下する。また、自動調理モードで加熱する場合には、記憶部９５（図２参照）に予め用意されている調理内容（調理プログラム）を、自動調理スイッチ９７の押下等により選択した後、スタートスイッチ９３を押下する。
【００６１】
スタートスイッチ９３の押下を受けて上部加熱ヒータ１７が発熱を開始すると、被加熱物が輻射熱によって加熱処理される。一方、高周波発生部１３から発生した高周波がスタラー羽根２３の回転により加熱室１１内に拡散供給される。これにより、発生した高周波は加熱室１１に供給されて被加熱物を高周波加熱する。また、加熱対象によっては、高周波吸収体を加熱室１１内に配置して、この高周波吸収体による発熱を被加熱物に供給する場合もある。
【００６２】
さらに、必要に応じて室内気加熱部３７のコンベクションヒータ３５を発熱させて循環ファン３３を回転させることにより、被加熱物をより均一に高温加熱することもできる。
【００６３】
ここで、上記加熱時においては、制御部３９は、加熱ブロック４５のサーミスタ６５や加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサ３１、或いは被加熱物温度センサ３２からの検出温度に応じて、蒸気発生量やヒータ加熱量をフィードバック制御し、加熱室１１内の温度や蒸気量を適切に設定する。これにより、温度管理の難しい卵料理等を容易に行うことが可能となる。
【００６４】
そして、加熱調理器１００は、制御部３９の制御により、蒸気供給スイッチ１９が、被加熱物の調理内容に応じた必要量の蒸気のみを供給させることができる。
このような制御方法によれば、被加熱物の調理内容に必要とされる蒸気が必要量だけ供給される。即ち、自動調理では予め調理時間等が規定されているので、必要な蒸気量が既知となり、その分だけを供給すれば、供給不足や過剰な供給による出来映えの劣化が少なくなり、無駄のない確実な調理が可能となる。また、加熱調理途中で蒸気供給スイッチ１９を押下した場合に、押下した時点以降の調理に必要とする蒸気量を、経過時間や加熱温度に応じて算出し、その分の蒸気量を供給させることもできる。
【００６５】
さらに、加熱調理器１００は、制御部３９の制御により、加熱室温度センサ３１による加熱室１１の温度検出値に応じて、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電量（後述する連続加熱時間であってもよい）を増減させることができる。
このような制御方法によれば、加熱室１１の温度が所定値より高い場合には蒸気発生時におけるシーズヒータ５３への給電量が低減され、加熱室１１の温度検出値が所定値より低い場合にはシーズヒータ５３への給電量が増加される。このように、加熱室１１の温度によらずに、蒸気供給スイッチ押下から蒸気供給までの応答性を高めることができる。つまり、加熱室１１の低温時における加熱量の多く必要とする場合に、シーズヒータ５３の加熱量を増加させ、いち早く水が蒸発されるようにする。一方、加熱室１１の高温時には、加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａが既に水が蒸発する程度に昇温されているため、無駄にシーズヒータ５３を加熱することがなくなり、省エネルギ効果が高められる。
【００６６】
また、加熱調理器１００は、制御部３９の制御により、被加熱物温度センサ３２による温度検出値に応じて、蒸気発生量を増減させるようにしてもよい。
このような制御方法によれば、被加熱物の表面温度が所定温度以上の場合に、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電量が増加すると共に水溜凹所４５ａへ給水する。これにより発生した蒸気によって、被加熱物の表面温度は供給された蒸気によって上昇が抑止され、過剰な焦げ付きを防止できる。
【００６７】
また、加熱調理器１００は、制御部３９の制御により、加熱室温度センサ３１と被加熱物温度センサ３２の少なくも一方からの温度検出信号が出力されるまでは加熱室１１への蒸気供給を制限するようにしてもよい。
このような制御方法によれば、加熱室温度センサ３１又は被加熱物温度センサ３２の少なくも一方から所定の温度の検出信号が出力されるまでの温度管理不能状態下における蒸気の供給が制限され、例えば加熱室１１の温度が低い蒸発速度の遅いときにもかかわらず、過剰に水が供給されることが防止される。これにより、加熱室温度が低いにもかかわらず通常通りに蒸気が供給されて、加熱室内の結露が増大することが防止される。
【００６８】
さらに、本実施形態の加熱調理器１００では、蒸気発生部１５を加熱室１１の底面隅部に２基備えているので、被加熱物の加熱内容に応じて発生させる蒸気量を可変にでき、蒸気を多量に必要とするもの、少量でよいもの等の切り分けができ、蒸気供給のパターンを所望の蒸気供給量になるように任意に設定することができる。
【００６９】
次に、上記の加熱調理器１００を用いる加熱処理例を例示して、それぞれの加熱処理により発揮される本発明の顕著な効果を順次詳細に説明する。
例えばオーブン調理の加熱パターンでは、加熱初期に、循環ファン３３とコンベクションヒータ３５、或いは上部加熱ヒータ１７へ所定時間給電して予熱を行う。予熱完了後、循環ファン３３とコンベクションヒータ３５、また、必要に応じて上部加熱ヒータ１７へ給電して加熱室１１を加熱する。そして、任意のタイミングで蒸気供給スイッチ１９が押下された場合に、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３へ給電するとともに水溜凹所４５ａへ給水する。これにより、水溜凹所４５ａに供給された水がシーズヒータ５３の熱を受けて蒸発して、加熱室１１内に蒸気が供給される。このような加熱パターンにおける加熱室１１内の温度変化は、予熱完了後に開閉扉を開けて被加熱物を加熱室１１内に置く際に、加熱室内の温度は一旦下がるが、開閉扉を閉めると温度が急峻に立ち上がり、所望の設定温度付近にいち早く近づくようになる。
【００７０】
また、加熱調理前に予め加熱室１１を加熱する予熱処理を実施しておくことで、蒸気供給スイッチ１９を押下したときに、蒸気をいち早く発生させることができる。これにより、必要なタイミングで蒸気供給を行うことが可能となる。なお、予熱は、上部加熱ヒータ１７やコンベクションヒータ３５等で行えるが、上部加熱ヒータ１７で行うことが加熱室１１を直接的に昇温できるので好ましい。
【００７１】
また、オーブン調理の加熱時においては、図８に示すように、基本的に上部加熱ヒータ（ヒータＡ）１７とコンベクションヒータ（ヒータＢ）３５へ給電するが、蒸気発生のため、これに加えて加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電を行うこととなる。その場合には、例えばいずれかのヒータ（例えばヒータＡ）とシーズヒータ５３との加熱を交互に行い、各ヒータの発熱に要する電力の合計が加熱調理器１００の許容電力値を超えない範囲で最大に設定する。これにより、オーブン調理のための加熱を長い時間中断させることなく、許容電力の範囲内で加熱が続行でき、加熱効果を最大限に高めて調理時間を短縮できる。
【００７２】
また、蒸気供給スイッチ１９が任意のタイミングで押下された場合、加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａが水を蒸発させる程に加熱されていないときには、蒸気供給量をいち早く増加させるため、所定時間は連続して加熱ブロック４５のシーズヒータ５３を加熱することが好ましい。そこで、図９に示すように、ヒータ加熱開始後の任意のタイミングで蒸気供給スイッチ１９を押下したときに、シーズヒータ５３へ所定時間ｔ_ａ連続給電する。この所定時間ｔ_ａの間は、例えばヒータＡの出力を停止又は出力レベルを下げて許容電力値を超えないように合計電力を設定する。その後、停止又は出力レベルを下げていたヒータＡの出力を図８に示すような交互給電の出力制御に切り替えて同時加熱を行う。そして、蒸気供給を完了した後は、ヒータ加熱開始時と同様にヒータＡ及びヒータＢを連続出力制御する。なお、所定時間ｔ_ａの長さは、前述した加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電量の増減制御と同様に、加熱室１１の温度や被加熱物の温度に応じて、温度が低い場合に長く、高い場合に短く設定する。
【００７３】
上記の制御により、蒸気発生部１５が優先的に加熱され、加熱調理器１００の定格電力を超えない範囲で蒸気の供給を確保しながら、加熱効果を最大限に高めることができる。なお、上部加熱ヒータ１７は僅かな間、加熱のための給電を停止しても加熱室の温度や被加熱物の温度はそれほど変わらない。本制御は、このことを利用して優先的に蒸気発生部１５を加熱し、より迅速な蒸気の発生を狙うものである。
【００７４】
次に、グリル調理例を説明する。
グリル調理では、被加熱物を載置して、上部加熱ヒータ１７の発熱により被加熱物に焦げ目を付けるように加熱するものである。この場合には、予熱後に本加熱を開始してからの被加熱物の温度変化は、上部表面では加熱により早く昇温するが、被加熱物の内部では加熱による昇温速度が遅く、表面と内部と温度差が加熱開始から徐々に拡大する傾向にある。つまり、上部加熱ヒータ１７に近い被加熱物の上部表面は加熱によって比較的急峻に昇温するが、被加熱物表面の熱が被加熱物内部にまで伝わるまでに時間がかかり、被加熱物内部の温度上昇率が低くなる。
【００７５】
そこで、図１０に示すように、本加熱の途中で加熱室内に任意のタイミングで蒸気を供給することにより、被加熱物の表面温度より低い蒸気が被加熱物に当てられ、被加熱物表面の温度を一時的に下げる（ΔＴ_１の降温）ことができる。一方、被加熱物の内部では、熱容量が加熱室の空気よりも約２倍大きく被加熱物内部より高温の蒸気が被加熱物に当てられることで、被加熱物の内部に蒸気の熱量が効率良く伝熱されて、被加熱物の昇温を加速させる（ΔＴ_２の昇温）ことができる。これにより、被加熱物の表面と内部との温度差を小さく抑えることができる。
【００７６】
なお、加熱中の蒸気供給は、加熱調理の前半で供給する場合には、被加熱物に水分を与えてしっとり柔らかくする効果があり、加熱調理の後半で供給する場合には、被加熱物の内部の火通りを良くし、焼き色を均一化する効果がある。蒸気は、被加熱物の表面に凸凹があっても、この凹凸に蒸気が入り込むことで被加熱物に局所的な焼きムラを生じさせることを防ぎ、焼き具合を均一にできる。上部加熱ヒータ１７で加熱する場合では、凹凸の影となった部位に対して加熱量が小さくなるが、上記の蒸気加熱を併用することでこのようなムラが生じにくくなる。さらには、上部加熱ヒータ１７の加熱室に対する加熱ムラ、即ち、加熱室中央では加熱量が多くなり、加熱室の隅部では加熱量が少なくなるといった加熱ムラにより、加熱室中央に位置する被加熱物が過剰に加熱されて焦げ、加熱室隅部に位置する被加熱物が加熱不十分な状態で仕上がることを未然に防止できる。
【００７７】
以上説明した各加熱パターンは、図２に示す制御部３９に接続された記憶部９５に予め調理プログラムとして記憶しておき、操作パネル９１の自動調理スイッチ９７等の操作により任意に選定して実行する構成としてもよい。その場合にも、加熱室内の被加熱物の温度を加熱室温度センサ３１により検出して、被加熱物の温度に合わせて、また、タイマ１０１により加熱時間等の経過時間を計測して前述した各部の制御タイミングを設定する。蒸気発生のタイミングは、上述したように、蒸気供給スイッチ１９を押下した任意のタイミングで供給を開始する構成とする以外にも、これに加えて予め設定した調理プログラムに基づいて自動的に設定する機能を有していてもよい。
【００７８】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る加熱調理器によれば、加熱室内に、蒸発部加熱ヒータを備えた蒸気発生部を設け、この蒸気発生部に給水手段によって水を供給可能とし、蒸気供給操作手段によって、この蒸気発生部から任意のタイミングで加熱室内へ蒸気供給を可能としたので、予熱の必要なボイラを用いずに蒸気供給が可能になるとともに、そのタイミングの制約をなくすことができる。この結果、低電力でしかも小型の構成で蒸気供給を可能にできるとともに、任意のタイミングで蒸気を供給可能にして、調理の自在性を高めることができる。
【００７９】
また、本発明に係る加熱調理器の制御方法によれば、蒸気供給操作手段から蒸気供給の要求があり且つ加熱源への給電量と蒸発部加熱ヒータへの給電量との和が定格電力を超えるとき加熱源への給電量を制限して蒸発部加熱ヒータへの給電量を確保するので、蒸気発生部が優先的に加熱され、加熱調理器の定格電力を超えない範囲で蒸気を供給しながら、加熱効果を最大限に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図である。
【図２】加熱調理器の制御ブロック図である。
【図３】操作パネルのスイッチ配列例を示す正面図である。
【図４】加熱調理器の蒸気発生の基本原理を表す説明図である。
【図５】加熱ブロックの外観図で（ａ）は上面側、（ｂ）は裏面側の斜視図である。
【図６】図１のＢ方向矢視図である。
【図７】スイッチ操作に応じた作動例を（ａ）〜（ｃ）で示した動作説明図である。
【図８】通常の蒸気供給時における給電状況の説明図である。
【図９】任意時期の蒸気供給時における給電状況の説明図である。
【図１０】蒸気供給時における被加熱物の温度変化を示すグラフである。
【符号の説明】
１１加熱室
１３高周波発生部（加熱源）
１５蒸気発生部
１７上部加熱ヒータ（加熱源）
１９蒸気供給スイッチ（蒸気供給操作手段）
３１加熱室温度センサ
３２被加熱物温度センサ
３５コンベクションヒータ（加熱源）
４５加熱ブロック（金属ベース）
４５ａ水溜凹所（加熱面）
５３シーズヒータ（蒸発部加熱ヒータ）
６９給水手段
９９報知手段
１００加熱調理器

Claims

被加熱物を収容する加熱室に加熱源からの熱を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、
加熱室内に設けられた蒸気発生部と、
該蒸気発生部を加熱する蒸発部加熱ヒータと、
前記蒸気発生部に水を供給する給水手段と、
前記蒸気発生部から任意のタイミングで前記加熱室内への蒸気供給を可能とする蒸気供給操作手段とを備えた加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、押下により前記蒸発部加熱ヒータを加熱制御するとともに、前記給水手段により前記蒸気発生部へ水を供給するスイッチである請求項１記載の加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、一回の押下により所定時間連続して蒸気供給を行うスイッチである請求項１又は請求項２項記載の加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、押下の度に蒸気供給開始と蒸気供給停止とが切り替わるスイッチである請求項１又は請求項２項記載の加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、押下された後の一定期間のみ、蒸気供給時間の設定を行えるスイッチである請求項１又は請求項２記載の加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、押下している間だけ蒸気供給を行うスイッチである請求項１又は請求項２項記載の加熱調理器。
前記蒸気供給操作手段が、被加熱物の調理内容に応じた必要量の蒸気を供給する請求項１〜請求項６のいずれか１項記載の加熱調理器。
前記加熱室の温度が所定温度以下であるときに、前記蒸気供給操作手段からの蒸気供給の要求を制限するための報知手段を備えた請求項１〜請求項７のいずれか１項記載の加熱調理器。
前記加熱室に蒸気を供給している間、蒸気供給中である旨の報知を行う報知手段を設けた請求項１〜請求項８のいずれか１項記載の加熱調理器。
請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、
前記蒸気供給操作手段から蒸気供給の要求があり且つ前記加熱源への給電量と前記蒸発部加熱ヒータへの給電量との和が加熱調理器の定格電力を超える場合に、前記加熱源への給電量を制限して前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を優先して確保する加熱調理器の制御方法。
請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、
加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサを備え、該加熱室温度センサによる温度検出値に応じて前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を増減させる加熱調理器の制御方法。
請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、
被加熱物の温度を検出する被加熱物温度センサを備え、該被加熱物温度センサによる温度検出値に応じて前記蒸発部加熱ヒータへの給電量を増減させる加熱調理器の制御方法。
請求項１〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理器を用いた加熱調理器の制御方法であって、
加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサと、被加熱物の温度を検出する被加熱物温度センサとを備え、前記加熱室温度センサと前記被加熱物温度センサの少なくも一方からの温度検出信号が出力されるまでは前記加熱室への蒸気供給を制限する加熱調理器の制御方法。