JP2004294926A - ラビング装置及び配向膜のラビング方法 - Google Patents
ラビング装置及び配向膜のラビング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004294926A JP2004294926A JP2003089404A JP2003089404A JP2004294926A JP 2004294926 A JP2004294926 A JP 2004294926A JP 2003089404 A JP2003089404 A JP 2003089404A JP 2003089404 A JP2003089404 A JP 2003089404A JP 2004294926 A JP2004294926 A JP 2004294926A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rubbing
- alignment film
- liquid
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】配向膜のラビング処理における切削屑の付着を抑制する。
【解決手段】基板上に配向膜を被着して成る成膜基板を、その被着面を下方に向けてロール芯とこの芯の表面に取り付けられた布からなるラビングロール上を配送するように成したラビング装置であって、前記成膜基板の配向膜が前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上させるべく気体又は液体を噴出する複数個の吹き出しノズルと、上記気体又は液体の噴出量を制御する噴出制御手段と、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを備えたことを特徴とするラビング装置。
【選択図】図1
【解決手段】基板上に配向膜を被着して成る成膜基板を、その被着面を下方に向けてロール芯とこの芯の表面に取り付けられた布からなるラビングロール上を配送するように成したラビング装置であって、前記成膜基板の配向膜が前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上させるべく気体又は液体を噴出する複数個の吹き出しノズルと、上記気体又は液体の噴出量を制御する噴出制御手段と、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを備えたことを特徴とするラビング装置。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置の基板に形成された配向膜をラビング処理するためのラビング装置、さらに本発明のラビング装置を用いた配向膜のラビング方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
現在、携帯電話機をはじめとして、携帯情報端末、家庭用ファックス等の電子機器類に、あるいはパーソナルコンピューターのような情報処理装置や、ナビゲーションシステム、投写型テレビ、などに、文字、数字、図形等の像を表示するための表示装置として使用されてきている液晶表示装置は、2枚の基板の少なくとも片側双方に複数の透明電極が形成されており、これら2枚の基板間に液晶を狭持してなる液晶セルに、それら基板表面の表示電極からほぼ平行に液晶セル外部に延ばされ形成された端子電極を通じて液晶セルを駆動する電子部品が接続された構成を有している。
【0003】
近来とくにSTN(スーパー・ツイステッド・ネマティック)に代表される単純マトリクスでは、大画面化・高精細化に伴い表示の均一性が要求されている。
【0004】
この表示の均一性は、液晶分子の並び方の指標となる配向の均一性と、液晶を狭持する基板間のギャップの均一性により決定される。
【0005】
配向制御の方法として、ロール表面にレーヨン等の布を巻き付け、その布の毛先で基板表面に形成した配向膜を擦るラビング処理法が現在は主流になっている。この従来のラビング処理法の一例について、例えば特許文献1や特許文献2等に掲示されている方法があるが、ここでは前者の方法について図3、図4を用いて簡単に説明する。
【0006】
図3、図4は、従来技術における液晶表示装置の配向膜にラビング処理を行うビング装置の一部を示す概略図であり、図3はガラス基板進行方向の概略断面図、図4は同概略平面図を示している。
【0007】
図3、図4において、電極基板1はガラス製の基板上に形成されたITO膜からなる透明表示電極2と、その上に形成されたポリイミド等で形成された配向膜3とで形成されている。基板1を擦るラビングロール4は、ロールの表面にレーヨン製のラビング布6が、両面テープ5を用いて貼り付けられたものであり、ガラス基板1の上方に配置されている。図4において、ラビングロール4と配向膜3との位置関係を解りやすくするために、便宜上ラビングロールを透明なものとして図示した。
【0008】
ラビングロール4は図4に示したようにある一定の角度θをとるように設置されている。
【0009】
このような条件下で、図3に示したようにラビングロール4をY方向に回転させながらガラス基板1を矢印X方向へ移動させることによって配向膜3のラビング処理を行う。また、ラビング処理時に電極基板1上に形成された配向膜3の表面に対し布6の毛先がある一定の幅で接しており、この部分でラビング処理が行われる。
【0010】
〔特許文献1〕
特開2000−180859号公報
〔特許文献2〕
特開2001−33745号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記のような従来のラビング装置を用いたラビング処理では、ラビング処理時の切削屑が基板上に残ってしまい、これが原因で輝度ムラ、表示ムラを生じ、結果として不良品を作り出す要因にもなっていた。
【0012】
したがって、本発明は上記事情に鑑みて完成されたものであり、その目的は配向膜へのゴミの付着を防止し、配向膜をラビングする際の歩留まりを向上させることができるラビング装置を提供することにある。
【0013】
また、本発明の他の目的は、上記ラビング装置を用いた配向膜のラビング方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明のラビング装置は、基板上に配向膜を被着して成る成膜基板を、その被着面を下方に向けてロール芯とこの芯の表面に取り付けられた布からなるラビングロール上を配送するように成したラビング装置であって、前記成膜基板の配向膜が前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上させるべく気体又は液体を噴出する複数個の吹き出しノズルと、上記気体又は液体の噴出量を制御する噴出制御手段と、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【0015】
また、本発明の配向膜のラビング方法は、前記成膜基板を浮上させるべく前記吹き出しノズルから気体又は液体を噴出し、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを用いて、前記成膜基板の配向膜を前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上量を一定にし、成膜基板のラビング処理を行ったことを特徴とする。
【0016】
また、本発明の配向膜のラビング方法は、ラビング処理後に前記吹き出しノズルから洗浄機能を有する液体を吹き出し、この液体で基板を空中に浮かすとともに、基板上の配向膜を洗浄せしめたことを特徴とする。
【0017】
【作用】
本発明のラビング装置によれば、上記構成のように、下方から上方に向けて吹き出しノズルから高圧気体又は高圧液体を吹き出し、基板を空中に浮かし、基板上に形成された配向膜のラビング処理を行う際に、前記基板の配向膜側を下に向け、下方よりラビングロールを当てて擦ったことで、基板上に形成された配向膜への異物付着の低減を図ることができる。また、例えばラビング処理後に下方から吹き出す高圧液体に洗浄機能を持たせたことで、基板上に形成された配向膜の洗浄を行うことができる。さらに、基板上に形成された配向膜の洗浄を行った後に、清浄化された高圧気体を搬送用兼エアナイフとして使用したことにより、ラビング処理後の基板上に形成された配向膜の清浄度を上げることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るラビング装置を図面により詳述する。
【0019】
図1は本発明のラビング装置の概略断面図、図2はその概略平面図である。
【0020】
図2において、ラビングロール4と基板1との位置関係をわかりやすくするために、便宜上透明電極と配向膜を透明なものとして図示した。
【0021】
図1と図2に示すラビング装置30において、基板1を空中に浮かすため、下方から基板1に圧力をかける高圧気体又は高圧液体を吹き出す複数個の吹き出しノズル7を立設している。可能な限り、基板1の全体に高圧気体又は高圧液体を吹き出し、基板1に均等に圧力をかけるため、ラビングロール4付近の吹き出しノズル7の先頭をラビングロール4の方向に曲げるようにしている。また、吹き出しノズル7から出射する高圧気体又は高圧液体の圧力(気体又は液体の噴出量を制御することによって圧力を変える)を制御するための噴出制御手段(開閉弁8)と、基板1の空中における高さ位置を測定する検知手段(センサ12)と、センサ12から得た基板1の空中における高さ位置情報に基づいて開閉弁8の開閉制御を行い、空中の基板1を必要な高さに保つための制御手段(制御ユニット13、たとえば、シーケンサ、CPUを含んだ制御回路等)とともに、空中に浮かされた基板1上に形成された配向膜3を下方より擦ってラビング処理を行うためのラビングロール4を設けている。
【0022】
基板1上にITO等からなる透明電極2が形成され、この透明電極2上にポリイミド等からなる配向膜3が形成されている。基板1上の配向膜3を擦るためのラビングロール4は、図1に示すように基板1の下方に配置されている。ロールの表面に両面テープ5を介して、レーヨン等からなるラビング布6が貼り付けられており、ラビングロール4をY方向に回転させながら基板1を矢印X方向へ移動させることで配向膜3のラビング処理を行う。また、基板1上に形成された配向膜3の表面に対し布6の毛先がある一定の幅で接しており、この部分でラビング処理を行う。
【0023】
本発明において、ラビング処理時の基板1を搬送するのに、清浄化された高圧気体又は高圧液体により基板1を空中に浮遊した状態で行う。すなわち、基板1に物理的に接触するのは、基板1の搬送(移動)及び位置決め兼用の支持体14とラビング処理用の布6のみとなる。その結果、基板1が傷つく可能性を抑え、ゴミの付着を防止する事ができる。
【0024】
また、例えば上述したラビング装置30を用いた配向膜のラビング方法において、順次、(1)本発明のラビング装置30を用いて基板1上に形成された配向膜3のラビング処理を行う工程と、(2)ラビング処理後に、吹き出しノズル7から洗浄機能を有する液体を吹き出し、基板1上の配向膜3の洗浄を行う工程、さらに(3)配向膜の洗浄後に、吹き出しノズル7から清浄化された気体を吹き出し、この気体で基板1を空中に浮かし、基板1の搬送を行うとともに基板乾燥のため、この気体をエアナイフとしても使用する工程、といった3工程を用いれば、より高性能かつ高信頼性の液晶表示装置が得られる。
【0025】
工程(1)において、上述したように本発明のラビング装置30を用いて基板1上に形成された配向膜3のラビング処理を行うことで、ラビング処理で発生したゴミ、屑の基板1への付着を防止でき、また、ラビング処理で発生したゴミ、屑が基板1に傷を付けることも防止できる。
【0026】
工程(2)において、ラビング処理後に、下方の吹き出しノズル7から吹き出す液体に洗浄機能を持たせ、基板1上に形成された配向膜3の洗浄を行うことで、基板1に形成された配向膜3に残っていたゴミ、屑等を落とすことができる。
【0027】
工程(3)において、吹き出しノズル7から高圧気体を吹き出し、この高圧気体で基板1を空中に浮かすと同時にこの高圧気体を基板乾燥用エアナイフ用としても使用することで、基板1の乾燥を行うと同時に搬送用支持体14によって基板1に与えられた他の力(図示せず)によって、基板1をラビング装置30の排出側に搬送でき、効率よく基板1の乾燥と排出が行えるため、液晶表示装置の製造タクト時間の削減にもつながる。
【0028】
以上の(1)、(2)、(3)工程から液晶表示装置に使う高性能、高信頼性のラビング処理された配向膜3が得られる。また、この配向膜3を使った液晶表示装置は優れた画像の表示特性および高い信頼性を有する。
【0029】
以下に本発明のラビング装置30の各構成およびこの装置を用いた配向膜3のラビング処理をより詳細に述べる。
【0030】
本発明におけるラビング装置30に、基板1を空中に浮かすため、高圧気体又は高圧液体を下方から上方に向けて吹き出すための吹き出しノズル7が立設されている。この高圧気体、高圧液体を吹き出すための吹き出しノズル7の配置、サイズ、個数は、基板1のサイズによって変更し、吹き出しノズル7の形状はスリット状となっていることが望ましい。また、あるスリット状の吹き出しノズルの配置は前段のスリット状の吹き出しノズルと一部のみ重なる配置が好ましい。
【0031】
また、基板1の高さ位置を検出するため、ラビング装置30の上方部に複数個の測距センサ12が設置され、測距センサ12から基板1までの距離を計測し、測距センサ12からシーケンサ、CPUを含んだ制御回路等の制御ユニット13等に計測した距離データを出力する。この距離データを元に制御ユニット13が基板1とラビングロール4との垂直方向の位置関係を計算し、この位置関係を適正値に保つ目的で吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力値を制御式開閉弁8に指示し、制御式開閉弁8が吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力をこの圧力値になるように調節する。制御式開閉弁8は電気的な制御が可能な電磁弁を使用した、例えばエアードオペレーションバルブやアクチュエータバルブ等を使用する。この開閉弁8は緊急時用に吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力を手動で調整出来るようにしておくことが望ましい。具体的に制御式開閉弁8における高圧気体、高圧液体の圧力を制御する手法は、測距センサ12と連動する制御ユニット13に従うコンプレッサーによってコントロールし、適正な位置に基板1を浮遊させられるようにすることが好ましい。
【0032】
この基板1の移動と位置決めを容易に行うため、基板1が支持体14に支持されている。吹き出し孔7から高圧気体又は高圧液体を下方から上方に向けて吹き出すことによって基板1を適切な高さ位置で空中に浮かしたまま、支持体14により基板に加えられる水平方向の力(図示せず)によって基板1を移動させることができる。
【0033】
さらに、高圧気体又は高圧液体を供給する配管等の途中部に高圧気体又は高圧液体を清浄化するためのフィルター10を設けている。また、高圧気体、高圧液体の温度を常温近辺、湿度を常湿度以下とするのが好ましいため、高圧気体使用時に温度・湿度を調整するための温度・湿度調整部やゴミの静電気による付着防止の効果を期待したイオナイザー機能を高圧気体の供給部(図示せず)に、同様に高圧液体使用時に温度を調整するための温度調整部を高圧液体供給部(図示せず)に、それぞれ設けたり、基板1検知用のセンサ(例えばフォトセンサ、振子センサなど)を基板1の搬送方向に一定間隔で配置して、基板1が存在しない部分の吹き出しノズル7からの高圧気体又は高圧液体の吹き出しを自動停止させるという構成を設けてもよい。
【0034】
また、基板1を空中に浮遊させるための高圧気体又は高圧液体の組成材料としては、毒性が無く、環境破壊に関与せず、基板1に使うガラス、プラスチック等の材料に影響を与えないものが望ましい。
【0035】
上述したように、ラビング処理時において、基板1を吹き出しノズル7により下方から上方に向けて吹き出す高圧気体又は高圧液体で支えるという状況を作ることで、ラビング処理時に発生するポリイミドの切削屑が基板1上に落ちることなく重力に従い下方に落ち、同時に基板1を支持するための高圧気体又は高圧液体で基板1上の付着ゴミを取り除くことも可能である。高圧気体又は高圧液体により取り除かれたゴミも、重力に引かれて落下するので再度基板上に付着する可能性もほとんどない。さらに上述したように、高圧気体の供給部にイオナイザー機能を持たせておけば、静電気によるゴミ付着も防止できる。また、例えばラビング処理後に、洗浄機能を有する高圧液体を吹き出して基板1を支えることで洗浄効果も持たせ、その後、再度高圧気体を吹き出すことでエアナイフの効果による基板乾燥の効果をも期待でき、基板上の切削屑等のゴミ付着防止ならびに排除がより確実となる。このように、ゴミの付着防止を徹底することで、最終的な歩留まりの向上と品質の向上を期待できる。
【0036】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改善などは何ら差し支えない。STN型単純マトリックスタイプ液晶表示装置に使う配向膜のラビング処理について説明したが、その他に双安定型単純マトリックスタイプの液晶表示装置用やTN型単純マトリックスタイプの液晶表示装置用であっても同様な作用効果が得られる。
【0037】
【発明の効果】
本発明のラビング装置によれば、基板上に形成された配向膜を下方より擦ってラビング処理を行うためのラビングロールを設けるとともに、前記基板を空中に浮かす為に下方から基板に圧力をかける気体又は液体を吹き出す複数個の吹き出しノズルを立設し、前記吹き出しノズルから吹き出す気体又は液体の圧力を制御できる開閉弁と、前記基板の高さ位置を測定するセンサと、前記位置情報に基づいて前記開閉弁の開閉制御を行い、空中の基板を必要な高さに保つ制御ユニットを設けたことで、このラビング装置を用いて配向膜のラビング処理を行った場合、高性能、高信頼性の配向膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るラビング装置の概略断面図である。
【図2】本発明に係るラビング装置の概略平面図である。
【図3】従来技術に係るラビング装置の概略断面図である。
【図4】従来技術に係るラビング装置の概略平面図である。
【符号の説明】
1・・・基板
2・・・透明電極
3・・・配向膜
4・・・ラビングロール
5・・・両面テープ
6・・・布
7・・・気体、液体吹き出しノズル
8・・・開閉弁
9・・・流量計
10・・・フィルター
11・・・排出部
12・・・測距センサ
13・・・制御ユニット
14・・・基板搬送用支持体
15・・・基板搬送用ローラー
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置の基板に形成された配向膜をラビング処理するためのラビング装置、さらに本発明のラビング装置を用いた配向膜のラビング方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
現在、携帯電話機をはじめとして、携帯情報端末、家庭用ファックス等の電子機器類に、あるいはパーソナルコンピューターのような情報処理装置や、ナビゲーションシステム、投写型テレビ、などに、文字、数字、図形等の像を表示するための表示装置として使用されてきている液晶表示装置は、2枚の基板の少なくとも片側双方に複数の透明電極が形成されており、これら2枚の基板間に液晶を狭持してなる液晶セルに、それら基板表面の表示電極からほぼ平行に液晶セル外部に延ばされ形成された端子電極を通じて液晶セルを駆動する電子部品が接続された構成を有している。
【0003】
近来とくにSTN(スーパー・ツイステッド・ネマティック)に代表される単純マトリクスでは、大画面化・高精細化に伴い表示の均一性が要求されている。
【0004】
この表示の均一性は、液晶分子の並び方の指標となる配向の均一性と、液晶を狭持する基板間のギャップの均一性により決定される。
【0005】
配向制御の方法として、ロール表面にレーヨン等の布を巻き付け、その布の毛先で基板表面に形成した配向膜を擦るラビング処理法が現在は主流になっている。この従来のラビング処理法の一例について、例えば特許文献1や特許文献2等に掲示されている方法があるが、ここでは前者の方法について図3、図4を用いて簡単に説明する。
【0006】
図3、図4は、従来技術における液晶表示装置の配向膜にラビング処理を行うビング装置の一部を示す概略図であり、図3はガラス基板進行方向の概略断面図、図4は同概略平面図を示している。
【0007】
図3、図4において、電極基板1はガラス製の基板上に形成されたITO膜からなる透明表示電極2と、その上に形成されたポリイミド等で形成された配向膜3とで形成されている。基板1を擦るラビングロール4は、ロールの表面にレーヨン製のラビング布6が、両面テープ5を用いて貼り付けられたものであり、ガラス基板1の上方に配置されている。図4において、ラビングロール4と配向膜3との位置関係を解りやすくするために、便宜上ラビングロールを透明なものとして図示した。
【0008】
ラビングロール4は図4に示したようにある一定の角度θをとるように設置されている。
【0009】
このような条件下で、図3に示したようにラビングロール4をY方向に回転させながらガラス基板1を矢印X方向へ移動させることによって配向膜3のラビング処理を行う。また、ラビング処理時に電極基板1上に形成された配向膜3の表面に対し布6の毛先がある一定の幅で接しており、この部分でラビング処理が行われる。
【0010】
〔特許文献1〕
特開2000−180859号公報
〔特許文献2〕
特開2001−33745号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記のような従来のラビング装置を用いたラビング処理では、ラビング処理時の切削屑が基板上に残ってしまい、これが原因で輝度ムラ、表示ムラを生じ、結果として不良品を作り出す要因にもなっていた。
【0012】
したがって、本発明は上記事情に鑑みて完成されたものであり、その目的は配向膜へのゴミの付着を防止し、配向膜をラビングする際の歩留まりを向上させることができるラビング装置を提供することにある。
【0013】
また、本発明の他の目的は、上記ラビング装置を用いた配向膜のラビング方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明のラビング装置は、基板上に配向膜を被着して成る成膜基板を、その被着面を下方に向けてロール芯とこの芯の表面に取り付けられた布からなるラビングロール上を配送するように成したラビング装置であって、前記成膜基板の配向膜が前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上させるべく気体又は液体を噴出する複数個の吹き出しノズルと、上記気体又は液体の噴出量を制御する噴出制御手段と、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【0015】
また、本発明の配向膜のラビング方法は、前記成膜基板を浮上させるべく前記吹き出しノズルから気体又は液体を噴出し、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを用いて、前記成膜基板の配向膜を前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上量を一定にし、成膜基板のラビング処理を行ったことを特徴とする。
【0016】
また、本発明の配向膜のラビング方法は、ラビング処理後に前記吹き出しノズルから洗浄機能を有する液体を吹き出し、この液体で基板を空中に浮かすとともに、基板上の配向膜を洗浄せしめたことを特徴とする。
【0017】
【作用】
本発明のラビング装置によれば、上記構成のように、下方から上方に向けて吹き出しノズルから高圧気体又は高圧液体を吹き出し、基板を空中に浮かし、基板上に形成された配向膜のラビング処理を行う際に、前記基板の配向膜側を下に向け、下方よりラビングロールを当てて擦ったことで、基板上に形成された配向膜への異物付着の低減を図ることができる。また、例えばラビング処理後に下方から吹き出す高圧液体に洗浄機能を持たせたことで、基板上に形成された配向膜の洗浄を行うことができる。さらに、基板上に形成された配向膜の洗浄を行った後に、清浄化された高圧気体を搬送用兼エアナイフとして使用したことにより、ラビング処理後の基板上に形成された配向膜の清浄度を上げることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るラビング装置を図面により詳述する。
【0019】
図1は本発明のラビング装置の概略断面図、図2はその概略平面図である。
【0020】
図2において、ラビングロール4と基板1との位置関係をわかりやすくするために、便宜上透明電極と配向膜を透明なものとして図示した。
【0021】
図1と図2に示すラビング装置30において、基板1を空中に浮かすため、下方から基板1に圧力をかける高圧気体又は高圧液体を吹き出す複数個の吹き出しノズル7を立設している。可能な限り、基板1の全体に高圧気体又は高圧液体を吹き出し、基板1に均等に圧力をかけるため、ラビングロール4付近の吹き出しノズル7の先頭をラビングロール4の方向に曲げるようにしている。また、吹き出しノズル7から出射する高圧気体又は高圧液体の圧力(気体又は液体の噴出量を制御することによって圧力を変える)を制御するための噴出制御手段(開閉弁8)と、基板1の空中における高さ位置を測定する検知手段(センサ12)と、センサ12から得た基板1の空中における高さ位置情報に基づいて開閉弁8の開閉制御を行い、空中の基板1を必要な高さに保つための制御手段(制御ユニット13、たとえば、シーケンサ、CPUを含んだ制御回路等)とともに、空中に浮かされた基板1上に形成された配向膜3を下方より擦ってラビング処理を行うためのラビングロール4を設けている。
【0022】
基板1上にITO等からなる透明電極2が形成され、この透明電極2上にポリイミド等からなる配向膜3が形成されている。基板1上の配向膜3を擦るためのラビングロール4は、図1に示すように基板1の下方に配置されている。ロールの表面に両面テープ5を介して、レーヨン等からなるラビング布6が貼り付けられており、ラビングロール4をY方向に回転させながら基板1を矢印X方向へ移動させることで配向膜3のラビング処理を行う。また、基板1上に形成された配向膜3の表面に対し布6の毛先がある一定の幅で接しており、この部分でラビング処理を行う。
【0023】
本発明において、ラビング処理時の基板1を搬送するのに、清浄化された高圧気体又は高圧液体により基板1を空中に浮遊した状態で行う。すなわち、基板1に物理的に接触するのは、基板1の搬送(移動)及び位置決め兼用の支持体14とラビング処理用の布6のみとなる。その結果、基板1が傷つく可能性を抑え、ゴミの付着を防止する事ができる。
【0024】
また、例えば上述したラビング装置30を用いた配向膜のラビング方法において、順次、(1)本発明のラビング装置30を用いて基板1上に形成された配向膜3のラビング処理を行う工程と、(2)ラビング処理後に、吹き出しノズル7から洗浄機能を有する液体を吹き出し、基板1上の配向膜3の洗浄を行う工程、さらに(3)配向膜の洗浄後に、吹き出しノズル7から清浄化された気体を吹き出し、この気体で基板1を空中に浮かし、基板1の搬送を行うとともに基板乾燥のため、この気体をエアナイフとしても使用する工程、といった3工程を用いれば、より高性能かつ高信頼性の液晶表示装置が得られる。
【0025】
工程(1)において、上述したように本発明のラビング装置30を用いて基板1上に形成された配向膜3のラビング処理を行うことで、ラビング処理で発生したゴミ、屑の基板1への付着を防止でき、また、ラビング処理で発生したゴミ、屑が基板1に傷を付けることも防止できる。
【0026】
工程(2)において、ラビング処理後に、下方の吹き出しノズル7から吹き出す液体に洗浄機能を持たせ、基板1上に形成された配向膜3の洗浄を行うことで、基板1に形成された配向膜3に残っていたゴミ、屑等を落とすことができる。
【0027】
工程(3)において、吹き出しノズル7から高圧気体を吹き出し、この高圧気体で基板1を空中に浮かすと同時にこの高圧気体を基板乾燥用エアナイフ用としても使用することで、基板1の乾燥を行うと同時に搬送用支持体14によって基板1に与えられた他の力(図示せず)によって、基板1をラビング装置30の排出側に搬送でき、効率よく基板1の乾燥と排出が行えるため、液晶表示装置の製造タクト時間の削減にもつながる。
【0028】
以上の(1)、(2)、(3)工程から液晶表示装置に使う高性能、高信頼性のラビング処理された配向膜3が得られる。また、この配向膜3を使った液晶表示装置は優れた画像の表示特性および高い信頼性を有する。
【0029】
以下に本発明のラビング装置30の各構成およびこの装置を用いた配向膜3のラビング処理をより詳細に述べる。
【0030】
本発明におけるラビング装置30に、基板1を空中に浮かすため、高圧気体又は高圧液体を下方から上方に向けて吹き出すための吹き出しノズル7が立設されている。この高圧気体、高圧液体を吹き出すための吹き出しノズル7の配置、サイズ、個数は、基板1のサイズによって変更し、吹き出しノズル7の形状はスリット状となっていることが望ましい。また、あるスリット状の吹き出しノズルの配置は前段のスリット状の吹き出しノズルと一部のみ重なる配置が好ましい。
【0031】
また、基板1の高さ位置を検出するため、ラビング装置30の上方部に複数個の測距センサ12が設置され、測距センサ12から基板1までの距離を計測し、測距センサ12からシーケンサ、CPUを含んだ制御回路等の制御ユニット13等に計測した距離データを出力する。この距離データを元に制御ユニット13が基板1とラビングロール4との垂直方向の位置関係を計算し、この位置関係を適正値に保つ目的で吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力値を制御式開閉弁8に指示し、制御式開閉弁8が吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力をこの圧力値になるように調節する。制御式開閉弁8は電気的な制御が可能な電磁弁を使用した、例えばエアードオペレーションバルブやアクチュエータバルブ等を使用する。この開閉弁8は緊急時用に吹き出す高圧気体又は高圧液体の圧力を手動で調整出来るようにしておくことが望ましい。具体的に制御式開閉弁8における高圧気体、高圧液体の圧力を制御する手法は、測距センサ12と連動する制御ユニット13に従うコンプレッサーによってコントロールし、適正な位置に基板1を浮遊させられるようにすることが好ましい。
【0032】
この基板1の移動と位置決めを容易に行うため、基板1が支持体14に支持されている。吹き出し孔7から高圧気体又は高圧液体を下方から上方に向けて吹き出すことによって基板1を適切な高さ位置で空中に浮かしたまま、支持体14により基板に加えられる水平方向の力(図示せず)によって基板1を移動させることができる。
【0033】
さらに、高圧気体又は高圧液体を供給する配管等の途中部に高圧気体又は高圧液体を清浄化するためのフィルター10を設けている。また、高圧気体、高圧液体の温度を常温近辺、湿度を常湿度以下とするのが好ましいため、高圧気体使用時に温度・湿度を調整するための温度・湿度調整部やゴミの静電気による付着防止の効果を期待したイオナイザー機能を高圧気体の供給部(図示せず)に、同様に高圧液体使用時に温度を調整するための温度調整部を高圧液体供給部(図示せず)に、それぞれ設けたり、基板1検知用のセンサ(例えばフォトセンサ、振子センサなど)を基板1の搬送方向に一定間隔で配置して、基板1が存在しない部分の吹き出しノズル7からの高圧気体又は高圧液体の吹き出しを自動停止させるという構成を設けてもよい。
【0034】
また、基板1を空中に浮遊させるための高圧気体又は高圧液体の組成材料としては、毒性が無く、環境破壊に関与せず、基板1に使うガラス、プラスチック等の材料に影響を与えないものが望ましい。
【0035】
上述したように、ラビング処理時において、基板1を吹き出しノズル7により下方から上方に向けて吹き出す高圧気体又は高圧液体で支えるという状況を作ることで、ラビング処理時に発生するポリイミドの切削屑が基板1上に落ちることなく重力に従い下方に落ち、同時に基板1を支持するための高圧気体又は高圧液体で基板1上の付着ゴミを取り除くことも可能である。高圧気体又は高圧液体により取り除かれたゴミも、重力に引かれて落下するので再度基板上に付着する可能性もほとんどない。さらに上述したように、高圧気体の供給部にイオナイザー機能を持たせておけば、静電気によるゴミ付着も防止できる。また、例えばラビング処理後に、洗浄機能を有する高圧液体を吹き出して基板1を支えることで洗浄効果も持たせ、その後、再度高圧気体を吹き出すことでエアナイフの効果による基板乾燥の効果をも期待でき、基板上の切削屑等のゴミ付着防止ならびに排除がより確実となる。このように、ゴミの付着防止を徹底することで、最終的な歩留まりの向上と品質の向上を期待できる。
【0036】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改善などは何ら差し支えない。STN型単純マトリックスタイプ液晶表示装置に使う配向膜のラビング処理について説明したが、その他に双安定型単純マトリックスタイプの液晶表示装置用やTN型単純マトリックスタイプの液晶表示装置用であっても同様な作用効果が得られる。
【0037】
【発明の効果】
本発明のラビング装置によれば、基板上に形成された配向膜を下方より擦ってラビング処理を行うためのラビングロールを設けるとともに、前記基板を空中に浮かす為に下方から基板に圧力をかける気体又は液体を吹き出す複数個の吹き出しノズルを立設し、前記吹き出しノズルから吹き出す気体又は液体の圧力を制御できる開閉弁と、前記基板の高さ位置を測定するセンサと、前記位置情報に基づいて前記開閉弁の開閉制御を行い、空中の基板を必要な高さに保つ制御ユニットを設けたことで、このラビング装置を用いて配向膜のラビング処理を行った場合、高性能、高信頼性の配向膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るラビング装置の概略断面図である。
【図2】本発明に係るラビング装置の概略平面図である。
【図3】従来技術に係るラビング装置の概略断面図である。
【図4】従来技術に係るラビング装置の概略平面図である。
【符号の説明】
1・・・基板
2・・・透明電極
3・・・配向膜
4・・・ラビングロール
5・・・両面テープ
6・・・布
7・・・気体、液体吹き出しノズル
8・・・開閉弁
9・・・流量計
10・・・フィルター
11・・・排出部
12・・・測距センサ
13・・・制御ユニット
14・・・基板搬送用支持体
15・・・基板搬送用ローラー
Claims (3)
- 基板上に配向膜を被着して成る成膜基板を、その被着面を下方に向けてロール芯とこの芯の表面に取り付けられた布からなるラビングロール上を配送するように成したラビング装置であって、前記成膜基板の配向膜が前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上させるべく気体又は液体を噴出する複数個の吹き出しノズルと、上記気体又は液体の噴出量を制御する噴出制御手段と、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを備えたことを特徴とするラビング装置。
- 請求項1のラビング装置を用いて、前記成膜基板を浮上させるべく前記吹き出しノズルから気体又は液体を噴出し、前記成膜基板の浮上量を測定する検知手段と、この検知手段の情報に応じて上記噴出制御手段の噴出量を規定する制御手段とを用いて、前記成膜基板の配向膜を前記布のみに接触し、前記芯と接触しないように浮上量を一定にし、成膜基板のラビング処理を行ったことを特徴とする配向膜のラビング方法。
- ラビング処理後に前記吹き出しノズルから洗浄機能を有する液体を吹き出し、この液体で基板を空中に浮かすとともに、基板上の配向膜を洗浄せしめたことを特徴とする請求項2記載の配向膜のラビング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003089404A JP2004294926A (ja) | 2003-03-27 | 2003-03-27 | ラビング装置及び配向膜のラビング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003089404A JP2004294926A (ja) | 2003-03-27 | 2003-03-27 | ラビング装置及び配向膜のラビング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004294926A true JP2004294926A (ja) | 2004-10-21 |
Family
ID=33403255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003089404A Pending JP2004294926A (ja) | 2003-03-27 | 2003-03-27 | ラビング装置及び配向膜のラビング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004294926A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008185982A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Fujifilm Corp | ラビング方法及び装置、それを用いた光学フィルムの製造方法及び装置 |
KR101061615B1 (ko) | 2005-03-17 | 2011-09-01 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR101107709B1 (ko) * | 2005-06-01 | 2012-01-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 러빙 장치 |
-
2003
- 2003-03-27 JP JP2003089404A patent/JP2004294926A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101061615B1 (ko) | 2005-03-17 | 2011-09-01 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR101107709B1 (ko) * | 2005-06-01 | 2012-01-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 배향막 러빙 장치 |
JP2008185982A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Fujifilm Corp | ラビング方法及び装置、それを用いた光学フィルムの製造方法及び装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI330108B (en) | Coating apparatus and operating method thereof | |
KR20080090070A (ko) | 에어나이프 및 이를 포함하는 기판 건조 장치 | |
KR100422392B1 (ko) | 판상부재의 반송장치 | |
CN101499408B (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
US20060045972A1 (en) | Apparatus and method for coating photoresist | |
US7387683B2 (en) | Discharging unit for discharging a photosensitive material, coater having the discharging unit, and apparatus for coating a photosensitive material having the coater | |
KR102011519B1 (ko) | 노즐 세정 장치, 도포 처리 장치, 노즐 세정 방법, 도포 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 | |
JP4839986B2 (ja) | ウェット洗浄装置 | |
JP5368326B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2004294926A (ja) | ラビング装置及び配向膜のラビング方法 | |
JP2012232269A (ja) | 基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置 | |
JP2005238109A (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2011016202A (ja) | 異物研磨装置 | |
CN104737279A (zh) | 薄膜形成装置及薄膜形成方法 | |
JP2004043119A (ja) | 基板用コンベア | |
JP2006173246A (ja) | 塗布装置及び塗布方法及び塗布処理プログラム | |
JP2006293047A (ja) | 表示装置の保持方法、搬送方法および洗浄方法並びに洗浄装置 | |
TWI623252B (zh) | 頂朝下式基板印刷裝置及基板印刷方法 | |
KR20130020069A (ko) | 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 | |
KR101966768B1 (ko) | 기판 세정장치 | |
KR20150055655A (ko) | 기판 세정 장치 | |
CN211828692U (zh) | 基板处理装置以及吐出喷嘴 | |
KR101425812B1 (ko) | 고속형 슬릿코터의 노즐구조 | |
KR101086486B1 (ko) | 액정표시장치의 제조장치 | |
JPH11186210A (ja) | 基板の乾燥方法および乾燥装置 |