JP2004154998A - 成形用金型および成形用金型の製造方法 - Google Patents
成形用金型および成形用金型の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】成形用金型1は、成形面2aに、表側面が凹凸状3a,3bに形成されたメッキ層3と、凹凸状3a,3bのメッキ層3上に形成されており、表面が凹凸状のセラミック層5とを備えている。成形用金型1は、セラミック層5の表面が凹凸状に形成されているため、成形材料との離型性が良く、また成形時にガスが発生する場合も良好にガスが抜ける。また、セラミック層5は、表側面が凹凸状に形成されたメッキ層3の上に設けられているため、剥落しにくい。また、金型本体2の成形面2aの上にメッキ層3とセラミック層5とが設けられているため、成形面2aの破損が良好に抑制されるとともに、メッキ層3とセラミック層5が消耗したときは、付与し直すことで再生できる。
【選択図】図1
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、成形用金型および成形用金型の製造方法に関し、特に高分子材料の成形に利用される成形用金型に関する。
【0002】
【従来の技術】
ゴムや樹脂などの高分子材料を成形するための金型では、成形材料の金型からの離型を良くするため、金型の成形面に離型剤を塗布するのが一般的である。しかし、離型剤は成形面に頻繁に塗布する工程や、離型剤が付着した成形品を洗浄する工程などが増え、成形工程が煩雑となる。また、離型剤によって成形面と成形材料との間が密着して、成形時に発生するガスを十分抜くことができず、望ましい寸法精度が得られないこともある。
液状の離型剤を用いずに離型するために、成形面にフッ素樹脂の被膜を設けた成形型がある(例えば、特許文献1参照。)。この成形型では、離型剤を塗布したり、成形品から離型剤を除去したりする工程が必要とされず、工程が単純であり、また、離型剤や洗浄剤などの薬品類を必要としない。
【0003】
【特許文献1】
特開2001−328121号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、新しい成形材料などには、フッ素樹脂に対して反応活性を有したり、濡れが良好な材料も存在し、離型剤を用いずに良好な成形が行えない場合がある。
そこで、本発明では、種々の成形材料に対する離型性が向上されている成形用金型を提供することを課題とする。
また、本発明では、種々の成形材料に対する離型性が向上されている成形面を備える成形用金型を製造する方法を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明は、成形面に、表側面が凹凸状に形成されたメッキ層と、この凹凸状のメッキ層上に形成されており、表面が凹凸状のセラミック層とを備えている成形用金型である。
この金型は、セラミック層の表面が凹凸状に形成されているため、成形材料との離型性が良く、また成形時にガスが発生する場合も良好にガスが抜ける。また、セラミック層は、表側面が凹凸状に形成されたメッキ層の上に設けられているため、剥落しにくい。また、金型の成形面の上にメッキ層とセラミック層とが設けられているため、成形面の破損が良好に抑制されるとともに、セラミック層やメッキ層が消耗した場合には、メッキ層とセラミック層とを付与し直すことで再生できる。
なお、本明細書において、表面について「凹凸状」とは、特に表面を研磨等しない状態、例えば、セラミック粒子の凹凸が残っているような状態や、凹凸を有するように表面処理した状態を含む。
【0006】
本発明では、また、成形面に、表側面が凹凸状に形成されたメッキ層と、この凹凸状のメッキ層上に形成されているシリコーン層とを備えている成形用金型を提供する。
この金型は、シリコーン層が表面に設けられているため、成形材料、特にゴム材料との離型性が良い。また、シリコーン層は、表側面が凹凸状に形成されたメッキ層の上に設けられているため、剥落しにくい。また、金型の成形面の上にメッキ層とシリコーン層とが設けられているため、成形面の破損が良好に抑制されるとともに、シリコーン層やメッキ層が消耗した場合には、メッキ層とシリコーン層とを付与し直すことで再生できる。なお、シリコーン層においても、表面が凹凸状に形成されていると、ガス抜き性や離型性が向上される。
【0007】
また、本発明では、成形用金型の製造方法であって、金型の成形面をメッキ処理する工程と、メッキ処理によって得られるメッキ層をブラスト処理する工程と、前記メッキ層上にセラミック層またはシリコーン層を付与する工程とを備える成形用金型の製造方法を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明に係る成形用金型は、樹脂材料、エラストマー材料、ゴム材料などの高分子材料を成形するための金型に適するが、金属、ガラス、あるいはセラミックなどの無機材料を成形するための金型にも適用し得るものである。
図1に、本発明の一実施の形態に係る成形用金型の成形面の断面を示す。この成形用金型1は、金型本体2の成形面2aにメッキ層3を備えており、メッキ層3の上にセラミック層5を備えている。
【0009】
金型本体2は、ステンレス鋼、亜鉛合金、アルミ合金、ベリリウム銅合金など公知の材料から成り、公知の方法で形成されている。また、金型本体2の成形面2aは、物理蒸着(PVD)、化学蒸着(CVD)、ナイテンパー処理など、公知の表面処理が施されていても良い。成形面2a上にメッキ層3が設けられている場合は、金型本体2は、メッキ材料との固着性が良い材料よりなることが好ましい。
【0010】
メッキ層3は、成形面2a上に設けられている被膜で、公知のメッキ法によって付与されている。メッキ層3は、例えば、硬質クロムやニッケル、ニッケル−リンなど種々のメッキ材料によって形成されている。メッキ層3は、成形材料に対して離型性の高い材料であることが好ましく、例えば、ゴム材料用の成形型では、硬質クロムメッキが好ましく、樹脂材料用の成形型では、ニッケル−リンメッキが好ましい。
【0011】
メッキ層3の表側の面は、凹凸状に形成されている。本実施形態では、緩やかな凹凸状3bと、細かい凹凸状3aとを備えている。緩やかな凹凸状3bは、メッキ処理によって自然に、または部分的に厚みを調節したメッキ処理によって形成される。また、細かい凹凸状3aは、メッキ層3を形成後に抉る、削る、盛るなどの粗面によって形成される。細かい凹凸状3aが多く設けられていると、メッキ層3の表面概形が金型本体2の成形面2aの形状にほぼ等しい状態で、表面積が増大されるため、好ましい。また、細かい凹凸状3aのように角部を備える凹凸が形成されていると、後述するセラミック層5が良好に嵌合状に固着されるため、好ましい。なお、細かい凹凸状3aの高低差は特に限定されないが、図1に示すように、金型本体2の表面に到達しないように形成されていることが好ましい。
【0012】
セラミック層5は、メッキ層3の上に設けられているセラミック粒子を含有する層である。セラミック層5は、メッキ層3の凹凸状3a,3bにほぼ沿って密着している。セラミック層5は、種々の厚みで良いが、好ましくは、2μm以上3μm以下とされる。また、セラミック粒子の大きさは、特に限定されないが、セラミック層5の厚み以下であり、好ましくは1μm以下である。
【0013】
セラミック層5に含有されるセラミック材料は、例えば、ちっ化ほう素(BN)、ちっ化チタン(TiN)、ちっ化ケイ素(SiN)などのちっ化物、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al2O3)、ジルコニア(ZrO2)、マグネシア(MgO)、酸化チタン(TiO2)、酸化モリブデン(MoO2)や酸化鉄や酸化クロムなどの酸化物、またタルクやシリカ−アルミナなど種々の複合酸化物、あるいは、炭化ケイ素(SiC)、炭化チタン(TiC)、炭化タングステン(WC)などの炭化物を挙げることができ、これらよりなる群から選択される1以上の化合物を用いることができる。高分子材料のための成形用金型では、好ましくは、セラミック層5は、ちっ化ほう素を主に含有する。
【0014】
また、セラミック層5は、好ましくは、有機系または無機系のバインダ(結合剤)によって安定に成形用金型1に固着されている。このように利用できるバインダは、成形用金型1によって成形される材料との離型性や、成形時の温度に対する耐性を考慮して選択される。
例えば、無機系のバインダとしては、結晶化ガラスやホウケイ酸ガラスなどのガラス、ケイ酸、リン酸ケイ酸、酸化リチウムを挙げることができる。
【0015】
また、有機系のバインダとしては、例えば、フェノール樹脂を初めとする芳香族ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルキレートなどのビニル樹脂や、エポキシ樹脂、化学修飾したセルロース、例えば、エチルヒドロキシセルロースやニトロセルロースなど、ポリエチレングリコール等を挙げることができる。
【0016】
セラミック層5の表面は、凹凸状に形成されている。セラミック層5の表面の凹凸状は、セラミック層5が形成されるときに形成される自然な凹凸状が好ましい。具体的には、セラミック層5の付与むらによる緩やかな凹凸状や、セラミック粒子によって形成される凸部を備える凹凸状である。なお、セラミック層5の表面についても、メッキ層3と同様に、ブラスト処理などによって粗面に形成されていても良い。
【0017】
この成形用金型1のセラミック層5が含有するセラミックは、一般に、高分子材料に対して良好な離型性を示す。このため、成形用金型1を用いてエラストマー材料などの高分子材料からなる成形体を成形して、良好に離型することができ、成形精度の良い成形体を得ることができる。
また、セラミック層5は、メッキ層3の凹凸状3a,3bに侵入した状態で付与されており、メッキ層3に安定に固着されている。このため、セラミック層5は、剥落しにくくなっている。特に、メッキ層3に細かい凹凸状3aが設けられて、この凹凸状3aに侵入した状態で設けられているセラミック層5は、より強固に固着しており、プラスチックビーズを用いる洗浄工程などにおいても剥落しにくい。したがって、離型剤を用いずに、洗浄しながら繰り返し成形工程に供することができる。また、金型本体2の成形面2aにメッキ層3とセラミック層5とが設けられているため、成形面2aが損傷しにくく、金型本体2の寿命が長くなっている。
【0018】
次に、この成形用金型1を製造する方法の一実施形態について、特に成形面の形成工程について説明する。
(メッキ処理工程)
公知の方法によって成形された金型本体2の成形面2aにメッキ処理する。メッキ処理は、公知の方法で良い。例えば、硬質クロムの場合は水溶液中で電気分解することで成形面2aを被覆する膜状に形成することができ、メッキ層3とすることができる。また、ニッケル−リンの場合は、電気分解による膜形成後に加熱処理して硬化させることで、硬度を有するメッキ層3とすることができる。
メッキ層3の厚さは、特に限定されないが、メッキ層3の表側面を粗面化する場合、10μm〜15μm以上が好ましく、より好ましくは、15〜20μmとされると、粗面化によって金型本体2の成形面2aが露出するおそれが無い。
【0019】
(粗面化工程)
次に、メッキ層3に細かい凹凸状3aを形成するために、粗面化する。粗面化は、公知の種々の方法で行うことができるが、サンドブラストやショットブラスト等のブラスト処理が好ましい。ブラスト処理で使用されるブラスト材は、アルミナ質研削材や炭化ケイ素質研削材、ガラスビーズなど種々の材質のものが使用でき、球状でも鋭角形状でも良い。ブラスト材の粒度や組み合わせは、面の形状や成形材料との接触態様などに合わせて調整する。例えば、成形材料との摩擦が大きい部分やせん断応力がかかりやすい面には、凹凸状3aが多く設けられてセラミック層5との接触面積が増大させるこことで、剥落しにくくすることができる。
【0020】
(セラミック層付与工程)
その後、メッキ層3の上に、セラミック層5を付与する。セラミック層5は、塗装、あるいは化学蒸着(CVD)、物理蒸着(PVD)など種々の方法によって層状に付与できる。具体的には、上述のセラミック層5の成分をエアゾールやエマルションなどの分散体にして吹き付けたり、塗ったりすることで、層状に付与することができる。分散媒は、空気、水や揮発性の有機溶媒などを利用することができる。好ましくは、メッキ層3に形成された細かい凹凸状3aに良好にセラミック層5の材料を供給できる方法が用いられる。
【0021】
セラミック層5の付与工程では、セラミックを含有する材料を層状に付与したあと、適宜、加熱処理して焼き付けることができる。加熱処理することにより、より固着強度の大きいセラミック層5を良好に得ることができる。ここで、加熱処理では、高温で加熱すると、金型本体2に歪みなどの変形を生じたり、メッキ層3とセラミック層5とが反応して好ましい離型性を備える表面が得られなかったりするおそれがある。このため、例えば、硬質クロムのメッキ層3の上にセラミック層5を設ける場合、焼き付け処理は350℃未満で行われることが好ましく、より好ましくは200℃以下とされる。このように利用できるセラミック層5の成分としては、例えば、常温乾燥で、好ましいセラミック層5が得られるホワイティコート((株)オーデック製)を用いることができる。
【0022】
この製造方法では、公知の方法で金型本体2の成形面2aに硬質クロムなどのメッキ層3を形成し、メッキ層3の表側面を粗面化することで、セラミック層5を比較的低温で良好に固着させることができる。特に、ブラスト処理によってメッキ層3に凹凸状3aを付与してセラミック層5との接触面積を増大させるとともに、セラミック層5をメッキ層3に食い込んだ形状に形成することができ、より強固にセラミック層5を固着させることができる。この方法により、より耐久性のあるセラミック層5が成形表面に設けられている成形金型を製造することができる。
【0023】
また、セラミック層5が摩耗などによって消耗した場合は、ブラスト処理などによってセラミック層5を、または、メッキ層3とセラミック層5とを除去し、再度、セラミック層付与工程またはメッキ処理工程、粗面化工程およびセラミック層付与工程を行うことで、本実施形態の成形用金型に製造し直すことができる。したがって、繰り返しセラミック層5を付与し直すことで、より長く、より良好な離型性を保持させて金型本体2を使用することができる。
【0024】
本発明の別の実施形態では、セラミック層5に代えてシリコーン層が設けられる。シリコーン層は、公知のシリコーンより成る。シリコーン層は、典型的には、シリコーンプレポリマーを吹き付け、塗布等によってメッキ層3に層状に付与し、焼き付けなどによって重合させて皮膜状のシリコーンを形成することによって得ることができる。シリコーンプレポリマーは、炭化水素系の溶剤に溶解させることで液状に調製して、メッキ層3などの表面に付与できる。具体的には、例えば、150℃での加熱処理で耐久性の良い被膜を形成するパーマリース10(Struktol製)を用いることができる。
【0025】
シリコーンは、凹凸状を有しない面上に焼き付けても比較的安定に固着されるが、特に、細かい凹凸状3aを有する表面上に設けることによって、その固着強度が良好に増大されており、安定化されている。また、シリコーン層は、好ましくは、シリコーン表面を凹凸状に形成できる程度の凹凸状(例えば凹凸状3b)を備える面上に形成されていることにより、その表面のガス抜き性や離型性が向上されている。なお、シリコーン層は、セラミック層5と同様、2〜3μmの厚みを有することが好ましい。
シリコーン層を備える成形体においても、セラミック層5を備える成形体と同様の効果が得られる。特に、シリコーン層は、ゴム材料やエラストマー材料、とりわけゴム材料に対する離型性が高い。
【0026】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。
メッキ層を設けず、直接、金型本体の成形面にセラミック層またはシリコーン層を付与しても良い。この場合においても、成形面を凹凸状に形成してからセラミック層またはシリコーン層を付与することにより、セラミック層またはシリコーン層の金型本体への固着強度を高めることができ、好ましい。また、この場合、金型本体2の保護のためにセラミック層またはシリコーン層は、より厚く設けられても良い。
また、セラミック層またはシリコーン層が設けられる面は、例えば、剥落しやすい部分など、部分的に凹凸状に形成されていても良い。
【0027】
本発明は、したがって、以下の成形用金型をも含むものである。
すなわち、成形面の表面に、表面が凹凸状のセラミック層を備えている高分子材料を成形するための成形用金型(1)を提供するものである。そして、この金型の成形面には、セラミック層が設けられており、種々の高分子材料に対してより高い離型性を有している。また、セラミック層の表面が凹凸状に形成されており、より離型性が向上されているとともに、成形時にガスが発生する場合もガスが抜けやすくなっている。したがって、この成形用金型を用いることで、種々の高分子材料について、離型性良く成形体を成形することができる。
また、成形面の表面に、表面が凹凸状のシリコーン層を備えている高分子材料を成形するための成形用金型(2)を提供するものである。この金型の成形面には、シリコーン層が設けられており、高分子材料、特にエラストマー材料やゴム材料に対してより高い離型性を有している。また、シリコーン層の表面が凹凸状に形成されており、離型性が向上されているとともに、成形時にガスが発生する場合もガスが抜けやすい。また、加硫工程にもよく耐えるものである。
また、これらの成形用金型(1)または(2)において、セラミック層またはシリコーン層は、凹凸状に形成された面上に形成されていると、セラミック層またはシリコーン層は成形用金型に、より強固に固着されて、剥落しにくく、セラミック層またはシリコーン層の耐久性が向上される。
【0028】
【発明の効果】
本発明では、種々の成形材料に対する離型性が向上されている成形用金型およびその製造方法を提供することにより、良好に種々の材料より成る成形体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係わる成形用金型の成形面を含む断面図である。
【符号の説明】
1 成形用金型
2 金型本体
2a 成形面
3 メッキ層
3a,3b 凹凸状
5 セラミック層
Claims (3)
- 成形面に、
表側面が凹凸状に形成されたメッキ層と、
この凹凸状のメッキ層上に形成されており、表面が凹凸状のセラミック層と
を備えている、成形用金型。 - 成形面に、
表側面が凹凸状に形成されたメッキ層と、
この凹凸状のメッキ層上に形成されているシリコーン層と
を備えている、成形用金型。 - 成形用金型の製造方法であって、
金型の成形面をメッキ処理する工程と、
メッキ処理によって得られるメッキ層をブラスト処理する工程と、
前記メッキ層上にセラミック層またはシリコーン層を付与する工程と
を備える成形用金型の製造方法。
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