JP2004179651A5 - - Google Patents

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Claims (20)

  1. 光検出器であって、
    入射光に応答して出力電流信号を生成する構成としたゲルマニウムを含む第1のフォトトランジスタと、
    前記第1のフォトトランジスタに電気的に結合し、基準電流信号を生成する構成とした第2のフォトトランジスタと、
    前記第2のフォトトランジスタを覆って配置され、該第2のフォトトランジスタへの前記入射光を遮蔽して前記基準電流信号を前記入射光から独立させる不透明層と、
    を備え、
    前記出力電流信号と前記基準電流信号とから前記入射光を検出することを特徴とする、光検出器。
  2. 前記第1のフォトトランジスタは、前記ゲルマニウムを含む吸光領域を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光検出器。
  3. 前記吸光領域が、シリコン−ゲルマニウム合金を含むことを特徴とする、請求項2に記載の光検出器。
  4. 前記吸光領域が、ほぼ0.1μmの厚みを有することを特徴とする、請求項3に記載の光検出器。
  5. シリコン基板をさらに備え、前記第1及び第2のフォトトランジスタは前記シリコン基板上に形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の光検出器。
  6. 前記第1及び第2のフォトトランジスタの少なくとも1つが、第2の導電領域内の細長い第1の導電領域と該細長い第1の導電領域に結合された導電片とを有し、該導電片のそれぞれは対応する前記第1の導電領域の長さの半分未満だけ延びていることを特徴とする、請求項1に記載の光検出器。
  7. 前記第1及び第2のフォトトランジスタの少なくとも1つが、第2の導電領域内の細長い第1の導電領域と前記第2の導電領域に選択的に結合された少なくとも1つの導電片とを有し、前記細長い第1の導電領域により画成される前記第2の導電領域の細長い導電部分のいくつかは前記少なくとも1つの導電片に結合されないことを特徴とする、請求項1に記載の光検出器。
  8. 前記第1及び第2のフォトトランジスタに接続され、高インピーダンス電圧と差動トランスインピーダンス利得をもたらすトランスインピーダンス増幅器をさらに備えることを特徴とする、請求項1に記載の光検出器。
  9. 入射光の検出方法であって、
    ゲルマニウムを含む第1のフォトトランジスタにて前記入射光を受光すること、
    前記第1のフォトトランジスタにより前記入射光に応答して第1の信号を生成すること、および
    第2のフォトトランジスタにより第2の信号を生成することとを含み、
    前記第2のフォトトランジスタを前記入射光から遮蔽して前記第2の信号を前記入射光から独立させるようにし、前記第1及び第2の信号が前記入射光の検出をもたらすようにしたことを特徴とする、入射光の検出方法。
  10. 前記第1の信号を生成することは、前記第1のフォトトランジスタの吸光領域における前記入射光の一部の電流への変換を含み、前記吸光領域が前記ゲルマニウムを含むことを特徴とする、請求項9に記載の入射光の検出方法。
  11. 前記第1及び第2のフォトトランジスタのうちの少なくとも一方は、シリコン基板上に形成されていることを特徴とする、請求項9に記載の入射光の検出方法。
  12. 前記第1及び第2のフォトトランジスタを備える差動増幅器を用いて前記第1及び第2の信号を増幅することをさらに含むことを特徴とする、請求項9に記載の入射光の検出方法。
  13. 前記第1及び第2のフォトトランジスタがアバランシェ領域近く或いはその中で動作するのに十分な電圧を該第1及び第2のフォトトランジスタにあたえることをさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載の入射光の検出方法。
  14. トランスインピーダンス増幅器を用いて前記第1及び第2の信号を増幅することをさらに含むことを特徴とする、請求項12に記載の入射光の検出方法。
  15. シリコンベースの基板と、
    前記シリコンベースの基板上に形成され差動電流信号を生成する第1及び第2の感光装置であって、該第1の感光装置はゲルマニウムを含む吸光領域を含むように構成されている、第1及び第2の感光装置と、
    前記第2の感光装置を覆って配置され、該第2の感光装置を入射光から選択的に遮蔽して前記差動電流信号の一方が前記第1の感光装置から前記入射光に応答して生成され、前記差動電流信号から前記入射光を検出できるようにするための不透明層と
    を有することを特徴とする、光検出器。
  16. 前記吸光領域が、シリコン−ゲルマニウム合金を含むことを特徴とする、請求項15に記載の光検出器。
  17. 前記第1及び第2の感光装置の少なくとも一方がフォトトランジスタを備えることを特徴とする、請求項15に記載の光検出器。
  18. 前記フォトトランジスタが、第2の導電領域内の細長い第1の導電領域と該細長い第1の導電領域に結合された導電片とを有し、該導電片のそれぞれは対応する前記第1の導電領域の長さの半分未満だけ延びていることを特徴とする、請求項17に記載の光検出器。
  19. 前記フォトトランジスタが、第2の導電領域内の細長い第1の導電領域と前記第2の導電領域に選択的に結合された少なくとも1つの導電片とを有し、前記細長い第1の導電領域により画成される前記第2の導電領域の細長い導電部分のいくつかは前記少なくとも1つの導電片に結合されないことを特徴とする、請求項17に記載の光検出器。
  20. 前記フォトトランジスタに接続されて高インピーダンス電圧と差動トランスインピーダンス利得をもたらし、該フォトトランジスタがアバランシェ領域近く或いはその中で動作できるようにするトランスインピーダンス増幅器をさらに備えることを特徴とする、請求項17に記載の光検出器。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7453129B2 (en) 2002-12-18 2008-11-18 Noble Peak Vision Corp. Image sensor comprising isolated germanium photodetectors integrated with a silicon substrate and silicon circuitry
JP4300577B2 (ja) * 2004-03-04 2009-07-22 横河電機株式会社 光電変換装置およびこれを用いた光電変換システム
US20060157806A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Omnivision Technologies, Inc. Multilayered semiconductor susbtrate and image sensor formed thereon for improved infrared response
CN100494883C (zh) * 2006-11-09 2009-06-03 中国科学院半导体研究所 一种测量小光斑尺寸的方法
JP5061821B2 (ja) * 2007-09-27 2012-10-31 カシオ計算機株式会社 光検出器
JP2009212278A (ja) * 2008-03-04 2009-09-17 Sony Corp 光検出回路
TWI479389B (zh) * 2010-03-31 2015-04-01 Casio Computer Co Ltd 光感測裝置、顯示裝置及光感測裝置之驅動方法
KR101346456B1 (ko) 2010-03-31 2014-01-02 가시오게산키 가부시키가이샤 광센서 장치, 표시장치 및 광센서 장치의 구동 방법
JP5234090B2 (ja) * 2010-03-31 2013-07-10 カシオ計算機株式会社 光センサ装置及び光センサ装置の駆動方法
CN103023331B (zh) * 2011-09-28 2015-09-30 中国科学院微电子研究所 高压开关电源的隔离式电压电流检测控制电路
CN106197662B (zh) * 2016-08-22 2017-12-01 成都三零嘉微电子有限公司 一种光电检测电路

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1264513C2 (de) * 1963-11-29 1973-01-25 Texas Instruments Inc Bezugspotentialfreier gleichstromdifferenzverstaerker
US4916307A (en) 1987-12-15 1990-04-10 Fuji Electric Co., Ltd. Light intensity detecting circuit with dark current compensation
JP2701754B2 (ja) 1994-10-03 1998-01-21 日本電気株式会社 シリコン受光素子の製造方法
JPH10290023A (ja) 1997-04-15 1998-10-27 Nec Corp 半導体光検出器
JP4312851B2 (ja) * 1998-04-27 2009-08-12 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置およびその作製方法

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