JP2004165512A - 有機光電変換素子 - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 225
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 122
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 90
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 24
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 25
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- -1 poly (2-methoxy-5- (2′-ethylhexyloxy) -1,4-phenylene-vinylene Chemical group 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 7
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONKCIMOQGCARHN-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(3-methylanilino)phenyl]phenyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(NC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(NC=3C=C(C)C=CC=3)=CC=2)=C1 ONKCIMOQGCARHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbenzimidazole Chemical compound C1=NC2=CC=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 XNCMQRWVMWLODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTNAYKNIZNSHQA-UHFFFAOYSA-L 2-(4-carboxypyridin-2-yl)pyridine-4-carboxylic acid;ruthenium(2+);dithiocyanate Chemical compound N#CS[Ru]SC#N.OC(=O)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C(O)=O)=C1.OC(=O)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C(O)=O)=C1 LTNAYKNIZNSHQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GEQBRULPNIVQPP-UHFFFAOYSA-N 2-[3,5-bis(1-phenylbenzimidazol-2-yl)phenyl]-1-phenylbenzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1N1C2=CC=CC=C2N=C1C1=CC(C=2N(C3=CC=CC=C3N=2)C=2C=CC=CC=2)=CC(C=2N(C3=CC=CC=C3N=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 GEQBRULPNIVQPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXIYMAYIEOSSJE-UHFFFAOYSA-N 4-methylquinoline-8-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=NC2=C1C(O)=O QXIYMAYIEOSSJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical compound C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001989 lithium alloy Substances 0.000 description 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIFAOSNIDJTPNL-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-n-(2-phenylphenyl)naphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 GIFAOSNIDJTPNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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Abstract
【解決手段】少なくとも一方が透光性である二つの電極1,2の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層3を備えると共に、表面に表面保護層4が積層された有機光電変換素子に関する。表面保護層4が、気相成膜法で形成された無機封止層4aと、無機封止層4aの上に形成された樹脂層4bよりなる。外部から水分や酸素が素子内部に作用することを無機封止層4aで遮断することができる。また外部からの外力などが無機封止層4aに作用して損傷されることを樹脂層4bで防ぐことができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機太陽電池などとして使用される有機光電変換素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
有機光電変換素子は、従来のシリコン等による無機系光電変換素子に比べ、光から電気へのエネルギー変換効率が低く、しかも安定性にも欠けることから、本格的な実用化研究には至らなかった。しかし最近では、10%程度の変換効率を示す色素増感系での耐久性向上や、大量生産、低コスト化の容易な有機薄膜系での変換効率の向上が報告されており、関心が高まっている。色素増感系の光電変換素子において、例えば、酸化チタン電極を10〜50nmのナノ粒子で多孔質化し、この表面にRu錯体であるN3色素を吸着させた光電変換素子において、AM1.5光照射で、開放端電圧(VOC)720mV、短絡光電流密度(JSC)18.3mA/cm2及びエネルギー変換効率(η)10%が報告されている(M.K.Nazeerudin,A.Kay,I.Rodicio,R.Humphry−Baker,E.Muller,P.Liska,N.Vlachopoulos and M.Gratzel:J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1075(1997).)。
【0003】
また有機薄膜系の光電変換素子においては、例えば、メタノフラーレンPCBMをπ共役系導電性高分子ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキシルオキシ)−1,4−フェニレン−ビニレン)(MEH−PPV)中に均一に分散させた光電変換素子において、AM1.5光照射で、閉放端電圧(VOC)820mV、短絡光電流密度(JSC)5.25mA/cm2及びエネルギ−変換効率(η)2.5%が報告されている(S.E.Shaheen,C.J.Brabec,N.S.Saricifci,F.Padinger,T.Fromherz and J.C.Humme1en:Appl.Phys.Lett.78,841(2001).)。
【0004】
しかし、有機物を用いた光電変換素子は、長期間の寿命に大きな問題がある。このように有機光電変換素子の寿命が短い原因は、素子に水分や酸素が吸着されることによる化学的劣化が影響を及ぼしていることが大きいとされている。そのため、何らかの方法で有機光電変換素子を封止保護して、水分や酸素の作用を遮断する必要がある。
【0005】
そこで、特許文献1にみられるように、CVD法により炭素を主成分とする保護層を素子の表面に形成することが提案されている。
【0006】
【特許文献1】
特開平7−66436号公報(特許請求の範囲等)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1のものでは、一層の保護層で素子を保護しているだけであり、水分や酸素の影響を完全に遮断することは難しく、長期間に亘って安定した光電変換特性を維持するまでの効果を得ることはできないのが現状である。
【0008】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、水分や酸素の遮断効果が高く、長期間に亘って安定した光電変換特性を維持することができる有機光電変換素子を提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係る有機光電変換素子は、少なくとも一方が透光性である二つの電極1,2の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層3を備えると共に、表面に表面保護層4が積層された有機光電変換素子において、表面保護層4が、気相成膜法で形成された無機封止層4aと、無機封止層4aの上に形成された樹脂層4bよりなることを特徴とするものである。
【0010】
また請求項2の発明は、請求項1において、表面保護層4が、樹脂層4bの上にさらに気相成膜法で形成された第2の無機封止層4cを設けて形成されていることを特徴とするものである。
【0011】
本発明の請求項3に係る有機光電変換素子は、少なくとも一方が透光性である二つの電極1,2の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層3を備えると共に、表面に表面保護層4が積層された有機光電変換素子において、表面保護層4が、樹脂層4bと、樹脂層4bの上に気相成膜法で形成された無機封止層4aよりなることを特徴とするものである。
【0012】
また請求項4の発明は、請求項3において、表面保護層4が、気相成膜法で形成された無機封止層4aの上にさらに第2の樹脂層4dを設けて形成されていることを特徴とするものである。
【0013】
また請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれかにおいて、無機封止層4a,4cは、内部応力が−1GPa〜+1GPa(但し、正の値を引っ張り応力、負の値を圧縮応力とする)であることを特徴とするものである。
【0014】
また請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかにおいて、樹脂層4b,4dは、光硬化型樹脂と、100℃以下の低温で硬化する熱硬化型樹脂のいずれかで形成されていることを特徴とするものである。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【0016】
図1は有機光電変換素子の一例を示すものであり、基板10の表面に電極1を陽極として設け、電極1の表面に有機層3を積層すると共に、有機層3の表面に電極2を陰極として設けてある。そして有機層3は電極1の上に、ホール輸送層11、電子供与体中に電子受容体を含有する電子供与体層12、電子輸送層13をこの順に積層した積層構造で形成してあり、これを基本構成として有機光電変換素子を形成することができる。尚、本発明において有機光電変換素子の構成としては、これ以外にも、従来から公知のものを用いることができるものであり、また基板10は陰極となる電極2の側にあるようにしてもよい。
【0017】
ここで、上記の基板10としては、光透過性を有するものを用いるものであり、無色透明の他に、多少着色されているものであってもよく、すりガラス状のものであってもよい。例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラスなどの透明ガラス板や、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリイミド、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等から任意の方法で作製されたプラスチックフィルムやプラスチック板などを用いることができる。またさらに、基板10内に基板母材と屈折率の異なる粒子、粉体、泡等を含有することによって、光拡散効果を有するものも使用可能である。
【0018】
また陽極となる電極1としては、仕事関数の大きい金属、合金、電気伝導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料で形成することが好ましく、仕事関数が4eV以上のものを用いることが望ましい。光を基板10及び電極1を透して有機層3に照射させる場合には、電極1は透明材料で形成される。このような電極材料としては、具体的には、金などの金属、CuI、ITO(インジウムチンオキサイド)、SnO2、AZO、IZO、GZO等の導電性透明材料が挙げられる。例えばこれらの電極材料を基板10の上に真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の方法で成膜することによって、薄膜として電極1を作製することができる。ここで、電極1を透過させて有機層3に光を到達させるためには、電極1の光透過率を70%以上にすることが好ましい。また電極1のシート抵抗は数百Ω/□以下とすることが好ましく、特に好ましくは100Ω/□以下である。電極1の膜厚は、光透過性及びシート抵抗を上記のように制御するために、材料により異なるが、500nm以下、より好ましくは10〜200nmの範囲に設定するのがよい。
【0019】
一方、陰極となる電極2としては、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物からなる電極材料で形成することが好ましく、仕事関数が5eV以下のものを用いることが望ましい。このような電極材料としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Al/Al2O3混合物、Al/LiF混合物などが挙げられる。またアルカリ金属の酸化物、アルカリ金属のハロゲン化物、あるいは金属酸化物を陰極の下地として用い、さらに上記の仕事関数が5eV以下である材料(あるいはこれらを含有する合金)を1層以上積層して電極2を形成するようにしてもよい。例えば、アルカリ金属/Alの積層、アルカリ金属のハロゲン化物/アルカリ土類金属/Alの積層、Al2O3/Alの積層などが例として挙げられる。そしてこれらの電極材料を、真空蒸着法やスパッタリング法等の方法により、薄膜に形成することにより電極2を作製することができる。また、ITO、IZOなどに代表される透明電極材料を用いて陰極となる電極2を形成し、陰極側からも光を入射させる構成にしてもよい。
【0020】
また、ホール輸送層11を形成するホール輸送材料としては、ホールを輸送する能力を有し、さらに電子のホール輸送層11への移動を防止し、かつ薄膜形成能力の優れた化合物を用いることができる。具体的にはフタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)や4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(α−NPD)等の芳香族ジアミン化合物、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、イミダゾロン、スチルベン誘導体、ピラゾリン誘導体、テトラヒドロイミダゾール、ポリアリールアルカン、ブタジエン、4,4’,4’’−トリス(N−(3−メチルフェニル)N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、及びポリビニルカルバゾール、ポリシラン、ポリエチレンジオキサイドチオフェン(PEDOT)等の導電性高分子などの高分子材料を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【0021】
また、電子供与体層12を形成する電子供与体としては、フタロシアニン系顔料、インジゴ、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、メロシアニン化合物、シアニン化合物、スクアリウム化合物や、また有機電子写真感光体に用いられる電荷移動剤、電気伝導性有機電荷移動錯体などを挙げることができ、更にはπ共役高分子も用いることができる。
【0022】
上記のフタロシアニン系顔料としては、中心金属がCu,Zn,Co,Ni,Pb,Pt,Fe,Mg等の2価のもの、無金属フタロシアニン、アルミニウムクロロフタロシアニン、インジウムクロロフタロシアニン、ガリウムクロロフタロシアニン等のハロゲン原子が配位した3価金属のフタロシアニン、その他バアナジルフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等の酸素が配位したフタロシアニン等があるが、特にこれに限定されるものではない。
【0023】
上記の電荷移動剤としては、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物等があるが、特にこれらに限定されるものではない。
【0024】
上記電気伝導性有機電荷移動錯体としては、テトラチオフルバレン、テトラフェニルテトラチオフラバレン等があるが特にこれに限定されるものではない。
【0025】
上記π共役高分子としては、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等があるが、特にこれに限定されるものではない。
【0026】
また、電子供与体層12に含有される電子受容体としては、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、アントラキノン系顔料、プラバンスロン等の含キノン黄色顔料等を用いることができる。またこの他にも、C60、([6,6]−phenyl C61 Butyric acid methyl ester)等のフラーレン誘導体も用いることができる。さらに、ZnO,SiO2,TiO2,Al2O3等の酸化物半導体、InP,InS,GaP,GaAs等のIII−V族化合物半導体、CdSe,CdS,CdTe、ZnS等のIII−VI族化合物半導体も用いることができる。
【0027】
また上記電子輸送層13に用いられる材料としては、例えば、バソクプロイン、バソフェナントロリン、及びこれらの誘導体、トリアゾール化合物、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、ビス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、オキサジアゾール化合物、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール化合物、TPBI(2,2′,2″−(1,3,5−ベンゼントリル)トリス−[1−フェニル−1H−ベンツイミダゾール])などが挙げられるが、電子輸送性の材料であれば特にこれらに限定されるものではなく、電子移動度が10−6cm2/Vs以上の材料が好ましく、10−5cm2/Vs以上であることがより好ましい。
【0028】
そして上記のように、基板10の表面上に、二つの電極1,2の間に有機層3を積層した有機光電変換積層構造体14を設け、そして有機光電変換積層構造体14の表面に表面保護層4を積層し、有機光電変換積層構造体14の露出する全表面を表面保護膜4で被覆してある。
【0029】
ここで、図1の実施の形態では、有機光電変換積層構造体14の露出する外表面の全面を被覆するように、気相成膜法を用いて無機封止層4aを設け、さらに無機封止層4aの全外表面を覆うように樹脂層4bを設けることによって、表面保護層4を無機封止層4aと樹脂層4bの二層構成に形成してある。このように有機光電変換積層構造体14の表面を無機封止層4aで被覆することによって、外部からの水分や酸素が有機光電変換積層構造体14に作用することを遮断することができるものであり、さらにこの無機封止層4aの上に樹脂層4bを設けることによって、水分及び酸素の遮断効果が高くなると共に、また外部からの外力などが無機封止層4aに作用して無機封止層4aが損傷されることを少なくすることができ、長期に亘って光電変換性能を安定して保持することができるものである。
【0030】
上記の無機封止層4a(後述の第2の無機封止層4cについても同じ)としては、耐透湿性及び耐酸素透過性が高く、水蒸気などの水分に対して安定な材料を用いて形成するのが望ましく、例えば、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、炭化珪素などの珪素系化合物や、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムなどのアルミニウム系化合物、珪酸アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化チタン、窒化チタンなどを挙げることができる。
【0031】
無機封止層4aは種々の方法により形成することが可能であるが、本発明の有機光電変換素子においては、気相成膜法により形成されたものに限定されるものである。ここで、本発明でいう気相成膜法とは、物理蒸着法(PVD法)及び化学気相成長法(CVD法)とを総称したものである。これらの具体的な方法に関しては、日本学術振興会、薄膜第131委員会編、「薄膜ハンドブック」(オーム社)などに記載されているように周知である。本発明において無機封止層4aの形成方法を気相成膜法に限定する理由は、気相成膜法は分子レベルでの堆積法なので、有機光電変換積層構造体14など下地層との密着性にすぐれた無機封止層4aを形成することができ、これにより界面からの水分等の侵入を防止することが可能になるからである。
【0032】
無機封止層4aの厚みは特に制限されるものではないが、1.0μm以上の膜厚で形成するのが望ましい。無機封止層4aの厚みを1.0μm以上に設定することによって、有機光電変換積層構造体14に対する封止性が高くなり、水分や酸素を遮断する効果を一層高く得ることができるものである。すなわち、有機光電変換積層構造体14の上に無機封止層4aを形成する場合、有機光電変換積層構造体14の各構成有機材料のガラス転移温度(有機材料のガラス転移温度は一般に80〜100℃)以下の基板温度で成膜する必要がある。そして現在、無機封止層4aを気相成膜法で形成する方法としてプラズマCVD法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが知られているが、100℃以下の基板温度で作製した無機封止層4aは、100℃以上の基板温度で作製したものに比べて膜の緻密牲が低く、膜厚が1.0μm未満であると無機封止層4aに貫通するピンホールが残存している可能性が高く、耐透湿性や耐酸素透過性が劣ることになる。このため無機封止層4aの厚みを1.0μm以上に設定することが望ましいのである。無機封止層4aの膜厚の上限は特に設定されないが、生産性やコストなどの面を考慮すると、実用的には無機封止層4aの膜厚は10μm以下に設定するのが好ましい。
【0033】
ここで、無機封止層4aは、内部応力が−1GPa〜+1GPa(但し、正の値を引っ張り応力、負の値を圧縮応力とする)であることが好ましい。これ以外の膜応力で無機封止層4aを形成した場合、無機封止層4aにクラックが生じたり、また緻密性が欠けたりするおそれがある。
【0034】
また、上記の樹脂層4b(後述の第2の樹脂層4dについても同じ)としては、光硬化型あるいは、100℃以下の低温硬化型の樹脂材料を用いることが好ましい。光硬化型のような非加熱で硬化できるものや100℃以下の低温硬化型のものを用いることで、有機光電変換積層構造体14に熱的なダメージを与えることなく、樹脂層4bを形成することができるのである。従って低温硬化型の樹脂材料の硬化温度は低いほど好ましく、室温程度のものが理想的である。
【0035】
樹脂層4bの樹脂の種類としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、ワックスなどを挙げることができる。また樹脂層4bの成膜方法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法あるいは樹脂のシート状成型物のラミネート法などを挙げることができる。樹脂層4bの厚みは特に限定されるものではないが、膜による保護性能と膜応力とのバランスを考えた場合、5〜10μmの範囲に設定するのが好ましい。
【0036】
図2は本発明の他の実施の形態の一例を示すものであり、有機光電変換積層構造体14の露出する外表面の全面を被覆するように、気相成膜法を用いて無機封止層4aを設け、次に無機封止層4aの全外表面を覆うように樹脂層4bを設け、さらに樹脂層4bの全外表面を覆うように気相成膜法を用いて第2の無機封止層4cを設けることによって、表面保護層4を無機封止層4aと樹脂層4bと第2の無機封止層4bの三層構成に形成してある。第2の無機封止層4cは無機封止層4aと同じ構成で形成することができる。
【0037】
ここで、基板10の上には異物16が付着し易い。例えば基板10を所定のサイズに切断する際に切りくずが発生するが、基板10としてガラス基板を用いる場合はガラス異物16が、プラスチック基板を用いる場合はプラスチック異物16が付着し易い。また基板10上に形成した電極(陽極)1にも異物16が付着し易い。例えば電極1のパターン形成時や、有機光電変換積層構造体14を蒸着法などで形成する前の基板10の洗浄時及び蒸着時などに、空気中のゴミ、電極パターン形成時に用いる有機レジスト材料、洗浄時に基板10の切断面から欠落する基板10の材料の破片などが異物16として付着し易い。さらに蒸着装置内に存在する異物16が有機層3や電極(陰極)2などの蒸着膜を形成する際に膜中に取り込まれてしまうこともある。
【0038】
このように異物16が存在すると、図3(a)に示すように、有機光電変換積層構造体14の上面(図2の実施の形態では電極(陰極)2の表面)に異物16の形状に盛り上がった部分が生じて、有機光電変換積層構造体14の上面に凹凸が発生し、有機光電変換積層構造体14の上に形成される無機封止層4aは平滑な膜にならず、異物16の存在する部分が盛り上がることになる。そして無機封止層4aがこのように部分的に盛り上がった形状になると、この盛り上がった箇所にピンホールやボイドなどの欠陥17が生じ易く、この欠陥17から水蒸気などの水分や酸素などが侵入するおそれがある。また図3(b)のように有機光電変換積層構造体14の上に異物16が付着している場合には、有機光電変換積層構造体14の上に無機封止層4aをプラズマCVDやスパッタリングなどで形成する際に異物16を核として、周囲の無機封止層4aの組成とは不連続な無機組成物18が形成され、この両者間のノッチ状不連続箇所19から水分や酸素などが侵入するおそれがある。
【0039】
このように、無機封止層4aは無機物であるために柔軟性に乏しく、異物16の存在で欠陥17や不連続箇所19などが生じ易く、この欠陥等の部分から水蒸気などの水分や酸素などが侵入し易い。そこで図2の実施の形態のように、無機封止層4aの上に樹脂層4bを設け、さらにその上に第2の無機封止層4cを設けるようにしたものである。無機封止層4aの上にこのように樹脂層4bを設けて被覆することによって、図2(b)に示すように、無機封止層4aの欠陥等を樹脂層4bでカバーすると共に無機封止層4aの凹凸をならし、樹脂層4bの上に欠陥のない無機封止層4cを形成することができるものであり、これにより、水分や酸素などの侵入を確実に防ぐことができるものである。
【0040】
このとき、樹脂層4bの厚みは1〜10μmであることが好ましい。樹脂層4bの厚みが1μm未満であると、無機封止層4aの欠陥等を完全に被覆することができず、また無機封止層4aの表面の凹凸をならすことができない。このため、樹脂層4bの上に無機封止層4cを形成する際に、無機封止層4aの履歴を引き継いだ状態で成膜がなされ、無機封止層4cにも欠陥等が生じてしまうおそれがある。逆に、樹脂層4bの厚みが10μmを超えると、特にエッジ部において樹脂層4b中にピンホール、ボイド、クラックなどの欠陥が生じ易くなり、また樹脂層4bの上に無機封止層4cを成膜した後に有機光電変換光素子を80℃程度に加熱して信頼性試験などを行なう際に、樹脂層4bの熱膨張による応力が大きくなって無機封止層4cに大きな引っ張り応力がかかり、無機封止層4cにクラックが生じるおそれがある。
【0041】
ここで、樹脂層4bの表面の最大表面粗さ(Rmax)は100nm以下であることが望ましい。樹脂層4bの表面に100nm以上の高低差の凹凸が存在すると、樹脂層4bの上に形成される無機封止層4cがその凹凸の形状履歴を引き継ぎ、その凹凸に沿って無機封止層4cが形成され、無機封止層4cを平滑な膜に形成することができず、無機封止層4c中にピンホール、ボイド、クラックなどの欠陥が生じ易くなって、この欠陥から水蒸気などの水分や酸素が侵入するおそれがある。このために、樹脂層4bの表面を最大表面粗さ100nm以下に形成して、無機封止層4cを欠陥等のない平滑な膜に形成できるようにするのが望ましいのである。樹脂層4bの表面の最大表面粗さ(Rmax)は小さい程好ましく、理想的には下限は0nmである。
【0042】
上記のように、基板10に積層した有機光電変換積層構造体14の上に無機封止層4aと、樹脂層4bと、無機封止層4cをこの順に設けるにあたって、有機光電変換積層構造体14の露出する全外表面を無機封止層4aで覆った後、無機封止層4aの全外表面を樹脂層4bで、樹脂層4bの全外表面を第2の無機封止層4cでそれぞれ覆うように、無機封止層4aと、樹脂層4bと、第2の無機封止層4cを積層するのが好ましい。無機封止層4aは緻密であるが欠陥等が発生し易いので、その全外表面を樹脂層4bで被覆することによって欠陥等を確実にカバーすることができるものであり、また樹脂層4bは無機封止層4a,4cに比べて水分や酸素を透過させ易いので、樹脂層4bの端部が露出しているとその部分から樹脂層4b中に水分や酸素が侵入するおそれがある。そこで、樹脂層4bの膜端部が露出しないように第2の無機封止層4cで完全に覆ってやることによって、水分や酸素を遮断する効果をより高く得ることができるものである。
【0043】
また、第2の無機封止層4cの厚みは特に制限されるものではないが、無機封止層4aと同様に1.0μm〜10μmの膜厚で形成するのが望ましい。第2の無機封止層4cの厚みを1.0μm以上に設定することによって、有機光電変換積層構造体14に対する封止性や、樹脂層4bに対する封止性が高くなり、水分や酸素を遮断する効果を一層高く得ることができるものである。
【0044】
図4は本発明の他の実施の形態の一例を示すものであり、有機光電変換積層構造体14の露出する外表面の全面を被覆するように、樹脂層4bを設け、さらに樹脂層4bの全外表面を覆うように気相成膜法を用いて無機封止層4aを設けることによって、表面保護層4を樹脂層4bと無機封止層4aの二層構成に形成してある。樹脂層4bや無機封止層4aは、既述のものと同じ構成で形成することができる。このものでは、有機光電変換積層構造体14の表面などに異物があっても、この異物を埋め込むようにして樹脂層4bを表面平滑な状態で形成することによって、樹脂層4bの表面に無機封止層4aを欠陥なく形成することができるものであり、無機封止層4aによる水分や酸素の遮断効果を高く得ることができるものである。
【0045】
図5は本発明のさらに他の実施の形態の一例を示すものであり、有機光電変換積層構造体14の露出する外表面の全面を被覆するように、樹脂層4bを設け、次にこの樹脂層4bの全外表面を覆うように気相成膜法を用いて無機封止層4aを設け、さらにこの無機封止層4aの全外表面を覆うように第2の樹脂層4dを設けることによって、表面保護層4を樹脂層4bと無機封止層4aと第2の樹脂層4dの三層構成に形成してある。樹脂層4bや無機封止層4aは、既述のものと同じ構成で形成することができ、また第2の樹脂層4dは樹脂層4bと同じ構成で形成することができる。このものでは、無機封止層4aを第2の樹脂層4dで被覆して保護することができ、外部からの外力などが無機封止層4aに作用して無機封止層4aが損傷されることを低減することができるものであり、長期に亘って光電変換性能を安定して保持することができるものである。
【0046】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項1に係る有機光電変換素子は、少なくとも一方が透光性である二つの電極の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層を備えると共に、表面に表面保護層が積層された有機光電変換素子において、表面保護層が、気相成膜法で形成された無機封止層と、無機封止層の上に形成された樹脂層よりなるので、外部から水分や酸素が素子内部に作用することを無機封止層で遮断することができるものであり、しかもこの無機封止層の上の樹脂層で水分及び酸素の遮断効果をさらに高めることができると共に、外部からの外力などが無機封止層に作用して無機封止層が損傷されることを樹脂層で防ぐことができ、長期に亘って光電変換性能を安定して保持することができるものである。
【0047】
また請求項2の発明は、請求項1において、表面保護層が、樹脂層の上にさらに気相成膜法で形成された第2の無機封止層を設けて形成されているので、異物の存在などで上記の無機封止層に欠陥等が生じても、樹脂層で欠陥を塞いだ状態で欠陥のない第2の無機封止層を形成することができ、無機封止層による水分や酸素の遮断効果を高く得ることができるものである。
【0048】
本発明の請求項3に係る有機光電変換素子は、少なくとも一方が透光性である二つの電極の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層を備えると共に、表面に表面保護層が積層された有機光電変換素子において、表面保護層が、樹脂層と、樹脂層の上に気相成膜法で形成された無機封止層よりなるので、外部から水分や酸素が素子内部に作用することを無機封止層で遮断することができるものであり、しかも異物が存在してもこの異物を埋め込むようにして樹脂層を表面平滑な状態で形成することによって、無機封止層を欠陥なく形成することができるものであり、無機封止層による水分や酸素の遮断効果を高く得ることができるものである。
【0049】
また請求項4の発明は、請求項3において、表面保護層が、気相成膜法で形成された無機封止層の上にさらに第2の樹脂層を設けて形成されているので、外部からの外力などが無機封止層に作用して無機封止層が損傷されることを第2の樹脂層で防ぐことができ、長期に亘って光電変換性能を安定して保持することができるものである。
【0050】
また請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれかにおいて、無機封止層は、内部応力が−1GPa〜+1GPa(但し、正の値を引っ張り応力、負の値を圧縮応力とする。)であるので、無機封止層に割れ等が発生することを低減できると共に緻密な層に形成することができるものである。
【0051】
また請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかにおいて、樹脂層は、光硬化型樹脂と、100℃以下の低温で硬化する熱硬化型樹脂のいずれかで形成されているので、素子の有機層などに熱的なダメージを与えることなく、樹脂層を形成することができるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図2】本発明の他の実施の形態の一例を示すものであり、(a)は断面図、(b)は一部の拡大断面図である。
【図3】異物の存在による問題を説明する図であり、(a),(b)はそれぞれ一部の拡大断面図である。
【図4】本発明の他の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図5】本発明の他の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 電極
2 電極
3 有機層
4 表面保護層
4a 無機封止層
4b 樹脂層
4c 第2の無機封止層
4d 第2の樹脂層
Claims (6)
- 少なくとも一方が透光性である二つの電極の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層を備えると共に、表面に表面保護層が積層された有機光電変換素子において、表面保護層が、気相成膜法で形成された無機封止層と、無機封止層の上に形成された樹脂層よりなることを特徴とする有機光電変換素子。
- 表面保護層が、樹脂層の上にさらに気相成膜法で形成された第2の無機封止層を設けて形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機光電変換素子。
- 少なくとも一方が透光性である二つの電極の間に、光が照射されると電荷を発生する有機層を備えると共に、表面に表面保護層が積層された有機光電変換素子において、表面保護層が、樹脂層と、樹脂層の上に気相成膜法で形成された無機封止層よりなることを特徴とする有機光電変換素子。
- 表面保護層が、気相成膜法で形成された無機封止層の上にさらに第2の樹脂層を設けて形成されていることを特徴とする請求項3に記載の有機光電変換素子。
- 無機封止層は、内部応力が−1GPa〜+1GPa(但し、正の値を引っ張り応力、負の値を圧縮応力とする)であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機光電変換素子。
- 樹脂層は、光硬化型樹脂と、100℃以下の低温で硬化する熱硬化型樹脂のいずれかで形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の有機光電変換素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002331292A JP2004165512A (ja) | 2002-11-14 | 2002-11-14 | 有機光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002331292A JP2004165512A (ja) | 2002-11-14 | 2002-11-14 | 有機光電変換素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004165512A true JP2004165512A (ja) | 2004-06-10 |
Family
ID=32808720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002331292A Pending JP2004165512A (ja) | 2002-11-14 | 2002-11-14 | 有機光電変換素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004165512A (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051012 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070731 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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