JP2004280880A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】600ギガビット/平方インチ以上の高面記録密度で、十分な耐摺動特性や耐食性を維持できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度で記録される磁気記録方式の円盤状磁気記録媒体であって、上記円盤状磁気記録媒体の表面にある上記潤滑層は、余剰層と固定層からなり、上記余剰層と上記固定層の比率が上記円盤状磁気記録媒体の表面の領域により異なることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる。
【選択図】 なし
【解決手段】600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度で記録される磁気記録方式の円盤状磁気記録媒体であって、上記円盤状磁気記録媒体の表面にある上記潤滑層は、余剰層と固定層からなり、上記余剰層と上記固定層の比率が上記円盤状磁気記録媒体の表面の領域により異なることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる。
【選択図】 なし
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に関し、より詳細には、長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の面記録密度を高めるためにヘッドの低浮上量化が求められており、近い将来、極低浮上量での記録あるいは間欠的なコンタクトレコーティングになると予測される。この点に関する本発明者らの試算では、特に600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度では、ヘッド浮上量は4nm以下とする必要があり、これに伴ない、磁気記録媒体としては、保護層厚は3nm以下望ましくは2nm以下、 潤滑層厚は2nm以下望ましくは1nm以下に仕上げる必要があるとの結論を得た。
【0003】
600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度を実現するために、本発明者らは、まず記録層の生成過程における結晶成長を制御して、記録層の結晶粒の微細化・規則化を図るべく、非磁性基板上に、軟磁性材料により形成された軟磁性裏打ち層、CoCrRuを主体とする合金により形成されてなる下地層および該下地層上に直接形成された、酸素を含有するCoPtCrを主体とする合金磁性材料であって残留磁化が膜面内方向より膜面に対して垂直方向の方が大きい記録層とした。
【0004】
この記録層の詳細は本発明者らにより特願2002−379436号明細書に記載されている。下地層の結晶構造は、記録層に用いた酸素を含有したCoPtCr合金磁性材料と同じhcp構造(六方最密充填構造)を有する。記録層の下地層として、CoCrRuを主体とする合金を用いることにより、下地層の膜厚が40nm以下の薄い膜厚であっても、記録層の磁化容易軸であるC軸を記録層面内に対して垂直方向に結晶配向させることが可能になる。下地層の膜厚は5〜20nmであることが好ましい。下地層の膜厚を5nm以上にすれば、下地層上に形成された記録層の結晶配向性が確保される。また、下地層の膜厚を20nm以下にしておくと、下地層の結晶粒の粗大化が起こりにくく、媒体ノイズの増大を抑制できるだけでなく、記録層と軟磁性裏打ち層との距離を近づけることができ、記録特性が向上する。また、下地層は、非磁性であることが望ましく、Coの組成比は1〜65at%であることが好ましい。下地層のCo濃度をこの範囲にすることで、非磁性を確保することができる。
【0005】
ところで、この記録層がもつ高い面記録密度の可能性は、ヘッドとの良好な摺動の成立が前提条件となる。即ち、摺動条件として、潤滑層には磁気記録媒体の起動中に発生する動摩擦力や摩耗の低減(以後、耐摺動耐久性と略称)が強く求められる。とりわけ、今日の2.5インチ型以下の小径磁気ディスクでは、ランプロード方式が用いられてきており、長期にわたって、ロード・アンロードを繰り返したり、ノート型パーソナルコンピュータ搭載用のハードディスクではスピンドル回転による消費電力を低減させるために頻繁にロード・アンロード動作を繰り返している。このような、ロード・アンロードに於いて、特にロード時のヘッドと磁気記録媒体間の衝撃のために潤滑層がワイプ(掻き出し)され、長期的な耐摺動特性が低下することがある。このような低下現象は、特に10000RPM以上になると致命的であることが判った。
【0006】
このような長期的な耐摺動特性の低下を防ぐため、たとえば特許文献1に開示されるように、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと、分子内に水酸基を有する長鎖炭化水素とからなり、前記パーフルオロポリエーテルに対する前記長鎖炭化水素の割合(パーフルオロポリエーテル/長鎖炭化水素)がモル比で0.01〜100 であるような複合型の潤滑剤を潤滑層に使用した磁気記録媒体が提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開平5−247483号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、600ギガビット/平方インチ以上の高面記録密度で予測される潤滑層厚は1nm以下であり、そのような間欠接触が許容される条件下では、上記の潤滑層では不十分であることがわかった。また、ランプロードを頻繁に繰り返したり、長期にわたってランプロードを行うと、十分な耐摺動特性や耐食性が維持できなかった。本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明では、磁気記録媒体の保護層の上に形成された潤滑層が、ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲と、さらにその内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰分と固定分の比率が異なる潤滑層から形成されているので、潤滑層厚が1nm以下であっても、長期的な耐摺動特性が維持できるのである。余剰層と固定層の比率としては、ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲では、全潤滑層厚に対する固定層の比率が80%以上であり、かつ、さらにその内側の範囲では、その比率が65%以下であることが望ましい。ランプロード領域とそれより内周の3mm以内の範囲では、ヘッドがロードする瞬間にヘッドによって余剰の潤滑層がワイプされることがあるので、固定層の比率は高いほうがよい。一方、さらに内周の領域では、間欠接触下でのシーク動作に対して、ヘッドと磁気記録媒体表面の動摩擦係数をなるべく低下させる必要があることから、全潤滑層厚に対する固定層の比率は、65%以下であったほうがいい。
【0010】
固定層の形成の方法としては、潤滑剤溶液に保護層まで形成した磁気記録媒体を浸漬して、潤滑層の膜を形成後、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲を磁気記録媒体を回転させながらUVランプを照射して固定化し、その後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置してランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とさらに内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰層と固定層の比率が異なる潤滑層を形成することが出来る。さらに、あらかじめランプロード領域から内周に3mm以内の範囲以外をマスクして、赤外ランプを照射してから、マスクを外して磁気記録媒体全体を赤外ランプによってさらに照射するなどの方法によっても良い。
【0011】
【発明の実施の形態】
(実施例1)
直径2.5インチ(6.25cm)の円板状のガラス基板を260℃まで加熱した。その基板上に、密着層としてTi膜を、DCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧0.28Pa、投入電力500Wとし、ターゲットはTiとした。密着層の膜厚は5nmとした。次いで、密着層上に、軟磁性裏打ち層としてCoTaZr膜をDCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧0.28Pa、投入電力400Wとし、ターゲットの組成はCo88Ta10Zr2(at%)とした。軟磁性裏打ち層の膜厚は200nmとした。軟磁性裏打ち層上に、下地層としてCoCrRu膜をDCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧4.2Pa、投入電力500Wとし、ターゲットの組成はCo55Cr25Ru20(at%)とした。下地層の膜厚は20nmとした。
【0012】
さらに、下地層上に、記録層として酸素を含有したCoPtCr−SiO2合金磁性膜をRFスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧4.2Pa、投入電力400Wとし、ターゲットの組成はCo64Pt20Cr16(at%)−SiO2(CoPtCr:SiO2=92:8mol%)とした。記録層の膜厚は12nmとした。その後、テトラヘドラル系非晶質カーボンの保護層を2nmの厚さで成膜した。その後、次式で表されるパーフルオロポリエーテル(平均分子量:4000)の溶液(濃度0.2wt%)に浸漬した。
【0013】
【化1】
【0014】
浸漬時間は3分、引き上げ速度は1mm/secであった。その後、低圧水銀ランプによって、磁気記録媒体のランプロード領域から内周に3mm以内の範囲以外をマスクして、窒素雰囲気で、中心波長184.9nmと253.7nmの紫外光を3分間照射した。そして、マスクを外した後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置した。その後、磁気記録媒体を高温槽から取り出して、テープバニッシュをかけて、微細な凹凸を除去した。反射型フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)で測定した潤滑層厚は、1nmであった。
【0015】
フッ化炭素系溶媒で本実施例の磁気記録媒体をリンスした後、顕微FT−IRを使って、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とそれより内側の領域の固定層の膜厚を測定して、それぞれの全潤滑層厚に対する固定層の比率を計算すると、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲では、82%であり、それより内側の領域では、63%であった。
【0016】
本実施例の磁気記録媒体の耐摺動特性を以下のように評価した。ピコスライダーのヘッドを使い、500hPaに減圧したチャンバー内で、ランプロード・アンロード動作を300k回繰り返した。その後、ランプロード部を光学式顕微鏡によって観測したが、スクラッチや磨耗痕は観測されなかった。
【0017】
さらに、ランプロード部において、連続摺動試験を行った。まず、ランプロード部で1rpmの回転速度で動摩擦係数を測定したところ、0.17であった。それから、ヘッド荷重5gの条件で、150rpmで300k回連続摺動した。その後、ランプロード部で1rpmの回転速度で動摩擦係数を測定したところ、0.17であって、動摩擦係数の上昇は見られなかった。また、光学式顕微鏡で観察してもスクラッチ、磨耗痕は観測されなかった。これらの試験の後に、ヘッドスライダーの浮上面を光学顕微鏡で観察すると、特に汚れは認められなかった。
【0018】
また、記録再生ヘッドを使い、15000rpm、 2MBPI、300kTPIの条件(面記録密度600ギガビット/平方インチ)でエラーレートを測定すると、1×10−5以下であり、600ギガビット/平方インチの条件でも良好な記録再生が出来ることがわかった。
【0019】
(比較例1)
本比較例においては、潤滑剤溶液塗布までは実施例1と同様に磁気記録媒体を作製した。その後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置した。その後、磁気記録媒体を高温槽から取り出して、テープバニッシュをかけて、微細な凹凸を除去した。反射型フーリエ変換赤外分光光度計で測定した潤滑層厚は、1nmであった。
【0020】
フッ化炭素系溶媒で本比較例の磁気記録媒体をリンスした後、実施例1と同様に顕微FT−IRを使って、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とそれより内側の領域の固定層の膜厚を測定して、それぞれの全潤滑層厚に対する固定層の比率を計算すると、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲では63%であり、それより内側の領域でも63%であった。
【0021】
実施例1と同様な方法で500hPaに減圧したチャンバー内で、ランプロード・アンロード動作を300k回繰り返した後、ランプロード部を光学式顕微鏡によって観測すると、微細なスクラッチや磨耗痕が観測された。
【0022】
実施例1と同様なランプロード部における連続摺動試験を行うと、連続摺動試験の前で動摩擦係数は0.20であったが、ヘッド荷重5gの条件で、150rpmで300k回連続摺動した後にランプロード部で動摩擦係数を測定したところ、0.81に上昇し、耐摺動特性の低下が顕著であった。また、光学式顕微鏡で観察すると無数のスクラッチ、磨耗痕が観測された。これらの試験の後に、ヘッドスライダーの浮上面を光学顕微鏡で観察すると、顕著な汚れが観測された。これらは、保護層の磨耗によってヘッドスライダー浮上面に堆積したものと思われる。
【0023】
また、記録再生ヘッドを使い、実施例と同様にエラーレートを測定したところ、1×10−2であり、600ギガビット/平方インチの条件では記録再生できないことがわかった。
【0024】
【発明の効果】
以上、詳述したように、本発明の磁気記録媒体は、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とさらに内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰分と固定分の比率が異なる潤滑層から形成されているので、潤滑層厚が1nmであっても、長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体に関し、より詳細には、長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の面記録密度を高めるためにヘッドの低浮上量化が求められており、近い将来、極低浮上量での記録あるいは間欠的なコンタクトレコーティングになると予測される。この点に関する本発明者らの試算では、特に600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度では、ヘッド浮上量は4nm以下とする必要があり、これに伴ない、磁気記録媒体としては、保護層厚は3nm以下望ましくは2nm以下、 潤滑層厚は2nm以下望ましくは1nm以下に仕上げる必要があるとの結論を得た。
【0003】
600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度を実現するために、本発明者らは、まず記録層の生成過程における結晶成長を制御して、記録層の結晶粒の微細化・規則化を図るべく、非磁性基板上に、軟磁性材料により形成された軟磁性裏打ち層、CoCrRuを主体とする合金により形成されてなる下地層および該下地層上に直接形成された、酸素を含有するCoPtCrを主体とする合金磁性材料であって残留磁化が膜面内方向より膜面に対して垂直方向の方が大きい記録層とした。
【0004】
この記録層の詳細は本発明者らにより特願2002−379436号明細書に記載されている。下地層の結晶構造は、記録層に用いた酸素を含有したCoPtCr合金磁性材料と同じhcp構造(六方最密充填構造)を有する。記録層の下地層として、CoCrRuを主体とする合金を用いることにより、下地層の膜厚が40nm以下の薄い膜厚であっても、記録層の磁化容易軸であるC軸を記録層面内に対して垂直方向に結晶配向させることが可能になる。下地層の膜厚は5〜20nmであることが好ましい。下地層の膜厚を5nm以上にすれば、下地層上に形成された記録層の結晶配向性が確保される。また、下地層の膜厚を20nm以下にしておくと、下地層の結晶粒の粗大化が起こりにくく、媒体ノイズの増大を抑制できるだけでなく、記録層と軟磁性裏打ち層との距離を近づけることができ、記録特性が向上する。また、下地層は、非磁性であることが望ましく、Coの組成比は1〜65at%であることが好ましい。下地層のCo濃度をこの範囲にすることで、非磁性を確保することができる。
【0005】
ところで、この記録層がもつ高い面記録密度の可能性は、ヘッドとの良好な摺動の成立が前提条件となる。即ち、摺動条件として、潤滑層には磁気記録媒体の起動中に発生する動摩擦力や摩耗の低減(以後、耐摺動耐久性と略称)が強く求められる。とりわけ、今日の2.5インチ型以下の小径磁気ディスクでは、ランプロード方式が用いられてきており、長期にわたって、ロード・アンロードを繰り返したり、ノート型パーソナルコンピュータ搭載用のハードディスクではスピンドル回転による消費電力を低減させるために頻繁にロード・アンロード動作を繰り返している。このような、ロード・アンロードに於いて、特にロード時のヘッドと磁気記録媒体間の衝撃のために潤滑層がワイプ(掻き出し)され、長期的な耐摺動特性が低下することがある。このような低下現象は、特に10000RPM以上になると致命的であることが判った。
【0006】
このような長期的な耐摺動特性の低下を防ぐため、たとえば特許文献1に開示されるように、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと、分子内に水酸基を有する長鎖炭化水素とからなり、前記パーフルオロポリエーテルに対する前記長鎖炭化水素の割合(パーフルオロポリエーテル/長鎖炭化水素)がモル比で0.01〜100 であるような複合型の潤滑剤を潤滑層に使用した磁気記録媒体が提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開平5−247483号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、600ギガビット/平方インチ以上の高面記録密度で予測される潤滑層厚は1nm以下であり、そのような間欠接触が許容される条件下では、上記の潤滑層では不十分であることがわかった。また、ランプロードを頻繁に繰り返したり、長期にわたってランプロードを行うと、十分な耐摺動特性や耐食性が維持できなかった。本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明では、磁気記録媒体の保護層の上に形成された潤滑層が、ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲と、さらにその内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰分と固定分の比率が異なる潤滑層から形成されているので、潤滑層厚が1nm以下であっても、長期的な耐摺動特性が維持できるのである。余剰層と固定層の比率としては、ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲では、全潤滑層厚に対する固定層の比率が80%以上であり、かつ、さらにその内側の範囲では、その比率が65%以下であることが望ましい。ランプロード領域とそれより内周の3mm以内の範囲では、ヘッドがロードする瞬間にヘッドによって余剰の潤滑層がワイプされることがあるので、固定層の比率は高いほうがよい。一方、さらに内周の領域では、間欠接触下でのシーク動作に対して、ヘッドと磁気記録媒体表面の動摩擦係数をなるべく低下させる必要があることから、全潤滑層厚に対する固定層の比率は、65%以下であったほうがいい。
【0010】
固定層の形成の方法としては、潤滑剤溶液に保護層まで形成した磁気記録媒体を浸漬して、潤滑層の膜を形成後、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲を磁気記録媒体を回転させながらUVランプを照射して固定化し、その後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置してランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とさらに内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰層と固定層の比率が異なる潤滑層を形成することが出来る。さらに、あらかじめランプロード領域から内周に3mm以内の範囲以外をマスクして、赤外ランプを照射してから、マスクを外して磁気記録媒体全体を赤外ランプによってさらに照射するなどの方法によっても良い。
【0011】
【発明の実施の形態】
(実施例1)
直径2.5インチ(6.25cm)の円板状のガラス基板を260℃まで加熱した。その基板上に、密着層としてTi膜を、DCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧0.28Pa、投入電力500Wとし、ターゲットはTiとした。密着層の膜厚は5nmとした。次いで、密着層上に、軟磁性裏打ち層としてCoTaZr膜をDCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧0.28Pa、投入電力400Wとし、ターゲットの組成はCo88Ta10Zr2(at%)とした。軟磁性裏打ち層の膜厚は200nmとした。軟磁性裏打ち層上に、下地層としてCoCrRu膜をDCスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧4.2Pa、投入電力500Wとし、ターゲットの組成はCo55Cr25Ru20(at%)とした。下地層の膜厚は20nmとした。
【0012】
さらに、下地層上に、記録層として酸素を含有したCoPtCr−SiO2合金磁性膜をRFスパッタリングにより形成した。スパッタリング条件は、ガス圧4.2Pa、投入電力400Wとし、ターゲットの組成はCo64Pt20Cr16(at%)−SiO2(CoPtCr:SiO2=92:8mol%)とした。記録層の膜厚は12nmとした。その後、テトラヘドラル系非晶質カーボンの保護層を2nmの厚さで成膜した。その後、次式で表されるパーフルオロポリエーテル(平均分子量:4000)の溶液(濃度0.2wt%)に浸漬した。
【0013】
【化1】
【0014】
浸漬時間は3分、引き上げ速度は1mm/secであった。その後、低圧水銀ランプによって、磁気記録媒体のランプロード領域から内周に3mm以内の範囲以外をマスクして、窒素雰囲気で、中心波長184.9nmと253.7nmの紫外光を3分間照射した。そして、マスクを外した後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置した。その後、磁気記録媒体を高温槽から取り出して、テープバニッシュをかけて、微細な凹凸を除去した。反射型フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)で測定した潤滑層厚は、1nmであった。
【0015】
フッ化炭素系溶媒で本実施例の磁気記録媒体をリンスした後、顕微FT−IRを使って、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とそれより内側の領域の固定層の膜厚を測定して、それぞれの全潤滑層厚に対する固定層の比率を計算すると、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲では、82%であり、それより内側の領域では、63%であった。
【0016】
本実施例の磁気記録媒体の耐摺動特性を以下のように評価した。ピコスライダーのヘッドを使い、500hPaに減圧したチャンバー内で、ランプロード・アンロード動作を300k回繰り返した。その後、ランプロード部を光学式顕微鏡によって観測したが、スクラッチや磨耗痕は観測されなかった。
【0017】
さらに、ランプロード部において、連続摺動試験を行った。まず、ランプロード部で1rpmの回転速度で動摩擦係数を測定したところ、0.17であった。それから、ヘッド荷重5gの条件で、150rpmで300k回連続摺動した。その後、ランプロード部で1rpmの回転速度で動摩擦係数を測定したところ、0.17であって、動摩擦係数の上昇は見られなかった。また、光学式顕微鏡で観察してもスクラッチ、磨耗痕は観測されなかった。これらの試験の後に、ヘッドスライダーの浮上面を光学顕微鏡で観察すると、特に汚れは認められなかった。
【0018】
また、記録再生ヘッドを使い、15000rpm、 2MBPI、300kTPIの条件(面記録密度600ギガビット/平方インチ)でエラーレートを測定すると、1×10−5以下であり、600ギガビット/平方インチの条件でも良好な記録再生が出来ることがわかった。
【0019】
(比較例1)
本比較例においては、潤滑剤溶液塗布までは実施例1と同様に磁気記録媒体を作製した。その後、磁気記録媒体全体を100℃の高温槽に15分間静置した。その後、磁気記録媒体を高温槽から取り出して、テープバニッシュをかけて、微細な凹凸を除去した。反射型フーリエ変換赤外分光光度計で測定した潤滑層厚は、1nmであった。
【0020】
フッ化炭素系溶媒で本比較例の磁気記録媒体をリンスした後、実施例1と同様に顕微FT−IRを使って、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とそれより内側の領域の固定層の膜厚を測定して、それぞれの全潤滑層厚に対する固定層の比率を計算すると、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲では63%であり、それより内側の領域でも63%であった。
【0021】
実施例1と同様な方法で500hPaに減圧したチャンバー内で、ランプロード・アンロード動作を300k回繰り返した後、ランプロード部を光学式顕微鏡によって観測すると、微細なスクラッチや磨耗痕が観測された。
【0022】
実施例1と同様なランプロード部における連続摺動試験を行うと、連続摺動試験の前で動摩擦係数は0.20であったが、ヘッド荷重5gの条件で、150rpmで300k回連続摺動した後にランプロード部で動摩擦係数を測定したところ、0.81に上昇し、耐摺動特性の低下が顕著であった。また、光学式顕微鏡で観察すると無数のスクラッチ、磨耗痕が観測された。これらの試験の後に、ヘッドスライダーの浮上面を光学顕微鏡で観察すると、顕著な汚れが観測された。これらは、保護層の磨耗によってヘッドスライダー浮上面に堆積したものと思われる。
【0023】
また、記録再生ヘッドを使い、実施例と同様にエラーレートを測定したところ、1×10−2であり、600ギガビット/平方インチの条件では記録再生できないことがわかった。
【0024】
【発明の効果】
以上、詳述したように、本発明の磁気記録媒体は、ランプロード領域から内周に3mm以内の範囲とさらに内側の範囲の潤滑層が潤滑剤の余剰分と固定分の比率が異なる潤滑層から形成されているので、潤滑層厚が1nmであっても、長期的な耐摺動特性が維持でき、600ギガビット/平方インチ以上の高い面記録密度の条件においても記録再生が可能となる。
Claims (3)
- 非磁性基板上に、軟磁性材料により形成された軟磁性裏打ち層、CoCrRuを主体とする合金により形成されてなる下地層および該下地層上に直接形成された、酸素を含有するCoPtCrを主体とする合金磁性材料であって残留磁化が膜面内方向より膜面に対して垂直方向の方が大きい記録層、保護層及び潤滑層を順に形成してなる600ギガビット/平方インチ以上の面記録密度で記録される垂直磁気記録方式の円盤状磁気記録媒体であって、上記円盤状磁気記録媒体の表面にある上記潤滑層は、余剰層と固定層からなり、上記余剰層と上記固定層の比率が上記円盤状磁気記録媒体の表面の領域により異なることを特徴とする磁気記録媒体。
- 上記円盤状磁気記録媒体の表面には、ランプロード領域が存在し、上記ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲では、上記余剰層より上記固定層が厚く、かつ、上記ランプロード領域より3mmを超える内側の領域では上記固定層より上記余剰層が厚いことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
- 上記ランプロード領域とそれより内周に3mm以内の範囲では、全潤滑層厚に対する固定層の比率が80%以上であり、かつ、前記ランプロード領域より3mmを超える内側の範囲では、その比率が65%以下であることを特徴とする請求項2記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003067147A JP2004280880A (ja) | 2003-03-12 | 2003-03-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003067147A JP2004280880A (ja) | 2003-03-12 | 2003-03-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010282675A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 表面改質方法及び該表面改質方法で表面を改質されてなる磁気記録媒体 |
-
2003
- 2003-03-12 JP JP2003067147A patent/JP2004280880A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010282675A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 表面改質方法及び該表面改質方法で表面を改質されてなる磁気記録媒体 |
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