JP2005175006A - 放熱体及びパワーモジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】 母材の高熱伝導性を保持しつつ、低熱膨張性を実現することができ、また、このような構成においても、半導体チップ等の発熱体と放熱体との接合、及びダイヤモンド粒子と母材との接合を各々良好に実現することが可能になり、温度サイクル下での使用環境下においても長寿命化を図ることができる放熱体及びパワーモジュールを提供することにある。
【解決手段】 金属製の母材15内にダイヤモンド粒子17、18a、18bが混入されてなり、母材15の一方の表面11a側に設けられた発熱体からの熱を他方の表面側へ放散させる構成とされた放熱体11であって、ダイヤモンド粒子17、18a、18bの表面には、母材15と同一材質のコーティング層30を備えた金属材層32が形成されている。
【選択図】 図2

Description

この発明は、発熱体からの熱を放散させる放熱体に係り、特に半導体装置に供され、発熱体としての半導体チップからの熱を放散させるのに好適な放熱体に関するものである。
発熱体からの熱を放散させる構成とされた放熱体として、従来から、Ag,Cu,Au,Al,Mg,またはZnからなる金属製の母材内に、ダイヤモンド粒子が混入された構成が知られている(例えば特許文献1参照)。このように構成された放熱体は、一般に、発熱体としての半導体チップや、AlN等からなる絶縁基板等の熱膨張係数が比較的低い材料に接合されたパワーモジュールとして、半導体装置に組み込まれて使用されている。
すなわち、放熱体の母材を、熱伝導率が比較的高く、かつ熱膨張係数が比較的高い前述した材料により形成することにより、発熱体としての半導体チップからの熱を良好に伝導、放散させることができ、また、この母材に、高熱伝導性及び低熱膨張性を有するダイヤモンド粒子を混入することにより、母材の熱伝導率を高い状態に維持しつつ、熱膨張係数を半導体チップ等の低い熱膨張係数に近づけることができる構成となっている。これにより、半導体装置の使用時における温度サイクルにより、放熱体と半導体チップ等との熱膨張係数差に起因して発生する両者の反りを低減し、これらの接合部の破損発生を抑制できるようになっている。
特開平11−067991号公報
ところで、前記従来の放熱体では、母材とダイヤモンド粒子との熱膨張係数差に起因して、これらの良好な接合を実現することが困難であるという問題があった。
また、母材の高熱伝導性を保持しつつ、低熱膨張性を実現するには、ダイヤモンド粒子の含有量を母材の体積量を基準に調整決定することになるが、このような構成を実現しようとした場合、ダイヤモンド粒子が母材の表面に露出することがあり、すなわち、この放熱体の表面を平滑面にすることができないことがあり、この表面に半導体チップ等を接合した際に、これらの間に間隙が生じ良好に接合することができない場合があった。従って、前記間隙により、発熱体としての半導体チップからの熱が良好に放熱体に伝導せず、さらには、この間隙に熱が蓄積され半導体チップ及び放熱体の高温化を併発し、これらの破損等が発生するという問題があった。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、母材の高熱伝導性を保持しつつ、低熱膨張性を実現することができ、また、このような構成においても、半導体チップ等の発熱体と放熱体との接合、及びダイヤモンド粒子と母材との接合を各々良好に実現することが可能になり、温度サイクル下での使用環境下においても長寿命化を図ることができる放熱体及びパワーモジュールを提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に係る発明は、金属製の母材内にダイヤモンド粒子が混入されてなり、前記母材の一方の表面側に設けられた発熱体からの熱を他方の表面側へ放散させる構成とされた放熱体であって、前記ダイヤモンド粒子の表面には、前記母材と同一材質のコーティング層を備えた金属材層が形成されていることを特徴とする。
請求項2に係る発明は、請求項1記載の放熱体において、前記母材はCuまたはAgにより形成されていることを特徴とし、好ましくは純度99.999%以上のCuにより形成される。
請求項3に係る発明は、請求項1または2に記載の放熱体において、前記母材および前記コーティング層はCuにより形成され、前記金属材層は、前記コーティング層とAg材層とをこの順に備えることを特徴とする。
これらの発明に係る放熱体によれば、ダイヤモンド粒子の熱膨張係数と母材の熱膨張係数とが異なるにも拘わらず、これらを良好に接合することが可能になり、この放熱体を製造、使用する際に、ダイヤモンド粒子と母材との間に空隙が生ずることを抑制することができる。
特に、前記母材が純度99.999%以上のCuにより形成されると、この放熱体が温度サイクル下で使用された場合でも、この際の熱膨張,収縮挙動により母材が硬化することを抑制することが可能になる。したがって、この放熱体が温度サイクル下で使用された場合でも、ダイヤモンド粒子との接合部における母材は、ダイヤモンド粒子の表面に沿って略流動することになり、ダイヤモンド粒子と母材との熱膨張係数差に起因した両者間に生ずる熱応力を最小限に抑制することが可能になり、これらの間に剥離が発生することを抑制することができ、この放熱体の長寿命化を図ることができる。
請求項4に係る発明は、請求項1から3のいずれかに記載の放熱体において、前記母材の少なくとも前記一方の表面にはCu材層が形成され、該Cu材層の表面は平滑面とされていることを特徴とし、前記Cu材層は純度99.999%以上のCuにより形成されるのが好ましい。
この発明に係る放熱体によれば、母材の表面に平滑面とされたCu材層が形成されているので、例えば、この表面に発熱体としての半導体チップ、またはこの放熱体からの熱を外部へ放散させるための冷却シンクを接合する際に、これらの各接合部に間隙が生ずることを抑制することができる。従って、発熱体からの熱をこの放熱体に良好に伝導させることが可能になるとともに、伝導した熱を良好に外部へ放散させることができるようになる。
また、このCu材層を純度99.999%以上のCuにより形成すると、この放熱体が温度サイクル下で使用された場合でも、この際の熱膨張,収縮挙動によりCu材層が硬化することを抑制することが可能になる。したがって、Cu材層表面にこのCu材層より熱膨張係数が小さい半導体チップが搭載されたパワーモジュールが、温度サイクル下で使用された場合でも、Cu材層表面のうち半導体チップとの接合部は、この半導体チップの表面に沿って略流動することになり、Cu材層と半導体チップとの熱膨張係数差に起因した両者間に生ずる熱応力を最小限に抑制することが可能になり、これらの間に剥離が発生することを抑制することができる。
請求項5に係る発明は、請求項1から4のいずれかに記載の放熱体において、前記ダイヤモンド粒子は、第1のダイヤモンド粒子と、該第1のダイヤモンド粒子の粒径の1/30以上1/5以下とされた第2のダイヤモンド粒子とを備え、前記第1のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して10%以上50%以下の割合で混入され、前記第2のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して20%以上40%以下の割合で混入されていることを特徴とする。
請求項6に係る発明は、請求項5記載の放熱体において、前記ダイヤモンド粒子は、第2のダイヤモンド粒子の粒径の1/30以上1/5以下とされた第3のダイヤモンド粒子を備え、該第3のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して1%以上5%以下の割合で混入されていることを特徴とする。
請求項7に係る発明は、請求項1から4のいずれかに記載の放熱体において、前記母材に、SiC粒子、若しくは表面がCuにより被覆されたCBN粒子が含有されていることを特徴とする。
これらの発明に係る放熱体によれば、高熱伝導性及び低熱膨張性の均質化を図ることができる。
請求項8に係る発明は、請求項1から7のいずれかに記載の放熱体の前記一方の表面側に半導体チップが接合されてなることを特徴とする。
本発明に係る放熱体及びパワーモジュールによれば、使用に際し、温度サイクル下に置かれたとしても、ダイヤモンド粒子との接合の長寿命化を図ることができ、高熱伝導性と低熱膨張性とを兼ね備えた放熱体の長寿命化を図ることができる。また、放熱体と、この放熱体に接合される発熱体などとの間に間隙を生じさせることなく接合することが可能になり、この放熱体に良好な放熱特性を具備させることができる。さらに、放熱体と、この放熱体に接合される発熱体などとの接合界面に発生する熱応力を緩和させることができ、この接合部の破損発生を抑制することができる。
以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。
図1はこの発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
このパワーモジュール10は、放熱体11と、この放熱体11の一方の表面11aにはんだ層12を介して接合されたSiチップ13と、放熱体11の他方の表面11bにはんだ層12を介して接合されたALN,Al,Si,SiC等からなる絶縁基板14とを備えている。
放熱体11は、CuまたはAg好ましくは純度99.999%以上のCuからなる母材15と、この母材15の表裏面に形成された純度99.999%以上のCuからなるCu材層16とを備えている。ここで、Cu材層16の表面にはんだ層12との良好な接合性を実現するために予めNiめっき層を形成しておいてもよい。
また、放熱体11の母材15の内部には、母材15の厚さが0.75mm以上3.0mm以下の場合、粒径が300μm以下の第1のダイヤモンド粒子17が、母材15の体積に対して10%以上50%以下の割合で混入されている。また、母材15の内部には、第1のダイヤモンド粒子17の粒径の1/30以上1/5以下とされた第2のダイヤモンド粒子18aと、第2のダイヤモンド粒子18aの粒径の1/30以上1/5以下とされた第3のダイヤモンド粒子18bとを備え、第2のダイヤモンド粒子18aは、母材15の体積に対して20%以上40%以下の割合で混入され、第3のダイヤモンド粒子18bは、母材15の体積に対して1%以上5%以下の割合で混入されている。そして、これらのダイヤモンド粒子17、18a、18bは、全体の含有量が母材15の体積に対して50%以下となるように母材15の内部に混入されている。
これにより、厚さが約0.75mm以上3.0mm以下とされた母材15の内部に、粒径が300μm以下のダイヤモンド粒子17が混入されることにより、結果として、この母材15の内部に、ダイヤモンド粒子17がこの放熱体11の表裏面11a,11bに沿った方向に連続的に配置されてなる層状体を、この放熱体11の厚さ方向に5〜10個備えた構成となる。すなわち、放熱体11の厚さ方向で、ダイヤモンド粒子17の配合率を略同一にすることができるので、放熱体11の熱伝導率を厚さ方向で均一にすることができるようになっている。そして、これらのダイヤモンド粒子17同士の間隙を埋めるように第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18bが配設された構成となっている。
また、前記各層のうち、母材15の表裏面近傍に配設された層は、この層を構成するダイヤモンド粒子17等がこの表面に露出する場合があるが、母材15の表裏面に形成されたCu材層16により、ダイヤモンド粒子17等の前記露出分が被覆され、放熱体11の表裏面11a,11bは平滑面とされている。
ここで、第1のダイヤモンド粒子17および第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18bの外表面には、母材15と同一材質からなるコーティング層30と、Ag材層31とがこの順に形成されている。
なお、第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18bに代えて、表面がCuにより被覆されたCBN粒子、またはSiC粒子を母材15内に混入し、第1のダイヤモンド粒子17同士の間を埋めるような構成としてもよい。この場合においても、第1のダイヤモンド粒子17と、SiC粒子、または前記CBN粒子との全体の含有量は、母材15の体積に対して50%以下となるようにされる。
また、特に、母材15の材質がCuまたはAgにより形成された構成においては、第1から第3のダイヤモンド粒子17,18a,18bおよびCBN粒子表面にコーティング層30を形成しなくても、第1から第3のダイヤモンド粒子17,18a,18bおよびCBN粒子と母材15との必要最小限の接合強度を確保することはできる。
以上のように構成された放熱体の熱伝導率,熱膨張係数,及び温度サイクル寿命を測定した。結果を図3に示す。なお、この結果に示す温度サイクル寿命とは、放熱体の一方の表面にSiチップをはんだ層を介して接合した構成に、−40℃から125℃の温度履歴を1時間で付与したときを1サイクルとして、母材15とダイヤモンド粒子17との間に剥離が発生したときのサイクル数を示すものである。また、この図において、母材15の材質として純Cuとは純度99.96%以上のCuのことをいう。
この結果より、本実施形態においては、熱伝導率が192W/m・K以上、熱膨張係数が10×10−6/℃以下、温度サイクル寿命が3000サイクル以上であることが確認できた。すなわち、放熱体に高熱伝導性及び低熱膨張性を具備させることが可能になるとともに、ダイヤモンド粒子と母材との良好な接合状態を温度サイクル下での使用においても実現することが可能になり、従って、高熱伝導性及び低熱膨張性を長期にわたって具備させることができることが確認できた。
特に、第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18bまたはCBN粒子を母材15内に混入させた構成においては、図4に示すように、放熱体の熱伝導率を大幅に向上させることができる(515W/m・K以上)ことを確認できた。
次に、この放熱体の製造方法について説明する。
まず、Cuからなる金属粉末にダイヤモンド粒子17を混合する。この際、ダイヤモンド粒子17の配合量は、母材15の体積に対する比率で10%以上50%以下となるように設定する。そして、これを型に入れ、非酸化性雰囲気中、例えば真空状態とされた窒素ガス雰囲気中で加圧(約20MPa),加熱して焼結体を形成する。ここで、コーティング層30がCuの場合は700℃以上900℃以下で加熱し、Agの場合は600℃以上850℃以下で加熱する。その後、前記焼結体の表裏面に、Cuめっき処理を施しCuめっき層を形成する、またはCuからなる板状体を接合して、Cu材層16を形成し、放熱体11を形成する。
以上説明したように、本実施形態による放熱体11によれば、母材15がCuまたはAgにより形成され、さらには、ダイヤモンド粒子17,18a,18bおよびCBN粒子に母材15と同一材質のコーティング層30が形成されているので、ダイヤモンド粒子17,18a,18bおよびCBN粒子の熱膨張係数と、母材15との熱膨張係数とが異なるにも拘わらず、これらを良好に接合することが可能になり、この放熱体11を製造、使用する際に、ダイヤモンド粒子17,18a,18bなどと母材15との間に空隙が生ずることを抑制することができる。
特に、母材15が純度99.999%以上のCuにより形成されると、この放熱体11が温度サイクル下で使用された場合でも、この際の熱膨張,収縮挙動により母材15が硬化することを抑制することが可能になる。したがって、この放熱体11が温度サイクル下で使用された場合でも、ダイヤモンド粒子17、18a,18bなどとの接合部における母材15は、前記粒子の表面に沿って略流動することになり、前記粒子と母材15との熱膨張係数差に起因した両者間に生ずる熱応力を最小限に抑制することが可能になり、これらの間に剥離が発生することを抑制することができ、この放熱体11の長寿命化を図ることができる。
また、母材15の表面に平滑面とされたCu材層16が形成されているので、この表面に発熱体としての半導体チップ13を接合する際に、これらの各接合部に間隙が生ずることを抑制することができる。従って、半導体チップ13からの熱をこの放熱体11に良好に伝導させることが可能になるとともに、伝導した熱を良好に外部へ放散させることができるようになる。
また、このCu材層16を純度99.999%以上のCuにより形成すると、この放熱体11が温度サイクル下で使用された場合でも、この際の熱膨張,収縮挙動によりCu材層16が硬化することを抑制することが可能になる。したがって、Cu材層16表面にこのCu材層16より熱膨張係数が小さい半導体チップ13が搭載されたパワーモジュール10が、温度サイクル下で使用された場合でも、Cu材層16表面のうち半導体チップ13との接合部は、この半導体チップ13の表面に沿って略流動することになり、Cu材層16と半導体チップ13との熱膨張係数差に起因した両者間に生ずる熱応力を最小限に抑制することが可能になり、これらの間に剥離が発生することを抑制することができる。
さらに、母材15の内部に、第1のダイヤモンド粒子17と、第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18b、またはSiC粒子、または表面にCuが被覆されたCBN粒子とが混入されているので、第1のダイヤモンド粒子17同士の間に、第2,第3のダイヤモンド粒子18a,18b、またはSiC粒子、または表面にCuが被覆されたCBN粒子を配設することができるので、この放熱体11の高熱伝導性及び低熱膨張性の均質化を図ることができ、温度サイクル下での使用について、さらなる高寿命化を図ることができるとともに、熱伝導率の向上を図ることができる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、図1に示したパワーモジュール10において、絶縁基板14に替えて、内部に冷媒が配された冷却シンクを配設してもよい。また、図1に示したパワーモジュールにおいて、Siチップ13と放熱体11との間に、はんだ層12を介して冷却シンク19を配設した図5に示すパワーモジュール20であってもよい。
すなわち、放熱体は、発熱体からの熱を受け、この熱を外部へ放散させる構成に供されるものであれば、この形態の如何は不問であることはいうまでもない。
使用に際し、温度サイクル下に置かれたとしても、ダイヤモンド粒子との接合の長寿命化を図ることができ、高熱伝導性と低熱膨張性とを兼ね備えた放熱体の長寿命化を図ることができる。また、放熱体と、この放熱体に接合される発熱体などとの間に間隙を生じさせることなく接合することが可能になり、この放熱体に良好な放熱特性を具備させることができる。さらに、放熱体と、この放熱体に接合される発熱体などとの接合界面に発生する熱応力を緩和させることができ、この接合部の破損発生を抑制することができる。
本発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。 図1に示す放熱体の一部拡大断面図である。 本発明の一実施形態に係る放熱体の熱膨張係数と熱伝導率を示す図である。 本発明の一実施形態に係る放熱体の熱伝導率を示す図である。 本発明の第二実施形態に係るパワーモジュールを示す全体図である。
符号の説明
10,20 パワーモジュール
11 放熱体
13 半導体チップ(発熱体)
15 母材
16 Cu材層
17 第1のダイヤモンド粒子
18a 第2のダイヤモンド粒子
18b 第3のダイヤモンド粒子
30 コーティング層
31 Ag材層
32 金属材層

Claims (8)

  1. 金属製の母材内にダイヤモンド粒子が混入されてなり、前記母材の一方の表面側に設けられた発熱体からの熱を他方の表面側へ放散させる構成とされた放熱体であって、
    前記ダイヤモンド粒子の表面には、前記母材と同一材質のコーティング層を備えた金属材層が形成されていることを特徴とする放熱体。
  2. 請求項1記載の放熱体において、
    前記母材はCuまたはAgにより形成されていることを特徴とする放熱体。
  3. 請求項1または2に記載の放熱体において、
    前記母材および前記コーティング層はCuにより形成され、
    前記金属材層は、前記コーティング層とAg材層とをこの順に備えることを特徴とする放熱体。
  4. 請求項1から3のいずれかに記載の放熱体において、
    前記母材の少なくとも前記一方の表面にはCu材層が形成され、該Cu材層の表面は平滑面とされていることを特徴とする放熱体。
  5. 請求項1から4のいずれかに記載の放熱体において、
    前記ダイヤモンド粒子は、第1のダイヤモンド粒子と、該第1のダイヤモンド粒子の粒径の1/30以上1/5以下とされた第2のダイヤモンド粒子とを備え、前記第1のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して10%以上50%以下の割合で混入され、前記第2のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して20%以上40%以下の割合で混入されていることを特徴とする放熱体。
  6. 請求項5記載の放熱体において、
    前記ダイヤモンド粒子は、第2のダイヤモンド粒子の粒径の1/30以上1/5以下とされた第3のダイヤモンド粒子を備え、
    該第3のダイヤモンド粒子は、前記母材の体積に対して1%以上5%以下の割合で混入されていることを特徴とする放熱体。
  7. 請求項1から4のいずれかに記載の放熱体において、
    前記母材に、SiC粒子、若しくは表面がCuにより被覆されたCBN粒子が含有されていることを特徴とする放熱体。
  8. 請求項1から7のいずれかに記載の放熱体の前記一方の表面側に半導体チップが接合されてなることを特徴とするパワーモジュール。
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