JP2004214713A - マイクロ波集積回路装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】サスペンデッドストリップ線路を配置するマイクロ波集積回路装置の製造性を向上すると共に、マイクロ波集積回路装置の性能を一層向上すること。
【解決手段】シャーシ13の支持部14に支持されるサスペンデッドストリップ線路11を備えたマイクロ波集積回路装置10において、前記サスペンデッドストリップ線路11は、誘電体基板15の中央部に配置されるストリップ導体12と、このストリップ導体12と共平面上に配置される接地導体17とによりコプレーナ線路18を形成する。
【選択図】 図1
【解決手段】シャーシ13の支持部14に支持されるサスペンデッドストリップ線路11を備えたマイクロ波集積回路装置10において、前記サスペンデッドストリップ線路11は、誘電体基板15の中央部に配置されるストリップ導体12と、このストリップ導体12と共平面上に配置される接地導体17とによりコプレーナ線路18を形成する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、サスペンデッドストリップ線路を集積回路の伝送線路に適用した技術に係るもので、特に信号線路系の信号特性を良好にしたマイクロ波集積回路装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
サスペンデッドストリップ線路に関わる信号線路系の信号特性を良好にし得るものとして、サスペンデッドストリップ線路を平面型のサスペンデッドストリップ線路サポータを介して空間的に保持したマイクロ波集積回路装置がある。
【0003】
このマイクロ波集積回路装置は、信号出力を低損失に抑える特性を有するもので、例えば、ミリ波等の高周波領域まで多用されているサスペンデッドストリップ線路への使用例が特許文献1に開示されている。
【0004】
このマイクロ波集積回路装置は、図3に示されるように、テレビジョン送信機等に用いられる合成器に関し、特にサスペンデッドストリップ線路型合成器に関するもので、シャーシ1上に所要の間隔を置いてサスペンデッドストリップ線路2を配設したものであり、このサスペンデッドストリップ線路2の支持を行なうために絶縁材料で形成された一対の絶縁体支持部3でサスペンデッドストリップ線路2の両辺を支持している。
【0005】
この絶縁体支持部3はボルト・ナット4によりシャーシ1上に固定される。
【0006】
このようにシャーシ1上に所要の間隔を置いてサスペンデッドストリップ線路2を配設する構成とすることにより、両絶縁体支持部3間に電界を集中させることにより、サスペンデッドストリップ線路2に要請される、例えば高インピーダンス特性の特性確保を可能としていた。
【0007】
【特許文献1】
特開平5−218709号公報(第2頁左欄[従来の技術]の項並びに図3(シャーシ1上に、両絶縁体支持部3を介してサスペンデッドストリップ線路2を配置した構成))
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来のマイクロ波集積回路装置は、両絶縁体支持部間に電界を集中させる必要から別個の絶縁体部材からなる絶縁体支持部を用いざるを得ないこと、また、絶縁体支持部の固定位置を調整しながらボルト・ナットにて個々に締め付け固定しなければならないという、固定作業上の制約があった。
【0009】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたもので、サスペンデッドストリップ線路の支持部の材料選定や支持部の固定作業に関わる制約を不要とすると同時にサスペンデッドストリップ線路のより一層の通信特性確保を可能としたマイクロ波集積回路装置を得ることを主な目的とする。
【0010】
また、本発明の他の目的は、製造が容易であり、かつ性能の安定したマイクロ波集積回路装置の製造方法を得ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、シャーシに設けられる支持部に支持されるサスペンデッドストリップ線路を備えたマイクロ波集積回路装置において、前記サスペンデッドストリップ線路は、誘電体基板の中央部に配置されるストリップ導体と、このストリップ導体と共平面上に配置される接地導体とによりコプレーナ線路を形成したことを特徴とするマイクロ波集積回路装置を提供する。また、上記の目的を達成するために、本発明によれば、サスペンデッドストリップ線路をシャーシ側に設けられる支持部に支持させて形成するマイクロ波集積回路装置の製造方法において、前記サスペンデッドストリップ線路のストリップ導体と共平面上に接地導体を配置してコプレーナ線路を形成することを特徴とするマイクロ波集積回路装置の製造方法を提供する。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明のマイクロ波集積回路装置およびその製造方法に係る実施の形態を添付図面を参照して説明する。
【0013】
図1は、本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置の概要を示す。
【0014】
このマイクロ波集積回路装置10は、例えばミリ波等の高周波領域において使用されるモノリシックマイクロ波集積回路装置等のマイクロ波集積回路装置であって、アンプやフィルタ等のパッシブ系マイクロ波集積回路装置として採用するに適するものである。
【0015】
また、このマイクロ波集積回路装置10には、サスペンデッドストリップ線路11が備えられ、このサスペンデッドストリップ線路11を構成するストリップ導体12が通信電極として良好な伝送特性が得られるものである。
【0016】
このマイクロ波集積回路装置10は、金属製の導電性薄板で形成されるシャーシ13内に、その両側壁中央部の対向位置に一部を切り起こして支持部14,14が形成される。
【0017】
この支持部(支持部)14,14は、シャーシ13の側面より突出幅cをもって突出しており、この両支持部14,14間に懸架されるようにサスペンデッドストリップ線路11を載置した構成である。
【0018】
このサスペンデッドストリップ線路11は、誘電体基板15,この誘電体基板15の中央部に配置した信号線路となるストリップ導体12,このストリップ導体16の両側部において、誘電体基板15上のストリップ導体12と共平面上に配置される接地導体17,17とより構成される。
【0019】
この接地導体17,17は、それぞれ横幅d1およびd2を有するもので、シャーシ13の側面に接触した状態でストリップ導体12と共平面上に配置している。
【0020】
接地導体17,17は、それぞれ横幅d1およびd2を取ることにより、ストリップ導体12との間で、間隙t1およびt2が共平面状に形成され、ストリップ導体12と誘電体基板15上との間で発生する磁界bによる通信特性の劣化の原因を解消するコプレーナ線路18が形成されるようになっている。
【0021】
シャーシ13の支持部14,14の突出幅cは、接地導体17,17の横幅d1およびd2との間に、両支持部14,14の突出幅cとは、c.d1,d2の関係がある。
【0022】
また、誘電体基板15上に配置されるストリップ導体12および接地導体17は、図2に示されるように、縦方向にl寸法を有して整列した構成である。
【0023】
従って、ストリップ導体12は、接地側の支持部14,14より、接地導体17,17がより近接位置にあるため、後述する磁界bの影響が極小したコプレーナ線路18が形成される。
【0024】
このコプレーナ線路18の形成に伴い、誘電体基板15上の間隙t1およびt2の間隙の部位に発生する電界aを減少化あるいは極小化する作用がなされる。
【0025】
このコプレーナ線路18の形成により、サスペンデッドストリップ線路11として良好で低損失の伝送特性が得られるようになる。
【0026】
次に、マイクロ波集積回路装置導体10の作用について説明する。
【0027】
マイクロ波集積回路装置導体10のサスペンデッドストリップ線路11における信号の伝送に伴い発生する電界aは、コプレーナ線路18の特性により低減化され、電界aの影響で起生する磁界が極小化される。
【0028】
この磁界bの極小化により、サスペンデッドストリップ線路11として良好で低損失の伝送特性が得られる。
【0029】
また、マイクロ波集積回路装置10の製造にあたっては、第1のステップとして、誘電体基板15上の中央部にストリップ導体12を、また横幅d1およびd2を有する接地導体17,17をシャーシ13側に接地されるよう配置する。
【0030】
また、第2のステップとして、シャーシ13の側面に形成する支持部14,14は、シャーシ13の側面の一部を切り起こし、ほぼ同じ高さ位置になるよう形成する。
【0031】
この切り起こしの際、支持部14,14の横幅cは、接地導体17,17の横幅d1,d2の範囲内とする。
【0032】
更に、第3のステップとして、この支持部14,14にサスペンデッドストリップ線路11を載架して保持する。
【0033】
このように第1〜3のステップにより、マイクロ波集積回路装置10が組立てられる。
【0034】
この組立てられたマイクロ波集積回路装置10は、サスペンデッドストリップ線路11自体の電界集中の防止化作用に加えて、コプレーナ線路18による電界集中の極小化作用により、ストリップ導体12が通信電極として良好な伝送特性が得られる。
【0035】
【発明の効果】
本発明によれば、サスペンデッドマイクロストリップ線路およびコプレーナ線路による特性を利用したマイクロ波集積回路装置として、製造性がよい上に、性能がより安定し且つ向上し得るようにしたマイクロ波集積回路装置およびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置の概要を示す断面図。
【図2】本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置のサスペンデッドストリップ線路の平面図。
【図3】従来のマイクロ波集積回路装置におけるサスペンデッドストリップ線路を支持部により支持された状態を示し、(a)は要部の概略斜視図、(b)はその側面図。
【符号の説明】
10 マイクロ波集積回路装置
11 サスペンデッドストリップ線路
12 ストリップ導体
13 シャーシ
14 支持部
15 誘電体基板
17 接地導体
18 コプレーナ線路
a 電界
b 磁界
【発明の属する技術分野】
本発明は、サスペンデッドストリップ線路を集積回路の伝送線路に適用した技術に係るもので、特に信号線路系の信号特性を良好にしたマイクロ波集積回路装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
サスペンデッドストリップ線路に関わる信号線路系の信号特性を良好にし得るものとして、サスペンデッドストリップ線路を平面型のサスペンデッドストリップ線路サポータを介して空間的に保持したマイクロ波集積回路装置がある。
【0003】
このマイクロ波集積回路装置は、信号出力を低損失に抑える特性を有するもので、例えば、ミリ波等の高周波領域まで多用されているサスペンデッドストリップ線路への使用例が特許文献1に開示されている。
【0004】
このマイクロ波集積回路装置は、図3に示されるように、テレビジョン送信機等に用いられる合成器に関し、特にサスペンデッドストリップ線路型合成器に関するもので、シャーシ1上に所要の間隔を置いてサスペンデッドストリップ線路2を配設したものであり、このサスペンデッドストリップ線路2の支持を行なうために絶縁材料で形成された一対の絶縁体支持部3でサスペンデッドストリップ線路2の両辺を支持している。
【0005】
この絶縁体支持部3はボルト・ナット4によりシャーシ1上に固定される。
【0006】
このようにシャーシ1上に所要の間隔を置いてサスペンデッドストリップ線路2を配設する構成とすることにより、両絶縁体支持部3間に電界を集中させることにより、サスペンデッドストリップ線路2に要請される、例えば高インピーダンス特性の特性確保を可能としていた。
【0007】
【特許文献1】
特開平5−218709号公報(第2頁左欄[従来の技術]の項並びに図3(シャーシ1上に、両絶縁体支持部3を介してサスペンデッドストリップ線路2を配置した構成))
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来のマイクロ波集積回路装置は、両絶縁体支持部間に電界を集中させる必要から別個の絶縁体部材からなる絶縁体支持部を用いざるを得ないこと、また、絶縁体支持部の固定位置を調整しながらボルト・ナットにて個々に締め付け固定しなければならないという、固定作業上の制約があった。
【0009】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたもので、サスペンデッドストリップ線路の支持部の材料選定や支持部の固定作業に関わる制約を不要とすると同時にサスペンデッドストリップ線路のより一層の通信特性確保を可能としたマイクロ波集積回路装置を得ることを主な目的とする。
【0010】
また、本発明の他の目的は、製造が容易であり、かつ性能の安定したマイクロ波集積回路装置の製造方法を得ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、シャーシに設けられる支持部に支持されるサスペンデッドストリップ線路を備えたマイクロ波集積回路装置において、前記サスペンデッドストリップ線路は、誘電体基板の中央部に配置されるストリップ導体と、このストリップ導体と共平面上に配置される接地導体とによりコプレーナ線路を形成したことを特徴とするマイクロ波集積回路装置を提供する。また、上記の目的を達成するために、本発明によれば、サスペンデッドストリップ線路をシャーシ側に設けられる支持部に支持させて形成するマイクロ波集積回路装置の製造方法において、前記サスペンデッドストリップ線路のストリップ導体と共平面上に接地導体を配置してコプレーナ線路を形成することを特徴とするマイクロ波集積回路装置の製造方法を提供する。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明のマイクロ波集積回路装置およびその製造方法に係る実施の形態を添付図面を参照して説明する。
【0013】
図1は、本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置の概要を示す。
【0014】
このマイクロ波集積回路装置10は、例えばミリ波等の高周波領域において使用されるモノリシックマイクロ波集積回路装置等のマイクロ波集積回路装置であって、アンプやフィルタ等のパッシブ系マイクロ波集積回路装置として採用するに適するものである。
【0015】
また、このマイクロ波集積回路装置10には、サスペンデッドストリップ線路11が備えられ、このサスペンデッドストリップ線路11を構成するストリップ導体12が通信電極として良好な伝送特性が得られるものである。
【0016】
このマイクロ波集積回路装置10は、金属製の導電性薄板で形成されるシャーシ13内に、その両側壁中央部の対向位置に一部を切り起こして支持部14,14が形成される。
【0017】
この支持部(支持部)14,14は、シャーシ13の側面より突出幅cをもって突出しており、この両支持部14,14間に懸架されるようにサスペンデッドストリップ線路11を載置した構成である。
【0018】
このサスペンデッドストリップ線路11は、誘電体基板15,この誘電体基板15の中央部に配置した信号線路となるストリップ導体12,このストリップ導体16の両側部において、誘電体基板15上のストリップ導体12と共平面上に配置される接地導体17,17とより構成される。
【0019】
この接地導体17,17は、それぞれ横幅d1およびd2を有するもので、シャーシ13の側面に接触した状態でストリップ導体12と共平面上に配置している。
【0020】
接地導体17,17は、それぞれ横幅d1およびd2を取ることにより、ストリップ導体12との間で、間隙t1およびt2が共平面状に形成され、ストリップ導体12と誘電体基板15上との間で発生する磁界bによる通信特性の劣化の原因を解消するコプレーナ線路18が形成されるようになっている。
【0021】
シャーシ13の支持部14,14の突出幅cは、接地導体17,17の横幅d1およびd2との間に、両支持部14,14の突出幅cとは、c.d1,d2の関係がある。
【0022】
また、誘電体基板15上に配置されるストリップ導体12および接地導体17は、図2に示されるように、縦方向にl寸法を有して整列した構成である。
【0023】
従って、ストリップ導体12は、接地側の支持部14,14より、接地導体17,17がより近接位置にあるため、後述する磁界bの影響が極小したコプレーナ線路18が形成される。
【0024】
このコプレーナ線路18の形成に伴い、誘電体基板15上の間隙t1およびt2の間隙の部位に発生する電界aを減少化あるいは極小化する作用がなされる。
【0025】
このコプレーナ線路18の形成により、サスペンデッドストリップ線路11として良好で低損失の伝送特性が得られるようになる。
【0026】
次に、マイクロ波集積回路装置導体10の作用について説明する。
【0027】
マイクロ波集積回路装置導体10のサスペンデッドストリップ線路11における信号の伝送に伴い発生する電界aは、コプレーナ線路18の特性により低減化され、電界aの影響で起生する磁界が極小化される。
【0028】
この磁界bの極小化により、サスペンデッドストリップ線路11として良好で低損失の伝送特性が得られる。
【0029】
また、マイクロ波集積回路装置10の製造にあたっては、第1のステップとして、誘電体基板15上の中央部にストリップ導体12を、また横幅d1およびd2を有する接地導体17,17をシャーシ13側に接地されるよう配置する。
【0030】
また、第2のステップとして、シャーシ13の側面に形成する支持部14,14は、シャーシ13の側面の一部を切り起こし、ほぼ同じ高さ位置になるよう形成する。
【0031】
この切り起こしの際、支持部14,14の横幅cは、接地導体17,17の横幅d1,d2の範囲内とする。
【0032】
更に、第3のステップとして、この支持部14,14にサスペンデッドストリップ線路11を載架して保持する。
【0033】
このように第1〜3のステップにより、マイクロ波集積回路装置10が組立てられる。
【0034】
この組立てられたマイクロ波集積回路装置10は、サスペンデッドストリップ線路11自体の電界集中の防止化作用に加えて、コプレーナ線路18による電界集中の極小化作用により、ストリップ導体12が通信電極として良好な伝送特性が得られる。
【0035】
【発明の効果】
本発明によれば、サスペンデッドマイクロストリップ線路およびコプレーナ線路による特性を利用したマイクロ波集積回路装置として、製造性がよい上に、性能がより安定し且つ向上し得るようにしたマイクロ波集積回路装置およびその製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置の概要を示す断面図。
【図2】本発明の実施形態であるマイクロ波集積回路装置のサスペンデッドストリップ線路の平面図。
【図3】従来のマイクロ波集積回路装置におけるサスペンデッドストリップ線路を支持部により支持された状態を示し、(a)は要部の概略斜視図、(b)はその側面図。
【符号の説明】
10 マイクロ波集積回路装置
11 サスペンデッドストリップ線路
12 ストリップ導体
13 シャーシ
14 支持部
15 誘電体基板
17 接地導体
18 コプレーナ線路
a 電界
b 磁界
Claims (4)
- シャーシの支持部に支持されるサスペンデッドストリップ線路を備えたマイクロ波集積回路装置において、
前記サスペンデッドストリップ線路は、誘電体基板の中央部に配置されるストリップ導体と、
このストリップ導体と共平面上に配置される接地導体とによりコプレーナ線路を形成したことを特徴とするマイクロ波集積回路装置。 - 前記サスペンデッドストリップ線路の支持部は、前記シャーシ側壁部より一体的に突出させて形成したことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波集積回路装置。
- サスペンデッドストリップ線路をシャーシ側の支持部に支持させて形成するマイクロ波集積回路装置の製造方法において、
前記サスペンデッドストリップ線路のストリップ導体と共平面上に接地導体を配置してコプレーナ線路を形成することを特徴とするマイクロ波集積回路装置の製造方法。 - 前記サスペンデッドストリップ線路を支持するシャーシの支持部を、前記シャーシ側壁部より一体的に突出させて形成することを特徴とする請求項3記載のマイクロ波集積回路装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002378258A JP2004214713A (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | マイクロ波集積回路装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002378258A JP2004214713A (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | マイクロ波集積回路装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004214713A true JP2004214713A (ja) | 2004-07-29 |
Family
ID=32815190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002378258A Pending JP2004214713A (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | マイクロ波集積回路装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004214713A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018173543A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 住友大阪セメント株式会社 | 光デバイス |
-
2002
- 2002-12-26 JP JP2002378258A patent/JP2004214713A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018173543A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 住友大阪セメント株式会社 | 光デバイス |
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