JP2004277303A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004277303A5 JP2004277303A5 JP2003068447A JP2003068447A JP2004277303A5 JP 2004277303 A5 JP2004277303 A5 JP 2004277303A5 JP 2003068447 A JP2003068447 A JP 2003068447A JP 2003068447 A JP2003068447 A JP 2003068447A JP 2004277303 A5 JP2004277303 A5 JP 2004277303A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- combine
- ring
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003068447A JP4271968B2 (ja) | 2003-03-13 | 2003-03-13 | ポジ型又はネガ型レジスト組成物及び化合物 |
TW093106580A TWI340873B (en) | 2003-03-13 | 2004-03-12 | Stimulus sensitive compound and stimulus sensitive composition containing the same |
KR1020040017030A KR101061485B1 (ko) | 2003-03-13 | 2004-03-12 | 감자극성 화합물 및 그것을 함유하는 감자극성 조성물 |
US10/799,864 US7094515B2 (en) | 2003-03-13 | 2004-03-15 | Stimulus sensitive compound and stimulus sensitive composition containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003068447A JP4271968B2 (ja) | 2003-03-13 | 2003-03-13 | ポジ型又はネガ型レジスト組成物及び化合物 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004277303A JP2004277303A (ja) | 2004-10-07 |
JP2004277303A5 true JP2004277303A5 (no) | 2005-09-22 |
JP4271968B2 JP4271968B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=32984590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003068447A Expired - Fee Related JP4271968B2 (ja) | 2003-03-13 | 2003-03-13 | ポジ型又はネガ型レジスト組成物及び化合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7094515B2 (no) |
JP (1) | JP4271968B2 (no) |
KR (1) | KR101061485B1 (no) |
TW (1) | TWI340873B (no) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040224251A1 (en) * | 2002-09-25 | 2004-11-11 | Kouji Toishi | Positive resist composition |
JP4289937B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2009-07-01 | 東京応化工業株式会社 | ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 |
JP4533639B2 (ja) * | 2003-07-22 | 2010-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2005099348A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
EP1662320A1 (en) * | 2004-11-24 | 2006-05-31 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Photoresist compositions |
JP4452632B2 (ja) * | 2005-01-24 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4861767B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
US8404427B2 (en) | 2005-12-28 | 2013-03-26 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, and pattern-forming method and resist film using the photosensitive composition |
JP4866605B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-02-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 |
JP5260094B2 (ja) | 2007-03-12 | 2013-08-14 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | フェノール系ポリマー及びこれを含有するフォトレジスト |
JP5205027B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2013-06-05 | 東京応化工業株式会社 | 化合物の製造方法 |
JP5130164B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2013-01-30 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
JP5564402B2 (ja) | 2010-10-29 | 2014-07-30 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 |
JP6011096B2 (ja) * | 2011-07-26 | 2016-10-19 | 住友化学株式会社 | 塩及びレジスト組成物 |
US8614047B2 (en) | 2011-08-26 | 2013-12-24 | International Business Machines Corporation | Photodecomposable bases and photoresist compositions |
KR20160114774A (ko) | 2015-03-24 | 2016-10-06 | 주식회사 보탬 | 카운터 센서를 이용한 생활 안전 서비스 제공 시스템 |
JP6884051B2 (ja) * | 2016-07-19 | 2021-06-09 | 住友化学株式会社 | レジストパターンの製造方法 |
US20210188897A1 (en) * | 2019-12-05 | 2021-06-24 | Sparx Therapeutics, Inc. | Neuroactive steroids and compositions and methods thereof |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3587325B2 (ja) * | 1996-03-08 | 2004-11-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
JP2964990B2 (ja) | 1997-05-07 | 1999-10-18 | 日本電気株式会社 | 橋かけ環式アルキル基を有する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP2965016B2 (ja) | 1997-11-04 | 1999-10-18 | 日本電気株式会社 | 遠紫外線露光用感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
US6291130B1 (en) * | 1998-07-27 | 2001-09-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
JP3351424B2 (ja) | 1999-12-28 | 2002-11-25 | 日本電気株式会社 | スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法 |
JP2001187780A (ja) | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Nec Corp | オキソアルキル基を有するスルホニウム塩化合物、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4529316B2 (ja) | 2000-06-23 | 2010-08-25 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩 |
JP4145017B2 (ja) | 2001-02-08 | 2008-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 感放射線性レジスト組成物 |
US7335454B2 (en) * | 2001-12-13 | 2008-02-26 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition |
JP2003246774A (ja) | 2001-12-18 | 2003-09-02 | Toyo Kasei Kogyo Co Ltd | 新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途 |
TWI273350B (en) * | 2001-12-27 | 2007-02-11 | Shinetsu Chemical Co | Photoacid generating compounds, chemically amplified positive resist materials, and pattern forming method |
US7510822B2 (en) * | 2002-04-10 | 2009-03-31 | Fujifilm Corporation | Stimulation sensitive composition and compound |
JP4253486B2 (ja) * | 2002-09-25 | 2009-04-15 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型又はネガ型レジスト組成物、酸発生剤及びパターン形成方法 |
KR101035881B1 (ko) * | 2003-03-14 | 2011-05-20 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 조성물 |
-
2003
- 2003-03-13 JP JP2003068447A patent/JP4271968B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-12 KR KR1020040017030A patent/KR101061485B1/ko active IP Right Grant
- 2004-03-12 TW TW093106580A patent/TWI340873B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-03-15 US US10/799,864 patent/US7094515B2/en not_active Expired - Lifetime