JP2004289144A - 磁気センサおよび磁気記録再生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気記録媒体に記録された磁気信号を検出するスピンバルブ膜構造を有し、該スピンバルブ膜中に酸化膜層またはアモルファス層が挿入され、該酸化物層またはアモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角度が±5度の範囲にあり、前記軟磁性自由層の結晶の積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が、1nmから15nmの範囲にある磁気センサ。
【選択図】図1
Description
Hc(Hcross) がある。
Pd(面心立方構造[fcc])と膜厚0.38nmのCo(結晶構造:fcc)のペアを13回繰り返した試料(以下、試料β)である。
CIP型磁気センサにおいて、該スピンバルブ膜中にアモルファス層が挿入され、該アモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位が<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層がその積層方向と垂直な方向の結晶粒径の平均が1nmから10nm範囲にあることを特徴とするものである。
13(CoFe),非磁性金属層14(Ru),強磁性固定層16(CoFe),酸化物層15(Fe),強磁性固定層16(CoFe),非磁性層17(Cu),軟磁性自由層
18(CoFe),キャップ層19が、この順で積層されている。なお、符号20は磁区制御膜である。
BCC構造をとる。FCC構造の場合、<111>方向に、BCC構造の場合は<110>に配向する。
0.25)にX線を入射し、(220) 面と(440)面からの面内回折を計測した。図3にその回折プロファイルを示す。
Arミリングし、キャップ膜を薄くしてTEM観察を行った。観察時にTEM−EDXを用い、Pt,Mnがないことと、キャップ膜の主成分であるTaが減っていることを確認できた視野についてTEM観察を行った(図4(c),(d)参照)。
(330)面,(440)面と測定し、MnPtの粒径を測定した。その結果を図7に示す。比較のため、アモルファス層のないMnPt層の上にGMR膜を成膜した試料のMnPtの粒径も測定した。解析の結果、アモルファス層のないMnPtの粒径は17nmであったのに対して、アモルファス層の挿入により、15nmに小さくなっていた。MnPt層の粒径は全体の平均となるため、アモルファス層の上/下の粒径も平均化される。このため、アモルファス層より上のMnPt層の粒径は15nmより小さいはずである。この上に成膜された磁性層の粒径も小さくなると考えられる。
0.25 )にX線を入射し、(220)面と(440)面からの、面内回折を計測した。図8にその回折プロファイルを示す。入射角をすれすれに設定したことにより、MnPtからの回折がほとんど検出されていない。これは得られた回折強度のほとんどがアモルファス層より上の磁性層からであると考えられる。アモルファス層より上の磁性層の結晶粒径はほぼ同じと考えられるので、面内回折を解析することで得られる結晶粒径=自由層の結晶粒径と考えてよい。解析ではHallプロットを用いて、結晶粒径とランダム歪を分離し、粒径分布が正規分布であることを仮定し平均粒径を求めた。その結果、試料の平均粒径は12nmとなった。この試料をHc(cross=10Oe) を計測した結果、
Hc(cross) の大きさ0.12Oeとなり、外部磁界に対して敏感な磁気センサを作ることができた。CIP−GMRよりも、大きな粒径で小さいHcが得られたことは膜構造の違いによると考えられる。
NiFe/上部電極の順に成膜した。この膜構造はCIP型のGMRセンサの膜構造である。CPP型と同様に、Ru//CoFeの間にアモルファス層として、
CoZrNb(x)Ta(1−x)を挿入した。
0.25 )にX線を入射し、(220)面と(440)面からの、面内回折を計測した。MnPtからの回折がほとんど検出されないように、入射角をすれすれに設定した。これにより得られた回折強度のほとんどがアモルファス層より上の磁性層からであると考えられる。アモルファス層より上の磁性層の結晶粒径はほぼ同じと考えられるので、面内回折を解析することで得られる結晶粒径=自由層の結晶粒径と考えてよい。解析ではHallプロットを用いて、結晶粒径とランダム歪を分離し、粒径分布が正規分布であることを仮定し平均粒径を求めた。その結果、試料の平均粒径は12nmとなった。この試料を
Hc(cross=10Oe) を計測した結果、Hc(cross) の大きさ0.22Oeとなり、外部磁界に対して敏感な磁気センサを作ることができた。
CIP型の場合、アモルファス層の抵抗は、大きな問題にならないため、Cu//Cuの間にCu酸化物を挿入してスピンバルブ膜を作製した。
BCC構造のCoFe(110)回折のロッキングカーブである。ロッキングカーブの幅が配向の幅を表しているので、CoFeはそれぞれ、<111>,<110>に配向し、配向の幅はそれぞれ、2.1゜,2.9゜であることが分かった。
0.25 )にX線を入射し、(220)面と(440)面からの、面内回折を入射角を変えながら計測した。図10に、面内回折からHallプロットを用いて、結晶粒径とランダム歪を分離し、粒径分布が正規分布であることを仮定して得た平均粒径と、侵入深さの関係を示した。入射角をすれすれにすることにより、Cu酸化膜より上の磁性層からの情報だけを取り出すことが可能と考えられるので、面内回折を解析することで得られた結晶粒径=自由層の結晶粒径と考えた。その結果、試料の平均粒径は7.8nm となった。この試料のHc(cross=10Oe) を計測した結果、Hc(cross) の大きさ0.11Oe となり、外部磁界に対して敏感な磁気センサを作ることができた。
16…強磁性固定層(CoFe)、14…非磁性金属層(Ru)、15…酸化物層,アモルファス層、17…非磁性層(Cu)、18…軟磁性自由層(CoFe)、19…キャップ層、20…磁区制御膜、21…下部電極、22…上部電極。
Claims (10)
- 磁気記録媒体に記録された磁気信号を検出するスピンバルブ膜構造を有し、該スピンバルブ膜中に酸化膜層またはアモルファス層が挿入され、該酸化物層またはアモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角度が±5度の範囲にあり、前記軟磁性自由層の結晶の積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が、1nmから10nmの範囲にあることを特徴とする磁気センサ。
- 磁気記録媒体に記録された磁気信号を検出するスピンバルブ膜構造を有し、該スピンバルブ膜構造は、軟磁性自由層・非磁性層・強磁性固定層・反強磁性層を含む積層構造であり、前記反強磁性層が前記強磁性固定層に交換結合磁界を印加し、前記軟磁性自由層の磁化が外部磁界に応じて回転して、該軟磁性自由層の磁化と前記強磁性固定層の磁化との相対角度が変化する磁気抵抗型の磁気センサにおいて、前記スピンバルブ膜中に酸化物層またはアモルファス層が挿入され、該酸化物層またはアモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層の結晶の積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が、1nmから10nmの範囲にあることを特徴とする磁気センサ。
- 前記軟磁性自由層は、積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が10nm以下で、かつ積層方向には1個のみの柱状結晶からなる請求項1〜2のうちいずれか1項に記載の磁気センサ。
- 情報を磁気信号として記録した磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して相対運動をして前記情報を読み出す磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドは、前記磁気信号を検出するスピンバルブ膜構造の磁気センサを具備し、該磁気センサは、前記スピンバルブ膜中に酸化膜層が挿入され、該酸化物層またはアモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角度が±5度の範囲にあり、前記軟磁性自由層の結晶の積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が、1nmから10nmの範囲にある磁気センサであることを特徴とする磁気記録再生装置。
- 情報を磁気信号として記録した磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して相対運動をして前記情報を読み出す磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドは、前記磁気信号を検出するスピンバルブ膜構造の磁気センサを具備し、該磁気センサは、前記スピンバルブ膜構造が、軟磁性自由層・非磁性層・強磁性固定層・反強磁性層を含む積層構造であり、前記反強磁性層が前記強磁性固定層に交換結合磁界を印加し、前記軟磁性自由層の磁化が外部磁界に応じて回転して、該軟磁性自由層の磁化と前記強磁性固定層の磁化との相対角度が変化する磁気抵抗型で、前記スピンバルブ膜中に酸化物層またはアモルファス層が挿入され、該酸化物層またはアモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層の結晶の積層方向に対して垂直な方向の平均結晶粒径が、1nmから10nmの範囲にある磁気センサであることを特徴とする磁気記録再生装置。
- 磁気記録媒体に記録された磁気信号を検出する磁気センサにおいて、スピンバルブ構造を有し、該スピンバルブ構造は軟磁性自由層,非磁性層,強磁性固定層,反強磁性層を含む積層構造であり、前記反強磁性層が前記強磁性固定層の磁化を交換結合で固定し、前記軟磁性自由層の磁化が外部磁界に応じて回転して、該軟磁性自由層の磁化と前記強磁性固定層の磁化との相対角度が変化すると磁気抵抗が変化する、巨大磁気抵抗型の磁気センサにおいて、特に電流を面内方向に流すCIP型磁気センサにおいて、該スピンバルブ膜中にアモルファス層が挿入され、該アモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位が<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層がその積層方向と垂直な方向の結晶粒径の平均が1nmから10nm範囲にあることを特徴とする磁気センサ。
- 磁気記録媒体に記録された磁気信号を検出する磁気センサにおいて、スピンバルブ構造を有し、該スピンバルブ構造は軟磁性自由層,非磁性層,強磁性固定層,反強磁性層を含む積層構造であり、前記反強磁性層が前記強磁性固定層の磁化を交換結合で固定し、前記軟磁性自由層の磁化が外部磁界に応じて回転して、該軟磁性自由層の磁化と前記強磁性固定層の磁化との相対角度が変化すると磁気抵抗が変化する、巨大磁気抵抗型の磁気センサにおいて、特に電流を成膜方向に流すCPP型磁気センサにおいて、該スピンバルブ膜中にアモルファス層が挿入され、該アモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位が<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層がその積層方向と垂直な方向の結晶粒径の平均が1nmから15nm範囲にあることを特徴とする磁気センサ。
- 前記請求項6又は7記載のアモルファス層は前記スピンバルブ構造の非磁性層、または、固定層、または、反強磁性層の間に挿入されていることを特徴とする磁気センサ。
- 情報を磁気信号として記録した磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して相対運動をして前記情報を読み出す磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドは、電流を面内方向に流すCIP型磁気センサで、前記磁気信号を読み出すスピンバルブ構造の巨大磁気抵抗型磁気センサを具備し、該スピンバルブ膜中にアモルファス層が挿入され、該アモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位が<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層がその積層方向と垂直な方向の結晶粒径の平均が1nmから10nm範囲にあることを特徴とする磁気記録再生装置。
- 情報を磁気信号として記録した磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に対して相対運動をして前記情報を読み出す磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドは、電流を成膜方向に流すCPP型磁気センサで、前記磁気信号を読み出すスピンバルブ構造の巨大磁気抵抗型磁気センサを具備し、該スピンバルブ膜中にアモルファス層が挿入され、該アモルファス層より上層の軟磁性自由層を構成する結晶の方位が<111>または<110>と、前記スピンバルブ膜の積層方向とのなす角が±5度の角度範囲にあり、前記軟磁性自由層がその積層方向と垂直な方向の結晶粒径の平均が1nmから15nm範囲にあることを特徴とする磁気記録再生装置。
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JP2012028791A (ja) * | 2011-08-24 | 2012-02-09 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、磁気記憶装置、および磁気メモリ |
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