JP2004302177A

JP2004302177A - 近赤外線吸収フィルム，近赤外線吸収フィルムの製造方法及びプラズマディスプレイ用前面板

Info

Publication number: JP2004302177A
Application number: JP2003095429A
Authority: JP
Inventors: Ryuta Tsukada; 竜太塚田; Yuji Sawamura; 裕二澤村
Original assignee: Arisawa Mfg Co Ltd
Current assignee: Arisawa Mfg Co Ltd
Priority date: 2003-03-31
Filing date: 2003-03-31
Publication date: 2004-10-28

Abstract

【課題】本発明は、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線を確実に吸収すると共に、通常のフィルムと同様、ハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工を施すことができる実用性に秀れた近赤外線吸収フィルムの技術を提供するものである。
【解決手段】プラズマディスプレイ２から生じる近赤外線を吸収する近赤外線吸収用のフィルムであって、該フィルム３には近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤１が分散状態で添加されているものである。
【選択図】図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、近赤外線吸収フィルム，近赤外線吸収フィルムの製造方法及びプラズマディスプレイ用前面板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
プラズマディスプレイは、画素となる蛍光体中にガスを詰入し、該ガスに高電圧を印加して放電させ、この放電により前記蛍光体を発光させる原理を採用している。
【０００３】
このプラズマディスプレイにおいて、前記画素により画像を形成するためには多数の画素が必要であるが、この多数の画素で放電を行うと、高電圧を発生させる駆動回路及びガスに高電圧を印加する電極にパルス状の大電流が流れ、このパルス状の大電流により紫外線，赤外線，近赤外線等の電磁波が発生する。従って、この電磁波による電子機器の誤作動防止及び人体への影響防止のため、プラズマディスプレイには電磁波をシールドする構成が設けられている（例えば、出願人の先願に係る特願２０００−２４８８７６公報）。
【０００４】
ところで、特に波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線は、リモコン操作型の電子機器を誤作動させる等の問題点があり、この近赤外線の外部への漏出は確実に阻止する必要がある。
【０００５】
そこで、従来のプラズマディスプレイ用前面板は、プラズマディスプレイから生じた電磁波（特にマイクロ波）をシールドする電磁波シールドフィルムと、同様にプラズマディスプレイから生じた近赤外線を吸収する近赤外線吸収層が表面に積層状態で設けられた透明高分子フィルムと、ガラス基板（支持作用を発揮するもの）とを、前記プラズマディスプレイ側から電磁波シールドフィルム，ガラス基板，透明高分子フィルムの順に貼着層を介して積層せしめることで、前記電磁波、特に近赤外線が外部に漏出することを防止している。
【０００６】
ところが、前記透明高分子フィルム２１の表面に前記近赤外線吸収層２２を設けた構成（図１参照）では、プラズマディスプレイ用前面板の最外層、即ち、前記近赤外線吸収層２２にハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の光学特性を向上させるための表面加工を施すことが困難で、所望の光学特性が得られにくいという問題点がある。
【０００７】
尚、近赤外線吸収層を透明高分子フィルムのプラズマディスプレイ側とする構成では、近赤外線吸収層がガラス基板との貼着を阻害してしまう。
【０００８】
本発明は、上述の問題点を解決したもので、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線を確実に吸収すると共に、通常のフィルムと同様、ハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工を施すことができる実用性に秀れた近赤外線吸収フィルムの技術を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００１０】
プラズマディスプレイ２から生じる近赤外線を吸収する近赤外線吸収用のフィルムであって、該フィルム３には近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤１が分散状態で添加されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムに係るものである。
【００１１】
また、請求項１記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、フィルム３は、可視光を透過し且つ近赤外線を吸収するように構成されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムに係るものである。
【００１２】
また、請求項１，２いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、近赤外線吸収剤１として、８００ｎｍ〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムに係るものである。
【００１３】
また、請求項１〜３いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、近赤外線吸収剤１として、シアニン系化合物，フタロシアニン系化合物，ナフタロシアニン系化合物，ナフトキノン系化合物，ジイモニウム系化合物，アミニウム系化合物，アントラキノン系化合物若しくはジチオール系錯体が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムに係るものである。
【００１４】
また、プラズマディスプレイ２から生じる近赤外線を吸収する近赤外線吸収用のフィルムの製造方法であって、溶融状態のセルロース系樹脂に近赤外線吸収剤１を分散溶解し、このセルロース系樹脂を成膜してフィルム３とすることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法に係るものである。
【００１５】
また、請求項５記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、セルロース系樹脂として、トリアセチルセルロース若しくはジアセチルセルロースが採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法に係るものである。
【００１６】
また、請求項５，６いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、近赤外線吸収剤１として、８００ｎｍ〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法に係るものである。
【００１７】
また、請求項５〜７いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、近赤外線吸収剤１としてシアニン系化合物，フタロシアニン系化合物，ナフタロシアニン系化合物，ナフトキノン系化合物，ジイモニウム系化合物，アミニウム系化合物，アントラキノン系化合物若しくはジチオール系錯体が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法に係るものである。
【００１８】
また、プラズマディスプレイ２の前面に設けられるものであって、前記プラズマディスプレイ２から生じる電磁波をシールドする電磁波シールド層４と、請求項１〜４いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルム３と、前記電磁波シールド層４及び前記近赤外線吸収フィルム３を支持する基板５とが積層されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板に係るものである。
【００１９】
また、請求項９記載のプラズマディスプレイ用前面板において、電磁波シールド層４と近赤外線吸収フィルム３と基板５とは、プラズマディスプレイ２側から、電磁波シールド層４，基板５，近赤外線吸収フィルム３の順に積層せしめられていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板に係るものである。
【００２０】
また、請求項９，１０いずれか１項に記載のプラズマディスプレイ用前面板において、電磁波シールド層４と近赤外線吸収フィルム３と基板５とは貼着層６を介して夫々貼着積層されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板に係るものである。
【００２１】
【発明の作用及び効果】
フィルム３に分散されている近赤外線吸収剤１がプラズマディスプレイ２から生じた近赤外線を吸収する作用を発揮し、よって、フィルム３全体が近赤外線を吸収する。
【００２２】
ところで、従来のように透明高分子フィルムの表面に近赤外線吸収層を積層する構成であると、例えばハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面処理を施す際、前記近赤外線吸収層が剥離するおそれがあったが、本発明は、フィルム３の内部に近赤外線吸収剤１が分散状態で添加された構成であるから、一般的な透明高分子フィルムと同様、前記表面処理を何ら支障なく行えることになる。
【００２３】
しかも、前記透明高分子フィルムの表面に近赤外線吸収層を積層する構造であると、この近赤外線吸収層上に更にハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等を形成する層を設けた場合、透明高分子フィルム上に膜材が多数積層されることになり（例えば、近赤外線吸収層，ハードコート，ハードコートを形成するための層の少なくとも三層）、これら膜材の応力（張力）により前記透明高分子フィルムがカールしてしまうという問題があるが、本発明では、前記近赤外線吸収層が表面に存在しないから、膜材が多数積層することがなく（近赤外線吸収層及びハードコートを形成するための層が不要）、よって、前記フィルム３のカールは可及的に阻止される。
【００２４】
従って、本発明は、プラズマディスプレイから生じた近赤外線が外部に漏出することを確実に防止できると共に、通常の透明高分子フィルムと同様にハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工を良好に施すことができ、更に、カールを可及的に防止できる実用性に秀れた近赤外線吸収フィルムの技術となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
図面は本発明の一実施例を図示したものであり、以下に説明する。
【００２６】
本実施例は、プラズマディスプレイ２の前面に設けられるものであって、前記プラズマディスプレイ２から生じる電磁波をシールドする電磁波シールド層４と、近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤１が分散状態で添加されている近赤外線吸収フィルム３（請求項１で言うフィルム３）と、前記電磁波シールド層４及び前記近赤外線吸収フィルム３を支持する基板５とが貼着層６を介して貼着積層されているものである。
【００２７】
近赤外線吸収剤１としては近赤外線領域の波長を良好に吸収し且つ他の領域の波長に影響を及ぼしにくいもの、具体的には、８００〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有するものが採用されている。
【００２８】
この８００〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有するものとしては、例えば、シアニン系化合物，フタロシアニン系化合物，ナフタロシアニン系化合物，ナフトキノン系化合物，ジイモニウム系化合物，アミニウム系化合物，アントラキノン系化合物若しくはジチオール系錯体を採用すると良い。本実施例においては、シアニン系化合物を採用している。
【００２９】
また、この近赤外線吸収剤１は、可視光の透過を阻害しないような微細粒子状のものが採用されている。
【００３０】
近赤外線吸収フィルム３は、透明な合成樹脂製フィルム（透明高分子フィルム）として光学の分野で広く用いられるセルロース系樹脂を採用し、このセルロース系樹脂に前記近赤外線吸収剤１を分散状態で添加したものが採用されている。
【００３１】
セルロース系樹脂は、具体的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ），ジアセチルセルロースが採用できる。本実施例においては、中でも最も一般的なトリアセチルセルロースを採用している。
【００３２】
この近赤外線吸収フィルム３は、前記ＴＡＣを溶融状態としたものに、前記近赤外線吸収剤１であるシアニン系化合物を添加して撹拌せしめることで、前記近赤外線吸収剤１を前記ＴＡＣに分散溶解し、この近赤外線吸収剤１を可及的均一に分散溶解せしめた前記ＴＡＣを成膜することで製造される。
【００３３】
この近赤外線吸収フィルム３によれば、前記分散せしめられた近赤外線吸収剤１により、プラズマディスプレイ２から発生する近赤外線領域の波長が吸収される。
【００３４】
また、近赤外線吸収剤１は近赤外線吸収フィルム３中に分散状態で添加されているから、この近赤外線吸収フィルム３は可視光の透過をあまり阻害しない。
【００３５】
しかも、ＴＡＣは上述のようにフィルムとして広く採用されているもので、ＴＡＣに近赤外線吸収剤１が分散されている近赤外線吸収フィルム３はＴＡＣフィルムと同様の特性を有するから、ハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工を今までと同様の方法で施すことができ、この表面加工は極めて容易に達成できる。
【００３６】
電磁波シールド層４は、前記プラズマディスプレイ２から発生した電磁波をシールドするもので具体的には、フィルムに接着剤を介して銅箔を積層し、銅箔をエッチング処理してメッシュ状とすることにより、該メッシュ状の銅箔が積層されたメッシュ状導電材を二枚のガラス基板で挾持した構成のものが採用されている。
【００３７】
基板５は、一面に前記電磁波シールド層４を貼着層６を介して積層し、他面に前記近赤外線吸収フィルム３を貼着層６を介して積層するものであり、該電磁波シールド層４と該近赤外線吸収フィルム３とを支持し得る強度及び可視光を透過し得る特性を有するガラス製やプラスチック製のものが好適であり、本実施例においてはガラス製のものが採用されている。
【００３８】
即ち、この電磁波シールド層４と前記近赤外線吸収フィルム３とは、この基板５により夫々支持される構成であるから、前記電磁波シールド層４と前記近赤外線吸収フィルム３との変形が可及的に防止されることになる。
【００３９】
貼着層６は、前記可視光を透過し得る透明な粘着剤、具体的にはアクリル系粘着剤が採用されている。
【００４０】
本実施例は、上述の近赤外線吸収フィルム３と電磁波シールド層４と基板５とを、プラズマディスプレイ２側から、電磁波シールド層４，基板５，近赤外線吸収フィルム３の順に貼着層６を介して貼着積層されているものである。
【００４１】
即ち、前記プラズマディスプレイ２から最も近い位置に前記電磁波シールド層４を設けたから、プラズマディスプレイ２から発生する電磁波が周囲に漏出する前に前記電磁波シールド層４で吸収されることになる。
【００４２】
また、本実施例は、この最外層とした前記近赤外線吸収フィルム３表面に、ハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工による層７を設けた構成である。
【００４３】
本実施例は上述のように構成したから、前記プラズマディスプレイ２から生じる電磁波が前記電磁波シールド層４によりシールドされ、該電磁波シールド層４でシールドされなかった近赤外線は近赤外線吸収フィルム３に分散されている近赤外線吸収剤１により吸収されることになる。
【００４４】
即ち、前記プラズマディスプレイ２から生じる電磁波の外部への漏出を確実に阻止し得ることになる。
【００４５】
しかも、従来のように透明高分子フィルム上に近赤外線吸収層を成膜する必要なく、前記プラズマディスプレイ２から生じる近赤外線を吸収できる。
【００４６】
従って、従来のように透明高分子フィルム（例えばＴＡＣフィルム）の表面に近赤外線吸収層を積層する構成であると、例えばハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面処理を施す際、前記近赤外線吸収層が剥離するおそれがあったが、本実施例においては、近赤外線吸収フィルム３の内部に近赤外線吸収剤１が分散状態で添加された構成であるから、一般的な透明高分子フィルムであるＴＡＣフィルムと同様、前記表面処理を何ら支障なく行えることになる。
【００４７】
しかも、前記透明高分子フィルムの表面に近赤外線吸収層を積層する構造であると、この近赤外線吸収層上に更にハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等を形成する層を設けた場合、透明高分子フィルム上に膜材が多数積層されることになり（例えば、近赤外線吸収層，ハードコート，ハードコートを形成するための層の少なくとも三層）、これら膜材の応力（張力）により前記透明高分子フィルムがカールしてしまうという問題があるが、本実施例では、前記近赤外線吸収層が表面に存在しないから、膜材が多数積層することがなく（近赤外線吸収層及びハードコートを形成するための層が不要）、よって、前記近赤外線吸収フィルム３のカールは可及的に阻止される。
【００４８】
従って、本実施例は、プラズマディスプレイから生じる近赤外線が外部に漏出することを確実に防止できると共に、通常のフィルムと同様にハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等の表面加工を施すことができる実用性に秀れたプラズマディスプレイ用前面板となる。
【００４９】
以下、本実施例の効果を確認した実験例について説明する。
【００５０】
ジクロロメタン５０ｇに（株）富士写真フィルム社製ＵＶ吸収剤入りＴＡＣ（Ｔ−８０ＵＺ）２．５ｇ、三井東圧化学社製近赤外線吸収剤（ＳＩＲ１５９）０．０１ｇ、日本化薬製近赤外線吸収剤（ＩＲＧ０２２）０．０１ｇを夫々溶解し、ガラス基板上に成膜することで得られた５５μｍのフィルム（近赤外線吸収フィルム３）の光学特性を測定したところ、縦軸を透過率，横軸を波長とした図４に図示したような透過率が得られた。即ち、視感平均透過率６９．６％，８５０ｎｍでの透過率２．９４％，９５０ｎｍでの透過率２．６９％が得られた。
【００５１】
以上の実験から、本実施例の近赤外線吸収フィルム３は、可視光は略透過し、近赤外線の透過は略阻止されることが確認できた。従って、前記近赤外線吸収フィルム３は、前記プラズマディスプレイ２から生じた電磁波の内、近赤外線領域の波長のみを急激に減衰させるフィルタとなり、前記プラズマディスプレイ２から生じる近赤外線の外部への流出を確実に阻止できるものであることが確認できた。
【００５２】
また、この近赤外線吸収フィルム３に常法に従って、ハードコート，アンチグレアコート，反射防止コート等を表面加工として施してみたところ、いずれの表面加工も良好に行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来例の近赤外線吸収層の説明断面図である。
【図２】本実施例の近赤外線吸収フィルムの説明断面図である。
【図３】本実施例の説明断面図である。
【図４】本実施例の近赤外線吸収フィルムの透過率を示すグラフである。
【符号の説明】
１近赤外線吸収剤
２プラズマディスプレイ
３フィルム・近赤外線吸収フィルム
４電磁波シールド層
５基板
６貼着層

Claims

プラズマディスプレイから生じる近赤外線を吸収する近赤外線吸収用のフィルムであって、該フィルムには近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤が分散状態で添加されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
請求項１記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、フィルムは、可視光を透過し且つ近赤外線を吸収するように構成されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
請求項１，２いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、近赤外線吸収剤として、８００ｎｍ〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
請求項１〜３いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムにおいて、近赤外線吸収剤として、シアニン系化合物，フタロシアニン系化合物，ナフタロシアニン系化合物，ナフトキノン系化合物，ジイモニウム系化合物，アミニウム系化合物，アントラキノン系化合物若しくはジチオール系錯体が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
プラズマディスプレイから生じる近赤外線を吸収する近赤外線吸収用のフィルムの製造方法であって、溶融状態のセルロース系樹脂に近赤外線吸収剤を分散溶解し、このセルロース系樹脂を成膜してフィルムとすることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
請求項５記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、セルロース系樹脂として、トリアセチルセルロース若しくはジアセチルセルロースが採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
請求項５，６いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、近赤外線吸収剤として、８００ｎｍ〜１０００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
請求項５〜７いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムの製造方法において、近赤外線吸収剤としてシアニン系化合物，フタロシアニン系化合物，ナフタロシアニン系化合物，ナフトキノン系化合物，ジイモニウム系化合物，アミニウム系化合物，アントラキノン系化合物若しくはジチオール系錯体が採用されていることを特徴とする近赤外線吸収フィルムの製造方法。
プラズマディスプレイの前面に設けられるものであって、前記プラズマディスプレイから生じる電磁波をシールドする電磁波シールド層と、請求項１〜４いずれか１項に記載の近赤外線吸収フィルムと、前記電磁波シールド層及び前記近赤外線吸収フィルムを支持する基板とが積層されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板。
請求項９記載のプラズマディスプレイ用前面板において、電磁波シールド層と近赤外線吸収フィルムと基板とは、プラズマディスプレイ側から、電磁波シールド層，基板，近赤外線吸収フィルムの順に積層せしめられていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板。
請求項９，１０いずれか１項に記載のプラズマディスプレイ用前面板において、電磁波シールド層と近赤外線吸収フィルムと基板とは貼着層を介して夫々貼着積層されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面板。