JP2004272006A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 光を透過させるための透光部を有すると共に、凹凸状の光反射部を有する半透過反射基板の製造方法であって、
   基板に感光性材料を塗布する塗布工程と、
   前記塗布工程において塗布された前記感光性材料に対する現像処理において、
   前記透光部の縁端と離間するように位置する凹凸面とが前記感光性材料に形成されるべく、前記感光性材料に対して露光する露光工程と、
   前記露光工程により露光された感光性材料を現像する現像工程と、
   前記現像工程により現像された感光性材料のうち、前記露光工程により形成された凹凸面上に光反射性を有する反射層を形成する反射層形成工程と、
   を有することを特徴とする半透過反射基板の製造方法。
2. 前記露光工程において、前記透光部の縁端と、前記凹凸面の縁端とが、５μｍ以上離間するように露光する
   ことを特徴とする請求項１に記載の半透過反射基板の製造方法。
3. 前記露光工程において、前記透光部の縁端と、前記凹凸面の縁端とが、１２μｍ以下に離間するように露光する
   ことを特徴とする請求項２に記載の半透過反射基板の製造方法。
4. 前記反射層形成工程は、
   前記感光性材料の前記凹凸面上に、該凹凸形状の一部を吸収する凹凸吸収層を形成する凹凸吸収層形成工程と、
   前記凹凸吸収層形成工程において形成された凹凸吸収層上に、光反射性を有する表面反射層を形成する表面反射層形成工程とを含む
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の半透過反射基板の製造方法。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載の半透過反射基板の製造方法を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
6. 光を透過させるための透光部を有すると共に、凹凸状の光反射部を有する半透過反射基板であって、
   感光性材料に対する現像処理により基板上に形成された下地層であり、前記透光部の縁端から離間するように位置する凹凸面とを含む下地層と、
   前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、光反射性を有する反射層と、
   を具備することを特徴とする半透過反射基板。
7. 請求項６に記載の半透過反射基板を含むことを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項７に記載の電気光学装置を、表示部として有することを特徴とする電子機器。