CN217305707U - 一种掩模台及光刻机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩模台及光刻机，属于光刻设备领域，该掩模台包括水平向运动单元和垂向运动单元，所述水平向运动单元包括底座和承版台组件，所述底座上设有所述承版台组件，所述承版台组件用于承载掩模版；所述垂向运动单元位于所述水平向运动单元的下方，所述垂向运动单元包括底板和垂向运动补偿组件，所述垂向运动补偿组件设置于所述底板和所述底座之间，所述垂向运动补偿组件被配置为能够驱动所述水平向运动单元沿竖直方向上下运动，以实现掩模台的垂向位置补偿。该光刻机包括上述掩模台。该掩模台实现了掩模台的垂向运动补偿，从而实现了实时补偿掩模台与物镜的位置偏差，掩模台精度高。

Description

一种掩模台及光刻机

技术领域

本实用新型涉及光刻设备技术领域，尤其涉及一种掩模台及光刻机。

背景技术

光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。

光刻机是一种通过光刻装置将掩模图案成像在目标基板上的设备，在光刻装置中，掩模台以纳米级精度进行运动。现有的掩模台结构中，其运动自由度主要为水平向X、Y运动和Rz转动。当光刻机工作时会对内部产生振动，尤其是工件台工作时，所产生的反力会作用在框架上，从而引起物镜的振动。而当物镜振动时，由于缺少垂向自由度的运动，导致掩模台无法进行垂向补偿，这一环节从一定程度上制约了光刻机的精度指标，所以目前的掩模台精度最终只能达到300nm左右。

因此，亟需提出一种掩模台及光刻机来解决现有技术中存在的上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型的第一个目的在于提供一种高精度的掩模台。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种掩模台，包括：

水平向运动单元，包括底座和承版台组件，所述底座上设有所述承版台组件，所述承版台组件用于承载固定掩模版；以及，

垂向运动单元，位于所述水平向运动单元的下方，所述垂向运动单元包括底板和垂向运动补偿组件，所述垂向运动补偿组件设置于所述底板和所述底座之间，所述垂向运动补偿组件被配置为能够驱动所述水平向运动单元沿竖直方向上下运动，以实现所述掩模台的垂向位置补偿。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动补偿组件包括楔形块组件，所述楔形块组件包括：

滚轮，固定于所述底座的底部；以及，

楔形块，可移动连接于所述底板上，所述楔形块的斜面抵接于所述滚轮。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动补偿组件还包括：

垂向环，所述垂向环绕Z轴转动连接于所述底板上，所述楔形块固定于所述垂向环上。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动补偿组件还包括用于驱动所述垂向环转动的驱动组件，所述驱动组件包括：

电机，固定于所述底板上；以及，

滚珠丝杠组件，驱动连接于所述电机的输出轴，所述滚珠丝杠组件被配置为带动所述垂向环转动。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述驱动组件还包括：

传动件，所述传动件固连于所述垂向环的周向，所述滚珠丝杠组件的螺母能够推动所述传动件移动，所述传动件带动所述垂向环圆周转动。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述传动件为U形的拨叉，包括连接部和连接于所述连接部两端的传动臂，所述连接部固连于所述垂向环，所述滚珠丝杠组件的丝杠穿设于两个所述传动臂之间，所述传动臂的一侧面能与所述螺母抵接。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动补偿组件还包括：

导向轴承组件，所述导向轴承组件设置于所述底板上，所述垂向环的内圈卡设于所述导向轴承组件中。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动单元还包括：

垂向簧片，所述垂向簧片连接于所述底座和所述底板之间，所述垂向簧片被配置为用于对所述水平向运动单元的垂向运动进行导向。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动单元还包括：

第一检测组件，所述第一检测组件用于检测所述水平向运动单元相对于所述垂向运动单元的垂向运动的位移量。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动单元还包括：

第二检测组件，所述第二检测组件用于监测所述物镜与所述掩模台之间的位置关系。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述水平向运动单元还包括：

X向运动组件、Y向运动组件和Rz组件，所述X向运动组件与所述承版台组件连接，所述Rz组件设置于所述X向运动组件与所述Y向运动组件之间，所述Y向运动组件与所述底座连接。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述水平向运动单元还包括：

簧片组件，所述簧片组件的两端分别连接所述X向运动组件与所述承版台组件。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述Y向运动组件包括：

Y向导轨，所述承版台组件的两侧分别设有两根平行的所述Y向导轨。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述承版台组件包括：

承版台，所述承版台上设有所述掩模版，所述承版台内部设有冷却组件。

作为上述掩模台的优选技术方案，所述垂向运动补偿组件包括：

音圈电机，所述音圈电机的两端分别连接所述底板和所述底座；

磁浮重力补偿装置，所述磁浮重力补偿装置包括连接于所述底座的第一磁钢和连接于所述底板的第二磁钢，所述第一磁钢和所述第二磁钢分别固定于所述底板和所述底座。

本实用新型的第二个目的在于提供一种高精度的光刻机。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种光刻机，包括上述任一技术方案的掩模台。

与现有技术相比，本实用新型的优点及有益效果在于：

本实用新型提供的掩模台，包括水平向运动单元和垂向运动单元，垂向运动单元包括垂向运动补偿组件，垂向运动补偿组件设置于底板和底座之间，垂向运动补偿组件能够驱动水平向运动单元沿竖直方向上下运动，以实现掩模台的垂向位置补偿，从而实时补偿掩模台与物镜的位置偏差。通过设置垂向运动补偿组件，在掩模台垂向行程范围内可实现垂向位移的高分辨率运动，提高掩模台的精度。

本实用新型提供的光刻机，包括上述的掩模台，相较于现有技术，该光刻机的精度得以提高。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式实施例一提供的掩模台的结构示意图；

图2是本实用新型具体实施方式实施例一提供的垂向运动补偿组件的结构示意图；

图3是本实用新型具体实施方式实施例一提供的底座的结构示意图；

图4是本实用新型具体实施方式实施例一提供的承版台组件的结构示意图；

图5是本实用新型具体实施方式实施例一提供的垂向运动补偿组件的补偿流程图；

图6是本实用新型具体实施方式实施例二提供的掩模台的结构示意图。

图中标记如下：

100、水平向运动单元；101、底座；102、承版台组件；1011、第一台面；1012、第二台面；1021、承版台；1022、冷却液进口；1023、冷却液出口；1024、真空吸附组件；103、X向运动组件；104、Y向运动组件；1041、Y向导轨；105、Rz组件；106、簧片组件；

200、垂向运动单元；201、底座；202、滚轮；203、楔形块；204、垂向环；205、电机；206、丝杠；207、螺母；208、传动件；209、导向轴承组件；210、垂向簧片；211、第一检测组件；212、第二检测组件；213、音圈电机；214、磁浮重力补偿装置；

300、掩模版；

400、物镜。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体地限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

实施例一

现有的掩模台结构中，其运动自由度主要为水平向X、Y运动和Rz转动。当光刻机工作时会对内部产生振动，尤其是工件台工作时，所产生的反力会作用在框架上，从而引起物镜的振动。而当物镜振动时，由于缺少垂向自由度的运动，导致掩模台无法进行垂向补偿，这从一定程度上制约了光刻机的精度指标。

针对现有技术中光刻机掩模台存在的无法进行垂向补偿、精度低的问题，本实施例提出了一种掩模台，能够有效解决如上问题。

如图1和图2所示，本实施例提供的掩模台包括水平向运动单元100和垂向运动单元200，在一实施方式中，水平向运动单元100包括底座101、承版台组件102、X向运动组件103、Y向运动组件104和Rz组件105，底座101作为水平向运动单元100的安装、支撑部件，并与垂向运动单元200相连接。可选地，本实施例中的底座101为大理石底座101。底座101上设有承版台组件102，承版台组件102为承载掩模版300的载体，用于夹持、固定掩模版300，X向运动组件103与承版台组件102连接，X向运动组件103用于实现承版台组件102的X向微动，Rz组件105设置于X向运动组件103与Y向运动组件104之间，Y向运动组件104与底座101连接。在一种实施方式中，Y向运动组件104可采用Y向扫描运动方式，完成掩模图形切换功能。Rz组件105用于实现承版台组件102的Rz运动。需要说明的是，上述水平向运动单元100的结构仅是一种常规设置方式，但不限于此。

垂向运动单元200位于水平向运动单元100的下方，垂向运动单元200包括底板201和垂向运动补偿组件，底板201为垂向运动单元200的安装底座101，并作为掩模台整体的底座101与整机框架相连。垂向运动补偿组件设置于底板201和底座101之间，垂向运动补偿组件被配置为能够驱动水平向运动单元100沿竖直方向上下运动，以提供掩模台垂向自由度实现垂向位置补偿。例如，可实时补偿掩模台与物镜400的位置偏差。通过设置垂向运动补偿组件，在掩模台垂向行程范围内可实现其垂向位移的高分辨率运动，从而提高掩模台的精度。

本实施例中的底座101的纵截面呈凸字形，结合图3所示，其中间部分向上凸出设置形成第一台面1011，承版台组件102设置于第一台面1011上，第一台面1011的两侧为第二台面1012，第一台面1011和两侧的第二台面1012之间分别形成台阶，两侧的台阶等高，即底座101整体呈对称结构。底座101的中心处有通孔，形成容纳物镜400的空间。在该结构下，X向运动组件103、Y向运动组件104和Rz组件105分别设有两组且成对设置，即水平向运动单元100整体呈对称结构。

进一步地，水平向运动单元100还包括簧片组件106，簧片组件106设置两组，簧片组件106的两端分别连接X向运动组件103与承版台组件102。

可选地，两组Y向运动组件104分别设置于两个第二台面1012上，如图3所示，每组Y向运动组件104均包括两根平行的Y向导轨1041。由于Y向行程较长，因此，相较于现有技术中的单根导轨布置，两根Y向导轨1041可以使长行程的运动精度更高、更加稳定。

在另一可选实施例中，Y向运动组件104采用单电机驱动与气浮轴承导轨导向的方式实现提高运动精度及稳定性的目的，采用气浮轴承摩擦力接近于0，可使运动精度更高、更稳定。

更进一步地，如图4所示，承版台组件102包括承版台1021，承版台1021上设有掩模版300，承版台1021内部设有冷却组件。通过设置冷却组件实现承版台1021的冷却功能，可降低曝光温度对承版台1021零件形变量的影响，使光刻过程更加精准稳定。具体地，冷却组件包括冷却液进口1022、冷却通道和冷却液出口1023，冷却液进口1022和冷却液出口1023均设置在承版台1021的一侧表面，冷却通道设置在承版台1021的内部，冷却液进口1022和冷却液出口1023分别与冷却通道相连通。

优选地，承版台1021材料可以是铝合金，也可以是陶瓷等热膨胀系数更低的材料，当需要进一步降低承版台1021变形量时，承版台1021材料选用陶瓷等热膨胀系数更低的材料。

可选地，承版台组件102还包括真空吸附组件1024，真空吸附组件1024设置于承版台1021上，用于吸附掩模版300。真空吸附组件1024的具体结构为现有技术，并不作为本实施例的保护重点。

本实施例中的垂向运动补偿组件包括楔形块组件，楔形块组件包括滚轮202和楔形块203，滚轮202固定于底座101的底部，楔形块203可移动连接于底板201上，楔形块203的斜面抵接于滚轮202。楔形块203在底板201平面内运动，驱动滚轮202沿楔形块203的斜面滚动，从而带动水平向运动单元100上下运动，将滚轮202和楔形块203之间的相对运动转化为水平向运动单元100的垂向位移。采用楔形块203和滚轮202的运动机构,结构简单紧凑，刚性接触可靠性好，在垂向行程范围内可实现垂向位移的高分辨率运动，提高垂向运动补偿精度。

进一步地，垂向运动补偿组件还包括垂向环204，垂向环204沿Z轴转动连接于底板201上，即垂向环204可在底板201上做圆周运动，楔形块203固定于垂向环204上，从而实现楔形块203相对于底板201的转动，进而驱动水平向运动单元100整体上下动作，实时补偿与物镜400的位置偏差。需要说明的是，楔形块203和滚轮202的尺寸加工，保证不产生Rx，Ry运动当然，楔形块203相对于底板201的移动方式不限于圆周转动，本实施例中采用垂向环204这一环状结构和楔形块203相配合的方式实现楔形块203的圆周转动，在其他实施例中，还可以采用其他结构与楔形块203相配合，实现楔形块203的其他运动方式，例如沿直线移动等，本实施例不再一一列举。

可选地，楔形块组件设有三组，三组楔形块组件以底座101的中心轴线为中心圆周均布设置。三个滚轮202圆周均布固定于底座101的底部，相应的，三个楔形块203圆周均布固定于垂向环204上。采用圆周均布的形式可以提高水平向运动单元100垂向运动的稳定性，从而保证垂向运动精度。当然，楔形块组件的数量不限于三组，还可以是两组或三组以上，当采用两组时，两组楔形块组件对称布置，当采用三组以上时，楔形块组件圆周均布设置。

更进一步地，垂向运动补偿组件还包括导向轴承组件209，导向轴承组件209设置于底板201上，垂向环204的内圈卡设于导向轴承组件209中，保证垂向环204圆周运动的精度。优选地，导向轴承组件209的数量和楔形块组件数量相同，且三组导向轴承组件209沿圆周方向均布设置。需要说明的是，导向轴承组件209的数量根据楔形块组件数量相应调整即可。

可选地，垂向运动补偿组件还包括用于驱动垂向环204转动的驱动组件，驱动组件包括电机205和滚珠丝杠组件，电机205固定于底板201上，滚珠丝杠组件驱动连接于电机205的输出轴，滚珠丝杠组件被配置为带动垂向环204转动。滚珠丝杠组件包括丝杠206和螺母207，丝杠206与电机205的输出轴连接，由电机205驱动转动，螺母207穿设于丝杠206上与丝杠206螺纹连接，丝杠206的转动可转化为螺母207的直线运动。

进一步地，驱动组件还包括传动件208，传动件208固连于垂向环204的周向，滚珠丝杠组件的螺母207能够推动传动件208移动，传动件208带动垂向环204圆周转动，垂向环204带动楔形块组件运动，从而实现水平向运动单元100的上下运动。

具体而言，传动件208为U形的拨叉，包括连接部和连接于连接部两端的传动臂，连接部固连于垂向环204，滚珠丝杠组件的丝杠206穿设于两个传动臂之间，传动臂的一侧面能与螺母207抵接。电机205驱动滚珠丝杠组件的丝杠206转动，丝杠206上的螺母207沿丝杠206运动，推动传动件208移动，传动件208带动垂向环204做圆周运动。由此可见，传动件208作为运动传递件，将电机205的输出传递至垂向环204，进而使固定在垂向环204表面的楔形块组件运动，从而驱动水平向运动单元100整体上下动作，实时补偿与物镜400的位置偏差。

进一步地，垂向运动单元200还包括垂向簧片210，垂向簧片210连接于底座101和底板201之间，垂向簧片210被配置为用于对水平向运动单元100的垂向运动进行导向，保证底座101垂向运动时不产生转动(不产生Rz转动)，不发生重心偏移，从而保证垂向精度。可选地，垂向簧片210设有四组，分别连接于底座101的四个边角处，稳定可靠，保证精度。

为实现垂向运动补偿组件的实时监测，垂向运动单元200还包括第一检测组件211和第二检测组件212，第一检测组件211用于确定水平向运动单元100的零位及检测水平向运动单元100相对于垂向运动单元200的垂向运动的位移量。第二检测组件212用于检测物镜400与掩模台之间的位置关系，从而确定物镜400与掩模台之间是否有相对位移。

可选地，第一检测组件211为光栅尺组件，光栅尺组件包括光栅尺和读数头，光栅尺和读数头分别固定在水平向运动单元100和垂向运动单元200上，具体可以为水平向运动单元100的底座101和垂向运动单元200的标杆上，标杆垂直固定于底板201上。优选地，光栅尺组件中的光栅尺为绝对式光栅尺。需要说明的是，光栅尺组件的工作原理为现有技术，此处不再赘述。

进一步可选地，第二检测组件212为电容传感器组件，电容传感器具有结构简单、温度稳定性好、动态响应好及可以非接触测量且灵敏度高等优点，因此，可以精确监测物镜400与掩模台之间是否发生相对位移，且相应及时，垂向运动补偿精度高。需要说明的是，电容传感器组件的工作原理为现有技术，此处不再赘述。

下面结合图5对本实施例中的掩模台的垂向运动补偿过程进行简要说明。

当第二检测组件212检测到物镜400与掩模台之间有相对位移时，通过电机205驱动滚珠丝杠组件，滚珠丝杠组件的螺母207推动传动件208移动，传动件208带动垂向环204做圆周运动，通过四组垂向簧片210做导向，这时固定在垂向环204表面的楔形块组件内部运动，驱动水平向运动单元100整体上下动作以实时补偿与物镜400的位置偏差，并通过第一检测组件211的测量反馈来确定补偿动作是否完成。

本实施例还提供了一种光刻机，该光刻机包括上述的掩模台，该光刻机的精度显著提高。

实施例二

本实施例提供了一种掩模台，该掩模台与实施例一中的掩模台的区别在于：

如图6所示，此实施例中的驱动方式为音圈电机213直接驱动水平向运动单元100，磁浮重力补偿装置214是为了补偿水平向运动单元100的重力。具体地，音圈电机213的定子固定在底板201，动子固定在底座101，音圈电机213出力即可驱动水平向单元100进行垂向运动。磁浮重力补偿装置214中为同磁极的两部分，第一磁钢和第二磁钢在竖直方向上间隔设置，并分别固定于底板201和底座101，通过磁极排斥力即可补偿水平向运动单元100的重力，可使音圈电机213驱动时快速响应。

可选地，选用三组音圈电机213和两组磁浮重力补偿装置214，其布局方式如图6所示，三组音圈电机213等间隔设置，两组磁浮重力补偿装置214分别位于相邻的两组音圈电机213之间，提高调整精度。采用音圈电机213直驱的方式的优点为快速响应及减少由机械件摩擦带来的颗粒污染等问题。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种掩模台，其特征在于，包括：

水平向运动单元(100)，包括底座(101)和承版台组件(102)，所述底座(101)上设有所述承版台组件(102)，所述承版台组件(102)用于承载固定掩模版(300)；以及，

垂向运动单元(200)，位于所述水平向运动单元(100)的下方，所述垂向运动单元(200)包括底板(201)和垂向运动补偿组件，所述垂向运动补偿组件设置于所述底板(201)和所述底座(101)之间，所述垂向运动补偿组件被配置为能够驱动所述水平向运动单元(100)沿竖直方向上下运动，以实现所述掩模台的垂向位置补偿。

2.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动补偿组件包括楔形块组件，所述楔形块组件包括：

滚轮(202)，固定于所述底座(101)的底部；以及，

楔形块(203)，可移动连接于所述底板(201)上，所述楔形块(203)的斜面抵接于所述滚轮(202)。

3.根据权利要求2所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动补偿组件还包括：

垂向环(204)，所述垂向环(204)绕Z轴转动连接于所述底板(201)上，所述楔形块(203)固定于所述垂向环(204)上。

4.根据权利要求3所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动补偿组件还包括用于驱动所述垂向环(204)转动的驱动组件，所述驱动组件包括：

电机(205)，固定于所述底板(201)上；以及，

滚珠丝杠组件，驱动连接于所述电机(205)的输出轴，所述滚珠丝杠组件被配置为带动所述垂向环(204)转动。

5.根据权利要求4所述的掩模台，其特征在于，所述驱动组件还包括：

传动件(208)，所述传动件(208)固连于所述垂向环(204)的周向，所述滚珠丝杠组件的螺母(207)能够推动所述传动件(208)移动，所述传动件(208)带动所述垂向环(204)圆周转动。

6.根据权利要求5所述的掩模台，其特征在于，

所述传动件(208)为U形的拨叉，包括连接部和连接于所述连接部两端的传动臂，所述连接部固连于所述垂向环(204)，所述滚珠丝杠组件的丝杠(206)穿设于两个所述传动臂之间，所述传动臂的一侧面能与所述螺母(207)抵接。

7.根据权利要求3所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动补偿组件还包括：

导向轴承组件(209)，所述导向轴承组件(209)设置于所述底板(201)上，所述垂向环(204)的内圈卡设于所述导向轴承组件(209)中。

8.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动单元(200)还包括：

垂向簧片(210)，所述垂向簧片(210)连接于所述底座(101)和所述底板(201)之间，所述垂向簧片(210)被配置为用于对所述水平向运动单元(100)的垂向运动进行导向。

9.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动单元(200)还包括：

第一检测组件(211)，所述第一检测组件(211)用于检测所述水平向运动单元(100)相对于所述垂向运动单元(200)的垂向运动的位移量。

10.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动单元(200)还包括：

第二检测组件(212)，所述第二检测组件(212)用于监测物镜(400)与所述掩模台之间的位置关系。

11.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述水平向运动单元(100)还包括：

X向运动组件(103)、Y向运动组件(104)和Rz组件(105)，所述X向运动组件(103)与所述承版台组件(102)连接，所述Rz组件(105)设置于所述X向运动组件(103)与所述Y向运动组件(104)之间，所述Y向运动组件(104)与所述底座(101)连接。

12.根据权利要求11所述的掩模台，其特征在于，所述水平向运动单元(100)还包括：

簧片组件(106)，所述簧片组件(106)的两端分别连接所述X向运动组件(103)与所述承版台组件(102)。

13.根据权利要求11所述的掩模台，其特征在于，所述Y向运动组件(104)包括：

Y向导轨(1041)，所述承版台组件(102)的两侧分别设有两根平行的所述Y向导轨(1041)。

14.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述承版台组件(102)包括：

承版台(1021)，所述承版台(1021)上设有所述掩模版(300)，所述承版台(1021)内部设有冷却组件。

15.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述垂向运动补偿组件包括：

音圈电机(213)，所述音圈电机(213)的两端分别连接所述底板(201)和所述底座(101)；

磁浮重力补偿装置(214)，所述磁浮重力补偿装置(214)包括第一磁钢和第二磁钢，所述第一磁钢和所述第二磁钢分别固定于所述底板(201)和所述底座(101)。

16.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1-15任一项所述的掩模台。

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