JP2004200571A - パワーモジュール用基板及びその製造方法、パワーモジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】加工性が良好で軽量化を図り、また充分な強度を得ることができると共に反り防止を図ること。
【解決手段】放熱体16が金属製の主構成体17に低熱膨張係数からなるフィラー18が設けられる。主構成体17は、Cu若しくはCu合金等のような熱伝導率の良好な材質いわゆる高熱伝導材によって形成される。フィラー18は、適度の大きさを有する線状体で、主構成体17の熱膨張係数より小さい熱膨張係数の金属、例えばインバー合金からなっていて主構成体17と一体に形成され、放熱体16が形成されたとき、面上で特定方向を向くように配向されている。
【選択図】 図2
【解決手段】放熱体16が金属製の主構成体17に低熱膨張係数からなるフィラー18が設けられる。主構成体17は、Cu若しくはCu合金等のような熱伝導率の良好な材質いわゆる高熱伝導材によって形成される。フィラー18は、適度の大きさを有する線状体で、主構成体17の熱膨張係数より小さい熱膨張係数の金属、例えばインバー合金からなっていて主構成体17と一体に形成され、放熱体16が形成されたとき、面上で特定方向を向くように配向されている。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、パワーモジュール用基板の製造方法と、その方法によって得られるパワーモジュール用基板とパワーモジュールとに係り、特に大電圧・大電流を制御する半導体装置に用いられて、半導体チップ等の発熱体から発生する熱を放散させるのに好適な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置としてのパワーモジュールは、一般に、半導体チップがパワーモジュール用基板に搭載され、半導体チップの熱がパワーモジュール用基板に伝達されることから、パワーモジュール基板に伝わる熱を放熱する必要がある。
この種のパワーモジュール用基板にあっては、セラミックス材料からなる絶縁基板の一方の面に回路層を、他方の面に放熱体を各々備え、この放熱体の絶縁基板と対向する面に、冷却水等の冷却手段を備えた冷却シンク部を備えた構成のものが一般的である。
このようなパワーモジュール用基板に設けられる放熱体は、絶縁基板と接合するために低熱膨張材であることが要求される一方、絶縁基板に搭載された半導体チップの熱を放熱するために高熱伝導性も要求される。
【0003】
これらの要求を満たすため、放熱体として、セラミックス仮焼結体にAlを含浸したAlSiCや、Cuを含浸したCuSiC、更にはカーボンにAl又はCuを含浸したAlC又はCuCなどが知られているが、金属系としては、従来では、モリブデン(Mo)やタングステン(W)の仮焼結体にCuを含浸したCuMoやCuWが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開平11−097593号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のパワーモジュール用基板において、放熱体がCuMoで構成されると、Mo自体が重くかつ硬度があるので、加工性に劣ると共に軽量化しにくい問題があった。また、Moの熱膨張係数が5.5×10−6(/℃)であって、絶縁基板の4.6×10−6(/℃)より大きく、Cuとの複合体を形成する上で完全な接合性を得ることができにくいので強度上の問題があり、しかも絶縁基板と高温によって接合されたとき、熱膨張係数の違いにより大きな反りを発生するという問題もあった。
【0006】
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、加工性が良好で軽量化を図り、また充分な強度を得ることができると共に反り防止を図ることができるパワーモジュール用基板及びその製造方法並びにパワーモジュールを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に係る発明は、絶縁基板の一方の面に放熱体を設けると共に、前記絶縁基板の他方の面に回路層を設けるパワーモジュール用基板の製造方法において、前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、該主構成体の熱膨張係数より小さい低熱膨張材からなる金属製の線状体を所望方向に配向して一体に形成することを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の一定方向の強度を確実に上げることができ、また、加工性が良好で軽量化できる。
【0008】
請求項2に係る発明は、請求項1記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、前記主構成体の粉末中に前記線状体を混入し、かつ粉末圧延処理又は粉末押出処理により前記放熱体を形成することを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、主構成体中の粉末中に線状体が混入するので、線状体の向きが制約を受けることがなくなり、線状体を確実に所望方向に向けた状態で形成することができる。
【0009】
請求項3に係る発明は、請求項1又は2記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、前記線状体を、前記主構成体に対し磁場によって所望の方向に配向させることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、磁場を利用することで線状体の向きを制御できるので、線状体を確実に所望の方向に向けて配向できる。
【0010】
請求項4に係る発明は、絶縁基板と、該絶縁基板の一方の面に設けられた放熱体と、前記絶縁基板の他方の面に設けられた回路層とを備えたパワーモジュール用基板において、前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、低熱膨張係数からなる金属製の線状体を所望方向に配向させていることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の一定方向の強度を確実に上げることができ、また、加工性が良好で軽量化できる。
【0011】
請求項5に係る発明は、請求項4記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体は、体積含有率が放熱体全体の50%以上であることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、放熱体が体積含有率50%以上の線状体で構成されるので、放熱体の強度を確実に上げることができる。
【0012】
請求項6に係る発明は、請求項記4又は5記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体と交差方向に配置される低熱膨張係数の線状体を備えることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、線状体が交差方向に配置されることで、放熱体の交差方向の強度を上げることができ、基板全体の強度をより高めることができる。
【0013】
請求項7に係る発明は、請求項4〜6のいずれかに記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体は、放熱体の厚み方向に沿い前記主構成体中における線状体密度の高い高密度層と密度の低い粗密度層とを有することを特徴とする。この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、線状体が高密度層と粗密度層とを適宜設けることで、強度が上がり、かつ反り防止効果を良好に行える。
【0014】
請求項8に係る発明は、請求項4〜7のいずれかに記載の放熱体において、前記主構成体は、Cuと、その合金と、Alと、その合金とのいずれかであり、前記低熱膨張材は、鉄ニッケル系合金であることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、主構成体がCuとその合金とAlとその合金のいずれかであって、低熱膨張材が鉄ニッケル系合金であるので、放熱体全体放熱体内における金属間同士を強固に接合でき、良好な接合性を確実に得ることができる。
【0015】
請求項9に係る発明は、請求項4〜8のいずれかに記載のパワーモジュール用基板の絶縁基板上にチップを搭載してなることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュールによれば、加工性が良好でかつ軽量で、その上反り防止を図る、良好なパワーモジュール用基板を有するパワーモジュールが確実に得られる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。図1から図3はこの発明の第1の実施の形態に係るパワーモジュール用基板を示す図であって、図1はパワーモジュール用基板を適用したパワーモジュールを示す全体図、図2は放熱体を示す説明用斜視図、図3は粉末圧延処理によって高熱伝導材の粉末に線状体を混入させて成形するときの説明図である。
図1に示すこの実施形態のパワーモジュールPにおいて、パワーモジュール用基板10は、大別すると、絶縁基板11と、放熱体16とを備える。
絶縁基板11は、例えばAlN、Al2O3、Si3N4、SiC等により所望の大きさに形成され、その上面及び下面に回路層12及び金属層13がそれぞれ積層接合される。回路層12及び金属層13は、Al、Cu等により形成されている。
【0017】
絶縁基板11の回路層12上にはんだ14によって半導体チップ30が搭載される一方、金属層13の下面にはんだ15によって、或いはろう付けや拡散接合等によって放熱体16が接合され、更に、この放熱体16が冷却シンク部20に取り付けられて使用され、該冷却シンク部20内の冷却水(或いは冷却空気)21により、放熱体16に伝達される熱が外部に放熱されることで、パワーモジュールPが構成されている。放熱体16は、冷却シンク部20に取付ねじ22によって密着した状態で取り付けられる。
【0018】
この実施形態は、放熱体16が金属製の主構成体17に低熱膨張係数からなるフィラー18が設けられている。主構成体17は、例えばCu若しくはCu合金等のような熱伝導率の良好な材質、いわゆる高熱伝導材によって形成されている。
【0019】
一方、フィラー18は、適度の大きさを有する線状体であって、主構成体17の熱膨張係数より小さい熱膨張係数の金属、例えばインバー合金からなっていて主構成体17と一体に形成される。インバー合金(以下、インバーと略称す)は、室温付近でほとんど熱膨張が生じない合金であって、Feが64.6mol%で、Niが35.4mol%の組成率となっている。但し、Fe中には、それ以外の不可避不純物が含まれたものもインバー合金と呼ばれている。
【0020】
また、フィラー18は、放熱体16が形成されたとき、面上で特定方向を向くように配向されており、例えば図2に示すように長四角形状の放熱体16を形成したとき、その長手方向に沿うように配向されている。
このような放熱体16は、製造に際し、粉末圧延処理において、図3に示すように、ホッパーA内の主構成体17をなす粉末17′中にフィラー18を混入させ、圧延ローラBによって送り出すことにより、粉末17′中でフィラー18が整列され、その状態で主構成体17とフィラー18とが一体に成形されるようになっている。或いは図示しないが、コンフォーム等のような粉末押出装置により、粉末押出処理することで成形するようにしてもよい。更には、フィラー18の向きを制御可能に磁場を構成しておき、その磁力によってフィラー18の向きを揃えるようにしてもよい。
なお、図1及び図2において、フィラー18は、放熱体16の面方向及び厚み方向でそれぞれ略均等の間隔に設けられているが、間隔は不均一であってもよく、要は、放熱体16の面方向に配向されていればよい。
【0021】
そして、フィラー18が混入された放熱体16としては、熱伝導率が100W/mK以上で、熱膨張係数が絶縁基板11の熱膨張係数αの±40%程度、つまり4×10−6/K<α<10×10−6/Kの大きさとなっている。この場合、放熱体16全体におけるフィラー18の占める割合としては、体積含有率(断面積比率ともいう)が少なくとも30%以上、好ましいのは50%以上である。
【0022】
このように、パワーモジュール用基板10を構成する放熱体16が、主構成体17に対しインバーのような低熱膨張係数からなるフィラー18が特定方向を向くように形成されると、放熱体16の一定方向の強度を確実に上げることができる。そのため、放熱体16がはんだ14或いはろう付け等のような高温によって絶縁基板11と接合されても、その熱で放熱体16に反りが発生するのを抑えることができる。しかも、主構成体17にフィラー18が存在することで放熱体16全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるので、放熱体16の反り防止効果がより高まる。
【0023】
また、フィラー18は、Moのような重さ及び硬さがないので、加工性が良好となり、その上、放熱体16自体を軽量化することができてパワーモジュール用基板10全体の軽量化を図ることができ、更にはCuやCu合金からなる高熱伝導材の主構成体17との接合性が良好で略完全な整合性が得られる。
【0024】
そして、放熱体16の成形時には、図3に示す粉末圧延処理や粉末押出処理により、若しくは磁場を利用することにより、主構成体17の粉末17′中に混入されたフィラー18を特定の方向に容易に配向させることができる。これにより、加工性が良好で軽量化でき、また充分な強度を得ることができると共に反り防止を図ることができるパワーモジュール用基板10を確実に製造することができる。
【0025】
図4は、この発明の第2の実施の形態に係るパワーモジュール用基板の放熱体を示している。
図4に示すパワーモジュール用基板10の放熱体16は、フィラー18Aが配向された第1主構成体17Aと、フィラー18Bが配向された第2構成体17Bとが接合して構成されている。そして、第1主構成体17Aのフィラー18Aに対し、第2主構成体17Bのフィラー18Bが直交する方向に設けられ、従って、フィラー18Aと18Bとが互いに交差方向に配置されている。
【0026】
この実施形態によれば、各主構成体17A、17B中にフィラー18A、18Bがそれぞれ設けられていることから、基本的には第1の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのに加え、フィラー18Aと18Bとが交差方向に配設されていることから、放熱体16の強度が交差方向に亘って上がり、反り防止効果の高いパワーモジュール用基板10を得ることができ、それだけパワーモジュールの信頼性が高まる。
【0027】
図5は、この発明の第3の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
この実施形態において、放熱体16が第1〜第3主構成体17A〜17Cによって互いに接合され、それら各主構成体17A〜17Cにインバーからなるフィラー18が配向して設けられている。フィラー18は、各主構成体17A〜17Cにおいて、絶縁基板11寄りの上面側には比較的密に配向されることで高密度層18aに構成されると共に、それより下面側には、高密度層18aより粗密に配向された粗密度層18bに構成されている。従って、このフィラー18は、高密度層18aと粗密度層18bとからなっている。
このように、各主構成体17A〜17C中に配向されるフィラー18の密度を変えることで、放熱体16の強度を上げると共に、反り低減効果を高めることもできる。
【0028】
なお、図示実施の形態において、放熱体の主構成体としてCu、又はその合金を用いた例を示したが、上述したように、粉末圧延処理や粉末押出処理によって放熱体16を形成すれば、例えばAlやその合金の表面に生じている酸化膜を破壊させることができるので、これらが主構成体となる放熱体を形成することもでき、図示例に限定されるものではない。
更に、フィラー18以外の低熱膨張係数の金属粉末を混入させることで、放熱体16全体の熱膨張係数及び熱伝導率をいっそう調整することもできると共に、放熱体内における金属間同士をより強固に接合することもできる。いずれにしろ、フィラー18のみならず、他の低熱膨張材、例えば42合金、Cuインバー、スーパーインバー等で代用することもでき、要は、鉄ニッケル系合金であればよい。
また、放熱体16に冷却シンク部31を設けた構成を示したが、この形態に限らず、放熱体16表面にろう材を介してコルゲートフィンを設ける構成としてもよい。
【0029】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に係る発明によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が配向されて放熱体を形成したので、放熱体の強度を確実に上げ、反り防止を図り、かつ加工性が良好で軽量化できるパワーモジュール用基板を製造できる効果が得られ、特に窒化アルミナからなる絶縁基板にろう付けのような高温で放熱体を接合するのに有益となる。
【0030】
請求項2に係る発明によれば、線状体の向きが制約を受けることがなく、主構成体中の粉末中に線状体を確実に所望方向に向けた状態で形成できるという効果が得られる。
【0031】
請求項3に係る発明によれば、磁場を利用することで線状体の向きを制御でき、線状体を確実に所望の方向に向けて配向できるという効果が得られる。
【0032】
請求項4に係る発明によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の強度を確実に上げ、反り防止を図り、かつ加工性が良好で軽量化できる結果、パワーモジュール用基板としての信頼性が高まる効果が得られる。
【0033】
請求項5に係る発明によれば、放熱体の強度を確実に上げることができる効果が得られる。
【0034】
請求項6に係る発明によれば、線状体が交差方向に配置されることで、放熱体の交差方向の強度を上げ、基板の信頼性がより高まるという効果が得られる。
【0035】
請求項7に係る発明によれば、線状体が高密度層と粗密度層とを適宜設けることで、放熱体の強度が上がり、かつ反り防止効果を良好に行える効果が得られる。
【0036】
請求項8に係る発明によれば、放熱体全体の熱膨張係数及び熱伝導率を調整することができると共に、放熱体内における金属間同士をより強固に接合することができる効果が得られる。
【0037】
請求項9に係る発明によれば、良好なパワーモジュール用基板を有するパワーモジュールを提供できる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態に係るパワーモジュール用基板を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
【図2】パワーモジュール用基板を示す説明用斜視図である。
【図3】粉末圧延処理によって高熱伝導材の粉末に線状体を混入させて成形するときの説明図である。
【図4】この発明の第2の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
【図5】この発明の第3の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
【符号の説明】
P パワーモジュール
10 パワーモジュール用基板
11 絶縁基板
16 放熱体
17 主構成体
17′ 主構成体の粉末
18、18A、18B フィラー
18a 高密度層
18b 粗密度層
30 半導体チップ
【発明の属する技術分野】
この発明は、パワーモジュール用基板の製造方法と、その方法によって得られるパワーモジュール用基板とパワーモジュールとに係り、特に大電圧・大電流を制御する半導体装置に用いられて、半導体チップ等の発熱体から発生する熱を放散させるのに好適な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置としてのパワーモジュールは、一般に、半導体チップがパワーモジュール用基板に搭載され、半導体チップの熱がパワーモジュール用基板に伝達されることから、パワーモジュール基板に伝わる熱を放熱する必要がある。
この種のパワーモジュール用基板にあっては、セラミックス材料からなる絶縁基板の一方の面に回路層を、他方の面に放熱体を各々備え、この放熱体の絶縁基板と対向する面に、冷却水等の冷却手段を備えた冷却シンク部を備えた構成のものが一般的である。
このようなパワーモジュール用基板に設けられる放熱体は、絶縁基板と接合するために低熱膨張材であることが要求される一方、絶縁基板に搭載された半導体チップの熱を放熱するために高熱伝導性も要求される。
【0003】
これらの要求を満たすため、放熱体として、セラミックス仮焼結体にAlを含浸したAlSiCや、Cuを含浸したCuSiC、更にはカーボンにAl又はCuを含浸したAlC又はCuCなどが知られているが、金属系としては、従来では、モリブデン(Mo)やタングステン(W)の仮焼結体にCuを含浸したCuMoやCuWが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開平11−097593号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のパワーモジュール用基板において、放熱体がCuMoで構成されると、Mo自体が重くかつ硬度があるので、加工性に劣ると共に軽量化しにくい問題があった。また、Moの熱膨張係数が5.5×10−6(/℃)であって、絶縁基板の4.6×10−6(/℃)より大きく、Cuとの複合体を形成する上で完全な接合性を得ることができにくいので強度上の問題があり、しかも絶縁基板と高温によって接合されたとき、熱膨張係数の違いにより大きな反りを発生するという問題もあった。
【0006】
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、加工性が良好で軽量化を図り、また充分な強度を得ることができると共に反り防止を図ることができるパワーモジュール用基板及びその製造方法並びにパワーモジュールを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に係る発明は、絶縁基板の一方の面に放熱体を設けると共に、前記絶縁基板の他方の面に回路層を設けるパワーモジュール用基板の製造方法において、前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、該主構成体の熱膨張係数より小さい低熱膨張材からなる金属製の線状体を所望方向に配向して一体に形成することを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の一定方向の強度を確実に上げることができ、また、加工性が良好で軽量化できる。
【0008】
請求項2に係る発明は、請求項1記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、前記主構成体の粉末中に前記線状体を混入し、かつ粉末圧延処理又は粉末押出処理により前記放熱体を形成することを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、主構成体中の粉末中に線状体が混入するので、線状体の向きが制約を受けることがなくなり、線状体を確実に所望方向に向けた状態で形成することができる。
【0009】
請求項3に係る発明は、請求項1又は2記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、前記線状体を、前記主構成体に対し磁場によって所望の方向に配向させることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板の製造方法によれば、磁場を利用することで線状体の向きを制御できるので、線状体を確実に所望の方向に向けて配向できる。
【0010】
請求項4に係る発明は、絶縁基板と、該絶縁基板の一方の面に設けられた放熱体と、前記絶縁基板の他方の面に設けられた回路層とを備えたパワーモジュール用基板において、前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、低熱膨張係数からなる金属製の線状体を所望方向に配向させていることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の一定方向の強度を確実に上げることができ、また、加工性が良好で軽量化できる。
【0011】
請求項5に係る発明は、請求項4記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体は、体積含有率が放熱体全体の50%以上であることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、放熱体が体積含有率50%以上の線状体で構成されるので、放熱体の強度を確実に上げることができる。
【0012】
請求項6に係る発明は、請求項記4又は5記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体と交差方向に配置される低熱膨張係数の線状体を備えることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、線状体が交差方向に配置されることで、放熱体の交差方向の強度を上げることができ、基板全体の強度をより高めることができる。
【0013】
請求項7に係る発明は、請求項4〜6のいずれかに記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体は、放熱体の厚み方向に沿い前記主構成体中における線状体密度の高い高密度層と密度の低い粗密度層とを有することを特徴とする。この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、線状体が高密度層と粗密度層とを適宜設けることで、強度が上がり、かつ反り防止効果を良好に行える。
【0014】
請求項8に係る発明は、請求項4〜7のいずれかに記載の放熱体において、前記主構成体は、Cuと、その合金と、Alと、その合金とのいずれかであり、前記低熱膨張材は、鉄ニッケル系合金であることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュール用基板によれば、主構成体がCuとその合金とAlとその合金のいずれかであって、低熱膨張材が鉄ニッケル系合金であるので、放熱体全体放熱体内における金属間同士を強固に接合でき、良好な接合性を確実に得ることができる。
【0015】
請求項9に係る発明は、請求項4〜8のいずれかに記載のパワーモジュール用基板の絶縁基板上にチップを搭載してなることを特徴とする。
この発明に係るパワーモジュールによれば、加工性が良好でかつ軽量で、その上反り防止を図る、良好なパワーモジュール用基板を有するパワーモジュールが確実に得られる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。図1から図3はこの発明の第1の実施の形態に係るパワーモジュール用基板を示す図であって、図1はパワーモジュール用基板を適用したパワーモジュールを示す全体図、図2は放熱体を示す説明用斜視図、図3は粉末圧延処理によって高熱伝導材の粉末に線状体を混入させて成形するときの説明図である。
図1に示すこの実施形態のパワーモジュールPにおいて、パワーモジュール用基板10は、大別すると、絶縁基板11と、放熱体16とを備える。
絶縁基板11は、例えばAlN、Al2O3、Si3N4、SiC等により所望の大きさに形成され、その上面及び下面に回路層12及び金属層13がそれぞれ積層接合される。回路層12及び金属層13は、Al、Cu等により形成されている。
【0017】
絶縁基板11の回路層12上にはんだ14によって半導体チップ30が搭載される一方、金属層13の下面にはんだ15によって、或いはろう付けや拡散接合等によって放熱体16が接合され、更に、この放熱体16が冷却シンク部20に取り付けられて使用され、該冷却シンク部20内の冷却水(或いは冷却空気)21により、放熱体16に伝達される熱が外部に放熱されることで、パワーモジュールPが構成されている。放熱体16は、冷却シンク部20に取付ねじ22によって密着した状態で取り付けられる。
【0018】
この実施形態は、放熱体16が金属製の主構成体17に低熱膨張係数からなるフィラー18が設けられている。主構成体17は、例えばCu若しくはCu合金等のような熱伝導率の良好な材質、いわゆる高熱伝導材によって形成されている。
【0019】
一方、フィラー18は、適度の大きさを有する線状体であって、主構成体17の熱膨張係数より小さい熱膨張係数の金属、例えばインバー合金からなっていて主構成体17と一体に形成される。インバー合金(以下、インバーと略称す)は、室温付近でほとんど熱膨張が生じない合金であって、Feが64.6mol%で、Niが35.4mol%の組成率となっている。但し、Fe中には、それ以外の不可避不純物が含まれたものもインバー合金と呼ばれている。
【0020】
また、フィラー18は、放熱体16が形成されたとき、面上で特定方向を向くように配向されており、例えば図2に示すように長四角形状の放熱体16を形成したとき、その長手方向に沿うように配向されている。
このような放熱体16は、製造に際し、粉末圧延処理において、図3に示すように、ホッパーA内の主構成体17をなす粉末17′中にフィラー18を混入させ、圧延ローラBによって送り出すことにより、粉末17′中でフィラー18が整列され、その状態で主構成体17とフィラー18とが一体に成形されるようになっている。或いは図示しないが、コンフォーム等のような粉末押出装置により、粉末押出処理することで成形するようにしてもよい。更には、フィラー18の向きを制御可能に磁場を構成しておき、その磁力によってフィラー18の向きを揃えるようにしてもよい。
なお、図1及び図2において、フィラー18は、放熱体16の面方向及び厚み方向でそれぞれ略均等の間隔に設けられているが、間隔は不均一であってもよく、要は、放熱体16の面方向に配向されていればよい。
【0021】
そして、フィラー18が混入された放熱体16としては、熱伝導率が100W/mK以上で、熱膨張係数が絶縁基板11の熱膨張係数αの±40%程度、つまり4×10−6/K<α<10×10−6/Kの大きさとなっている。この場合、放熱体16全体におけるフィラー18の占める割合としては、体積含有率(断面積比率ともいう)が少なくとも30%以上、好ましいのは50%以上である。
【0022】
このように、パワーモジュール用基板10を構成する放熱体16が、主構成体17に対しインバーのような低熱膨張係数からなるフィラー18が特定方向を向くように形成されると、放熱体16の一定方向の強度を確実に上げることができる。そのため、放熱体16がはんだ14或いはろう付け等のような高温によって絶縁基板11と接合されても、その熱で放熱体16に反りが発生するのを抑えることができる。しかも、主構成体17にフィラー18が存在することで放熱体16全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるので、放熱体16の反り防止効果がより高まる。
【0023】
また、フィラー18は、Moのような重さ及び硬さがないので、加工性が良好となり、その上、放熱体16自体を軽量化することができてパワーモジュール用基板10全体の軽量化を図ることができ、更にはCuやCu合金からなる高熱伝導材の主構成体17との接合性が良好で略完全な整合性が得られる。
【0024】
そして、放熱体16の成形時には、図3に示す粉末圧延処理や粉末押出処理により、若しくは磁場を利用することにより、主構成体17の粉末17′中に混入されたフィラー18を特定の方向に容易に配向させることができる。これにより、加工性が良好で軽量化でき、また充分な強度を得ることができると共に反り防止を図ることができるパワーモジュール用基板10を確実に製造することができる。
【0025】
図4は、この発明の第2の実施の形態に係るパワーモジュール用基板の放熱体を示している。
図4に示すパワーモジュール用基板10の放熱体16は、フィラー18Aが配向された第1主構成体17Aと、フィラー18Bが配向された第2構成体17Bとが接合して構成されている。そして、第1主構成体17Aのフィラー18Aに対し、第2主構成体17Bのフィラー18Bが直交する方向に設けられ、従って、フィラー18Aと18Bとが互いに交差方向に配置されている。
【0026】
この実施形態によれば、各主構成体17A、17B中にフィラー18A、18Bがそれぞれ設けられていることから、基本的には第1の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのに加え、フィラー18Aと18Bとが交差方向に配設されていることから、放熱体16の強度が交差方向に亘って上がり、反り防止効果の高いパワーモジュール用基板10を得ることができ、それだけパワーモジュールの信頼性が高まる。
【0027】
図5は、この発明の第3の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
この実施形態において、放熱体16が第1〜第3主構成体17A〜17Cによって互いに接合され、それら各主構成体17A〜17Cにインバーからなるフィラー18が配向して設けられている。フィラー18は、各主構成体17A〜17Cにおいて、絶縁基板11寄りの上面側には比較的密に配向されることで高密度層18aに構成されると共に、それより下面側には、高密度層18aより粗密に配向された粗密度層18bに構成されている。従って、このフィラー18は、高密度層18aと粗密度層18bとからなっている。
このように、各主構成体17A〜17C中に配向されるフィラー18の密度を変えることで、放熱体16の強度を上げると共に、反り低減効果を高めることもできる。
【0028】
なお、図示実施の形態において、放熱体の主構成体としてCu、又はその合金を用いた例を示したが、上述したように、粉末圧延処理や粉末押出処理によって放熱体16を形成すれば、例えばAlやその合金の表面に生じている酸化膜を破壊させることができるので、これらが主構成体となる放熱体を形成することもでき、図示例に限定されるものではない。
更に、フィラー18以外の低熱膨張係数の金属粉末を混入させることで、放熱体16全体の熱膨張係数及び熱伝導率をいっそう調整することもできると共に、放熱体内における金属間同士をより強固に接合することもできる。いずれにしろ、フィラー18のみならず、他の低熱膨張材、例えば42合金、Cuインバー、スーパーインバー等で代用することもでき、要は、鉄ニッケル系合金であればよい。
また、放熱体16に冷却シンク部31を設けた構成を示したが、この形態に限らず、放熱体16表面にろう材を介してコルゲートフィンを設ける構成としてもよい。
【0029】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に係る発明によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が配向されて放熱体を形成したので、放熱体の強度を確実に上げ、反り防止を図り、かつ加工性が良好で軽量化できるパワーモジュール用基板を製造できる効果が得られ、特に窒化アルミナからなる絶縁基板にろう付けのような高温で放熱体を接合するのに有益となる。
【0030】
請求項2に係る発明によれば、線状体の向きが制約を受けることがなく、主構成体中の粉末中に線状体を確実に所望方向に向けた状態で形成できるという効果が得られる。
【0031】
請求項3に係る発明によれば、磁場を利用することで線状体の向きを制御でき、線状体を確実に所望の方向に向けて配向できるという効果が得られる。
【0032】
請求項4に係る発明によれば、主構成体に対し低熱膨張係数からなる線状体が特定方向を向くように配向されて放熱体が形成されるので、放熱体の強度を確実に上げ、反り防止を図り、かつ加工性が良好で軽量化できる結果、パワーモジュール用基板としての信頼性が高まる効果が得られる。
【0033】
請求項5に係る発明によれば、放熱体の強度を確実に上げることができる効果が得られる。
【0034】
請求項6に係る発明によれば、線状体が交差方向に配置されることで、放熱体の交差方向の強度を上げ、基板の信頼性がより高まるという効果が得られる。
【0035】
請求項7に係る発明によれば、線状体が高密度層と粗密度層とを適宜設けることで、放熱体の強度が上がり、かつ反り防止効果を良好に行える効果が得られる。
【0036】
請求項8に係る発明によれば、放熱体全体の熱膨張係数及び熱伝導率を調整することができると共に、放熱体内における金属間同士をより強固に接合することができる効果が得られる。
【0037】
請求項9に係る発明によれば、良好なパワーモジュール用基板を有するパワーモジュールを提供できる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態に係るパワーモジュール用基板を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
【図2】パワーモジュール用基板を示す説明用斜視図である。
【図3】粉末圧延処理によって高熱伝導材の粉末に線状体を混入させて成形するときの説明図である。
【図4】この発明の第2の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
【図5】この発明の第3の実施の形態に係るモジュール用基板の放熱体を示している。
【符号の説明】
P パワーモジュール
10 パワーモジュール用基板
11 絶縁基板
16 放熱体
17 主構成体
17′ 主構成体の粉末
18、18A、18B フィラー
18a 高密度層
18b 粗密度層
30 半導体チップ
Claims (9)
- 絶縁基板の一方の面に放熱体を設けると共に、前記絶縁基板の他方の面に回路層を設けるパワーモジュール用基板の製造方法において、
前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、該主構成体の熱膨張係数より小さい低熱膨張材からなる金属製の線状体を所望方向に配向して一体に形成することを特徴とするパワーモジュール用基板の製造方法。 - 請求項1記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、
前記主構成体の粉末中に前記線状体を混入し、かつ粉末圧延処理又は粉末押出処理により前記放熱体を形成することを特徴とするパワーモジュール用基板の製造方法。 - 請求項1又は2記載のパワーモジュール用基板の製造方法において、
前記線状体を、前記主構成体に対し磁場によって所望の方向に配向させることを特徴とするパワーモジュール用基板の製造方法。 - 絶縁基板と、該絶縁基板の一方の面に設けられた放熱体と、前記絶縁基板の他方の面に設けられた回路層とを備えたパワーモジュール用基板において、
前記放熱体は、高熱伝導材からなる金属製の主構成体に、低熱膨張係数からなる金属製の線状体を所望方向に配向させていることを特徴とするパワーモジュール用基板。 - 請求項4記載のパワーモジュール用基板において、
前記線状体は、体積含有率が放熱体全体の50%以上であることを特徴とするパワーモジュール用基板。 - 請求項記4又は5記載のパワーモジュール用基板において、前記線状体と交差方向に配置される低熱膨張係数の線状体を備えることを特徴とするパワーモジュール用基板。
- 請求項4〜6のいずれかに記載のパワーモジュール用基板において、
前記線状体は、放熱体の厚み方向に沿い前記主構成体中における線状体密度の高い高密度層と密度の低い粗密度層とを有することを特徴とするパワーモジュール用基板。 - 請求項4〜7のいずれかに記載のパワーモジュール用基板において、
前記主構成体は、Cuと、その合金と、Alと、その合金とのいずれかであり、前記低熱膨張材は、鉄ニッケル系合金であることを特徴とするパワーモジュール用基板。 - 請求項4〜8のいずれかに記載のパワーモジュール用基板の絶縁基板上にチップを搭載してなることを特徴とするパワーモジュール。
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-
2002
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