JP2004301830A - 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ - Google Patents

移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ Download PDF

Info

Publication number
JP2004301830A
JP2004301830A JP2004067328A JP2004067328A JP2004301830A JP 2004301830 A JP2004301830 A JP 2004301830A JP 2004067328 A JP2004067328 A JP 2004067328A JP 2004067328 A JP2004067328 A JP 2004067328A JP 2004301830 A JP2004301830 A JP 2004301830A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base
movable base
movable
reference base
bearing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004067328A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4231436B2 (ja
Inventor
Kyoichi Mori
恭一 森
Fujio Yamazaki
不二夫 山崎
Toshinori Sugiyama
敏教 杉山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Tech Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Tech Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi High Tech Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP2004067328A priority Critical patent/JP4231436B2/ja
Publication of JP2004301830A publication Critical patent/JP2004301830A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4231436B2 publication Critical patent/JP4231436B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
  • Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

【課題】
高速移動、高速停止が可能で停止位置誤差が小さいベアリング支持の移動ステージを提供することにある。
【解決手段】
この発明は、押圧する押圧部材を設けて可動ベースを基準ベースの表面に接触させて基準ベース上にロックし、可動ベースを基準ベースに対して微少浮上させて移動させる。そのために可動ベース浮上機構を設けて押圧部材の可動ベースに対する押圧力に抗して可動ベースを基準ベースから浮上させてロックを解除する。この場合の可動ベースの基準ベースからの浮上量は、可動ベースと基準ベースとの間の摺動抵抗を軽減するあるいはそれをほとんどなく程度の微少なものであってよい。それは、例えば、可動ベースと基準ベースとの間は10μm〜数百μm程度微少間隙である。
【選択図】 図1

Description

この発明は、移動ステージ、XYステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタに関し、詳しくは、石材製定盤を利用した低振動化のヘッドキャリッジに利用される移動ステージにおいて、高速移動、高速停止が可能で停止位置誤差が小さく、磁気ヘッドテスタ,磁気ディスクテスタに適した高精度位置決めができるベアリング支持の移動ステージに関する。
ハードディスク装置の磁気ヘッドは、近年、その読出側にMRヘッド、GMRヘッド,TMRヘッドなどを組込んだ複合磁気ヘッドが用いられ、その記録密度は、数ギガ/インチと向上の一途を辿っていて、そのトラック数も10,000/インチ以上にもなる。しかも、トラック数は増加し、その幅は狭くなる一方である。そのため、磁気ディスクや磁気ヘッドを検査する検査装置のヘッドキャリッジ(その可動ベース)は、低振動で高い位置決め精度が要求され、さらに高クリーン化環境が要求されている。
そこで、斑れい岩の石材製定盤を基準ベースにしてこれにリニアモータを載置してエアーベアリングによりヘッドキャリッジ(その可動ベース)を支持して、ヘッドキャリッジを移動させる磁気ディスクや磁気ヘッドを検査する検査装置が公知である(特許文献1)。
一方、印刷回路のパターン、半導体用ウエハ、ホトマスク、磁気ディスクなど、精密加工表面の微細欠陥(例えば、異物、パターンの断線、ショート、突起、欠け、その他の傷及びピンホール等)に対する外観検査は、パターンの高密度化および/または電子技術の高細密化(あるいは高集積化)に伴い、外観検査装置の可動ベースを石材製定盤を基準ベースとしてマウントする、エアーマウントシステムが利用されている。その一例がこの出願人により出願され、公開されている(特許文献2)。
特表2002−518777号公報 特開平5−126973号公報
図6は、特表2002−518777号公報(特許文献1)に記載された実施例の斜視図である。
図6において、10は旋回スタンドプラットフォーム、12は空気軸受(エアベアリング)微小位置決めキャリッジ、14,18はリニアモータ、15,19は増量分エンコーダ、16は空気軸受スピンドルキャリッジ、20は花崗岩(斑れい岩)台座である。
この特許文献1の検査装置は、X,Yの2軸移動をリニアモータ14,18で行い、一方で粗い位置決めをし、他方では圧電アクチュエータを搭載して微小位置決めをする、石材製定盤上で移動するXYステージを備えている。そして、この装置は、このXYステージにより微小位置決めキャリッジに支持された磁気ヘッドを磁気ディスクの所定のトラックに位置決めして磁気ヘッドをテストする。
この特許文献1の発明の特徴は、磁気ヘッドを所定のトラックに高速移動しかつ高速停止をするために、停止時にエアベアリングのエアーを真空吸引する点にある。具体的には、空気軸受微小位置決めキャリッジ12に大きな凹部と小さな凹部とを個別に設け、それぞれ大真空度領域と小真空度領域とに区分けされている。そして、真空吸引によりキャリッジにおける可動ベースの停止制御が行われ、石材製定盤の基準ベースにキャリッジの可動ベースが真空吸引でロック(固定)されて可動ベースが基準ベース上に固定される。さらに、特許文献1の発明は、スピンドル側の移動軸とキャリッジ側の移動軸とを分離することで、空気軸受微小位置決めキャリッジ12と空気軸受スピンドルキャリッジ16とを同じ平面内で移動させかつ空気薄膜を真空吸引で除去する。このことで、ディスクと読取ヘッドとの間隙が微小になったとしても高い位置精度を確保してヘッド検査ができるようにしている。
しかし、このような真空ロック技法を用いるエアーベアリング支持の石材製定盤を利用するヘッドキャリッジは、可動ベースの停止制御において真空吸引を行うために、可動ベース(ヘッドキャリッジ)が安定に停止するまでに時間がかかる。さらに、スピンドルモータ系を定盤の基準ベース上で移動させることから位置決め状態において、スピンドルの回転振動がスピンドルの移動位置決め系に伝達されて、位置決めされた位置が脈動する問題がある。そのため、これがディスクと読取ヘッドとの微小間隙に影響を与えて、検出誤差を生じかつS/N比が低下して、より高い精度でのヘッドテストあるいはディスクテストができない問題がある。
したがって、この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決するものであって、高速移動、高速停止が可能で停止位置誤差が小さい移動ステージを提供することにある。
この発明の他の目的は、高さ方向の位置ずれがほとんどなく、かつ、XY方向の位置決め誤差が小さいXYステージを提供することにある。
さらに、この発明の他の目的は、前記のベアリング支持の移動ステージあるいはXYステージを使用して磁気ヘッド、磁気ディスクを高精度にテストできるヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタを提供することにある。
このような目的を達成するための、この発明の移動ステージあるいはXYステージの構成は、定盤の基準ベース、可動ベースとベアリングとを有する移動ステージにおいて、ベアリングを構成するための可動側部材が固定され所定の一軸に沿って移動する可動ベースと、ベアリングを構成するための固定側部材が固定され所定の一軸に沿う可動ベースの移動をガイドするガイド部材と、ガイド部材あるいは基準ベースに設けられ、可動ベースを基準ベースの方向へ押圧して可動ベースを基準ベースの表面に接触させて基準ベース上にロックするための押圧部材と、押圧部材の押圧に抗して基準ベースの表面から可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備えるものである。
さらに、具体的な発明としは、前記の可動ベース浮上機構をエアー吹出し機構とするものであって、エアー吹出孔が可動ベースあるいは基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられていて、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベースを微少量浮上させるものである。
また、さらに、具体的な発明としは、エアー吹出孔からのエアーが停止したときにエアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が可動ベースと基準ベースとの間に設けられているものである。
この発明の移動ステージあるいはXYステージは、真空ロックをしなくても、可動ベースを高速移動、高速停止をすることができる。この発明は、押圧する押圧部材を設けて可動ベースを基準ベースの表面に接触させて基準ベース上にロックし、可動ベースを基準ベースに対して微少浮上させて移動させる。そのため、可動ベース浮上機構を設けて押圧部材の可動ベースに対する押圧力に抗して可動ベースを基準ベースから浮上させてロックを解除する。この場合の可動ベースの基準ベースからの浮上量は、可動ベースと基準ベースとの間の摺動抵抗を軽減するあるいはそれをほとんどなく程度の微少なものであってよい。それは、例えば、可動ベースと基準ベースとの間は10μm〜数百μm程度微少間隙である。
なお、可動ベースを基準ベースに沿って移動させ、かつ、基準ベース上で停止させるには、可動ベースを基準ベースの表面から離して浮上させ、可動ベースの停止時に可動ベースを基準ベースの表面に接触させてロックさせる可動ベース浮上機構を用いればよい。
磁気軸受等の軸受けを設けて非接触状態で可動ベースを支持して、停止時に可動ベースを押下げて基準ベースに接触させて停止させてもよい。
さらに、次に示す実施例のように、ころがり軸受を設けて基準ベースに接触した状態で可動ベースを支持し、エアーにより可動ベースを浮上させて可動ベースを基準ベース表面から切り離して可動ベースを移動し、エアーを停止しかつばね等により可動ベースを基準ベースに押付けて高速停止させる方法もある。
可動ベース浮上機構としてエアー吹出し機構を用いて吹出孔からの吹き出しエアーにより可動ベースを浮上させることができる。エアー吹出孔は、前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設ける。一方、押圧部材としては、ばね部材等を使用することができる。エアーを停止するとばね等の押圧力により即座に可動ベースが基準ベースに押圧ロックされる。
この場合、可動ベースが基準ベースから微少浮上しているので基準ベースの表面に即座に接触して停止し、停止誤差がほとん生じないで済む。
そして、停止するときに可動ベースと基準ベースとの間に吹き出したエアーが逃げる間隙を確保すれば、可動ベースを高速移動させても、停止安定までの時間を低減できる。さらに、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタにあっては、これにより磁気ヘッド等を保持する可動ベースの高さ基準を基準ベースの高さを基準として設定することができ、低振動で高い位置決め精度を得ることが可能になる。
また、前記のXYステージの発明の場合には、特に、可動ベースを平面からみて矩形のものとし、ガイド部材を可動ベースが配置される平面からみて矩形の空間を内側に有する移動枠として、可動ベースを移動枠に装填し、矩形の移動枠が基準ベース上でX軸あるいはY軸に沿って移動するようにし、その内側にある可動ベースはY軸あるいはX軸に沿って移動するようにする。
これにより、この発明は、移動枠の移動面と可動ベースの移動面とを近傍に設定することができあるいは実質的に一致させることができる。この状態で可動ベースが移動して定盤の基準ベースの表面で停止するので、高さ方向の位置ずれがほとんどなく、しかも、移動面におけるそれぞれの移動方向が直交状態になっているので、相互の移動における干渉が防止されて磁気ディスクに対して高精度な位置決めが可能になる。
したがって、ヘッドキャリッジのXYステージにあっては、磁気ヘッド等を保持する可動ベースの高さ基準を基準ベースの高さを基準として設定することが可能になる。
その結果、この発明は、高速移動、高速停止が可能で停止位置誤差が小さい、ベアリング支持の移動ステージあるいはXYステージを実現できる。さらに、この移動ステージあるいはXYステージを磁気ヘッドテスタ,磁気ディスクテスタのヘッドキャリッジに利用することで精度の高い検査ができる磁気ヘッドテスタ,磁気ディスクテスタを実現することができる。
図1は、この発明のベアリング支持の移動ステージを適用した一実施例のヘッド検査装置におけるヘッドキャリッジを中心とした一部切欠き平面図、図2は、その可動ベースを主体とする平面図、図3は、ベアリング部分を中心とする側面断面図、図4(a)は、ベアリング支持の構造の断面説明図、(b)は、停止状態における可動ベースと基準ベースとの間のエアー逃げ間隙についての説明図、(c)は、可動ベース裏面の吹出孔と突起の説明図、そして図5は、押圧ロックの作用効果の説明図である。
なお、各図において、同様な構成要素は、同一の符号で示し、その説明を割愛する。
図1において、1は、ヘッドキャリッジにおけるベアリング支持の移動ステージであって、2は、その基準ベース、3は、Xステージを構成する可動ベースである。基準ベース2は、斑れい岩製の定盤である。同様に可動ベース3も斑れい岩製で基準ベース2との接触面(図2,図4(c)の突起部分39参照)が定盤仕上げになっている。可動ベース3には、ピエゾステージ3aが搭載されている。ピエゾステージ3aは、圧電アクチュエータを搭載してX軸方向に移動して磁気ヘッドの微小位置決めをする。3bは、その磁気ヘッドアッセンブリあるいは磁気ヘッドアームの取付け凹部である。可動ベース3は、基準ベース2の上に置かれている。
4は、図1〜図3で示すように、可動ベース3をガイドするアルミニウム製で矩形のガイドフレームであって、可動ベース3は、この矩形枠の内側に設けられている。ガイドフレーム4は、ボールベアリング構成部41,42を介して可動ベース3の移動をガイドする。このガイドフレーム4は後述するようにYステージになっている。
ボールベアリング構成部41,42は、図2〜図4(a)に示すように、それぞれベアリングの受側となる受側ガイドレール(ベアリングの固定側部材)43とベアリングの可動側部材44とからなり、受側ガイドレール43がガイドフレーム4の裏面側に取付補助板41a,42aを介して固定され、可動側部材44が可動ベース3の両側面にそれぞれ取付補助板43a,43aを介して固定されている。これにより可動ベース3がガイドフレーム4にボールベアリング構成部41,42により移動可能に軸受け支持される。
なお、図2〜図4(a)に示す45は、受側ガイドレール43と可動側部材44の間に装填されたボールであり、これら部材によりボールベアリング構成部41(42)が構成される。46は、受側ガイドレール43と可動側部材44とにそれぞれ設けられているV溝である。
図1〜図3に示す5は、板ばねであって、この板ばね5は、ガイドフレーム4の裏面、下側において可動ベース3に設けられている。
板ばね5は、可動ベース3を基準ベース2側に押下げて基準ベース2に接触固定させるばねである。板ばね5は、図1〜図3に示すように、その中央部51が可動ベース3の重心G(図2参照)を通る線が矩形のガイドフレーム4の辺に垂直な線Lと辺とが交わる点の位置においてその側面に突出した可動ベース3の突起31,32に固定されている(図3参照)。板ばね5の両端部にはローラ52,53が軸支されていて、このローラ52,53がそれぞれガイドフレーム4に設けられた受側ガイドレール43の下面に接触している。この板ばね5が受側ガイドレール43によって上から圧縮されて取付けられていることで、板ばね5は、可動ベース3の側面両側において可動ベース3を基準ベース2の表面に押付ける。これが先に説明した微小昇降機構の可動ベース3を下降させる機構になっている。
図1において、6は、磁気ヘッドテスタあるいは磁気ディスクテスタの検査ステージであって、これにはディスク100をチャックするスピンドル7が設けられている。
可動ベース3は、ガイドフレーム4の一辺に沿ってその内側でX軸に沿って移動し、Xステージとなる。8は、磁石とコイルとが装填されたシャフト形状のリニアモータであり、Xステージの駆動源である。これは、図1において、図面右側のガイドフレーム4の一辺に沿って設けられていて、その頭部と尻部は、ブラケット81,82を介してガイドフレーム4の図面右側の一辺に固定されている。そして、このリニアモータ8の移動子83の端部が可動ベース3の右側面に取付補助板43aを介して固定され、これにより可動ベース3がリニアモータ8により駆動されてX軸上を移動する。
ガイドレール91,92は、ガイドフレーム4の前後の各辺の裏面下側にY軸に沿って設けられていて、ボールベアリング95,96を介してガイドフレーム4の裏面を支持する。このことで、ガイドフレーム4がガイドレール91,92上を移動することができる。これによりガイドフレーム4がYステージになる。なお、ボールベアリング95,96は、ボールベアリング構成部41,42と同様な構造であるが、ガイドレール91,92は、基準ベース2に移動可能にガイドフレーム4を固定する。そのベアリングを構成する固定側部材と可動側部材とが分離できない、一体的な構造となっている点でボールベアリング構成部41,42とは相違している。
ここでは特に、図3の断面図に示すように、受側ガイドレール43のボール45を受ける面をボールベアリング95,96のガイドレール91,92を受ける面とは実質的に同じ高さに設定してある。これにより、ボールベアリング構成部41,42による可動ベース3(Xステージ)の移動面は、ボールベアリング95,96とガイドレール91,92とによるガイドフレーム4(Yステージ)の移動面と実質的に同じ高さになっていてかつそれぞれの移動方向は直交している。しかも、可動ベース3は、基準ベース2の表面でロックされて停止する。これにより基準ベース2からみた位置決め誤差が低減できる。
ガイドフレーム4は、図1〜図2の上下および図3に示すように、Y軸に沿って設けられたガイドレール91,92上を移動する。その駆動源である図1における9もシャフト形状のリニアモータであって、ガイドフレーム4とともにYステージを構成する。リニアモータ9は、図面上側のガイドフレーム4の一辺に沿ってこの辺の裏面、下側に設けられたガイドレール91に平行に基準ベース2上に設けられている。その頭部と尻部は、ブラケット93,94を介して基準ベース2に固定されている。
このリニアモータ9の移動子97(図1参照)は、ガイドフレーム4の辺に裏面側にその端部が固定されている。
これにより、エアー吹出しにより基準ベース2から可動ベース3が浮上状態にあるときに、リニアモータ9の駆動に従ってガイドフレーム4は、Y軸上を可動ベース3を保持した状態で移動する。そこで、リニアモータ8,9のそれぞれの駆動により、X軸,Y軸に沿って可動ベース3は移動する。
ここで、X軸は、ディスク100の半径方向に一致していて、Y軸は、ディスク半径方向に対して直角な方向となり、この直角な方向は、ピエゾステージ3aに搭載された磁気ヘッドのスキュー設定方向に一致している。
次に、微小昇降機構として可動ベース3を基準ベース2から浮上させる構造について図2〜図4を参照して説明する。図2は、可動ベース3の平面図である。
図2に点線で示し、図4(c)に示すように、可動ベース3の裏面30には、6個のエアー吹出孔33,33…が分散して配置されていて、これらエアー吹出孔33,33…へ連通する孔(図示せず)が可動ベース3の内部に穿孔されていて、それらがポート34(図1参照)に結合している。コントローラ38の制御によりこのポート34へエアーポンプ36から制御弁35、管37(図1参照)を介してエアーが導入される。
さらに、図2,図4(c)に示すように、可動ベース3の裏面の四隅に矩形の突起部分39が設けられて、これが基準ベース2との接触面となる。可動ベースの裏面30の底部は、吹き出したエアーを外部へと逃がすために突起部分39の頭面に対して5μm〜50μm程度の凹部となっている(図4参照)。これが基準ベース2との接触面となる。接触面となるその頭部は、定盤仕上げにされ、突起部分39の表面の面積は、5mm×5mmから10mm×50mmの範囲のうちから選択されたものとなっている。
可動ベース3の停止制御時に、即座に、板ばね5を作用させるために、図4(a),図4(b)に示すように、基準ベース2と接触状態にある可動ベース3との間には、10μm程度のエアー逃げ間隙Sが設けられている。
次に、移動ステージ1における可動ベース3の移動動作を説明する。まず、コントローラ38により制御弁35が制御され、エアーポンプ36から加圧エアーが供給されると、6個のエアー吹出孔33〜33からエア−が噴出されて、板ばね5による可動ベース3の押下げ力に抗して、可動ベース3が基準ベース2に対して浮上する。このとき、アルミニウム製の矩形ガイドフレーム4は、その厚さに応じた重量があるので、その作用で、上部に押上げられて撓む。このときの浮上量は、突起部分39に対して10μm程度(5μm〜50μmの範囲から選択されたものとして)である。
なお、矩形のガイドフレーム4は、移動ベース3を浮上させる微少浮上機構により移動ベース3が浮上したときに撓むので、ボールベアリング構成部41,42は、ベアリングを構成する受側ガイドレール43(固定側部材)と可動側部材44とが強固に一体的なものであってもよく、浮上を許容するものとして少なくとも5μm程度か、それ以上のクリアランスは持っていればよい。
この浮上状態で、リニアモータ8,9が駆動されて、磁気ヘッド(図示せず)がディスク100上の所定のトラック位置に位置決めされる。
この位置決めが完了した時点で、コントローラ38により制御弁35が制御され、エアーポンプ36からのエアーが停止する。これにより、可動ベース3は、浮上力を失い、板ばね5により基準ベース2に押付けられて停止する。この状態を示すのが図4(a)である。このとき、板ばね5は、可動ベース3を10μm程度押し下げるだけであるので、可動ベース3は、基準ベース2に高速に接触してロックされる。なお、可動ベース3の浮上量としては、基準ベース2との間の摺動抵抗を低減あるいはそれをなくすためのものであるので、高速停止という点で数十μm〜数百μm程度の範囲のものであってよい。
可動ベース3の停止時においては、アルミニウム製の矩形ガイドフレーム4は、撓みが戻り、可動ベース3は、板ばね5により基準ベース2に押圧される。受側ガイドレール43が可動側部材44側へと押下げられてボール45と密に接触する。したがって、このときには、受側ガイドレール43(固定側部材)と可動側部材44とボール45とは、一体的なベアリング構造のものと同じか、以上にきっちりとしたボール軸受を構成する。浮上状態にあっても受側ガイドレール43と可動側部材44とボール45との間には間隙Sから吹出しエアーにより発生する負圧の作用で押しつけ力が働いて、これらのずれ、バックラッシュ等はほとんど生じない。そのため、高精度な移動が可能になる。また、停止状態のときには、その位置で板ばね5が作用するので、即座に停止し、位置ずれはほとんど生じない。
図5(a),(b)は、10μmの間隙Sによる停止効果を示すグラフである。図5(a)は、間隙Sがない場合であり、図5(b)は、間隙Sを設けた場合である。それぞれの図において、Aは、コントローラ38の制御信号であり、Bは、可動ベース3の移動速度である。制御弁35に加えるコントローラ38の制御信号Aを“L”(Lowレベル)にして停止状態に入ったときに、図5(b)に示すように、この移動ステージ1は、可動ベース3を100msec以下で停止させることができるが、同じ条件で間隙Sを設けなかった図5(a)では、停止まで1400msec以上の時間がかかる。高速停止をするためには、この間隙Sは、5μm〜50μm程度の範囲にあることが好ましい。
図1に示す実施例では、エアー吹出し機構を用いて可動ベース3を基準ベース1の表面から浮上させているが、磁気の反発を利用して可動ベース3を磁気浮上させてもよい。この場合には、受側ガイドレール43(固定側部材)をコイル側とし、可動側部材44側に永久磁石を配置して受側ガイドレール43のコイルに電流を流して反発磁気を発生させて可動側部材44を基準ベース1の表面から浮上させることになる。受側ガイドレール43(固定側部材)と可動側部材44との関係を磁気ベアリング構造にすれば、受側ガイドレール43(固定側部材)と可動側部材44の間のボールは不要となり、これらをボールベアリングとする必要はない。この磁気ベアリング構造の場合には、可動側部材44の側面側等に反発させて水平方向で位置関係を保持する磁石等を設けて、全体をリニアモータ構造とすることができる。
また、受側ガイドレール43(固定側部材)を永久磁石側とし、可動側部材44をコイル側にして可動ベース3を浮上させる場合には、可動側部材44に給電するための構造を追加する必要がある。
ところで、前記実施例のように、ガイドフレーム4の枠の内側に可動ベース3が保持されて停止状態で直接基準ベース2に固定される構造でXステージを構成とすると、Yステージは、高さ方向において基準ベース2を基準として移動させることができる。これによりX軸とY軸の移動面を実質的に同一面にすることができる。このようにすることで、Xステージ、Yステージともに基準ベース2の面上で移動させることができ、XY方向の位置ずれ誤差が小さくなりかつ高さ方向の位置ずれもほとんど生じない。これにより高精度位置決めが可能になる。また、この実施例のように、ばねを可動ベース3に作用させて、可動ベース3を押圧すれば、真空吸着などの場合と異なり、押圧荷重が変化することがないので、可動ベースの降下が安定し、停止動作が安定するまでの時間を短縮できる。
以上説明してきたが、実施例のボールベアリングは一例であって、この発明は、ボールに換えてローラによるころがり軸受構造としてもよい。さらに、エアーベアリングによる軸受構造としてもよい。
また、実施例のX軸,Y軸は、入れ替えられてもよく、これらは、直線状の一軸であればよい。
実施例の微少昇降機構におけるエアー吹出孔は、可動ベースではなく、基準ベースに設けられていてもよい。また、エアー吹出孔の数は6個に限定されるものではない。さらに、実施例の板ばねは、可動ベースではなく、基準ベース側に取り付けられてもよく、板ばねは、一例であって、これはコイルばね、その他の弾性部材を用いることができる。
実施例のガイドフレームの形状は一例であって、この発明は、完全な矩形の形状に限定されるものではなく、例えば、一辺が開放された矩形であってもよい。
さらに、実施例では、ヘッドキャリッジの移動ステージあるいはXYステージを中心として説明しているが、この発明は、高速かつ高精度な位置決めを伴う、ベアリング支持の移動ステージ一般に適用できる。さらに、この発明の移動ステージは、磁気ディスク検査装置や磁気ヘッド検査装置に利用できることはもちろんである。
図1は、この発明のベアリング支持の移動ステージを適用した一実施例のヘッド検査装置におけるヘッドキャリッジを中心とした一部切欠き平面図である。 図2は、その可動ベースを主体とする平面図である。 図3は、ベアリング部分を中心とする側面断面図である。 図4(a)は、ベアリング支持の構造の断面説明図、(b)は、停止状態における可動ベースと基準ベースとの間のエアー逃げ間隙についての説明図、(c)は、可動ベース裏面の吹出孔と突起の説明図である。 図5は、押圧ロックの作用効果の説明図である。 図6は、従来のエアーベアリング支持の移動ステージの一例の説明図である。 1…ベアリング支持の移動ステージ、2…基準ベース、 3a…ピエゾステージ、3…可動ベース、4…ガイドフレーム、 5…板ばね、6…検査ステージ、7…スピンドル、 8,9…リニアモータ、31,32…突起、33…エアー吹出孔、 34…ポート、35…制御弁、 36…エアーポンプ、37…管、 38…コントローラ、39…突起部分、 41,42…ボールベアリング機構、 43…受側ガイドレール(ベアリングの固定側部材)、 44…ベアリングの可動側部材、 45…ベアリングのボール、 51…板ばねの中央部、52,53…ローラ、 81,82,93,94…ブラケット、 83,97…移動子、91,92…ガイドレール、 95,96…ボールベアリング、100…ディスク。

Claims (34)

  1. 定盤の基準ベース、可動ベースとベアリングとを有する移動ステージにおいて、
    前記ベアリングを構成するための可動側部材が固定され所定の一軸に沿って移動する前記可動ベースと、
    前記ベアリングを構成するための固定側部材が固定され前記所定の一軸に沿う前記可動ベースの移動をガイドする前記ガイド部材と、
    前記ガイド部材あるいは前記基準ベースに設けられ、前記可動ベースを前記基準ベースの方向へ押圧して前記可動ベースを前記基準ベースの表面に接触させて前記基準ベース上にロックするための押圧部材と、
    前記押圧部材の前記押圧に抗して前記基準ベースの表面から前記可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備える移動ステージ。
  2. 前記ガイド部材は、前記基準ベースに支持され、前記可動ベースは、前記基準ベース上に置かれている請求項1記載の移動ステージ。
  3. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持されている請求項1記載の移動ステージ。
  4. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持され、前記可動ベース浮上機構は、エアー吹出孔が前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられ、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベースを微少量浮上させるエアー吹出し機構である請求項2記載の移動ステージ。
  5. さらに、前記可動ベース浮上機構が前記エアー吹出孔からのエアーを停止したときに前記エアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が前記可動ベースと前記基準ベースとの間に設けられている請求項4記載の移動ステージ。
  6. 前記可動ベースは平面からみて矩形であり、前記ガイド部材は、前記可動ベースが内側に装填される、平面からみて矩形の空間を有する枠であって、前記可動ベースは、前記矩形の空間に配置されている請求項2記載の移動ステージ。
  7. 前記ガイド部材は、その内側に平面からみて矩形の空間を有し前記基準ベース上をX軸およびY軸のいずれか一方の軸に沿って移動するものであり、
    前記可動ベースは、前記矩形の空間に装填される平面からみて矩形の部材であって、前記一軸が前記X軸およびY軸のいずれか他方の軸でありかつ前記基準ベースに沿って移動する請求項2記載の移動ステージ。
  8. 前記基準ベースは石材製であり、前記可動ベースは、前記基準ベースに接触する面が定盤仕上げとなっていて、前記押圧部材は、前記可動ベースの重心を通る前記可動ベースを横断する線に対応して前記可動ベースの両側面部にそれぞれ設けられている請求項7記載の移動ステージ。
  9. 前記押圧部材は、前記押圧のための力を発生するばねであり、前記間隙は、前記可動ベースに凹部として設けられる請求項8記載の移動ステージ。
  10. 前記ベアリングは、前記固定側部材と前記可動側部材との間にボールを有するボールベアリングであり、前記ガイド部材は平面からみて矩形の枠であって、前記可動ベースが浮上したときに撓む可撓性部材で構成され、前記ボールベアリングは、前記可動ベースが前記基準ベース上に固定されたときに前記固定側部材と前記可動側部材とがボールを介して密に接触した状態にある請求項8記載の移動ステージ。
  11. 前記ガイド部材は、前記矩形の移動枠であって、対向する2辺のそれぞれに対応して前記ボールベアリングの固定側部材がそれぞれ設けられ、この固定側部材が前記矩形の移動枠の裏面側に固定され、前記固定部材側が前記移動枠の残りの対向する2辺と前記基準ベースとの間にそれぞれ前記ボールベアリングと同様なベアリングが設けられて前記基準ベースに支持される請求項10記載の移動ステージ。
  12. 前記ベアリングの前記固定側部材と前記可動側部材とが強固に一体的になっている請求項2記載の移動ステージ。
  13. 前記ガイド部材は、前記可動ベース浮上機構によって前記可動ベースが浮上したときに撓む請求項12記載の移動ステージ。
  14. 定盤の基準ベース、可動ベースとベアリングとを有するXYステージにおいて、
    前記ベアリングを構成するための可動側部材が固定された前記可動ベースと、
    前記基準ベース上をX軸およびY軸のいずれか一方の軸に沿って移動し前記ベアリングを構成するための固定側部材が固定されX軸およびY軸のいずれか他方の軸に沿った前記可動ベースの移動をガイドする前記ガイド部材と、
    前記ガイド部材あるいは前記基準ベースに設けられ、前記可動ベースを前記基準ベースの方向へ押圧して前記可動ベースを前記基準ベースの表面に接触させて前記基準ベース上にロックするための押圧部材と、
    前記押圧部材の前記押圧に抗して前記基準ベースの表面から前記可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備えるXYステージ。
  15. 前記ガイド部材は、前記基準ベースに支持され、前記可動ベースは、前記基準ベース上に置かれている請求項14記載のXYステージ。
  16. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持されている請求項14記載のXYステージ。
  17. さらに、前記ガイド部材を移動させるために前記基準ベースに設けられた第1の駆動源と前記可動ベースを移動させるために前記ガイド部材に設けられた第2の駆動源とを有し、前記ガイド部材は、内側に平面からみて矩形の空間を有する移動枠であり、前記可動ベースは、前記矩形の空間に装填される平面からみて矩形の部材であってかつ前記基準ベースに沿って移動する請求項15記載のXYステージ。
  18. 前記移動枠の対向する2辺のそれぞれに対応して前記ベアリングの固定側部材がそれぞれ設けられ、前記移動枠の残りの対向する2辺と前記基準ベースとの間にそれぞれ前記ベアリングと同様なベアリングが設けられて前記基準ベースに支持され、前記第1および第2の駆動源はリニアモータである請求項17記載のXYステージ。
  19. 前記可動ベース浮上機構は、エアー吹出孔が前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられ、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベース2を浮上させるエアー吹出し機構である請求項17記載のXYステージ。
  20. さらに、前記可動ベース浮上機構が前記エアー吹出孔からのエアーが停止したときに前記エアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が前記可動ベースと前記基準ベースとの間に設けられている請求項19記載のXYステージ。
  21. 前記基準ベースは石材製であり、前記可動ベースは、前記基準ベースに接触する面が定盤仕上げとなっていて、前記押圧部材は、前記可動ベースの重心を通る前記可動ベースを横断する線に対応して前記可動ベースの両側面部にそれぞれ設けられ、前記押圧のための力を発生するばねであり、前記間隙は、前記可動ベースに凹部として設けられる請求項20記載のXYステージ。
  22. 磁気ヘッドアッセンブリあるいは磁気ヘッドカートリッジが支持される可動ベースと、定盤の基準ベースと、前記基準ベース上に前記可動ベースを支持するステージと、ベアリングとを有するヘッドキャリッジにおいて、
    前記ベアリングを構成するための可動側部材が固定された前記可動ベースと、
    前記基準ベースに設けられ、前記ベアリングを構成するための固定側部材が固定され所定の一軸に沿う前記可動ベースの移動をガイドする前記ガイド部材と、
    前記ガイド部材あるいは前記基準ベースに設けられ、前記可動ベースを前記基準ベースの方向へ押圧して前記可動ベースを前記基準ベースの表面に接触させて前記基準ベース上にロックするための押圧部材と、
    前記押圧部材の前記押圧に抗して前記基準ベースの表面から前記可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備えるヘッドキャリッジ。
  23. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持され、前記ガイド部材は、前記基準ベースに支持されている請求項22記載のヘッドキャリッジ。
  24. 前記可動ベース浮上機構は、エアー吹出孔が前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられ、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベース2を浮上させるエアー吹出し機構である請求項23記載のヘッドキャリッジ。
  25. さらに、前記可動ベース浮上機構が前記エアー吹出孔からのエアーが停止したときに前記エアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が前記可動ベースと前記基準ベースとの間に設けられている請求項24記載ののヘッドキャリッジ。
  26. 前記可動ベースは平面からみて矩形であり、前記ガイド部材は、前記可動ベースが内側に装填される、平面からみて矩形の空間を有する枠であって、前記可動ベースは、前記矩形の空間に配置されている請求項24記載ののヘッドキャリッジ。
  27. 磁気ヘッドアッセンブリあるいは磁気ヘッドカートリッジが支持される可動ベースと、定盤の基準ベースと、前記基準ベース上に前記可動ベースを支持するステージと、ベアリングとを有するヘッドキャリッジを用いて磁気ヘッドのテストをする磁気ヘッドテスタにおいて、
    前記ステージは、
    前記ベアリングを構成するための可動側部材が固定された前記可動ベースと、
    前記基準ベースに設けられ、前記ベアリングを構成するための固定側部材が固定され所定の一軸に沿う前記可動ベースの移動をガイドする前記ガイド部材と、
    前記ガイド部材あるいは前記基準ベースに設けられ、前記可動ベースを前記基準ベースの方向へ押圧して前記可動ベースを前記基準ベースの表面に接触させて前記基準ベース上にロックするための押圧部材と、
    前記押圧部材の前記押圧に抗して前記基準ベースの表面から前記可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備えている前記磁気ヘッドのテストをする磁気ヘッドテスタ。
  28. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持され、前記ガイド部材は、前記基準ベースに支持されている請求項27記載の磁気ヘッドテスタ。
  29. 前記可動ベース浮上機構は、エアー吹出孔が前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられ、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベース2を浮上させるエアー吹出し機構である請求項28記載の磁気ヘッドテスタ。
  30. さらに、前記可動ベース浮上機構が前記エアー吹出孔からのエアーが停止したときに前記エアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が前記可動ベースと前記基準ベースとの間に設けられている請求項28記載の磁気ヘッドテスタ。
  31. 磁気ヘッドアッセンブリあるいは磁気ヘッドカートリッジが支持される可動ベースと、定盤の基準ベースと、前記基準ベース上に前記可動ベースを支持するステージと、ベアリングとを有するヘッドキャリッジを用いて磁気ディスクのテストをする磁気ディスクテスタにおいて、
    前記ステージは、
    前記ベアリングを構成するための可動側部材が固定された前記可動ベースと、
    前記基準ベースに設けられ、前記ベアリングを構成するための固定側部材が固定され所定の一軸に沿う前記可動ベースの移動をガイドする前記ガイド部材と、
    前記ガイド部材あるいは前記基準ベースに設けられ、前記可動ベースを前記基準ベースの方向へ押圧して前記可動ベースを前記基準ベースの表面に接触させて前記基準ベース上にロックするための押圧部材と、
    前記押圧部材の前記押圧に抗して前記基準ベースの表面から前記可動ベースを浮上させる可動ベース浮上機構とを備えている前記磁気ディスクのテストをする磁気ディスクテスタ。
  32. 前記可動ベースは、前記ベアリングを介して前記基準ベースに支持され、前記ガイド部材は、前記基準ベースに支持されている請求項31記載の磁気ディスクテスタ。
  33. 前記可動ベース浮上機構は、エアー吹出孔が前記可動ベースあるいは前記基準ベースのいずれかに複数個分散して設けられ、前記エアー吹出孔からエアーを吹き出すことにより前記可動ベース2を浮上させるエアー吹出し機構である請求項32記載の磁気ディスクテスタ。
  34. さらに、前記可動ベース浮上機構が前記エアー吹出孔からのエアーが停止したときに前記エアー吹出孔から吹き出されたエアーが逃げる間隙が前記可動ベースと前記基準ベースとの間に設けられている請求項32記載の磁気ディスクテスタ。
JP2004067328A 2003-03-20 2004-03-10 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ Expired - Fee Related JP4231436B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004067328A JP4231436B2 (ja) 2003-03-20 2004-03-10 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003076966 2003-03-20
JP2004067328A JP4231436B2 (ja) 2003-03-20 2004-03-10 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004301830A true JP2004301830A (ja) 2004-10-28
JP4231436B2 JP4231436B2 (ja) 2009-02-25

Family

ID=33421907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004067328A Expired - Fee Related JP4231436B2 (ja) 2003-03-20 2004-03-10 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4231436B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2010241072A (ja) * 2009-04-09 2010-10-28 Seiko Epson Corp 記録装置
JP2016224379A (ja) * 2015-06-03 2016-12-28 旭化成エンジニアリング株式会社 平面移動装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009241192A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Heavy Ind Ltd Xyステージ装置
JP2010241072A (ja) * 2009-04-09 2010-10-28 Seiko Epson Corp 記録装置
JP2016224379A (ja) * 2015-06-03 2016-12-28 旭化成エンジニアリング株式会社 平面移動装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4231436B2 (ja) 2009-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI471108B (zh) 解耦、多級的定位系統
JP3709896B2 (ja) ステージ装置
JP4782710B2 (ja) ステージ装置
TWI457193B (zh) Stage device
JP4384664B2 (ja) 試料検査および処理用の高精度動的位置合わせ機構
CN112276384B (zh) 半导体晶圆激光切割用气浮平台
JP6380564B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
JP6708222B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法
US7603785B2 (en) Air bearing assembly for guiding motion of optical components of a laser processing system
JP4899469B2 (ja) 平面ステージ装置
US9898000B2 (en) Planar positioning system and method of using the same
JP2010219390A (ja) Xyステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置
JP3987811B2 (ja) Xyステージ、ヘッドキャリッジおよび磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ
CN112018002A (zh) 晶圆键合设备及晶圆键合的方法
WO2019225110A1 (ja) ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置
US7135861B2 (en) Movable stage, XY stage, head carriage and tester of magnetic head or magnetic disk
JP4231436B2 (ja) 移動ステージ、xyステージ、ヘッドキャリッジおよび、磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ
JP4212631B2 (ja) ヘッドキャリッジおよび磁気ヘッドあるいは磁気ディスクのテスタ
CN110514136B (zh) 形状测定用探头
CN217305707U (zh) 一种掩模台及光刻机
JP2706184B2 (ja) 可動ステージ装置
JP5406507B2 (ja) 平面移動ステージ装置
JP2004015904A (ja) リニアステージ、リニアポジショナおよびリニアスピンスタンド
JPH11186156A (ja) Xyステージ
KR100280754B1 (ko) 예비 베어링을 갖는 자기 베어링 모듈

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20060516

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060808

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081125

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4231436

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131212

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees