JP2004228563A - Euvマイクロリソグラフィー用基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】EUVマイクロリソグラフィーに特に適した基板であって、熱膨張係数(CTE)の小さい基層とその上に形成された少なくとも1つの半導体材料からなる被覆層とを含む基板の製造に関する。前記被覆層はシリコン層であり、イオンビームスパッタリングで形成される。更にイオンビーム加工処理を加えることにより、極めて正確な形状および極めて小さな表面粗さを有する基板が得られる。
【選択図】なし
Description
しかし、かかる基板では、基板の形状精度および表面粗さに関する要求を満たすことが出来ない。例えばマスクの場合、PV(ピークと谷との差)で50nm未満の形状精度が必要となる。
熱膨張係数が約0.1ppm/K以下である基層を用意する工程と、
スパッタリング、CVDまたはPVDのような物理的または化学的なプロセスにより半導体材料、好適にはシリコンからなる第一の被覆層を前記基層の上に形成する工程と、
第一の被覆層を仕上げる工程と
を含む方法によって達成される。
本発明の有利な開発は従属項の下で保護される。
本発明によれば、半導体材料、特にシリコンからなる第一の被覆層を物理的または化学的なプロセスによって直接形成するときに、基層の形状精度が一般に保持されることが見いだされた。同時に、基板の望ましい低い表面粗さを得ることが被覆層によって可能となる。
またCVD(化学蒸着)、特にPICVD(プラズマ衝撃CVD),PACVD(プラズマ補助CVD)、PVD(物理蒸着)や、例えばゾル・ゲルプロセスのような他の物理的または化学的プロセスも使用できる。
その点に関して、基層は後の基板表面、例えばEUVリソグラフィー用マスクまたはミラーの反射面に対して反対側に面する層である。
上で述べたように、基層は熱膨張係数α(CTE)が非常に小さく最大でも0.1ppm/K、好適には10ppb/K以下である材料からなる。好適にはこれは温度範囲−40℃から+400℃、好適には温度範囲0℃から50℃において基本的に寸法変化を示さない、すなわちCTEが最大でも10ppb/Kであるいわゆる「膨張がほぼゼロの材料」である。
本発明によれば、Zerodur(登録商標)およびその変形例(例えばZerodur−M(登録商標))が特に好適な基層である。
Zerodur(登録商標)は例えば上記特許文献2に記述されている。Zerodur−M(登録商標)は基本的にマグネシウムを含まないZerodur(登録商標)の組成物であり、例えば上記特許文献3に記述されている。Zerodur(登録商標)とZerodur−M(登録商標)の特性および組成は、当該技術分野において周知のものであり、例えば上記非特許文献1で説明されている。
本発明によれば、光学研磨で前処理された基層を、あるイオンビーム入射角およびあるイオンビームエネルギーで、IBFを使用してイオンビームで最初に処理して所望の形状を得ることが好適である。例えばマスクの製造では、PV偏差(ピーク−谷間の偏差)が50nm未満である平坦度が望ましい。IBF処理の間に、rmsで0.3nm未満の予め得られた表面粗さが2倍〜3倍に悪くなる。
IBFプロセスの間、望みの厚さの材料を表面から除去する手段としてイオンビームが使用される。イオンビームのエッチング速度は低い(通常100nm/分)ので、このプロセスはわずかな厚さ(数ミクロン以下)の材料の除去にしか適さない。イオンビーム加工(IBF)では、ほとんど単原子の層がイオンの衝突により除去される。
本発明の別の実施態様によれば、IBF処理およびSi被覆の後で、有機物質のラッカーを使用した平坦化(プラナリゼーション)が行われる。ここで厚さ20nmから500nmの範囲の有機ラッカーを含む別の被覆層が、例えばスピンコーティングによって形成され、そしてアニーリングプロセスの後、イオンビームエッチング(IBF)によりラッカー層が除去され、そして平坦化が行われる。
例えば第一の方法の変形例によってマスク基板を製造する場合、最初に例えばZerodur(登録商標)からなるブロックからガラスセラミックスのサンプルが切り出され、その表面に機械的な処理、例えば研削が行われ、最後にrmsで1nm以下、好適には0.2nm未満の表面粗さが得られるまで光学的研磨が行われる。測定は例えば、10μm×10μmまたは1μm×1μmのサンプルに対してAFMを使用して行うことが出来る。
被覆された基板はその後IBFで処理されて所望の形状精度(PV偏差<50nm)を得る。そのためには、500EV〜1200EVのエネルギー、入射角0°〜70°の範囲のArイオンで処理すれば良い。これにより、所望のPV偏差<50nmおよび表面粗さ<0.2nmを有するマスクが得られる。
その後イオンビームスパッタリングにより、厚さが500nmから2μmのSi被覆層が形成され、これを再度IBFで処理して最終的な形状を得ると共に表面粗さを更に小さくする。
最初に例えばZerodur(登録商標)からなるガラスセラミックスのサンプルを上で述べたように切り出し、研削および研磨により好適にはrmsで0.2nm未満の表面粗さを得る。
好適にはその後、まずイオンビーム加工を行って形状および表面粗さ(マスクはPV偏差<50nm、光学素子(ミラー)は<0.3nm rms)を得る。
その後、有機物質のラッカーからなる第二の被覆層が、例えばスピンコーティングにより、厚さ約20nm〜200nmで形成される。ラッカー層はアニーリングプロセスで硬化させられる。その後IBFによりラッカー層を完全に除去し、それにより非常に低い粗さがSi層に移される。
基層および被覆層のIBFによる仕上げ処理の代わりに、磁気流体研磨を使用してもよい。
既に述べたように、本発明による基板はEUVリソグラフィー用のマスクの製造に適している。その様なマスクを製造するには、本発明の基板の表面にEUV放射を利用して反射面を被覆し、その後で既知のプロセスを使用して構造を有するマスクを形成する。本発明による基板は構造を有するマスクの製造だけでなく、構造を持たないマスク、いわゆるブランクの製造にも適している。
本発明による基板を、マイクロリソグラフィー用ミラーのような光学素子の製造に使用する場合、本発明による基板の上に反射性の皮膜を形成する。かかるミラーの表面は平面または曲面であってよい。曲面を有するミラーを製造するには、基層を所望の最終形状にすればよい。その後、被覆層(1層または複数)および反射性被覆を形成する。
Claims (17)
- 基板、特にEUVマイクロリソグラフィー用の基板の製造方法であって、
熱膨張係数が約0.1ppm/K以下である基層を用意する工程と、
スパッタリング、CVDまたはPVDのような物理的または化学的なプロセスにより半導体材料、好適にはシリコンからなる第一の被覆層を前記基層の上に形成する工程と、
前記第一の被覆層を仕上げる工程と
を含む、方法。 - 前記第一の被覆層がイオンビームスパッタリングのプロセスによって形成される、請求項1記載の方法。
- 前記基層および/または前記第一の被覆層がイオンビーム加工(IBF)によって仕上げられる、請求項1または2記載の方法。
- 前記第一の被覆層が20ナノメートル〜2000ナノメートルの層厚で形成される、請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。
- ラッカーからなる第二の被覆層が、好適にはスピンコーティングにより、前記第一の被覆層の上に形成される、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
- 前記第二の被覆層が20ナノメートル〜500ナノメートルの層厚で形成される、請求項5記載の方法。
- 前記第二の被覆層が、硬化された後、好適にはイオンビーム加工により、完全にまたは部分的に除去される、請求項5または6記載の方法。
- 前記第一の被覆層を形成する前に、前記基層を研磨して表面粗さをrmsで1ナノメートル未満、好適には0.2ナノメートル未満にする、請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。
- Zerodur、Zerodur−M、ULE、ClearCeramまたはコージェライトを含むセラミックスを含む基層を使用する、請求項1ないし8のいずれかに記載の方法。
- 基層と少なくとも第一の被覆層とを有する基板、特にEUVマイクロリソグラフィー用基板であって、前記基層が熱膨張係数が最大でも0.1ppm/Kである材料からなり、前記第一の被覆層が半導体材料、特にシリコンからなり、スパッタリング、CVDプロセスまたはPVDプロセスのような物理的または化学的なプロセスによって前記基層の上に形成されている基板。
- 前記第一の被覆層が20ナノメートル〜2000ナノメートルの層厚を有する、請求項10記載の基板。
- ラッカーからなる第二の被覆層が前記第一の被覆層の上に形成されている、請求項10または11記載の基板。
- 前記第二の被覆層が1ナノメートル〜200ナノメートル、好適には20ナノメートル〜200ナノメートルの層厚を有する、請求項12記載の基板。
- 前記第二の被覆層がエッチングプロセスにより少なくとも部分的に除去された、請求項12または13記載の基板。
- 最も上の被覆層の表面粗さがrmsで最大でも1ナノメートル以下、好適には0.2ナノメートル未満である、請求項10ないし14のいずれかに記載の基板。
- 前記基層がZerodur、Zerodur−M、ULE、ClearCeramまたはコージェライトを含むセラミックスを含む、請求項10ないし15のいずれかに記載の基板。
- 請求項10ないし16のいずれかに記載の基板のEUVマイクロリソグラフィー用のマスクまたは光学素子、特にミラーの製造への使用。
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