JP2004152961A - 搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム - Google Patents
搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004152961A JP2004152961A JP2002315872A JP2002315872A JP2004152961A JP 2004152961 A JP2004152961 A JP 2004152961A JP 2002315872 A JP2002315872 A JP 2002315872A JP 2002315872 A JP2002315872 A JP 2002315872A JP 2004152961 A JP2004152961 A JP 2004152961A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- substrate
- transfer
- information
- transport
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】搬送指令PC・1が、星型配列の複数の製膜室C1〜C8に基板を搬送する複数の搬送台車2〜5の位置情報と搬送台車2〜5が保持している基板の状態を示す基板情報と製膜室C1〜C8における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルにこれら情報を書き込む。次に、位置情報と基板情報と製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する。そして、この判定結果に基づいて、搬送条件が指定する搬送台車2〜5の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを読み出して、搬送台車2〜5の制御を行う。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマCVD装置における基板搬送プロセスを管理する搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムに関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマCVDは、多くの薄膜作成方法の中でも最も自由度が高く、無機物や有機物、複合物質等に至るまで、様々な物質の製膜に応用可能である。プラズマCVDにおいて制御可能なパラメータは、ガス組成、ガス流量、圧力、プラズマ出力、基板温度、基板バイアス等が存在し、膜堆積に関する物理現象や化学現象をこれらのパラメータによって独立に制御することが可能である。
従来、プラズマCVD装置における基板搬送制御システムとして、基板の製膜を行う製膜室を星型に配列させた形態の生産ラインが存在する。それぞれ異なる製膜処理機能を備えた製膜室を星型に配置することで、スループット時間(部品から完成品になるまでの時間)の短縮により生産効率を高めることができる(特許文献1を参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平11−163086号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
製膜室が複数存在する場合、各製膜室及び搬送台車にはPLC(Programmable Logic Controller)が組み込まれ、システム管理者が、適宜各PLCの動作プログラムを記述することで搬送制御を行っている。
しかし、基板搬送制御システムの拡張により搬送制御が複雑化するにつれて、各PLCの動作プログラムの記述量が膨大になり、PLCの処理能力を超えてしまうとPLCの演算速度が低下するという問題がある。また、基板搬送制御システム全体の処理時間効率を高めるためには、より複雑な搬送制御のシミュレーションが必須となり、シミュレーションを行う度に専用のハードウェアシステムの構築が必要となるという問題がある。
【0005】
本発明は、このようなことを考慮してなされたものであり、その目的は、搬送制御系と製膜制御系を中央管理することで、基板搬送制御システムの処理時間効率を高めることができるとともに、動作プログラムのメンテナンス効率(メンテナンス時間の短縮等)を高めることができる搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラムを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明は上記の課題を解決すべくなされたもので、請求項1に記載の発明は、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、前記搬送台車の位置情報と前記搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第1の記憶手段と、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報の更新情報を前記製膜室を制御する制御部より受けて、前記テーブルに書き込む書き込み手段と、前記搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第2の記憶手段と、前記テーブルより前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致すれば、該搬送条件が指定する搬送経路を第2の記憶部より読み出して、前記搬送台車の制御を行う搬送制御部とを具備することを特徴とする。
【0007】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【0008】
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【0009】
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であることを特徴とする。
【0010】
請求項5に記載の発明は、請求項1から請求項4のいずれかの項に記載の発明において、前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする。
【0011】
請求項6に記載の発明は、搬送制御部が、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込み、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定し、該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の制御を行うことを特徴とする。
【0012】
請求項7に記載の発明は、コンピュータに、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込む書き込み処理と、前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する判定処理と、該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の搬送制御を行う搬送制御処理とを実行させるための搬送制御プログラムである。
【0013】
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【0014】
請求項9に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報であることを特徴とする。
【0015】
請求項10に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であることを特徴とする。
【0016】
請求項11に記載の発明は、請求項1から請求項4のいずれかの項に記載の発明において、前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。
まず本発明の基本的な考え方について説明する。本実施形態の搬送制御システムは、シーケンス制御全体を一つの上位系(搬送指令PC)と複数の下位系(サーボ系)に分かれ、上位系と下位系とが接続されて構成される。
上位系は下位系の通信を模擬するシミュレーション装置(シミュレーションPC)によって動作モードのシミュレートを行い、この上位系2装置で検証デバック作業を行う。シミュレーション装置は下位系シーケンスをステップ状に分割してデータベース化し,このステップを並列処理リストとして動作させることによりシーケンスロジックを汎用化する。
搬送指令PCのシミュレーションでは、4組の搬送台車(LA/LB台車2、PA/PB台車3、IA/IB台車4、NA/NB台車5)を星型配置の製膜室で効率的に基板搬送出来るか確認する。
シミュレーションPCは、各組の搬送台車が製膜前の基板を各製膜室に搬送し、製膜が完了したタイミングで最短の待ち時間で製膜後の基板を搬出することが出来るようにシミュレーションでタイミングの調整を行う。
【0018】
図1は、本実施形態の搬送制御システムの全体構成を示すブロック図である。本実施形態の搬送制御システムは、上位の搬送指令PC・1と、製膜室C1〜C8と、4台の搬送台車LA/LB台車2、PA/PB台車3、IA/IB台車4、NA/NB台車5と、ロードロック室6と、アンロード室7と下位のサーボ系(図示せず)からなる。
【0019】
搬送指令PC・1は、搬送制御システム全体を制御するPCであって、製膜室の空き状況把握、各台車への動作指令、台車の動作モードの決定を制御する。搬送指令PC・1は、CPU等の中央演算装置と、ROM、RAM等の半導体メモリからなる記憶部を有している。CPUは、ROMに記憶された動作プログラムを読み出して、基板搬送制御に関する一連の処理を実行する。ROMは、この動作プログラムの他に、搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モード(後述する)及び搬送条件(後述する)を記憶する。RAMは、LA/LB台車2〜NA/NB台車5の位置情報と、LA/LB台車2〜NA/NB台車5が保持している基板の基板情報と、製膜室C1〜C8における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する。以下、このテーブルをピンボードと呼ぶ。
【0020】
ここで、LA/LB台車2〜NA/NB台車5の位置情報とは、搬送台車が複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報であって、例えば、LA/LB台車2はC1室内、または架橋部分にあるといった内容を示す。
また搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報とは、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、基板がいずれの過程にあるかを示す情報であって、具体的には、未製膜、1層目の膜(p層膜)製膜済み、2層目の膜(i層膜)製膜済み、3層目の膜(n層膜)製膜済み(=製膜完了)であることを示す。各基板には、それぞれIDが登録されており、基板が現在どの製膜室に存在するか、基板処理中に異常等発生していないか等の情報を含むの基板IDデータに紐付けられた基板毎のトラッキングデータが管理される。
また、製膜室C1〜C8における製膜処理ステータス情報とは、製膜室が空き状態であるか否かを示す情報であって、より具体的には、C1室が空き状態、C2室が基板処理状態であるといった内容を示す。基板処理状態とは、例えば基板の搬送先製膜室の決定時点から、基板搬入、基板製膜処理中、基板製膜完了、製膜室からの搬出完了時点までをいい、予め算出される搬入所要時間、製膜所要時間、処理経過時間、搬出所要時間等の時間パラメータよって規定される。
【0021】
ロードロック室6、製膜室C1〜C8、アンロード室7にはそれぞれPLCが組み込まれており、それぞれのPLCが各製膜室内での基板の受渡し機構(台車から製膜機構への受渡し)の制御を行う。それぞれのPLCは、LA/LB台車2、PA/PB台車3、IA/IB台車4、NA/NB台車5により製膜室C1〜C8等に搬送されてきた基板を製膜室内の基板ヒータカバーに移載する制御を行うとともに、基板ヒータカバーを製膜機構にセットする制御、各製膜室及び処理室のバルブ制御、ヒータ制御、圧力制御、レシピ制御、高周波電力制御を行う。
【0022】
ロードロック室6は製膜室C1と隣接して設置され、未製膜の基板がセットされる、基板搬送の始点である。製膜室C1〜C8は、図1に示すように星型に設置されており、製膜室C1と製膜室C5、製膜室C2と製膜室C6、製膜室C3と製膜室C7、製膜室C4と製膜室C8とがそれぞれ対向している。
製膜室C1ではロードロック室6から未製膜の基板が搬入され、一時的に基板が保管される。製膜室C2、C4では、1層目の膜を基板に製膜する。製膜室C5、C6では、2層目の膜を基板に製膜する。製膜室C7では、3層目の膜を基板に製膜する。製膜室C8では、製膜済みの基板が製膜室C7から搬入され、一時的に基板が保管される。アンロード室7では、製膜済み基板が取り出される。
【0023】
LA/LB台車2は、ロードロック(LL)室6から未製膜の基板を1層目の膜(p層膜)を製膜する製膜室(C2、C4室)に搬送する台車である。
PA/PB台車3は、1層目のp層膜が製膜された基板を2層目の膜(i層膜)を製膜する製膜室(C5、C6室)に搬送する台車である。
IA/IB台車4は、2層目のi膜が製膜された基板を3層目の膜(n層膜)を製膜する製膜室(C7室)に搬送する台車である。
NA/NB台車5は、製膜室C7から3層目のn膜の製膜が済み、製膜が完了した製膜済み基板をアンロード(UL)室7に搬出するための台車である。
【0024】
下位のサーボ系はPLCによって制御される。すなわち、下位のサーボ系のPLCは、LA/LB台車2、PA/PB台車3、IA/IB台車4、NA/NB台車5の台車制御、各基板に関する基板データトラッキング、製膜室での機械装置の制御を行う。
【0025】
以下、本実施形態の搬送制御システムにおける搬送制御処理の流れについて説明する。本実施形態の搬送制御システムにおける搬送動作モードは、通常動作モード、製膜室休止モード、台車故障モードからなる。
まず通常動作モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。搬送制御システム内での基板の流れは「Aサイクル」「Bサイクル」に分けられる。
Aサイクル:C1→C2→C5→C7→C8
Bサイクル:C1→C4→C6→C7→C8
すなわち、Aサイクルにおいて、搬送指令PC・1は動作モードを通常動作モードと設定しており、ロードロック室6を制御するPLCより未製膜の基板がセットされたことを示す信号を受けて、製膜室C1における製膜処理ステータス情報をRAM2に記憶されたピンボードより読み出す。製膜室C1の製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令PC・1は予め規定された搬送条件に合致していると判定し、ロードロック室6を制御するPLCに対してLA/LB台車2の動作指令を出力する。ロードロック室6を制御するPLCは、LA/LB台車2の動作指令を搬送指令PC・1はより受けて、LA/LB台車2の台車制御を行う。そして、このPLCの台車制御により、ロードロック室6でセットされた未製膜の基板が、LA/LB台車2によりロードロック室6から製膜室C1に搬送される。ここで、下位の搬送系PLCは、搬送されてきた基板に対して基板情報とロードロック室6及び製膜室C1における製膜処理ステータス情報を基板IDと関連付けてトラッキングデータに書き込む。
【0026】
次に、搬送指令PC・1は製膜室C1を制御するPLCより基板が搬入されたことを示す信号を受けて、製膜室C2における製膜処理ステータス情報をピンボードより読み出す。製膜室C2の製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令PC・1は製膜室C1を制御するPLCに対してLA/LB台車2の動作指令を出力する。製膜室C1を制御するPLCは、搬送指令PC・1よりLA/LB台車2の動作指令を受けて、LA/LB台車2の台車制御を行う。そして、このPLCの台車制御により、製膜室C1の基板が、製膜室C1から製膜室C2に搬送される。ここで、下位の搬送系PLCは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室C1及び製膜室C2における製膜処理ステータス情報を、基板IDと関連付けてトラッキングデータに書き込む。製膜室C2では、製膜室C2を制御するPLCによる製膜制御のもと、1層目の膜が基板に製膜される。
【0027】
一方、製膜室C2の製膜処理ステータス情報が基板処理状態であることを示す場合、搬送指令PC・1は予め規定された搬送条件に合致していないと判定し、製膜室C4の空き状態を確認し、搬送条件との比較を行う。
この動作を、4組の台車が予め規定されたそれぞれの移動範囲内で順次行う。
【0028】
次に、1層目の膜が製膜された状態の基板は、PA/PB台車3により製膜室C2から製膜室C5に搬送される。すなわち、上述の搬送処理と同様に、PLCは搬送指令PC・1に対して製膜処理完了を通知する。搬送指令PC・1は、製膜処理ステータス情報をピンボードより読み出す。製膜処理ステータス情報が空き状態であることを示す場合、搬送指令PC・1は搬送条件に合致していると判定し、PA/PB台車3の動作指令を出力する。製膜室C2を制御するPLCは台車制御を行い、1層目の膜が製膜された状態の基板が製膜室C5に搬送される。ここで、下位の搬送系PLCは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室C2及びC5における製膜処理ステータス情報を基板IDと関連付けてトラッキングデータに書き込む。製膜室C5では、2層目の膜が基板に製膜される。
【0029】
次に、2層目の膜が製膜された状態の基板は、上述の搬送制御と同様の処理手順でIA/IB台車4により製膜室C5から製膜室C7に搬送され、3層目の膜が基板に製膜される。そして、NA/NB台車5によって製膜室C7からアンロード室8に搬送され、製膜が完了した基板が取り出される。
【0030】
以上のように、搬送指令PC・1は4組の台車を製膜室の空き状態を常に監視しながら最適タイミングで制御して製膜室間の基板搬送を行う。また、下位の搬送系PLCは、搬送されてきた基板に対して基板情報と製膜室における製膜処理ステータス情報を基板IDと関連付けてトラッキングデータに随時書き込む。この搬送処理はBサイクルに関しても、Aサイクルと同様であって、搬送指令PC・1は両サイクルを並列制御する。
【0031】
したがって、本実施形態の搬送制御システムによれば、搬送指令PC・1が各台車の搬送制御を中央管理しているので、各制御室の制御を行う搬送系PLCの演算負荷が低減できる効果が得られる。また搬送制御系と製膜制御系の分散により、制御プログラムの分散化が可能であり、プログラムの開発・メンテナンス効率を向上させることができる。また、各台車を中央制御することにより、搬送指令PC・1に各製膜室の情報の集約ができるので、搬送制御等のテストシミュレーションが可能となり、実機展開の前にデバック作業を行うことができる効果が得られる。
【0032】
次に、製膜室休止モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。製膜室休止モードとは、製膜室のメンテナンス時等、その製膜室には基板搬送を休止するモードである。例えば、製膜室C2のメンテナンスを行う場合、上述の搬送制御と同様の処理手順で、AサイクルでBサイクルの一部を実施する。すなわち、LA/LB台車2は、1層目の膜を製膜するためにロードロック室6から常に製膜室C4に基板を搬送する。そして、メンテナンスが終了した場合は、通常モードに移行する。
【0033】
次に、台車故障モードにおける搬送制御処理の流れについて説明する。台車故障モードとは、例えば4組の台車のうちいずれか1の台車が故障した場合は、3組の台車が故障した台車の肩代わりをして運転するモードである。
この場合、稼動可能な台車が4組から3組になる。台車が故障した場合には、下位系(PLC側)で各搬送経路における基板搬送を担当する台車の種類を入れ替える。すなわち、例えばPA/PB台車3が故障した場合、PA/PB台車3に対して搬送指令PC・1が出していた搬送指令をIA/IB4台車に対して行う。この時Aサイクル、Bサイクル自体は変わらずIA/IB4台車の移動範囲が変更される。そして、故障したPA/PB台車3が復旧した場合は、通常モードに移行する。
【0034】
したがって、製膜室のメンテナンス中や一部の台車が故障した場合であっても、システム全体がストップしてしまうことを防止できる効果が得られるとともに、その影響をできるだけ低減することができる効果が得られる。
【0035】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、搬送台車の位置情報と搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第1の記憶手段と、搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第2の記憶手段と、このテーブルより位置情報と基板情報と製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、予め規定された搬送条件に合致すれば、搬送条件が指定する搬送動作モードを読み出して、搬送台車の制御を行う搬送制御部とを具備するので、搬送系PLCの演算負荷を低減することができる効果が得られる。また搬送制御系と製膜制御系の分散により、制御プログラムの分散化が可能であり、プログラムの開発・メンテナンス効率を向上させることができる。また、中央制御することにより、各製膜室の情報の集約ができる効果が得られる。また、搬送制御等のテストシミュレーションが可能となり、実機展開の前にデバック作業を行うことができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態の搬送制御システムの全体構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1…搬送指令PC
2…LA/LB台車
3…PA/PB台車
4…IA/IB台車
5…NA/NB台車
6…ロードロック室
7…アンロード室
C1〜C8…製膜室
Claims (11)
- 星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車と、
前記搬送台車の位置情報と前記搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルを記憶する第1の記憶手段と、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報の更新情報を前記製膜室を制御する制御部より受けて、前記テーブルに書き込む書き込み手段と、前記搬送台車の搬送経路を予め規定する搬送動作モードを記憶する第2の記憶手段と、
前記テーブルより前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致すれば、該搬送条件が指定する搬送経路を第2の記憶部より読み出して、前記搬送台車の制御を行う搬送制御部と
を具備することを特徴とする搬送制御システム。 - 前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項1に記載の搬送制御システム。 - 前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項1に記載の搬送制御システム。 - 前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報である
ことを特徴とする請求項1に記載の搬送制御システム。 - 前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかの項に記載の搬送制御システム。
- 搬送制御部が、
星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込み、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定し、
該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の制御を行う
ことを特徴とする搬送制御方法。 - コンピュータに、
星型配列の複数の製膜室に基板を搬送する複数の搬送台車の位置情報と該搬送台車が保持している基板の状態を示す基板情報と前記製膜室における製膜処理ステータス情報とからなるテーブルに該情報を書き込む書き込み処理と、
前記位置情報と前記基板情報と前記製膜処理ステータス情報とを定期的に読み出して、該情報が予め規定された搬送条件に合致するか否かを判定する判定処理と、
該判定結果に基づいて、該搬送条件が指定する前記搬送台車の搬送経路を読み出して、前記搬送台車の搬送制御を行う搬送制御処理と
を実行させるための搬送制御プログラム。 - 前記位置情報は、前記搬送台車が前記複数の製膜室のうち、いずれの製膜室にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項7に記載の搬送制御プログラム。 - 前記基板情報は、多段階からなる基板製膜処理過程のうち、該基板がいずれの過程にあるかを示す情報である
ことを特徴とする請求項7に記載の搬送制御プログラム。 - 前記製膜処理ステータス情報は、前記製膜室が空き状態であるか否かを示す情報である
ことを特徴とする請求項7に記載の搬送制御プログラム。 - 前記搬送条件は、空き状態である前記製膜室が行う基板製膜処理と、前記基板情報が示す基板製膜処理過程の次の基板製膜処理過程とが一致する場合、該基板を搬送する搬送台車を該製膜室に搬送する搬送経路を指定する
ことを特徴とする請求項7から請求項10のいずれかの項に記載の搬送制御プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002315872A JP2004152961A (ja) | 2002-10-30 | 2002-10-30 | 搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002315872A JP2004152961A (ja) | 2002-10-30 | 2002-10-30 | 搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004152961A true JP2004152961A (ja) | 2004-05-27 |
Family
ID=32459742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002315872A Pending JP2004152961A (ja) | 2002-10-30 | 2002-10-30 | 搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004152961A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011181771A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
-
2002
- 2002-10-30 JP JP2002315872A patent/JP2004152961A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011181771A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7603195B2 (en) | Methods and apparatus for integrating large and small lot electronic device fabrication facilities | |
US8467895B2 (en) | Processing system and method for operating the same | |
US7974726B2 (en) | Method and system for removing empty carriers from process tools by controlling an association between control jobs and carrier | |
US20070282474A1 (en) | Method and system for dynamically changing the transport sequencing in a cluster tool | |
KR20110099644A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP5592863B2 (ja) | 真空処理装置および被処理体の搬送方法 | |
KR20180084067A (ko) | 장치의 실시간 상태 기반 자재 스케쥴링 방법 및 시스템 | |
TWI557655B (zh) | Production efficiency system, production efficiency of the device and production efficiency of the method | |
JPWO2008075404A1 (ja) | 半導体製造システム | |
JP6105436B2 (ja) | 基板処理システム | |
US20130079913A1 (en) | Methods and systems for semiconductor fabrication with local processing management | |
KR20100129211A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
US9218994B2 (en) | Two-dimensional transfer station used as interface between a process tool and a transport system and a method of operating the same | |
US9250623B2 (en) | Methods and systems for fabricating integrated circuits utilizing universal and local processing management | |
JPH0950948A (ja) | 半導体製造装置の障害対処システム | |
JP2003264216A (ja) | 搬送システム | |
JP3340174B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2004152961A (ja) | 搬送制御システム及び搬送制御方法並びに搬送制御プログラム | |
KR20010031549A (ko) | 머시닝 플랜트의 가능한 구조들을 결정하기 위한 프로세스 | |
JP2001143979A (ja) | 半導体基板処理システム | |
JPH10256342A (ja) | 搬送制御方法 | |
CN105431923A (zh) | 基板处理装置、基板处理方法、以及基板处理系统 | |
WO2008062515A1 (fr) | Système de fabrication de semiconducteurs | |
JPH02125421A (ja) | 熱処理装置 | |
JP4623479B2 (ja) | マルチチャンバシステムのチャンバグループ化制御システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060418 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20060619 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070109 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070312 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070403 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |