JP2004172379A - 放熱体 - Google Patents
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Abstract
【課題】被放熱体及び放熱体の双方の熱膨張係数差に拘わることなく、反りを抑制できると共に、熱伝導率が低下することも抑制できること。
【解決手段】被放熱体の熱を放熱させる放熱体16であって、放熱体16は、放熱体本体17と、放熱体本体17の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材18と、放熱体本体17に設けられたフィン19とを備え、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体よりなり、低熱膨張材18は一方の面と他方の面とに亘る厚み方向と連絡し、かつ該厚み方向と交差方向で互いに連なる連絡開口部を有して設けられ、かつ該連絡開口部を介して放熱体本体17に鋳ぐまれている。また、フィン19は、放熱体16の周縁部における対向する端部A,B,C,D間の曲げ剛性が、他の端部A,B間の曲げ剛性より低い一の端部C,D間方向に位置させて配置されている。
【選択図】 図4
【解決手段】被放熱体の熱を放熱させる放熱体16であって、放熱体16は、放熱体本体17と、放熱体本体17の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材18と、放熱体本体17に設けられたフィン19とを備え、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体よりなり、低熱膨張材18は一方の面と他方の面とに亘る厚み方向と連絡し、かつ該厚み方向と交差方向で互いに連なる連絡開口部を有して設けられ、かつ該連絡開口部を介して放熱体本体17に鋳ぐまれている。また、フィン19は、放熱体16の周縁部における対向する端部A,B,C,D間の曲げ剛性が、他の端部A,B間の曲げ剛性より低い一の端部C,D間方向に位置させて配置されている。
【選択図】 図4
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、大電圧・大電流を制御する半導体装置に用いられる放熱体に係り、特に半導体チップ等の発熱体を搭載している被放熱体に伝わる熱を放散させるのに好適な放熱体に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置としてのパワーモジュールは、一般に、半導体チップがパワーモジュール用基板に搭載され、半導体チップの熱がパワーモジュール用基板に伝達されることから、パワーモジュール用基板に伝わる熱を放熱する必要がある。
このような被放熱体としてのパワーモジュール用基板は、セラミックス材料からなる絶縁基板(セラミックス基板)に金属薄板が直接積層され、この金属薄板に可塑性多孔質金属層を介し、ヒートシンクからなる放熱体が積層接合される。可塑性多孔質金属層は、気孔率20〜50%のCuの多孔質焼結体であって、絶縁基板が、これに搭載されている半導体チップからの熱を受けたとき、その熱変形を吸収する応力緩和層をなし、また、放熱体は、高熱伝導材である純アルミニウム又はアルミニウム合金からなり、半導体チップからの熱を良好に外部に放出できるようになっている。ここで、放熱体が、更に良好な放熱効果を奏するようにして、絶縁基板及び放熱体の反りや割れを確実に防止できる構成を実現するため、放熱体にフィンを設けた構成のものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平08−335652号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記従来では、被放熱体としてのパワーモジュール用基板に設けられた可塑性多孔質金属層が、絶縁基板や放熱体の熱変形を吸収するので、絶縁基板と放熱体との熱膨張係数が異なっても、絶縁基板,放熱体に反りや割れが起こることを防止できるようにしているものの、絶縁基板と放熱体との間に可塑性多孔質金属層が介在しているので、その分だけ熱抵抗が上昇して熱伝導率が低下してしまい、そのため、放熱体の放熱効果低下を招いていた。
【0005】
一般に、放熱体は、被放熱体との間で互いに熱膨張係数の異なる材質で構成する場合、両者の熱膨張係数の差による反りを防止するために、両者の熱膨張係数を合わせることが容易に考えられる。この場合、熱膨張係数の低い方(被放熱体)に合わせることになるが、そうすると、反りを低減できる反面、その分だけ熱伝導率が低下して放熱効果の低下をきたしてしまい、反り対策と良好な放熱効果との双方を兼ね備えたものの要請に応えることができない問題があった。
【0006】
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、被放熱体と間で熱膨張係数差があっても、これに拘わることなく反りを低減することができると共に、熱伝導率が低下することも抑制することができる放熱体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に係る発明は、被放熱体の熱を放熱させる放熱体であって、前記放熱体は、放熱体本体と、該放熱体本体の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材と、前記放熱体本体に設けられたフィンとを備え、前記放熱体本体と前記フィンとは一体成形された鋳造体よりなり、前記低熱膨張材は一方の面と他方の面とに亘る厚み方向と連絡し、かつ該厚み方向と交差方向で互いに連なる連絡開口部を有して設けられ、かつ該連絡開口部を介して前記放熱体本体に鋳ぐまれる構成としたことを特徴とする。
【0008】
また、請求項2に係る発明は、請求項1に記載の放熱体において、前記低熱膨張材は、帯状の単位板状体を同列位置で互いに組付けて前記連絡開口部を連続的に有する連鎖状体に形成し、該連鎖状体を同一平面上で複数列設けると共に、互いに隣接する列毎に前記連絡開口部の位置をずらして配設することを特徴とする。
【0009】
これらの発明に係る放熱体によれば、放熱体に低熱膨張材が設けられているとともに、低熱膨張材に前記連絡開口部を設け、この連絡開口部を介して放熱体本体を充填し、低熱膨張材が放熱体本体に鋳ぐまれる構成としたので、放熱体全体としての熱膨張係数を確実に下げることになるとともに、熱伝導率の低下を確実に抑制することになる。また、放熱体はフィンを備えているため、放熱体全体の放熱効果を向上させることになり、さらに、放熱体本体とフィンとは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体を容易に形成できることになる。従って、被放熱体と放熱体とをはんだ等によって接合した場合でも、放熱体に被放熱体に向かう反りが発生することを確実に抑制することができるとともに、放熱体自体の熱伝導率が低下することも抑制することができ、これらの作用を奏する放熱体を確実に形成することができる。
【0010】
請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載の放熱体において、前記フィンは、前記放熱体本体の板面に沿う方向において、前記放熱体の周縁部における対向する端部間の曲げ剛性が、他の端部間の曲げ剛性より低い一の端部間方向に位置させて配置されていることを特徴とする。
【0011】
この発明に係る放熱板によれば、フィンは、放熱体本体の板面に沿う方向において、放熱体の周縁部における対向する端部間の曲げ剛性が、他の端部間の曲げ剛性より低い一の端部間方向に位置させて配置されているので、被放熱体と放熱体とをはんだ等によって接合した際、放熱体に、被放熱体へ向かう反りを発生させる力が作用して、放熱体の前記一の端部間方向に曲げが発生することを抑制することになる。すなわち、フィンが、放熱体の前記一の端部間方向に発生する曲げに対して抗することになる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。図1はこの発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
本実施形態のパワーモジュール10は、図1に示すように、被放熱体としてのパワーモジュール用基板11に放熱体16が接合して構成されている。
【0013】
パワーモジュール用基板11は、例えばAlN,Al2O3,Si3N4,SiC等により所望の大きさに形成された絶縁基板であって、その上面に回路層12が,下面に金属層13が各々積層接合される。回路層12及び金属層13は、純Al,Al合金,Cu等により形成されている。以下、パワーモジュール用基板11を「絶縁基板11」と略称する。
絶縁基板11の回路層12上にはんだ14によって半導体チップ30が搭載される一方、絶縁基板11の下面側,すなわち金属層13の下面にはんだ15によって、或いはろう付けや拡散接合等によって放熱体16が接合され、放熱体16に伝達される熱が外部に放熱されることで、パワーモジュール10が構成されている。
【0014】
ここで、放熱体16は、放熱体本体17と、放熱体本体17の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材18と、放熱体本体17の下面に突出して設けられたフィン19とを備え、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体より形成されている。これら放熱体本体17とフィン19とは、例えば純Al,Al合金,Cu,Cu合金等,好ましくは純度99.5%以上のAl合金のような熱伝導性の良好な材質,いわゆる高熱伝導材によって形成されている。高熱伝導材としては、熱伝導率が例えば、100W/m・K以上,好ましくは150W/m・K以上のものである。
【0015】
一方、低熱膨張材18は、放熱体本体17の熱膨張係数より低い熱膨張係数の材質からなっており、後述するように放熱体本体17の内部に埋設することで、放熱体16全体の熱膨張係数と絶縁基板11の熱膨張係数との差を可及的に近づけさせるためのものである。この低熱膨張材18は、Fe―Ni系合金,例えばインバー合金からなり、熱膨張係数がおよそ5×10−6/℃以下である。
ここで、インバー合金とは、室温付近でほとんど熱膨張が生じない合金であって、Feが64.6mol%で、Niが35.4mol%の組成率となっている。但し、Fe中には、それ以外の不可避不純物が含まれたものもインバー合金と呼ばれている。
【0016】
このような材質からなる低熱膨張材18は、図2,図3に示すように、低熱膨張材18が、絶縁基板11側の放熱体本体17と接合される一方の面と、フィン19側の放熱体本体17と接合される他方の面とに亘る厚み方向に連絡すると共に、該厚み方向と交差方向で互いに連なる開口空間部40を有して設けられ、かつ該開口空間部40に放熱体本体17が充填されることで、図2に示すように、放熱体本体17に鋳ぐまれる構成となっている。
【0017】
具体的に述べると、低熱膨張材18は、図3に示すように、例えば二枚からなる帯状の単位板状体41,42を前記厚み方向に沿って組付けることで連絡開口部40を連続的に有する連鎖状体43が形成される。ここで、連絡開口部40は、平坦壁41c,41d,42c,42dと、斜面壁41a,41b,42a,42bとで形成された空間となっている。そして、これら連鎖状体43が同一平面上で複数列設けられると共に、連絡開口部40を互いに隣接する列毎に互い違いに配列して形成される。
【0018】
このように形成された低熱膨張材18は、放熱体16の形成時、放熱体本体17の材料が注入されると、その材料が連絡開口部40内に側方から充填される。そして、この低熱膨張材18は、側面から見たとき、図2に示すように、絶縁基板11側である上層の放熱体本体17と、フィン19が形成されている下層の放熱体本体17との間に埋設されることになる。
【0019】
ここで、低熱膨張材18は前述したように構成されているため、図3において、低熱膨張材18の周縁部における対向する端部A,B、C,D間の低熱膨張材18の曲げ剛性が、他の端部A,B間の曲げ剛性より低い一の端部C,D間を有する,すなわち異方性を有することになる。
【0020】
具体的に述べると、図3において、低熱膨張材18(放熱体16)の端部A,Bを把持してこれを曲げた際、平坦壁41c,41d,42c,42dには面外変形させようとする力が作用することになり、比較的容易に曲がることになるが、斜面壁41a,41b,42a,42bには若干の面外変形させようとする力が作用するものの、主に面内変形させようとする力が作用することになり、この斜面壁41a,41b,42a,42bが前記曲げに対してはリブとして作用することになり前記曲げに対する剛性を高める構成となっている。
これに対し、低熱膨張材18(放熱体16)の端部C,Dを把持してこれを曲げた際、平坦壁41c,41d,42c,42d及び斜面壁41a,41b,42a,42bには共に、面外変形させようとする力が主に作用することになる。
【0021】
以上により、図3に示す低熱膨張材18(放熱体16)においては、端部A,Bを把持してこれを曲げたときの剛性より、端部C,Dを把持したときの曲げ剛性の方が低いことになる。
このように構成された低熱膨張材18を有する放熱体16に、図4に示すように、フィン19が、放熱体本体17の板面に沿った方向において、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応した方向に連続して設けられると共に、端部A,B間方向と対応した方向に所定の間隙を有し複数列設けられている。
【0022】
以上説明したように本実施形態によるパワーモジュールによれば、放熱体16に低熱膨張材18が設けられているとともに、低熱膨張材18に連絡開口部40が設けられ、この連絡開口部40を介して放熱体本体17を充填し、低熱膨張材18が放熱体本体17に鋳ぐまれる構成としたので、放熱体16全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるとともに、絶縁基板11側の上層の放熱体本体17とフィン19が設けられている下層の放熱体本体17とを完全に分離することを回避可能な構成を実現でき、放熱体16全体としての熱伝導率の低下を確実に抑制することができる。
【0023】
また、放熱体16はフィン19を備えているため、放熱体16全体の放熱効果を向上させることができ、さらに、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体16を容易に形成することができる。従って、絶縁基板11と放熱体16とをはんだ等によって接合した場合でも、放熱体16に絶縁基板11に向かう反りが発生することを確実に抑制することができるとともに、放熱体16全体としての熱伝導率が低下することも抑制することができる放熱体16を容易に形成することができる。
【0024】
ここで、低熱膨張材18は前述したように、放熱体本体17に鋳ぐるみ易い前述した構成であるため前記効果を奏することができる反面、低熱膨張材18の端部C,D間の曲げ剛性が、端部A,B間の曲げ剛性より低くなり、結果これを有する放熱体16においても同様に曲げ剛性についての異方性を有することになる。しかし、フィン19を放熱体本体17の板面に沿った方向において、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応させた方向に連続して設けると共に、端部A,B間方向と対応させた方向に所定の間隙を有し複数列設けた構成としたので、放熱体16全体としての曲げ剛性の低下を確実に抑制することができる。
【0025】
すなわち、絶縁基板11と放熱体16とをはんだ等によって接合した際、放熱体16が絶縁基板11に向かう反りを発生させる力が作用し、この際、放熱体16においては、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応した方向に曲げが発生し易いことになるが、前述のようにフィン19を放熱体本体17に設けることにより、このフィン19が前記曲げ発生に対して抗することができる。これにより、放熱体16の反り発生抑制を確実に実現することができる。
【0026】
さらにまた、低熱膨張材18が金属であってかつ相応の熱伝導率を有しているので、絶縁基板11上の半導体チップ30からの発熱が、回路層12,絶縁基板11,金属層13,はんだ15,放熱体16を介して外部に良好に放熱されることになる。すなわち、パワーモジュール10全体としての熱伝導率が低下することを抑制することができ、パワーモジュール10全体としての温度上昇を抑制することができる。この結果、絶縁基板11と放熱体16との熱膨張係数に差があっても、放熱体16の温度上昇を抑制することができるため、放熱体16の反り発生抑制効果を備えた,良好なパワーモジュール10を得ることができる。
【0027】
なお、前述の実施形態では、放熱体本体17に積層された低熱膨張材18として、Fe―Ni系合金を用いた例を示したが、他の低熱膨張材、例えば高炭素鋼(Fe−C)、42合金、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等で構成しても、同様の作用効果が得られる。
【0028】
また、放熱体16がパワーモジュール用基板11に取付られた例を示したが、この基板11に限らず、他の発熱体や熱源に取付られる場合にも適用することができ、放熱を必要とする種々の被放熱体に用いられることで実用上有益となる。
さらに、放熱体16が取り付けられるパワーモジュール用基板11として、放熱体16側の面に金属層13が設けられた例を示したが、金属層13を設けず絶縁基板11をはんだ15を介して放熱体16に直接接合しても、同様の作用効果が得られる。
【0029】
さらにまた、前述した低熱膨張材18に替えて、いわゆるコルゲートルーバ,斜面壁のみにより断面矩形に形成された連絡開口部40を有するエキスパンド構造,若しくは前記実施形態のいわゆる,ハニカム構造を一層設けたもの,又は前記構造のうちの一つを複数積層させた構成としてもよい。
【0030】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係る放熱体によれば、放熱体本体に低熱膨張材が鋳ぐまれる構成としたので、放熱体全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるとともに、熱伝導率の低下を確実に抑制することができる。
また、放熱体はフィンを備えているため、放熱体全体の放熱効果を向上させることができ、さらに、放熱体本体とフィンとは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体を容易に形成することができる。
【0031】
また、低熱膨張材を放熱体本体に鋳ぐるみ易い構成としたために、放熱体が曲げ剛性に対して異方性を有した場合でも、フィンが放熱体本体の板面に沿った方向に対して、前記一の端部間方向に位置させて配置されているので、放熱体の前記一の端部間方向に発生する曲げを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
【図2】図1に示す放熱体の拡大断面側面図である。
【図3】図1,図2に示す低熱膨張材の要部を示す拡大斜視図である。
【図4】図1に示す低熱膨張材の曲げ剛性に対する異方性と、フィンの配設位置との関係を説明図である。
【符号の説明】
10 パワーモジュール
11 パワーモジュール用基板(絶縁基板)
16 放熱体
17 放熱体本体(高熱伝導材)
18 低熱膨張材
19 フィン
30 半導体チップ(チップ)
40 連絡開口部
41,42 板状体
43 連鎖状体
A,B 低熱膨張材(放熱体)の他の端部
C,D 低熱膨張材の(放熱体)の一の端部
【発明の属する技術分野】
この発明は、大電圧・大電流を制御する半導体装置に用いられる放熱体に係り、特に半導体チップ等の発熱体を搭載している被放熱体に伝わる熱を放散させるのに好適な放熱体に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置としてのパワーモジュールは、一般に、半導体チップがパワーモジュール用基板に搭載され、半導体チップの熱がパワーモジュール用基板に伝達されることから、パワーモジュール用基板に伝わる熱を放熱する必要がある。
このような被放熱体としてのパワーモジュール用基板は、セラミックス材料からなる絶縁基板(セラミックス基板)に金属薄板が直接積層され、この金属薄板に可塑性多孔質金属層を介し、ヒートシンクからなる放熱体が積層接合される。可塑性多孔質金属層は、気孔率20〜50%のCuの多孔質焼結体であって、絶縁基板が、これに搭載されている半導体チップからの熱を受けたとき、その熱変形を吸収する応力緩和層をなし、また、放熱体は、高熱伝導材である純アルミニウム又はアルミニウム合金からなり、半導体チップからの熱を良好に外部に放出できるようになっている。ここで、放熱体が、更に良好な放熱効果を奏するようにして、絶縁基板及び放熱体の反りや割れを確実に防止できる構成を実現するため、放熱体にフィンを設けた構成のものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平08−335652号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前記従来では、被放熱体としてのパワーモジュール用基板に設けられた可塑性多孔質金属層が、絶縁基板や放熱体の熱変形を吸収するので、絶縁基板と放熱体との熱膨張係数が異なっても、絶縁基板,放熱体に反りや割れが起こることを防止できるようにしているものの、絶縁基板と放熱体との間に可塑性多孔質金属層が介在しているので、その分だけ熱抵抗が上昇して熱伝導率が低下してしまい、そのため、放熱体の放熱効果低下を招いていた。
【0005】
一般に、放熱体は、被放熱体との間で互いに熱膨張係数の異なる材質で構成する場合、両者の熱膨張係数の差による反りを防止するために、両者の熱膨張係数を合わせることが容易に考えられる。この場合、熱膨張係数の低い方(被放熱体)に合わせることになるが、そうすると、反りを低減できる反面、その分だけ熱伝導率が低下して放熱効果の低下をきたしてしまい、反り対策と良好な放熱効果との双方を兼ね備えたものの要請に応えることができない問題があった。
【0006】
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、被放熱体と間で熱膨張係数差があっても、これに拘わることなく反りを低減することができると共に、熱伝導率が低下することも抑制することができる放熱体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
請求項1に係る発明は、被放熱体の熱を放熱させる放熱体であって、前記放熱体は、放熱体本体と、該放熱体本体の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材と、前記放熱体本体に設けられたフィンとを備え、前記放熱体本体と前記フィンとは一体成形された鋳造体よりなり、前記低熱膨張材は一方の面と他方の面とに亘る厚み方向と連絡し、かつ該厚み方向と交差方向で互いに連なる連絡開口部を有して設けられ、かつ該連絡開口部を介して前記放熱体本体に鋳ぐまれる構成としたことを特徴とする。
【0008】
また、請求項2に係る発明は、請求項1に記載の放熱体において、前記低熱膨張材は、帯状の単位板状体を同列位置で互いに組付けて前記連絡開口部を連続的に有する連鎖状体に形成し、該連鎖状体を同一平面上で複数列設けると共に、互いに隣接する列毎に前記連絡開口部の位置をずらして配設することを特徴とする。
【0009】
これらの発明に係る放熱体によれば、放熱体に低熱膨張材が設けられているとともに、低熱膨張材に前記連絡開口部を設け、この連絡開口部を介して放熱体本体を充填し、低熱膨張材が放熱体本体に鋳ぐまれる構成としたので、放熱体全体としての熱膨張係数を確実に下げることになるとともに、熱伝導率の低下を確実に抑制することになる。また、放熱体はフィンを備えているため、放熱体全体の放熱効果を向上させることになり、さらに、放熱体本体とフィンとは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体を容易に形成できることになる。従って、被放熱体と放熱体とをはんだ等によって接合した場合でも、放熱体に被放熱体に向かう反りが発生することを確実に抑制することができるとともに、放熱体自体の熱伝導率が低下することも抑制することができ、これらの作用を奏する放熱体を確実に形成することができる。
【0010】
請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載の放熱体において、前記フィンは、前記放熱体本体の板面に沿う方向において、前記放熱体の周縁部における対向する端部間の曲げ剛性が、他の端部間の曲げ剛性より低い一の端部間方向に位置させて配置されていることを特徴とする。
【0011】
この発明に係る放熱板によれば、フィンは、放熱体本体の板面に沿う方向において、放熱体の周縁部における対向する端部間の曲げ剛性が、他の端部間の曲げ剛性より低い一の端部間方向に位置させて配置されているので、被放熱体と放熱体とをはんだ等によって接合した際、放熱体に、被放熱体へ向かう反りを発生させる力が作用して、放熱体の前記一の端部間方向に曲げが発生することを抑制することになる。すなわち、フィンが、放熱体の前記一の端部間方向に発生する曲げに対して抗することになる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。図1はこの発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
本実施形態のパワーモジュール10は、図1に示すように、被放熱体としてのパワーモジュール用基板11に放熱体16が接合して構成されている。
【0013】
パワーモジュール用基板11は、例えばAlN,Al2O3,Si3N4,SiC等により所望の大きさに形成された絶縁基板であって、その上面に回路層12が,下面に金属層13が各々積層接合される。回路層12及び金属層13は、純Al,Al合金,Cu等により形成されている。以下、パワーモジュール用基板11を「絶縁基板11」と略称する。
絶縁基板11の回路層12上にはんだ14によって半導体チップ30が搭載される一方、絶縁基板11の下面側,すなわち金属層13の下面にはんだ15によって、或いはろう付けや拡散接合等によって放熱体16が接合され、放熱体16に伝達される熱が外部に放熱されることで、パワーモジュール10が構成されている。
【0014】
ここで、放熱体16は、放熱体本体17と、放熱体本体17の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材18と、放熱体本体17の下面に突出して設けられたフィン19とを備え、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体より形成されている。これら放熱体本体17とフィン19とは、例えば純Al,Al合金,Cu,Cu合金等,好ましくは純度99.5%以上のAl合金のような熱伝導性の良好な材質,いわゆる高熱伝導材によって形成されている。高熱伝導材としては、熱伝導率が例えば、100W/m・K以上,好ましくは150W/m・K以上のものである。
【0015】
一方、低熱膨張材18は、放熱体本体17の熱膨張係数より低い熱膨張係数の材質からなっており、後述するように放熱体本体17の内部に埋設することで、放熱体16全体の熱膨張係数と絶縁基板11の熱膨張係数との差を可及的に近づけさせるためのものである。この低熱膨張材18は、Fe―Ni系合金,例えばインバー合金からなり、熱膨張係数がおよそ5×10−6/℃以下である。
ここで、インバー合金とは、室温付近でほとんど熱膨張が生じない合金であって、Feが64.6mol%で、Niが35.4mol%の組成率となっている。但し、Fe中には、それ以外の不可避不純物が含まれたものもインバー合金と呼ばれている。
【0016】
このような材質からなる低熱膨張材18は、図2,図3に示すように、低熱膨張材18が、絶縁基板11側の放熱体本体17と接合される一方の面と、フィン19側の放熱体本体17と接合される他方の面とに亘る厚み方向に連絡すると共に、該厚み方向と交差方向で互いに連なる開口空間部40を有して設けられ、かつ該開口空間部40に放熱体本体17が充填されることで、図2に示すように、放熱体本体17に鋳ぐまれる構成となっている。
【0017】
具体的に述べると、低熱膨張材18は、図3に示すように、例えば二枚からなる帯状の単位板状体41,42を前記厚み方向に沿って組付けることで連絡開口部40を連続的に有する連鎖状体43が形成される。ここで、連絡開口部40は、平坦壁41c,41d,42c,42dと、斜面壁41a,41b,42a,42bとで形成された空間となっている。そして、これら連鎖状体43が同一平面上で複数列設けられると共に、連絡開口部40を互いに隣接する列毎に互い違いに配列して形成される。
【0018】
このように形成された低熱膨張材18は、放熱体16の形成時、放熱体本体17の材料が注入されると、その材料が連絡開口部40内に側方から充填される。そして、この低熱膨張材18は、側面から見たとき、図2に示すように、絶縁基板11側である上層の放熱体本体17と、フィン19が形成されている下層の放熱体本体17との間に埋設されることになる。
【0019】
ここで、低熱膨張材18は前述したように構成されているため、図3において、低熱膨張材18の周縁部における対向する端部A,B、C,D間の低熱膨張材18の曲げ剛性が、他の端部A,B間の曲げ剛性より低い一の端部C,D間を有する,すなわち異方性を有することになる。
【0020】
具体的に述べると、図3において、低熱膨張材18(放熱体16)の端部A,Bを把持してこれを曲げた際、平坦壁41c,41d,42c,42dには面外変形させようとする力が作用することになり、比較的容易に曲がることになるが、斜面壁41a,41b,42a,42bには若干の面外変形させようとする力が作用するものの、主に面内変形させようとする力が作用することになり、この斜面壁41a,41b,42a,42bが前記曲げに対してはリブとして作用することになり前記曲げに対する剛性を高める構成となっている。
これに対し、低熱膨張材18(放熱体16)の端部C,Dを把持してこれを曲げた際、平坦壁41c,41d,42c,42d及び斜面壁41a,41b,42a,42bには共に、面外変形させようとする力が主に作用することになる。
【0021】
以上により、図3に示す低熱膨張材18(放熱体16)においては、端部A,Bを把持してこれを曲げたときの剛性より、端部C,Dを把持したときの曲げ剛性の方が低いことになる。
このように構成された低熱膨張材18を有する放熱体16に、図4に示すように、フィン19が、放熱体本体17の板面に沿った方向において、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応した方向に連続して設けられると共に、端部A,B間方向と対応した方向に所定の間隙を有し複数列設けられている。
【0022】
以上説明したように本実施形態によるパワーモジュールによれば、放熱体16に低熱膨張材18が設けられているとともに、低熱膨張材18に連絡開口部40が設けられ、この連絡開口部40を介して放熱体本体17を充填し、低熱膨張材18が放熱体本体17に鋳ぐまれる構成としたので、放熱体16全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるとともに、絶縁基板11側の上層の放熱体本体17とフィン19が設けられている下層の放熱体本体17とを完全に分離することを回避可能な構成を実現でき、放熱体16全体としての熱伝導率の低下を確実に抑制することができる。
【0023】
また、放熱体16はフィン19を備えているため、放熱体16全体の放熱効果を向上させることができ、さらに、放熱体本体17とフィン19とは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体16を容易に形成することができる。従って、絶縁基板11と放熱体16とをはんだ等によって接合した場合でも、放熱体16に絶縁基板11に向かう反りが発生することを確実に抑制することができるとともに、放熱体16全体としての熱伝導率が低下することも抑制することができる放熱体16を容易に形成することができる。
【0024】
ここで、低熱膨張材18は前述したように、放熱体本体17に鋳ぐるみ易い前述した構成であるため前記効果を奏することができる反面、低熱膨張材18の端部C,D間の曲げ剛性が、端部A,B間の曲げ剛性より低くなり、結果これを有する放熱体16においても同様に曲げ剛性についての異方性を有することになる。しかし、フィン19を放熱体本体17の板面に沿った方向において、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応させた方向に連続して設けると共に、端部A,B間方向と対応させた方向に所定の間隙を有し複数列設けた構成としたので、放熱体16全体としての曲げ剛性の低下を確実に抑制することができる。
【0025】
すなわち、絶縁基板11と放熱体16とをはんだ等によって接合した際、放熱体16が絶縁基板11に向かう反りを発生させる力が作用し、この際、放熱体16においては、低熱膨張材18の端部C,D間方向と対応した方向に曲げが発生し易いことになるが、前述のようにフィン19を放熱体本体17に設けることにより、このフィン19が前記曲げ発生に対して抗することができる。これにより、放熱体16の反り発生抑制を確実に実現することができる。
【0026】
さらにまた、低熱膨張材18が金属であってかつ相応の熱伝導率を有しているので、絶縁基板11上の半導体チップ30からの発熱が、回路層12,絶縁基板11,金属層13,はんだ15,放熱体16を介して外部に良好に放熱されることになる。すなわち、パワーモジュール10全体としての熱伝導率が低下することを抑制することができ、パワーモジュール10全体としての温度上昇を抑制することができる。この結果、絶縁基板11と放熱体16との熱膨張係数に差があっても、放熱体16の温度上昇を抑制することができるため、放熱体16の反り発生抑制効果を備えた,良好なパワーモジュール10を得ることができる。
【0027】
なお、前述の実施形態では、放熱体本体17に積層された低熱膨張材18として、Fe―Ni系合金を用いた例を示したが、他の低熱膨張材、例えば高炭素鋼(Fe−C)、42合金、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等で構成しても、同様の作用効果が得られる。
【0028】
また、放熱体16がパワーモジュール用基板11に取付られた例を示したが、この基板11に限らず、他の発熱体や熱源に取付られる場合にも適用することができ、放熱を必要とする種々の被放熱体に用いられることで実用上有益となる。
さらに、放熱体16が取り付けられるパワーモジュール用基板11として、放熱体16側の面に金属層13が設けられた例を示したが、金属層13を設けず絶縁基板11をはんだ15を介して放熱体16に直接接合しても、同様の作用効果が得られる。
【0029】
さらにまた、前述した低熱膨張材18に替えて、いわゆるコルゲートルーバ,斜面壁のみにより断面矩形に形成された連絡開口部40を有するエキスパンド構造,若しくは前記実施形態のいわゆる,ハニカム構造を一層設けたもの,又は前記構造のうちの一つを複数積層させた構成としてもよい。
【0030】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係る放熱体によれば、放熱体本体に低熱膨張材が鋳ぐまれる構成としたので、放熱体全体としての熱膨張係数を確実に下げることができるとともに、熱伝導率の低下を確実に抑制することができる。
また、放熱体はフィンを備えているため、放熱体全体の放熱効果を向上させることができ、さらに、放熱体本体とフィンとは一体成形された鋳造体からなるので、この放熱体を容易に形成することができる。
【0031】
また、低熱膨張材を放熱体本体に鋳ぐるみ易い構成としたために、放熱体が曲げ剛性に対して異方性を有した場合でも、フィンが放熱体本体の板面に沿った方向に対して、前記一の端部間方向に位置させて配置されているので、放熱体の前記一の端部間方向に発生する曲げを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る放熱体を適用したパワーモジュールを示す全体図である。
【図2】図1に示す放熱体の拡大断面側面図である。
【図3】図1,図2に示す低熱膨張材の要部を示す拡大斜視図である。
【図4】図1に示す低熱膨張材の曲げ剛性に対する異方性と、フィンの配設位置との関係を説明図である。
【符号の説明】
10 パワーモジュール
11 パワーモジュール用基板(絶縁基板)
16 放熱体
17 放熱体本体(高熱伝導材)
18 低熱膨張材
19 フィン
30 半導体チップ(チップ)
40 連絡開口部
41,42 板状体
43 連鎖状体
A,B 低熱膨張材(放熱体)の他の端部
C,D 低熱膨張材の(放熱体)の一の端部
Claims (3)
- 被放熱体の熱を放熱させる放熱体であって、
前記放熱体は、放熱体本体と、該放熱体本体の熱膨張係数より低い材質からなる低熱膨張材と、前記放熱体本体に設けられたフィンとを備え、
前記放熱体本体と前記フィンとは一体成形された鋳造体よりなり、
前記低熱膨張材は、一方の面と他方の面とに亘る厚み方向と連絡し、かつ該厚み方向と交差方向で互いに連なる連絡開口部を有して設けられ、かつ該連絡開口部を介して前記放熱体本体に鋳ぐまれる構成としたことを特徴とする放熱体。 - 請求項1に記載の放熱体において、
前記低熱膨張材は、帯状の単位板状体を同列位置で互いに組付けて前記連絡開口部を連続的に有する連鎖状体に形成し、該連鎖状体を同一平面上で複数列設けると共に、互いに隣接する列毎に前記連絡開口部の位置をずらして配設することを特徴とする放熱体。 - 請求項1又は2に記載の放熱体において、
前記フィンは、前記放熱体本体の板面に沿う方向において、前記放熱体の周縁部における対向する端部間の曲げ剛性が、他の端部間の曲げ剛性より低い一の端部間方向に位置させて配置されていることを特徴とする放熱体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2004172379A true JP2004172379A (ja) | 2004-06-17 |
Family
ID=32700374
Family Applications (1)
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JP2002336573A Pending JP2004172379A (ja) | 2002-11-20 | 2002-11-20 | 放熱体 |
Country Status (1)
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---|---|---|---|---|
JPWO2013118478A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2015-05-11 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US9703136B2 (en) * | 2014-01-20 | 2017-07-11 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Heat radiation of the liquid crystal module |
-
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