【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミック蒸着フィルムに係わり、さらに詳細には、そのセラミック蒸着フィルムを包装材料として使用して、その内容物の劣化の原因となる酸素や水蒸気を遮断する、耐レトルト性および耐内容物性に優れるセラミック蒸着フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
包装材料には種々の機能が要求される。その中でも、内容物保護性は最も重要な機能である。内容物の劣化及び変質は主に酸素、水分、光、熱などの影響により促進される。とりわけ、酸素及び水分の影響が大きい。それらを遮断することが、内容物保護性を考える上で重要であり、すなわち、ガスバリアフィルムの存在が要求される。また、今日のように嗜好性が多様化したり、添加剤が規制されるなどの状況下では外部からの遮断のみならず、不活性ガス充填包装や、風味、香気の退化防止など、内部からの透過も遮断する必要がある。
【０００３】
しかしながら、一般的にプラスティックフィルムはガスバリア性に乏しく、単独で用いる場合には一部用途を除いては要求を満たすものがない。そこで、他のガスバリア性に優れた層を積層することによって、ガスバリアフィルムを作成する方法が採られていることが多い。すでに考案されているもので、例えば、特許文献１に記載されているように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにセラミック蒸着層を設けたものがあるが、基材とセラミック蒸着層との密着強度が不充分であった。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−１６４５９１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであって、プラスティックフィルムからなる基材にセラミック蒸着層を形成する際の基材とセラミック蒸着層の密着性を改善し、酸素や水蒸気を遮断する、耐レトルト性および耐内容物性に優れるセラミック蒸着フィルムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために、すなわち請求項１に係る発明は、プラスティックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、窒素の低温プラズマによる処理を施し、次いで、該処理面にセラミック蒸着層を設けたことを特徴とするセラミック蒸着フィルムである。
【０００７】
また、請求項２に係る発明は、前記プラスティックフィルムが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド類、ポリエステル類、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、セルロース、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリウレタン類の少なくとも一種類以上の成分、もしくは共重合成分、あるいはそれらの化学修飾体を成分に持つことを特徴とする請求項１記載のセラミック蒸着フィルムである。
【０００８】
また、請求項３に係る発明は、前記ポリアミド類が、ナイロン−６、ナイロン−６，６、ナイロン−１２のいずれかであることを特徴とする請求項２記載のセラミック蒸着フィルムである。
【０００９】
また、請求項４に係る発明は、前記ポリエステル類が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ボリブチレンテレフタレート、ボリブチレンナフタレート、もしくはそれらの共重合体であることを特徴とする請求項２記載のセラミック蒸着フィルムである。
【００１０】
また、請求項５に係る発明は、前記セラミック蒸着層が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化チタンを成分に持つことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のセラミック蒸着フィルムである。
【００１１】
また、請求項６に係る発明は、前記セラミック蒸着層上に、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシドおよび／またはその加水分解物の少なくとも１種類以上を成分に持つ複合被膜を設けたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のセラミック蒸着フィルムである。
【００１２】
また、請求項７に係る発明は、前記水酸基含有高分子化合物が、ポリビニルアルコールまたはポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）、セルロース、デンプンの少なくとも１種類以上を成分に持つことを特徴とする請求項６記載のセラミック蒸着フィルムである。
【００１３】
また、請求項８に係る発明は、前記金属アルコキシドが、シランアルコキシド、シランカップリング剤であることを特徴とする請求項６記載のセラミック蒸着フィルムである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい一実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、本発明のセラミック蒸着フィルムの構成の一例を示す断面図である。また、図２は、本発明のセラミック蒸着フィルムの構成の別の例を示す断面図である。
【００１５】
図１に示すように、例えば、本発明のセラミック蒸着フィルム１は、プラスティックフィルムからなる基材２の少なくとも片面に窒素の低温プラズマによる処理を施し、その処理層３の処理面にセラミック蒸着層４を設けたことを特徴とするセラミック蒸着フィルムである。
【００１６】
また、図２に示すように、例えば、本発明のセラミック蒸着フィルム５は、プラスティックフィルムからなる基材２の少なくとも片面に窒素の低温プラズマによる処理を施し、その処理層３の処理面にセラミック蒸着層４を設け、さらに、そのセラミック蒸着層４の上に、さらに、複合被膜６を設けた構成のものである。
【００１７】
本発明で用いられるプラスティックフィルムからなる基材２としては、ポリオレフィン化合物、ポリエステル化合物、ポリアミド化合物、ポリウレタン類、ポリイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリエーテル類、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、グリプタル樹脂、多糖類、タンパク質（ポリペプチド）などからなるプラスティックフィルムの例が挙げられる。
【００１８】
特に好適な例として、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド類、ポリエステル類、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、セルロース、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリウレタン類の少なくとも一種類以上の成分、もしくは共重合成分、あるいはそれらの化学修飾体を成分に持つプラスティックフィルムの例が挙げられる。
【００１９】
その中でも、上記ポリアミド類として、ナイロン−６、ナイロン−６，６、ナイロン−１２等、また、ポリエステル類として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ボリブチレンテレフタレート、ボリブチレンナフタレート、もしくはそれらの共重合体が好適に用いられる。
【００２０】
ただし、これらプラスティックフィルムは、用途、コスト、加工適性などに応じ、適宜選定されるべきである。
【００２１】
また、本発明におけるプラスティックフィルム表面に処理層３を形成する低温プラズマによる処理方法としては、一般的な直流グロー放電、ホロカソード式直流放電、リアクティブイオンエッチング、高周波放電、マイクロ波放電などによる公知の方式が採用され、また、これらの例に限定されるものではない。加工速度、エネルギーレベルなどで示される処理条件は、基材種類、用途、放電装置特性などに応じ、適宜設定するべきである。プラズマの気体種には窒素が好ましい。ポンプ性能や取り付け位置などによって、導入分と実効分とでは流量が異なるので、流量に関しては、用途、基材、装置特性に応じて適宜設定するべきである。また、これらに加えて他の気体種を混入することは、本発明の範囲を超えるものではない。混合気体の流量も既述した理由で、適宜選定するべきである。
【００２２】
本発明におけるセラミック蒸着層４を形成するセラミックの種類としては、扱い易さ、経済性を考慮して、酸化珪素系、酸化アルミニウム系、酸化チタン系、酸化マグネシウム系等が好適である。これらが必ずしも完全に酸化されたものでなくてもよく、また、添加成分を混合させてもよい。酸化度の程度や混合物添加は、用途、価格、装置特性等を考慮して適宜条件設定をしてよろしい。
【００２３】
蒸着方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられるが、これに限定をするものでない。
【００２４】
本発明における複合被膜６は、セラミック蒸着層４の上に設けられ、ガスバリア性の向上、蒸着層の保護などを目的とするものである。
【００２５】
上記の複合被膜としては、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシドおよびまたはその加水分解物およびまたはその重合物の少なくとも１種類以上を成分に持つ複合被膜からなるものである。
【００２６】
水酸基含有高分子としては、ポリビニルアルコールまたはポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−エチレン）、セルロース、デンプン等が挙げられる。とりわけ、ポリビニルアルコールが取り扱い性、ガスバリア性向上に優れるが、限定するものではない。
【００２７】
上記金属アルコキシドとしては、種々あるが、取り扱い性、コストなどを考えれば珪素のアルコキシドが好ましい。また、被膜の柔軟性向上、密着性改善などの要求があれば、テトラアルコキシドに限ることなく、いわゆるシランカップリング剤を適宜選定添加することが好ましい。
【００２８】
【実施例】
本発明の実施例を具体的に説明する。なお、下記の実施例は本発明を限定するものではない。
【００２９】
＜実施例１＞
厚さ１２ミクロンのポリエチレンテレフタレート（東レ社：ルミラーＰ６０）を基材とし、表１に示す加工条件にて高周波（ＲＦ）放電方式の低温プラズマ処理を行った。その後、層厚１０ｎｍの酸化アルミニウム系蒸着層を設けた。得られた蒸着フィルムの蒸着面を市販のポリウレタン系接着剤を用い、ドライラミネート法により厚さ１５μのナイロンフィルム（ユニチカ社：エンブレムＯＮＢＣ−ＲＴ）と接合し、さらにナイロンフィルムのもう一方の面を同様の接着剤を用いて厚さ７０μの無延伸ポリプロピレンフィルム（東セロ社：ＲＸＣ−１８）と接合して、本発明のセラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３０】
＜実施例２＞
実施例１で得られたセラミック蒸着フィルム上に、テトラエトキシシラン加水分解物とポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合物を主成分とする複合被膜層をグラビアコーティング法により設けた以外は、実施例１と同様にして、本発明のセラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３１】
＜実施例３＞
厚さ１５ミクロンの二軸延伸ナイロンフィルム（ユニチカ社：エンブレムＯＮ）を基材とし、表１に示す加工条件にて高周波（ＲＦ）放電方式の低温プラズマ処理を行った。その後、層厚１０ｎｍの酸化アルミニウム系蒸着層を設け、蒸着面に市販のポリウレタン系接着剤を用い、ドライラミネート法により厚さ６０μのポリエチレンフィルム（東セロ社：ＴＵＸ ＦＣ−Ｓ）のコロナ処理面と接合して、本発明のセラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３２】
＜実施例４＞
実施例３で得られたセラミック蒸着フィルムの蒸着層上に、テトラエトキシシラン加水分解物とポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合物を主成分とする複合被膜層をグラビアコーティング法により設けた以外は、実施例３と同様にして、本発明のセラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３３】
＜比較例１＞
基材にプラズマ処理を行わない以外は、実施例１と同様にして、セラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３４】
＜比較例２＞
基材にプラズマ処理を行わない以外は、実施例２と同様にして、セラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３５】
＜比較例３＞
基材にプラズマ処理を行わない以外は、実施例３と同様にして、セラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３６】
＜比較例４＞
基材にプラズマ処理を行わない以外は、実施例４と同様にして、セラミック蒸着フィルムを作成した。
【００３７】
上記実施例１〜４および比較例１〜４で得られたセラミック蒸着フィルムを下記に示す試験方法に基づいて、酸素透過度、ラミネート強度およびその剥離面、引裂強度について評価した。その結果を実施例１〜４については表１に、また、比較例１〜４については表２に示す。
【００３８】
［レトルト処理］
上記実施例ならびに比較例で得られたラミネートフィルムでパウチを作成し、水道水を充填した上で１２１℃−３０分のボイル処理を行った。
【００３９】
［耐内容物テスト］
上記実施例ならびに比較例で得られたラミネートフィルムでパウチを作成し、市販のシャンプーを充填し、４０℃−９０％ＲＨの雰囲気下で１ヶ月保存した。
【００４０】
［酸素透過度測定］
酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製、ＯＸＴＲＡＮ １０／５０Ａ）を用いて、３０℃・７０ＲＨ％雰囲気下で測定した。
【００４１】
［ラミネート強度］
剥離試験機（オリエンテック社：テンシロン万能試験機 ＲＴＣ−１２５０）を用いて測定した。（ＪＩＳ Ｚ １７０７準拠）
【００４２】
［剥離面観察］
蛍光Ｘ線分析装置（ＲＩＧＡＫＵ社：Ｘ−ＲＡＹ ＳＰＥＣＴＲＯＭＥＴＥＲ３２７０）により、蒸着層中のアルミニウム原子が剥離面のどちら側に存在するか観察した。
【００４３】
［引裂強度測定］
引裂試験機（オリエンテック社：テンシロン万能試験機 ＲＴＣ−１２５０）を用いて、測定した。［ＪＩＳ Ｋ ７１２８−１（トラウザー引裂法）準拠］
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
表１および２より、実施例１〜４の本発明のセラミック蒸着フィルム（基材を窒素プラズマ処理を行ったものは）は、比較例１〜４で得られたセラミック蒸着フィルムよりもレトルト後でのラミネート強度が大幅に向上し、すなわち、基材／蒸着層の密着強度が上昇したことがわかる。さらに、酸素バリア性も維持されている。また、シャンプー充填の耐内容物テストにおいても、本発明のセラミック蒸着フィルムは、高いラミネート強度、酸素バリア性を維持している。
【００４７】
【発明の効果】
本発明によれば、セラミック蒸着フィルムの蒸着層を形成する基材面に、窒素の低温プラズマ処理を施すことで、基材／蒸着層間の密着性が向上し、過酷なレトルト処理や、このセラミック蒸着フィルムを各種包装材料として使用して、強浸透性物質を包装した場合であっても強浸透性内容物に影響を受けずに、バリア性と基材／蒸着層間のラミネート強度が低下することがない、酸素や水蒸気を遮断する、耐レトルト性および耐内容物性に優れるセラミック蒸着フィルムを提供できる。
【００４８】
本発明のセラミック蒸着フィルムは、蓋材や各種軟包装材や複合紙容器やエレクトロニクス分野の部材などの包装材料として用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のセラミック蒸着フィルムの構成の一例を示す断面図である。
【図２】本発明のセラミック蒸着フィルムの構成の別の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１、５・・・セラミック蒸着フィルム
２・・・基材層
３・・・低温プラズマ処理層
４・・・セラミック蒸着層
６・・・複合被覆層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a ceramic vapor-deposited film, and more particularly, to use the ceramic vapor-deposited film as a packaging material to block oxygen and water vapor that cause deterioration of the content, and to prevent retort and content resistance. The present invention relates to a ceramic vapor-deposited film having excellent properties.
[0002]
[Prior art]
Various functions are required for packaging materials. Among them, content protection is the most important function. Deterioration and alteration of the contents are promoted mainly by the influence of oxygen, moisture, light, heat and the like. In particular, the influence of oxygen and moisture is great. It is important to shield them from the viewpoint of protecting the contents, that is, the presence of a gas barrier film is required. In addition, under the circumstances where tastes are diversified and additives are regulated as in today, not only blocking from the outside, but also inert gas filling packaging, prevention of deterioration of flavor and aroma, etc. It is necessary to block transmission.
[0003]
However, plastic films generally have poor gas barrier properties, and when used alone, there is nothing that satisfies the requirements except for some uses. Therefore, a method of forming a gas barrier film by laminating another layer having excellent gas barrier properties is often adopted. For example, as described in Patent Document 1, there is a device in which a ceramic vapor deposition layer is provided on a polyethylene terephthalate (PET) film, but the adhesion strength between the substrate and the ceramic vapor deposition layer is low. It was not enough.
[0004]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 7-16491
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in consideration of the above problems, and improves the adhesion between a substrate and a ceramic vapor deposition layer when a ceramic vapor deposition layer is formed on a plastic film substrate, and blocks oxygen and water vapor. It is an object of the present invention to provide a ceramic evaporated film having excellent retort resistance and content resistance.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 provides at least one surface of a base material made of a plastic film by low-temperature plasma treatment with nitrogen, and then forms a ceramic deposition layer on the treatment surface. Is a ceramic vapor-deposited film.
[0007]
The invention according to claim 2 is characterized in that the plastic film is at least one of polyethylene, polypropylene, polyamides, polyesters, polycarbonate, polyacrylonitrile, polystyrene, polyvinyl chloride, cellulose, triacetylcellulose, polyvinyl alcohol, and polyurethane. The ceramic vapor-deposited film according to claim 1, wherein the ceramic vapor-deposited film has at least one or more kinds of components, a copolymer component, or a chemically modified product thereof.
[0008]
The invention according to claim 3 is the ceramic vapor-deposited film according to claim 2, wherein the polyamides are any of nylon-6, nylon-6,6, and nylon-12.
[0009]
The invention according to claim 4 is characterized in that the polyester is polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutyrene terephthalate, polybutyrene naphthalate, or a copolymer thereof. It is a vapor deposition film.
[0010]
The invention according to claim 5 is the ceramic according to any one of claims 1 to 4, wherein the ceramic vapor-deposited layer has aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and titanium oxide as components. It is a vapor deposition film.
[0011]
The invention according to claim 6 is characterized in that a composite coating having at least one of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide and / or a hydrolyzate thereof as a component is provided on the ceramic vapor deposition layer. The ceramic vapor-deposited film according to any one of claims 1 to 4.
[0012]
The invention according to claim 7 is characterized in that the hydroxyl group-containing polymer compound has at least one or more of polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-co-ethylene), cellulose, and starch as components. 6. A ceramic vapor-deposited film according to item 6.
[0013]
The invention according to claim 8 is the ceramic vapor-deposited film according to claim 6, wherein the metal alkoxide is a silane alkoxide or a silane coupling agent.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the configuration of the ceramic vapor deposition film of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the configuration of the ceramic vapor deposition film of the present invention.
[0015]
As shown in FIG. 1, for example, a ceramic vapor-deposited film 1 of the present invention is obtained by subjecting at least one surface of a base material 2 made of a plastic film to a treatment with a low-temperature plasma of nitrogen, Is a ceramic vapor-deposited film.
[0016]
As shown in FIG. 2, for example, the ceramic vapor-deposited film 5 of the present invention is obtained by subjecting at least one surface of the base material 2 made of a plastic film to a low-temperature plasma treatment of nitrogen, A layer 4 is provided, and a composite coating 6 is further provided on the ceramic vapor deposition layer 4.
[0017]
Examples of the base material 2 made of a plastic film used in the present invention include polyolefin compounds, polyester compounds, polyamide compounds, polyurethanes, polyimides, polyether sulfones, polyethers, epoxy resins, alkyd resins, gliptal resins, and polysaccharides. And plastic films composed of proteins (polypeptides) and the like.
[0018]
Particularly preferred examples include polyethylene, polypropylene, polyamides, polyesters, polycarbonate, polyacrylonitrile, polystyrene, polyvinyl chloride, cellulose, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, at least one or more components of polyurethanes, or a copolymer component. Or a plastic film having a chemically modified product thereof as a component.
[0019]
Among them, the above polyamides include nylon-6, nylon-6,6, nylon-12 and the like, and the polyesters include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutyrene terephthalate, polybutyrene naphthalate, and copolymers thereof. Coalescing is preferably used.
[0020]
However, these plastic films should be appropriately selected according to the application, cost, suitability for processing, and the like.
[0021]
In addition, as a treatment method using low-temperature plasma for forming the treatment layer 3 on the surface of the plastic film in the present invention, a known method such as a general DC glow discharge, a hollow cathode DC discharge, a reactive ion etching, a high frequency discharge, a microwave discharge, or the like is used. A scheme is adopted, and the present invention is not limited to these examples. The processing conditions indicated by the processing speed, the energy level, and the like should be appropriately set according to the type of the base material, the application, the characteristics of the discharge device, and the like. Nitrogen is preferred as the gaseous species of the plasma. The flow rate differs between the introduction and the effective flow depending on the pump performance, the mounting position, and the like. The addition of other gas species in addition to these does not exceed the scope of the present invention. The flow rate of the mixed gas should also be appropriately selected for the reasons described above.
[0022]
As the type of ceramic forming the ceramic vapor-deposited layer 4 in the present invention, silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, and the like are preferable in consideration of ease of handling and economy. These do not necessarily have to be completely oxidized, and additional components may be mixed. The degree of oxidation and the addition of the mixture may be appropriately set in consideration of the use, price, device characteristics, and the like.
[0023]
Examples of the vapor deposition method include, but are not limited to, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and a plasma vapor deposition method (CVD method).
[0024]
The composite coating 6 in the present invention is provided on the ceramic vapor-deposited layer 4 and aims at improving gas barrier properties, protecting the vapor-deposited layer, and the like.
[0025]
The above-mentioned composite film is a composite film having at least one or more of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide and / or a hydrolyzate and / or a polymer thereof as a component.
[0026]
Examples of the hydroxyl group-containing polymer include polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-co-ethylene), cellulose, starch and the like. In particular, polyvinyl alcohol is excellent in handling properties and gas barrier properties, but is not limited thereto.
[0027]
There are various types of the metal alkoxide, but silicon alkoxide is preferable in consideration of handleability and cost. Further, if there is a demand for improving the flexibility and adhesion of the film, it is preferable to appropriately select and add a so-called silane coupling agent without being limited to tetraalkoxide.
[0028]
【Example】
An embodiment of the present invention will be specifically described. Note that the following examples do not limit the present invention.
[0029]
<Example 1>
A low-temperature plasma treatment of a high frequency (RF) discharge method was performed under the processing conditions shown in Table 1 using polyethylene terephthalate (Lumirror P60, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 12 microns. Thereafter, an aluminum oxide-based evaporation layer having a thickness of 10 nm was provided. The vapor-deposited surface of the obtained vapor-deposited film was bonded to a 15 μm-thick nylon film (Unitika: Emblem ONBC-RT) by a dry lamination method using a commercially available polyurethane-based adhesive, and the other surface of the nylon film was further bonded. The same adhesive was used to join a 70 μm-thick unstretched polypropylene film (Tokyo Sero Co., Ltd .: RXC-18) to produce a ceramic vapor-deposited film of the present invention.
[0030]
<Example 2>
Example 1 was repeated except that a composite coating layer containing a mixture of a tetraethoxysilane hydrolyzate and a polyvinyl alcohol-based water-soluble resin as a main component was provided on the ceramic vapor-deposited film obtained in Example 1 by a gravure coating method. Similarly, a ceramic vapor deposition film of the present invention was prepared.
[0031]
<Example 3>
Using a biaxially stretched nylon film (Emblem ON: 15 μm) having a thickness of 15 μm as a base material, high-frequency (RF) discharge low-temperature plasma treatment was performed under the processing conditions shown in Table 1. Thereafter, a 10 nm-thick aluminum oxide-based vapor-deposited layer is provided, and a commercially available polyurethane-based adhesive is used on the vapor-deposited surface, and a 60 μm-thick polyethylene film (Toxero Co., Ltd .: TUX FC-S) is corona-treated with a dry lamination method. By bonding, a ceramic vapor deposited film of the present invention was prepared.
[0032]
<Example 4>
Except that a composite coating layer containing a mixture of a tetraethoxysilane hydrolyzate and a polyvinyl alcohol-based water-soluble resin as a main component was provided on the vapor-deposited layer of the ceramic vapor-deposited film obtained in Example 3 by a gravure coating method. In the same manner as in Example 3, a ceramic deposited film of the present invention was prepared.
[0033]
<Comparative Example 1>
A ceramic vapor-deposited film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the substrate was not subjected to the plasma treatment.
[0034]
<Comparative Example 2>
A ceramic vapor-deposited film was prepared in the same manner as in Example 2, except that the plasma treatment was not performed on the substrate.
[0035]
<Comparative Example 3>
A ceramic vapor-deposited film was produced in the same manner as in Example 3, except that the substrate was not subjected to the plasma treatment.
[0036]
<Comparative Example 4>
A ceramic vapor-deposited film was produced in the same manner as in Example 4, except that the substrate was not subjected to the plasma treatment.
[0037]
The ceramic vapor-deposited films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated for oxygen permeability, laminate strength, peeled surface thereof, and tear strength based on the test methods described below. The results are shown in Table 1 for Examples 1 to 4, and Table 2 for Comparative Examples 1 to 4.
[0038]
[Retort processing]
Pouches were prepared from the laminate films obtained in the above Examples and Comparative Examples, and were filled with tap water and subjected to a boil treatment at 121 ° C. for 30 minutes.
[0039]
[Resistance test]
Pouches were prepared from the laminated films obtained in the above Examples and Comparative Examples, filled with a commercially available shampoo, and stored for one month in an atmosphere of 40 ° C. and 90% RH.
[0040]
[Oxygen permeability measurement]
Using an oxygen permeability measuring device (OXTRAN 10 / 50A, manufactured by Modern Control), the measurement was performed at 30 ° C. and 70 RH% atmosphere.
[0041]
[Laminate strength]
It measured using the peeling tester (Orientec: Tensilon universal tester RTC-1250). (Based on JIS Z 1707)
[0042]
[Exfoliation surface observation]
Using a fluorescent X-ray analyzer (RIGAKU: X-RAY SPECTROMETER3270), it was observed on which side of the peeled surface the aluminum atoms in the vapor deposition layer existed.
[0043]
[Tear strength measurement]
The measurement was carried out using a tear tester (Orientec Co., Ltd .: Tensilon universal tester RTC-1250). [Based on JIS K 7128-1 (Trouser tearing method)]
[0044]
[Table 1]
[0045]
[Table 2]
[0046]
From Tables 1 and 2, the ceramic vapor-deposited films of the present invention of Examples 1 to 4 (those whose substrates were subjected to nitrogen plasma treatment) were more retorted than the ceramic vapor-deposited films obtained in Comparative Examples 1 to 4. It can be seen that the lamination strength of the substrate was greatly improved, that is, the adhesion strength of the substrate / deposited layer was increased. Further, the oxygen barrier property is maintained. Also, in the content test of shampoo filling, the ceramic vapor deposited film of the present invention maintains high lamination strength and oxygen barrier properties.
[0047]
【The invention's effect】
According to the present invention, the low-temperature plasma treatment of nitrogen is applied to the substrate surface on which the vapor-deposited layer of the ceramic vapor-deposited film is formed, whereby the adhesion between the substrate and the vapor-deposited layer is improved. Even when a vapor-deposited film is used as a packaging material and a highly permeable material is packaged, the barrier properties and the laminate strength between the substrate and the vapor deposition layer are reduced without being affected by the highly permeable content. The present invention can provide a ceramic vapor-deposited film that is free from oxygen and water vapor and has excellent retort resistance and content resistance.
[0048]
The ceramic vapor-deposited film of the present invention can be used as a packaging material for lid materials, various soft packaging materials, composite paper containers, members in the field of electronics, and the like.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a ceramic vapor deposition film of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the configuration of the ceramic vapor deposition film of the present invention.
[Explanation of symbols]
1, 5 ceramic deposited film 2 base material layer 3 low-temperature plasma treatment layer 4 ceramic deposited layer 6 composite coating layer
